JP2014084514A - 高強度チタン銅 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】Tiを2.0〜4.0質量%含有し、第三元素としてFe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択された1種以上を合計で0〜0.5質量%含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなり、圧延面における{220}結晶面のX線回線強度ピークの最大強度(cps)の半価幅(°)に対する比が10×102〜25×102であるチタン銅。
【選択図】なし
Description
ここで、{220}面のアスペクト比は、以下の測定条件で圧延面の回折強度曲線を取得し、{220}結晶面のX線回線強度ピークの最大強度とその半価幅を測定し、その比を算出することにより求める。
・ターゲット:Cu管球
・管電圧:25kV
・管電流:20mA
・走査速度:5°/min
・サンプリング幅:0.02°
・測定範囲(2θ):60°〜90°
本発明に係るチタン銅においては、Ti濃度を2.0〜4.0質量%とする。チタン銅は、溶体化処理によりCuマトリックス中へTiを固溶させ、時効処理により微細な析出物を合金中に分散させることにより、強度及び導電率を上昇させる。
Ti濃度が2.0質量%未満になると、析出物の析出が不充分となり所望の強度が得られない。Ti濃度が4.0質量%を超えると、加工性が劣化し、圧延の際に材料が割れやすくなる。強度及び加工性のバランスを考慮すると、好ましいTi濃度は2.5〜3.5質量%である。
本発明に係るチタン銅においては、Fe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択される第三元素の1種以上を含有させることにより、強度を更に向上させることができる。但し、第三元素の合計濃度が0.5質量%を超えると、加工性が劣化し、圧延の際に材料が割れやすくなる。そこで、これら第三元素は合計で0〜0.5質量%含有することができ、強度及び加工性のバランスを考慮すると、上記元素の1種以上を総量で0.1〜0.4質量%含有させることが好ましい。
本発明に係るチタン銅においては一実施形態において、圧延方向に平行な方向での0.2%耐力が1100MPa以上を達成することができる。本発明に係るチタン銅の0.2%耐力は好ましい実施形態において1200MPa以上であり、更に好ましい実施形態において1300MPa以上である。
本発明に係るチタン銅は一実施形態において、圧延面における{220}結晶面のX線回線強度ピークの最大強度(cps)の半価幅(°)に対する比(以下、「{220}面のアスペクト比」ともいう。)が10×102〜25×102である。
・ターゲット:Cu管球
・管電圧:25kV
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・走査速度:5°/min
・サンプリング幅:0.02°
・測定範囲(2θ):60°〜90°
一般に、金属材料の厚みが薄くなるにつれて耐へたり性は低下していくが、本発明に係るチタン銅の一実施形態においては、厚みを1.0mm以下とすることができ、典型的な実施形態においては厚みを0.02〜0.8mmとすることができ、より典型的な実施形態においては厚みを0.05〜0.5mmとすることができる。
本発明に係るチタン銅は種々の伸銅品、例えば板、条、管、棒及び線に加工することができる。本発明に係るチタン銅は、限定的ではないが、スイッチ、コネクタ(特に、過酷な曲げ加工性を必要としないフォーク型のFPCコネクタ)、オートフォーカスカメラモジュール、ジャック、端子、リレー等の電子部品の材料として好適に使用することができる。
本発明に係るチタン銅は、特に最終の溶体化処理及びそれ以降の工程で適切な熱処理及び冷間圧延を実施することにより製造可能である。以下に、好適な製造例を工程毎に順次説明する。
溶解及び鋳造によるインゴットの製造は、基本的に真空中又は不活性ガス雰囲気中で行う。溶解において添加元素の溶け残りがあると、強度の向上に対して有効に作用しない。よって、溶け残りをなくすため、FeやCr等の高融点の第三元素は、添加してから十分に攪拌したうえで、一定時間保持する必要がある。一方、TiはCu中に比較的溶け易いので第三元素の溶解後に添加すればよい。従って、Cuに、Fe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択される1種又は2種以上を合計で0〜0.5質量%含有するように添加し、次いでTiを2.0〜4.0質量%含有するように添加してインゴットを製造することが望ましい。
インゴット製造時に生じた凝固偏析や晶出物は粗大なので均質化焼鈍でできるだけ母相に固溶させて小さくし、可能な限り無くすことが望ましい。これは曲げ割れの防止に効果があるからである。具体的には、インゴット製造工程後には、900〜970℃に加熱して3〜24時間均質化焼鈍を行った後に、熱間圧延を実施するのが好ましい。液体金属脆性を防止するために、熱延前及び熱延中は960℃以下とし、且つ、元厚から全体の圧下率が90%までのパスは900℃以上とするのが好ましい。
その後、冷延と焼鈍を適宜繰り返してから第一溶体化処理を行うのが好ましい。ここで予め溶体化を行っておく理由は、最終の溶体化処理での負担を軽減させるためである。すなわち、最終の溶体化処理では、第二相粒子を固溶させるための熱処理ではなく、既に溶体化されてあるのだから、その状態を維持しつつ再結晶のみ起こさせればよいので、軽めの熱処理で済む。具体的には、第一溶体化処理は加熱温度を850〜900℃とし、2〜10分間行えばよい。そのときの昇温速度及び冷却速度においても極力速くし、ここでは第二相粒子が析出しないようにするのが好ましい。なお、第一溶体化処理は行わなくても良い。
最終の溶体化処理前の中間圧延における圧下率を高くするほど、最終の溶体化処理における再結晶粒を均一かつ微細に制御できる。従って、中間圧延の圧下率は好ましくは70〜99%である。圧下率は{((圧延前の厚み−圧延後の厚み)/圧延前の厚み)×100%}で定義される。
最終の溶体化処理では、析出物を完全に固溶させることが望ましいが、完全に無くすまで高温に加熱すると、結晶粒が粗大化しやすいので、加熱温度は第二相粒子組成の固溶限付近の温度とする(Tiの添加量が2.0〜4.0質量%の範囲でTiの固溶限が添加量と等しくなる温度は730〜840℃程度であり、例えばTiの添加量が3.0質量%では800℃程度)。そしてこの温度まで急速に加熱し、水冷等によって冷却速度も速くすれば粗大な第二相粒子の発生が抑制される。従って、典型的には、730〜840℃のTiの固溶限が添加量と同じになる温度に対して−20℃〜+50℃の温度に加熱し、より典型的には730〜880℃のTiの固溶限が添加量と同じになる温度に比べて0〜30℃高い温度、好ましくは0〜20℃高い温度に加熱する。
最終の溶体化処理に引き続いて、予備時効処理を行う。従来は最終の溶体化処理の後は冷間圧延を行うことが通例であったが、本発明に係るチタン銅を得る上では最終の溶体化処理の後、冷間圧延を行わずに直ちに予備時効処理を行うことが重要である。予備時効熱処理は次工程の時効処理よりも低温で行われる熱処理であり、予備時効熱処理及び後述する時効処理を連続して行うことによりチタン銅の強度と共に高温暴露時の耐へたり性が有意に向上するという利点が得られる。予備時効処理は表面酸化皮膜の発生を抑制するためにAr、N2、H2等の不活性雰囲気で行うことが好ましい。
予備時効処理に引き続いて、時効処理を行う。予備時効処理後、いったん室温まで冷却してもよい。製造効率を考えると、予備時効処理の後、冷却せずに時効処理温度まで昇温して、連続して時効処理を実施することが望ましい。何れの方法であっても得られるチタン銅の特性に違いはない。但し、予備時効はその後の時効処理で均一に第二相粒子を析出させることを目的としているため、予備時効処理と時効処理の間には冷間圧延は実施するべきではない。
上記時効処理後、最終の冷間圧延を行う。最終の冷間加工によってチタン銅の強度を高めることができる。本発明が意図するような高い強度を得るためには圧下率を55%以上、好ましくは60%以上、より好ましくは90%以上とする。但し、圧下率が高すぎると製造性が低下することから、圧下率は99.9%以下とするのが好ましく、97%以下とするのがより好ましく、95%以下とするのが更により好ましい。
高温暴露時の耐へたり性を向上する観点からは、最終の冷間圧延後に歪取焼鈍を実施することが望まれる。歪取焼鈍を行うことで転位が再配列するからである。歪取焼鈍の条件は慣用の条件でよいが、過度の歪取焼鈍を行うと転位が消滅して強度が低下するため好ましくない。歪取焼鈍は材料温度200〜600℃で10〜600秒行うことが好ましく、250〜550℃で10〜400秒行うことがより好ましく、300〜500℃で10〜200秒行うことが更により好ましい。
(イ)0.2%耐力
引張試験機を用いてJIS13B号試験片を作製し、上述した測定方法に従い圧延方向と平行な方向の0.2%耐力を測定した。
(ロ){220}面のアスペクト比
{220}面のアスペクト比は、X線回折装置(理学電機社製型式rint Ultima2000)により、上述した測定条件で求めた。
(ハ)高温暴露後のへたり(永久変形率)
幅10mmの短冊試料を長手方向が圧延平行方向となるように採取し、図4のように、試料の片端を固定し、この固定端から距離Lの位置に、先端をナイフエッジに加工したポンチを1mm/分の移動速度で押し当て、次式1により試料に1000MPa(≒102kg/mm2)の応力(σ0)に相当する初期たわみ(d)を与えた。
式1:d=2/3×L×σ0/(E・t)
d=初期たわみ(mm)
L=標点距離(mm)
σ0=応力(kg/mm2)
E=ヤング率(kg/mm2)
t=板厚(mm)
次いで、たわみを与えた状態で、250℃にて30分間加熱し、ポンチを初期の位置に戻し除荷した後、永久変形量(δ)を求め、永久変形率(%)(=δ/d×100))
を求めた。
表1に試験結果を示す。発明例1〜18では、0.2%耐力が1100MPa以上と高く、永久変形率は低く抑えられていることが分かる。
一方、比較例1は、最終の溶体化処理温度が高すぎたことで結晶粒が粗大化し、{220}面のアスペクト比も本発明の範囲外となったことで、0.2%耐力及び永久変形率が共に発明例よりも劣っていた。
比較例2は最終の溶体化処理温度が低すぎたことで未再結晶領域と再結晶領域が混在する混粒化が起き、{220}面のアスペクト比も本発明の範囲外となった。そのため、永久変形率が発明例よりも劣っていた。
比較例3は特開2012−0625757号公報に記載の発明に想到する。予備時効処理を行わなかったことから強度向上が不十分となり、また、{220}面のアスペクト比も本発明の範囲外となった。そのため、0.2%耐力及び永久変形率が共に発明例よりも劣っていた。
比較例4は予備時効処理を行ったものの加熱温度が低すぎたことから強度向上が不十分となり、{220}面のアスペクト比も本発明の範囲外となった。そのため、0.2%耐力及び永久変形率が共に発明例よりも劣っていた。
比較例5は予備時効における加熱温度が高すぎたために、過時効となって粗大粒子が析出し、また、{220}面のアスペクト比も本発明の範囲外となった。そのため、0.2%耐力及び永久変形率が共に発明例よりも劣っていた。
比較例6は時効処理を行わなかったことからスピノーダル分解が不十分となって強度向上も不十分となり、また、{220}面のアスペクト比も本発明の範囲外となった。そのため、0.2%耐力及び永久変形率が共に発明例よりも劣っていた。
比較例7は時効処理を行ったが加熱温度が低すぎたことから強度向上が不十分となり、{220}面のアスペクト比も本発明の範囲外となった。そのため、0.2%耐力及び永久変形率が共に発明例よりも劣っていた。
比較例8は時効処理における加熱温度が高すぎたために、過時効となって粗大粒子が析出し、また、{220}面のアスペクト比も本発明の範囲外となった。そのため、0.2%耐力及び永久変形率が共に発明例よりも劣っていた。
比較例9は最終冷間圧延における圧下率が低すぎたことで、強度不足となり、また、{220}面のアスペクト比も本発明の範囲外となった。そのため、0.2%耐力及び永久変形率が共に発明例よりも劣っていた。
比較例10は歪取焼鈍を実施しなかったことから{220}面のアスペクト比が本発明の範囲外となった。そのため、永久変形率が発明例よりも劣っていた。
比較例11は歪取焼鈍を実施したが加熱温度が低かったために{220}面のアスペクト比が本発明の範囲外となった。そのため、永久変形率が発明例よりも劣っていた。
比較例12は歪取焼鈍を実施したが加熱温度が高すぎたために、転位が消滅し、また、{220}面のアスペクト比も本発明の範囲外となった。そのため、0.2%耐力及び永久変形率が共に発明例よりも劣っていた。
比較例13は第三元素の添加量が多すぎたことで熱間圧延で割れが発生したため、試験片の製造ができなかった。
比較例14はTi濃度が低すぎたことで、強度不足となり、また、{220}面のアスペクト比も本発明の範囲外となった。そのため、0.2%耐力及び永久変形率が共に発明例よりも劣っていた。
比較例15はTi濃度が高すぎたことで熱間圧延で割れが発生したため、試験片の製造ができなかった。
2 ヨーク
3 レンズ
4 マグネット
5 キャリア
6 コイル
7 ベース
8 フレーム
9a 上側のばね部材
9b 下側のばね部材
10a、10b キャップ
Claims (6)
- Tiを2.0〜4.0質量%含有し、第三元素としてFe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択された1種以上を合計で0〜0.5質量%含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなり、圧延面における{220}結晶面のX線回線強度ピークの最大強度(cps)の半価幅(°)に対する比(以下、「{220}面のアスペクト比」という。)が10×102〜25×102であるチタン銅。
ここで、{220}面のアスペクト比は、以下の測定条件で圧延面の回折強度曲線を取得し、{220}結晶面のX線回線強度ピークの最大強度とその半価幅を測定し、その比を算出することにより求める。
・ターゲット:Cu管球
・管電圧:25kV
・管電流:20mA
・走査速度:5°/min
・サンプリング幅:0.02°
・測定範囲(2θ):60°〜90° - 圧延方向に平行な方向での0.2%耐力が1100MPa以上である請求項1に記載のチタン銅。
- 請求項1又は2に記載のチタン銅を備えた伸銅品。
- 請求項1又は2に記載のチタン銅を備えた電子部品。
- 電子機器部品がオートフォーカスカメラモジュールである請求項4に記載の電子部品。
- レンズと、このレンズを光軸方向の初期位置に弾性付勢するばね部材と、このばね部材の付勢力に抗する電磁力を生起して前記レンズを光軸方向へ駆動可能な電磁駆動手段を備え、前記ばね部材が請求項1又は2に記載のチタン銅であるオートフォーカスカメラモジュール。
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