CN104718033B - 模具测量装置 - Google Patents

Abstract

对阳模主体以及阴模的高度进行测量的模具测量装置具备测量器，该测量器对从预先被设定的阳模基准位置至上述阳模主体的端面的距离或者从预先被设定的阴模基准位置至上述阴模的端面的距离进行测量。上述阳模基准位置与上述阴模基准位置不同地进行设定。根据上述模具测量装置，即便在阳模主体的大小与阴模的大小较大不同的情况下，也能够容易地对阳模主体以及阴模进行测量。

Description

模具测量装置

技术领域

本发明涉及用于对研磨后的阳模主体、研磨后的阴模进行测量的模具测量装置[tool measuring apparatus]。

背景技术

安装于转塔式冲压机的模具[tool]由阳模以及阴模构成。阳模主体的阳模刃部[punch blade]、阴模的阴模刃部[die blade]产生磨损。因此，需要对阳模刃部、阴模刃部进行研磨(参照下述专利文献1以及2)。另外，在研磨前或者研磨后，为了判断阳模主体、阴模是否到达研磨极限，对阳模主体、阴模进行检查(参照下述专利文献3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2000-33565号公报

专利文献2：日本特开2007-75947号公报

专利文献3：日本特开2000-33536号公报

发明内容

在专利文献1以及2所公开的装置中，对阳模、阴模与砂轮的接触位置进行电检测，从而对阳模、阴模进行磨削(研磨)。在专利文献3所公开的装置中，为了判断磨损是否在允许范围内，对阳模、阴模进行检查。但是，在专利文献1～3所公开的装置中，未进行研磨后的阳模、阴模的测量。因此，为了进行阳模、阴模的管理，需要用于在阳模、阴模的研磨后进行测量的测量装置。

在对研磨后的阳模、阴模进行测量的情况下，能够使用高度计等进行测量。但是，阳模的高度(长度)与阴模的高度通常较大地不同。因此，为了利用一个高度计对阳模以及阴模双方进行测量，需要大小[size]与较大的阳模一致的测量范围较广的高度计。此外，即便在使用线性标尺等测量器的情况下，也需要大小[size]与较大的阳模一致的测量范围较广的线性标尺。即，需要测量范围较广的价格高昂的测量器。

因此，本发明的目的在于提供一种即便在阳模主体的大小与阴模的大小较大地不同的情况下，也能够容易地对阳模主体以及阴模进行测量的模具测量装置。

本发明提供一种模具测量装置，其对阳模主体以及阴模的高度进行测量，上述模具测量装置的特征在于，具备测量器，该测量器对从预先设定的阳模基准位置至上述阳模主体的端面的距离、以及从预先设定的阴模基准位置至上述阴模的端面的距离进行测量，上述阳模基准位置与上述阴模基准位置不同地进行设定。

上述阴模基准位置优选设定为比上述阳模基准位置更接近上述测量器。

另外，上述模具测量装置优选进一步具备供上述阴模载置的阴模支撑部件以及对上述阳模主体进行支撑的阳模主体支撑部件，上述阴模基准位置设定于上述阴模支撑部件，上述阳模基准位置设定于上述阳模主体支撑部件，对上述阳模主体进行支撑的支撑部进一步形成于上述阴模支撑部件。

另外，上述模具测量装置优选进一步具备：基于上述测量器的测量结果对上述阳模主体或者上述阴模的上述高度进行计算的运算单元；读取标记于上述阳模主体或者上述阴模的识别编码的编码读取器；以及用于与管理模具的模具管理单元进行通信的通信单元。

此处，上述测量器优选具备能够移动的测头，该测头与定位于上述阳模基准位置的上述阳模或者定位于上述阴模基准位置的上述阴模的上述端面抵接，设定成为上述测头的移动位置的基准的测量基准位置，固定地设定从上述测量基准位置至上述阴模基准位置的距离L1，固定地设定从上述阴模基准位置至上述阳模基准位置的距离L2，固定地设定从上述测量基准位置至上述阳模基准位置的距离L3，若将在上述测头抵接于上述阴模的上述端面时的上述测头距上述测量基准位置的行程设为ST1，将上述测头抵接于上述阳模主体的上述端面时的行程设为ST2，则上述运算单元通过(L1－ST1)对上述阴模的上述高度进行计算，或者，通过(L3－ST2)＝(L1－ST2+L2)对上述阳模主体的上述高度进行计算。

另外，上述模具测量装置优选与模具研磨装置一体化或者设置为与模具研磨装置邻接。

附图说明

图1是表示实施方式的模具测量装置的立体说明图。

图2是表示上述模具测量装置的主要部分的立体图(阳模测量时)。

图3是表示上述模具测量装置的主要部分的立体图(阴模测量时)。

图4是上述主要部分的简要侧视图。

图5是上述模具测量装置的框图。

具体实施方式

如图1所示，实施方式的模具测量装置1与对模具(阳模以及阴模)进行磨削(研磨)的模具研磨装置3一体化[integrated with](或者，设置为与模具研磨装置3邻接)。此外，模具研磨装置3可以具备上述的专利文献1或者2所公开的装置的结构，或者，也可以具备通常的模具研磨装置的结构。因此，省略针对模具研磨装置3的结构的详细的说明。

模具测量装置1对被模具研磨装置3研磨的阳模(阳模主体)的高度(长度)以及阴模的高度进行测量。模具测量装置1具备：用于对阳模、阴模进行测量的测量区域[measurement area]5；以及对其动作进行控制的控制部[controller]7。另外，模具测量装置1具备用于读取标记于阳模、阴模的识别编码[identification code](例如，条形码、ID标签)的编码读取器[code reader]9。

在测量区域5设置有对阴模D(参照图3)进行支撑的阴模支撑板(阴模支撑部件)11。阴模支撑板11的上表面为用于对阴模D的高度进行测量的基准位置[reference position](阴模基准位置)。在阴模支撑板11的下方设置有对阳模主体P(参照图2)的头端进行支撑的阳模主体支撑块(阳模主体支撑部件)13A以及13B。

阳模主体支撑块13A以及13B为用于对阳模主体P的高度进行测量的基准位置(阳模基准位置)，与分别不同的阳模主体P的直径的大小对应。更加详细而言，在阳模主体支撑块13A以及13B分别形成有供阳模主体P的头端插入的插入孔[insertion holes]15，插入孔15的底面为上述的阳模基准位置。

若在插入孔15插入阳模主体P的头端，则头端的端面与插入孔15的底面、即阳模基准位置抵接。为了保持头端的端面与阳模基准位置抵接的阳模主体P的垂直状态，支撑部[holders]17A以及17B设置于阴模支撑板11。支撑部17A以及17B分别形成为包含与阳模主体P的直径的大小对应的圆的键孔形状，并向模具测量装置1的前表面侧敞开。

若从前侧将阳模主体P插入支撑部17A或者17B且将头端插入插入孔15，则阳模主体P保持为垂直状态(参照图2)。如上，能够将阳模主体P容易地安装于测量区域5。此外，就阴模D而言，若载置于阴模支撑板11上，则安装于测量区域5(参照图3)。即，阴模D也能够容易地安装于测量区域5。

用于对安装于测量区域5的阴模D以及阳模主体P的高度进行测量的测量器[measurement device]19设置于测量区域5的上部。测量器19具备促动器21以及测头[measurement element]23。促动器21为流体压力缸，使测头23垂直移动。

通过设置于上方的引导筒[guide sleeves]25垂直地引导的一对引导棒[guide rods]27的下端连结于测头23。在测头23通过促动器21垂直地移动时，测头23被引导筒25以及引导棒27保持为水平。从测量基准位置(阳模基准位置或者阴模基准位置)至测头23的下表面的距离被检测器[detector]37(例如，线性标尺：参照图5)检测。

因此，测量从测量基准位置(阳模基准位置或者阴模基准位置)至测头23的下表面的距离，从而能够对从阳模基准位置至阳模主体P的上端面的高度或者从阴模基准位置至阴模D的上端面的高度进行测量。如图4所示，固定地设定从测头23的测量基准位置S1至阴模基准位置S2(阴模支撑板11的上表面)的距离L1。测头23的测量基准位置S1为成为测头23的移动位置的基准的位置。相同地，还固定地设定从阳模基准位置S3(插入孔15的底面)至阴模基准位置S2(阴模支撑板11的上表面)的距离L2。因此，还固定地设定从阳模基准位置S3(插入孔15的底面)至测头23的测量基准位置S1的距离L3。

如图5所示，控制部7由计算机构成，并具备对阳模主体P、阴模D的高度进行运算的运算单元29。另外，在控制部7连接有对模具进行管理的模具管理单元33。并且，控制部7具备将固定地设定的距离L1、L2以及L3储存为参数的参数存储器31以及与模具管理单元33通信的通信单元35。

当在测量区域5安装阴模D或者阳模主体P时，通过编码读取器9读取标记于阴模D或者阳模主体P的识别编码。然后，通过促动器21使测头23下降，从而使测头23的下表面与阴模D或者阳模主体P的上端面抵接，并且通过检测器37来检测从测量基准位置S1至上端面的行程ST1或者ST2。若对行程ST1或者ST2进行检测，则通过运算单元29进行H1＝L1－ST1的运算，从而能够对阴模D的高度H1进行计算。或者，通过运算单元29进行H2＝L3－ST2(＝L1－ST2+L2)的运算，从而能够对阳模主体P的高度H2进行计算。

被计算的阴模D的高度H1或者阳模主体P的高度H2与被编码读取器9读取的识别编码(即，模具编号)存在关联，作为测量数据被通信单元35发送至模具管理单元33。模具管理单元33利用已接收的测量数据对模具进行管理。例如，模具管理单元33参照模具编号、阴模D、阳模主体P的初始高度与被计算的高度H1或者H2对阳模主体P或者阴模D的剩余的研磨量[grindingmargin]、寿命进行管理。

在本实施方式中，阴模基准位置S2与阳模基准位置S3单独地被设定[placed independently from each other]。即，阴模基准位置S2与阳模基准位置S3设定于分别不同的位置。因此，根据本实施方式，即便在阳模主体P的大小与阴模D的大小较大不同的情况下，也能够容易地对阳模主体P以及阴模D进行测量。另外，通过缩短测量的行程，能够缩小测量值所包含的误差，进而测量精度提高。并且，能够在相同的测量范围内对阳模主体P与阴模D进行测量，因此能够以使成对地构成模具的阳模主体P以及阴模D相同的方式进行管理(研磨量、寿命等)。

假设，若将阴模基准位置S2与阳模基准位置S3设为一个，则通常不得不采用能够对高度比阴模D高的阳模主体P进行测量的阳模基准位置S3。即，通常将高度比阳模主体P低的阴模D放置于阳模基准位置S3来进行测量。此处，被测量器19检测的上述的行程ST1或者ST2与距离L3相比极短。但是，将阴模D放置于阳模基准位置S3而进行测量时的行程(L3－H1)相当大。

根据本实施方式，单独地设置阴模基准位置S2与阳模基准位置S3，从而能够缩小测头23的行程基准位置S2以及S3的差分大小，进而能够使检测器37小型化。即，能够在大致相同的较小的行程范围内对行程ST1以及ST2进行测量，因此能够使检测器37小型化。在必须对较大的行程进行测量的情况下，必须使测头23的垂直移动范围扩大，检测器37不得不增大。

本发明不限定于上述实施方式，即便在伴随着适当的变更的其他的方式下，也能够实施。例如，在上述实施方式中，对使测头23移动而与阴模D、阳模主体P的上端面抵接的情况进行了说明。但是，也可以将激光位移仪[laserdisplacement meter]等非接触传感器设置于测量基准位置S1，并利用该传感器对上述的行程S1或者S2进行测量。在该情况下，也能够缩短相当于上述的实施方式的行程的测量长度，因此能够缩小激光输出单元，能够使检测器小型化。

Claims (5)

1.一种模具测量装置，其对阳模主体以及阴模的高度进行测量，

所述模具测量装置的特征在于，

具备测量器，该测量器对从预先设定的阳模基准位置至所述阳模主体的端面的距离、以及从预先设定的阴模基准位置至所述阴模的端面的距离进行测量，

所述阳模基准位置与所述阴模基准位置不同地进行设定，

所述阴模基准位置设定为比所述阳模基准位置更接近所述测量器。

2.根据权利要求1所述的模具测量装置，其特征在于，

进一步具备供所述阴模载置的阴模支撑部件以及对所述阳模主体进行支撑的阳模主体支撑部件，

所述阴模基准位置设定于所述阴模支撑部件，

所述阳模基准位置设定于所述阳模主体支撑部件，

对所述阳模主体进行支撑的支撑部进一步形成于所述阴模支撑部件。

3.根据权利要求1所述的模具测量装置，其特征在于，进一步具备：

基于所述测量器的测量结果对所述阳模主体或者所述阴模的所述高度进行计算的运算单元；

读取标记于所述阳模主体或者所述阴模的识别编码的编码读取器；以及

用于与管理模具的模具管理单元进行通信的通信单元。

4.根据权利要求3所述的模具测量装置，其特征在于，

所述测量器具备能够移动的测头，该测头与定位于所述阳模基准位置的所述阳模或者定位于所述阴模基准位置的所述阴模的所述端面抵接，

设定成为所述测头的移动位置的基准的测量基准位置，

固定地设定从所述测量基准位置至所述阴模基准位置的距离L1，

固定地设定从所述阴模基准位置至所述阳模基准位置的距离L2，

固定地设定从所述测量基准位置至所述阳模基准位置的距离L3，

若将在所述测头抵接于所述阴模的所述端面时的所述测头距所述测量基准位置的行程设为ST1，将所述测头抵接于所述阳模主体的所述端面时的行程设为ST2，则所述运算单元通过(L1－ST1)对所述阴模的所述高度进行计算，或者，通过(L3－ST2)＝(L1－ST2+L2)对所述阳模主体的所述高度进行计算。

5.根据权利要求1所述的模具测量装置，其特征在于，

所述模具测量装置与模具研磨装置一体化，或者，设置为与模具研磨装置邻接。