CN104700927B - 透明导体、制备其的方法以及包括其的光学显示器 - Google Patents

透明导体、制备其的方法以及包括其的光学显示器 Download PDF

Info

Publication number
CN104700927B
CN104700927B CN201410730403.1A CN201410730403A CN104700927B CN 104700927 B CN104700927 B CN 104700927B CN 201410730403 A CN201410730403 A CN 201410730403A CN 104700927 B CN104700927 B CN 104700927B
Authority
CN
China
Prior art keywords
transparent conductor
monomer
electrode
transparent
inorganic hollow
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201410730403.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104700927A (zh
Inventor
沈大燮
具永权
申东明
李道想
黄伍显
姜炅求
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung SDI Co Ltd
Original Assignee
Samsung SDI Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung SDI Co Ltd filed Critical Samsung SDI Co Ltd
Publication of CN104700927A publication Critical patent/CN104700927A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104700927B publication Critical patent/CN104700927B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H05K1/0274—Optical details, e.g. printed circuits comprising integral optical means
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • H05K1/097—Inks comprising nanoparticles and specially adapted for being sintered at low temperature
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01—Dielectrics
    • H05K2201/0104—Properties and characteristics in general
    • H05K2201/0108—Transparent
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/02—Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
    • H05K2201/0203—Fillers and particles
    • H05K2201/0242—Shape of an individual particle
    • H05K2201/0254—Microballoons or hollow filler particles
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/02—Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
    • H05K2201/0203—Fillers and particles
    • H05K2201/0242—Shape of an individual particle
    • H05K2201/026—Nanotubes or nanowires

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本发明提供一种透明导体、制造其的方法以及包括其的光学显示器。所述透明导体包含基层以及形成于所述基层上并且包含金属纳米线以及基质的导电层，其中所述基质由包含无机中空粒子、氟单体或其混合物的组合物形成。

Description

透明导体、制备其的方法以及包括其的光学显示器
相关申请的交叉引用
在2013年12月04日于韩国知识产权局申请的韩国专利申请第10-2013-0150230号以全文引用的方式并入本文中。
技术领域
本发明涉及一种透明导体、用于制备所述透明导体的方法及包含所述透明导体的光学显示器。
背景技术
透明导体用于各种领域，例如包含在显示器、柔性显示器等等中的触摸屏面板。透明导体应展现优选特性，例如透明度、薄层电阻等等，并且还需要弯曲特性，因为其应用范围近年来已延伸到柔性显示器。尽管包含含有银纳米线的透明导电层的透明导体展现极好的弯曲特性，但所述透明导电层进一步包含用于改良耐久性和到基层的粘着力的基质。然而，由于基质增加透明导电层的透射b*值(在色差系数中)，因此透明导体可能遭受色彩失真和例如透射比、雾度等等的光学特性的退化。此外，由于银纳米线，含有银纳米线的透明导电层可能看上去呈黄色。在这点上，韩国专利公开第2012-0053724A号公开一种透明导电薄膜和用于制备所述透明导电薄膜的方法。
发明内容
本发明提供了透明导体、制备其的方法以及包括其的光学显示器。所述透明导体可展现良好的光学特性。
本发明提供了透明导体、制备其的方法以及包括其的光学显示器。所述透明导体可防止色彩失真。
本发明的一个实施例涉及一种透明导体，其包含：基层以及形成于所述基层上并且包含金属纳米线和基质的导电层，其中所述基质由包含无机中空粒子、氟单体或其混合物的基质组合物形成。
在本发明的一个实施例中，所述透明导体具有1.0或小于1.0的透射b*值。
在本发明的一个实施例中，所述无机中空粒子具有1.4或小于1.4的折射率。
在本发明的一个实施例中，就固体含量而言，所述无机中空粒子以10wt％到70wt％的量存在于所述基质组合物中。
在本发明的一个实施例中，所述无机中空粒子由硅、铝、镁、锂、锆以及锌中的至少一个的氧化物、碳化物或氮化物形成。
在本发明的一个实施例中，所述基质组合物包括6wt％或小于6wt％的氟。
在本发明的一个实施例中，就固体含量而言，所述基质组合物包括40wt％到80wt％的所述无机中空粒子、所述氟单体或其混合物；15wt％到55wt％的粘合剂；以及0.1wt％到5wt％的引发剂。
在本发明的一个实施例中，所述金属纳米线包括银纳米线。
在本发明的一个实施例中，所述透明导体进一步包括防蚀层、防眩光涂层、粘着促进层以及寡聚物洗提防止层中的至少一个，形成于所述基层的上表面或下表面上。
在本发明的一个实施例中，所述基质组合物进一步包括多官能单体，所述多官能单体包括五官能单体或六官能单体、以及三官能单体。
在本发明的一个实施例中，所述三官能单体包括基于(甲基)丙烯酸酯的单体。
在本发明的一个实施例中，所述三官能单体包括烷氧基化的基于(甲基)丙烯酸酯的单体。
在本发明的一个实施例中，所述基质进一步包括粘着力促进剂、UV吸收剂、增稠剂以及分散剂中的至少一个。
本发明的另一实施例涉及一种用于制备透明导体的方法，其包含：在基层上形成金属纳米线网络层；以及使用包含无机中空粒子、氟单体或其混合物的基质组合物在金属纳米线网络层上形成导电层。
在本发明的一个实施例中，所述基质组合物进一步包括多官能单体，所述多官能单体包括五官能单体或六官能单体、以及三官能单体。
本发明的另一实施例涉及一种光学显示器，其包含：显示面板；形成于所述显示面板上的透明导体；以及形成于所述透明导体上的窗口，其中所述透明导体是根据如上文所述的本发明实施例的透明导体。
在本发明的一个实施例中，所述显示面板包括LCD、OLED或LED。
本发明提供了透明导体、制备其的方法以及包括其的光学显示器。所述透明导体可通过确保低雾度和高透射比展现良好的光学特性。
本发明提供了透明导体、制备其的方法以及包括其的光学显示器。所述透明导体可通过确保低透射b*值防止色彩失真。
附图说明
图1说明根据本发明的一个实施例的透明导体的截面图。
图2说明根据本发明的另一个实施例的透明导体的截面图。
图3说明根据本发明的一个实施例的光学显示器的截面图。
图4说明根据本发明的另一个实施例的光学显示器的截面图。
图5说明根据本发明的另一实施例的光学显示器的截面图。
图6说明根据本发明的又一实施例的光学显示器的截面图。
图7说明根据本发明的又一实施例的光学显示器的截面图。
图8说明根据本发明的又一实施例的光学显示器的截面图。
图9说明根据本发明的又一实施例的光学显示器的截面图。
具体实施方式
现将参考附图详细描述本发明的实施例。应理解，本发明不限于以下实施例并且可以以不同的方式实施。在附图中，为清楚起见将省去与本说明书无关的部分。在本说明书通篇中，相似组件将由相似参考数字表示。如本文所用，例如“上侧面(表面)”和“下侧面(表面)”的定向术语参考附图经定义。因此，应理解，“上侧面(表面)”可以与“下侧面(表面)”互换使用。术语“(甲基)丙烯酸酯”可以指丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。
本发明的实施例提供一种透明导体，其可以包含：基层；以及形成于所述基层的上表面上并且包含金属纳米线和基质的透明导电层，其中所述基质可以由包含无机中空粒子、氟单体或其混合物的组合物形成。透明导体可以增加总透射比，同时通过允许反射自基质的光被反射自透明导电层的光偏移来减小雾度，由此增强光学特性。
基质可以由包含无机中空粒子、氟单体或其混合物的基质组合物形成。无机中空粒子、氟单体或其混合物具有低折射率并且因此可以减小基质的折射率。因此，可以校正透明导电层的色差，由此防止由透明导体的透射b*值降低所造成的色彩失真。在此情况下，在通过图案化透明导体形成透明电极薄膜之后，在经图案化部分与非图案化部分之间存在改良的图案可见度的效果。此外，无机中空粒子增加透明导电层的表面硬度，由此改良透明导体的处理特性。
透明导体可以通过减小透射b*值防止色彩失真。举例来说，透明导体可以具有1.0或小于1.0，确切地说0.85或小于0.85，更确切地说0.1到0.85，更确切地说0.4到0.85的透射b*值。在此透射b*值范围内，透明导体可以防止色彩失真。
如本文所用，“透射b*值”可以通过使用CM 3600D分光光度计(柯尼卡美能达有限公司(Konica Minolta Co.，Ltd.))在400纳米到700纳米的可见光波长下于透明导体上测量，所述透明导体包含聚碳酸酯基底薄膜和堆叠在所述基底薄膜上并且包含金属纳米线和基质的导电层。在这里，应理解，通过改变基底薄膜的材料和厚度、导电层的厚度和测量波长而测量的透射b*值也属于本发明的范围内。
接下来，将参考图1描述根据本发明的一个实施例的透明导体100。图1说明根据本发明的一个实施例的透明导体的截面图。参考图1，根据这一实施例的透明导体100包含基层110；和形成于基层110的一个表面上并且包含金属纳米线121和基质122的透明导电层120。基质包含无机中空粒子、氟单体、或其混合物以减小其折射率同时校正透明导电层的色差。因此，可以通过减小透明导体的透射b*值来防止透明导体的色彩失真。因此，透明导体具有包含透射比、雾度等等的改良光学特性。
基层110是透明薄膜并且可以在550纳米的波长下具有85％到100％，确切地说88％到99％的透射比。另外，基层可以具有1.5到1.65的折射率。在此范围内，透明导体可以展现改良的光学特性。
基层110可以是柔性绝缘薄膜。举例来说，基层110可以包含但不限于至少一种选自由以下各种组成的群组的材料：包含聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯等等的聚酯树脂；聚碳酸酯；环烯烃聚合物；聚烯烃树脂；聚砜树脂、聚酰亚胺树脂、硅酮树脂、聚苯乙烯树脂、聚丙烯树脂、聚氯乙烯树脂，以及其混合物。另外，基层110可以由单个层或至少两个通过粘合剂彼此结合的树脂薄膜所组成的堆叠结构构成。
基层110可以具有10微米到200微米、确切地说30微米到150微米，或40微米到125微米、更确切地说50微米到125微米的厚度。在此范围内，基层可以有利地用于显示器，例如柔性显示器。
透明导电层120可以形成于基层110的上表面上。
透明导电层120包含金属纳米线121和基质122。透明导电层120包含由金属纳米线121构成的导电网络，由此确保导电性、良好的柔性和弯曲性。所述透明导电层可以通过例如蚀刻等等的图案化方法形成电极，并且可以用于柔性装置以便确保柔性。在一些实施例中，电极可以在第一方向和第二方向中以多条线形成。
由于纳米线的形状，金属纳米线121与金属纳米粒子相比展现更好的分散性。另外，由于粒子形状与纳米线形状之间的不同，金属纳米线121可以大大减小透明导电薄膜的薄层电阻。金属纳米线121具有具特定横截面的超细线形状。在一些实施例中，金属纳米线121的长度(L)与横截面直径(d)的比率(L/d，纵横比)可以在10到2,000的范围内。举例来说，金属纳米线可以具有500到1,000的纵横比，例如500到700。在此范围内，透明导体即使在低密度纳米线下仍可以实现高导电网络，并且展现减少的薄层电阻。金属纳米线可以具有100纳米或小于100纳米的横截面直径(d)。举例来说，金属纳米线可以具有30纳米到100纳米或60纳米到100纳米的横截面直径(d)。在此范围内，可以通过确保高L/d来实现展现高导电性和低薄层电阻的透明导体100。金属纳米线可以具有20微米或以上的长度(L)。举例来说，金属纳米线可以具有20微米到50微米的长度(L)。在此范围内，可以通过确保高L/d来实现展现高导电性和低薄层电阻的导电薄膜。金属纳米线121可以包含由任何金属形成的纳米线。举例来说，金属纳米线可以包含银纳米线、铜纳米线、金纳米线以及其混合物。在一个实施例中，金属纳米线可以是银纳米线或包含银纳米线的混合物。
金属纳米线121可以通过典型方法制备或可购得。举例来说，金属纳米线可以通过在多元醇和聚(乙烯基吡咯烷酮)存在的情况下还原金属盐(例如，硝酸银AgNO3)来制备。或者，可以使用由例如坎布利欧有限公司(Cambrios Co.，Ltd.)制造的可购得的产品(例如，含金属纳米线溶液ClearOhm墨)。
金属纳米线121可以以40wt％或以上，例如40wt％到80wt％或50wt％到80wt％的量存在于透明导电层120中。在此范围内，金属纳米线可以形成导电网络以确保充足的导电性并且可以展现到基层的粘着力。
金属纳米线121浸渍入基质122中。也就是说，金属纳米线可以分散或嵌入在基质122中。基质122可以防止可能自透明导电层120的上侧面曝露的金属纳米线121的氧化和磨损。所述基质122在透明导电层120与基层110之间赋予粘着力，并且改良透明导体的光学特性、耐化学性和耐溶剂性。另外，一些金属纳米线121可以自基质122的表面曝露并且伸出。
基质122可以由包含无机中空粒子、氟单体或其混合物的基质组合物形成。基质组合物可以以分散在液体中的状态使用以便确保易于涂布到基层110上以及到基层110上的粘着力。
基于基质组合物的固体含量，无机中空粒子、含氟单体或其混合物的总量可以是约100wt％或小于100wt％，例如约10wt％到约90wt％、约40wt％到约80wt％、或约50wt％到约80wt％。
无机中空粒子、氟单体或其混合物具有低折射率并且因此可以减小基质122的折射率。因此，可以通过校正透明导电层的色差减少透明导体的透射b*值，由此防止透明导体的色彩失真。
无机中空粒子具有中空结构并且因此具有低折射率。确切地说，无机中空粒子具有1.4或小于1.4，确切地说1.33到1.38的折射率。在此范围内，透明导体可以展现低透射b*和高透射比。无机中空粒子可以具有30纳米到100纳米，确切地说40纳米到70纳米的平均粒度。在此范围内，无机中空粒子可以包含在基质中并且可以有利地经施加到透明导电层。此外，与由有机材料形成的有机粒子相比，无机中空粒子可以通过进一步减小透射b*值来进一步改良透明导电层的耐久性和光学特性。
无机中空粒子可以由例如硅、铝、镁、锂、锆、锌等等的氧化物、碳化物或氮化物或其混合物形成。确切地说，无机中空粒子可以包含但不限于二氧化硅、多铝红柱石、氧化铝、碳化硅(SiC)、MgO-A12O3-SiO2、A12O3-SiO2、MgO-A12O3-SiO2-Li2O，以及其混合物。用这一组合物，无机中空粒子可以进一步改良透明导电层的耐久性同时维持透明导电层的低折射率。
在基质组合物中，就固体含量而言，无机中空粒子可以以例如10wt％到80wt％、40wt％到80wt％、40wt％到70wt％，确切地说50wt％到70wt％的量存在。在此范围内，无机中空粒子可以减小透明导体的透射b*值同时改良其透射比。另外，在此范围内，由于在基质组合物中粘合剂的含量并非过低，因此形成基质是有利的。
无机中空粒子可以包含未经表面处理的无机中空粒子或经表面处理的无机中空粒子，所述经表面处理的无机中空粒子经受使用例如(甲基)丙烯酸酯基团的可固化官能团的表面处理。例如，经表面处理的无机中空粒子可以通过与基质组合物的粘合剂的固化反应改良基质和透明导电层的耐久性，并且可以更牢固地结合到基层。确切地说，经表面处理的无机中空粒子可以通过使用(甲基)丙烯酸酯化合物来表面处理无机中空粒子的全部外表面的10％到80％，确切地说20％到70％，例如40％到60％来获得。在此范围内，经表面处理的无机中空粒子可以展现与粘合剂的极好的反应性以改良透明导电层的耐久性，并且可以更牢固地结合到基层。经受使用(甲基)丙烯酸酯化合物的表面处理的无机中空粒子可以通过典型方法制备或可以在商业上获得。经表面处理的无机中空粒子可以通过例如用含硅烷基团化合物涂布中空二氧化硅粒子的表面，接着与(甲基)丙烯酸酯化合物的加成反应来获得。经表面处理的无机中空粒子也可以具有1.4或小于1.4的折射率，例如1.33到1.38。在此范围内，有可能减小透明导体的透射b*值同时改良透明导体的透射比。对于未经表面处理的无机中空粒子的描述也可以应用于经表面处理的无机中空粒子。在一个实施例中，无机中空粒子可以包含未经表面处理的无机中空粒子与经表面处理的无机中空粒子的混合物。
氟单体具有低折射率并且因此可以减小基质的折射率。另外，氟单体与包含在基质中的粘合剂一起使固化反应成为必要，由此进一步减小基质的折射率。确切地说，氟单体可以是具有1.4或小于1.4，例如1.33到1.38的折射率的低折射率单体。在此范围内，氟单体可以减小基质的折射率，由此减小透明导体的透射b*值同时改良其透射比。基于基质组合物的固体含量，氟单体可以具有例如6wt％或小于6wt％、5wt％或小于5wt％，确切地说2wt％到5wt％的量的氟。并且就固体含量而言，氟单体可以以例如5wt％到90wt％、10到70wt％或40wt％到70wt％的量存在于基质组合物中。在这一含量范围内，有可能控制折射率并且减小透明导体的透射b*值同时改良其透射比。
确切地说，氟单体可以包含：具有季戊四醇结构的氟单体、具有二季戊四醇结构的氟单体、具有三羟甲基丙烷结构的氟单体、具有二(三羟甲基丙烷)结构的氟单体、具有环己基结构的氟单体、具有线性结构的氟单体，或其混合物。这些氟单体可以单独或以两个或两个以上的组合使用。
更确切地说，氟单体可以由以下式1到式19中的一个表示。
<式1>
<式2>
<式3>
<式4>
<式5>
<式6>
<式7>
<式8>
<式9>
<式10>
<式11>
<式12>
<式13>
<式14>
<式15>
<式16>
<式17>
<式18>
<式19>
(A)n-(B)m，
在式19中，A是含氟C1到C20烃基；B是丙烯酸酯基团、甲基丙烯酸酯基团、含氟丙烯酸酯基团或含氟甲基丙烯酸酯基团；n是从1到6的整数；并且m是从1到16的整数。
在一个实施例中，基质组合物可以包含无机中空粒子与氟单体的混合物。在此情况下，无机中空粒子与氟单体的混合物促进透明导体的透射比增加，且因此透明导体可以具有进一步改良的透射比。为此目的，无机中空粒子：氟单体的重量比可以是1∶0.1到1∶9，确切地说1∶0.1到1∶4，或1∶0.1到1∶0.3。在此范围内，混合物可以降低透明导体的透射b*值同时进一步减小薄层电阻。
基质组合物可以包含粘合剂和引发剂以促进基质的形成。
粘合剂可以包含单官能或多官能单体中的至少一个。多官能单体可以包含例如双官能到六官能单体。举例来说，单官能或多官能单体可以是基于(甲基)丙烯酸酯的单体。基于(甲基)丙烯酸酯的单官能或多官能单体可以包含含有氟的氟单体或不含氟的非氟单体。另外，基于(甲基)丙烯酸酯的单官能或多官能单体可以是不含胺基甲酸酯基团的非胺基甲酸酯单体，并且可以包含直链或分支链的C1到C20含烷基(甲基)丙烯酸酯、具有羟基的C1到C20(甲基)丙烯酸酯、含脂环基的C3到C20(甲基)丙烯酸酯、C3到C20多元醇的多官能(甲基)丙烯酸酯，以及其混合物。确切地说，粘合剂可以包含五官能或六官能单体、以及三官能单体。五官能或六官能单体可以包含五官能或六官能(甲基)丙烯酸酯单体，确切地说C3到C20多元醇的五官能或六官能单体。特别地，粘合剂包含非胺基甲酸酯五官能单体或非胺基甲酸酯六官能单体，因此，固化产物可以密集地堆叠在金属纳米线121的网状结构中并且基质到基层110的粘着力可以得到改良。五官能或六官能单体可以包含但不限于选自二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改质二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯和己内酯改质二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯中的至少一个。
三官能单体可以是三官能(甲基)丙烯酸酯单体，并且可以包含不含胺基甲酸酯基团的非胺基甲酸酯三官能单体，因此，固化产物可以密集地堆叠在金属纳米线121的网状结构中并且基质到基层110的粘着力可以得到改良。三官能单体可以包含C3到C20多元醇的三官能单体和C3到C20多元醇的烷氧基化三官能单体中的至少一个。更确切地说，C3到C20多元醇的三官能单体可以包含但不限于选自三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯和二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯中的至少一个。与不含烷氧基的C3到C20多元醇的三官能单体相比，C3到C20多元醇的烷氧基化三官能单体可以进一步改良透明导体的透射比和可靠性，同时减小透明导体的透射b*值，由此防止导电层由于色彩失真而看上去呈黄色。确切地说，具有烷氧基(例如，C1到C5烷氧基)的三官能单体可以包含但不限于乙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯和丙氧基化甘油基三(甲基)丙烯酸酯中的至少一个。
在基质组合物中，五官能或六官能单体、和三官能单体可以以1∶1到5∶1，确切地说2∶1到5∶1、2∶1到3.5∶1的重量比存在。在此范围内，透明导体100可以具有改良的透射比和可靠性。当三官能单体的量高于五官能或六官能单体时，基质展现到基层110的较低粘着力并且具有较低可靠性。
引发剂可以是典型的光聚合引发剂，并且可以包含α-羟基酮引发剂，例如1-羟基环己基苯基酮或其混合物。
在一个实施例中，就固体含量而言，基质组合物可以包含40wt％到80wt％，例如40wt％到70wt％的无机中空粒子、氟单体或其混合物，15wt％到55wt％，例如25wt％到55wt％的粘合剂，以及0.1wt％到5wt％的引发剂。在这一含量范围内，基质组合物允许容易地形成基质并且可以通过减小透明导体的透射b*值改良透明导体的透射比。
在另一实施例中，就固体含量而言，基质组合物可以包含40wt％到80wt％的无机中空粒子、氟单体或其混合物，15wt％到55wt％的粘合剂，以及0.1wt％到5wt％的引发剂。在这一含量范围内，基质组合物允许容易地形成基质并且可以通过减小透明导体的透射b*值改良透明导体的透射比。
在另一实施例中，就固体含量而言，基质组合物可以包含50wt％到70wt％的无机中空粒子，5wt％到40wt％的氟单体，5wt％到40wt％的粘合剂，以及0.1wt％到5wt％的引发剂。在这一含量范围内，基质组合物可以通过基质折射率的减小降低透明导体的透射b*值，由此改良透明导体的透射比。
基质组合物可以包含溶剂。溶剂可以非限制性地是任何典型的溶剂，只要所述溶剂既不溶解中空粒子也不使氟单体的特征退化。确切地说，溶剂可以包含丙二醇单甲基醚等等。在此情况下，溶剂可以以不包含固体内含物的剩余重量存在于具有前述组分的基质组合物中。
基质组合物可以进一步包含抗氧化剂。抗氧化剂可以防止透明导电层120的金属纳米线网络的氧化。抗氧化剂可以是一或多种抗氧化剂的混合物，例如，选自基于三唑的抗氧化剂、基于三嗪的抗氧化剂、基于磷的抗氧化剂(例如基于亚磷酸盐的抗氧化剂等等)、HALS(受阻胺光稳定剂)抗氧化剂以及基于酚的抗氧化剂中的两种或两种以上抗氧化剂的混合物，以防止金属纳米线121的氧化同时改良可靠性。在基质组合物中，抗氧化剂可以以0.01wt％到5wt％，确切地说0.5wt％到2wt％的量存在。在此范围内，抗氧化剂可以防止金属纳米线的氧化并且确保通过图案化透明导体100所形成的透明电极的高图案均匀性以实现精细图案。
由根据这一实施例的基质组合物形成的基质具有低折射率，由此减小透明导电层的折射率。在此情况下，基质可以增加透明导体的总透射比，同时通过允许反射自基质的光被反射自透明导电层的光偏移来减小雾度。确切地说，可以将基层与基质之间的折射率差值设定在0.35到0.02的范围内以改良透明导体的透射比。
透明导电层120可以具有10纳米到200纳米、20纳米到200纳米、50纳米到200纳米、确切地说70纳米到150纳米的厚度。在这一厚度范围内，透明导电层可以有利地应用于用于柔性显示器的透明导体。
接下来，将描述根据本发明的另一实施例的透明导体。根据本发明的这一实施例的透明导体具有与根据本发明上述实施例的透明导体的特征实质上相同的特征。然而，根据这一实施例的透明导体可以进一步包含添加剂，例如粘着力促进剂、UV吸收剂、增稠剂、分散剂等等，以便改良基质组合物的效能。在此实施例中，就固体含量而言，添加剂可以以0.01wt％到5wt％，确切地说1wt％到5wt％的量存在于基质组合物中。在此范围内，添加剂可以改良基质组合物的效能而不使基质的特性退化。
接下来，将描述根据本发明的另一实施例的透明导体。根据这一实施例的透明导体可以进一步包含堆叠在基层的一个或两个表面上的功能层。功能层可以包含但不限于防蚀层、防眩光涂层、粘着促进层和寡聚物洗提防止层。
接下来，将参考图2描述根据这一实施例的透明导体。参考图2，根据这一实施例的透明导体150包含基层110，以及形成于基层110的上表面上并且经图案化以形成含金属纳米线的导电层120a的导电层120′，其包含金属纳米线121和基质122，以及不含金属纳米线的导电层120b，其不包含金属纳米线。根据这一实施例的透明导体与根据本发明上述实施例的透明导体100实质上相同，除了导电层120′经图案化。
可以通过预定方法图案化导电层120′，例如用酸溶液蚀刻。在这里，导电层120′可以经图案化以形成x和y通道以用作导体。举例来说，如图2中所示，导电层120′可以经图案化以形成包含含金属纳米线的导电层120a和不含金属纳米线的导电层120b的模式。在这里，不含金属纳米线的导电层120b可以由不含金属纳米线121的基质122构成。
根据上述实施例的透明导体可以具有90％或以上，确切地说90％到99％的透射比，以及10％或小于10％，确切地说1％到10％的可靠性。在此范围内，透明导体100具有高透射比和低电阻变化，并且可以通过透明导体的图案化用作透明电极薄膜。如本文所用，术语“可靠性”是指如在透明导体上所测量的电阻变化率，所述透明导体在85℃和85％相对湿度(RH)的条件下静置240小时之后附着上50～125微米厚的透明粘合剂薄膜(光学透明粘合剂8215，3M有限公司)和38～125微米厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜。当透明导体具有10％或小于10％，确切地说1％到10％的电阻变化率时，判定透明导体具有可靠性。
根据上述实施例的透明导体可以在可见光范围内展现透明度，例如在400纳米到700纳米的波长下。举例来说，透明导体可以具有0％到1.5％，确切地说0.01％到1.5％或0.01％到1.3％的雾度值，如在400纳米到700纳米的波长下使用雾度计所测量。在此范围内，所述透明导体由于其良好透明度而可用于透明导体的目的。
根据上述实施例的透明导体可以具有100Ω/□或小于100Ω/□，确切地说50Ω/□到100Ω/□或30Ω/□到100Ω/□的薄层电阻，如使用4探针测试仪所测量。在此范围内，透明导体由于低薄层电阻而可以用作用于触摸面板的电极薄膜并且可以施用于大面积触摸面板。
根据上述实施例的透明导体可以具有10微米到250微米，确切地说50微米到200微米或50微米到150微米的厚度，但不限于其中。在此范围内，透明导体可以用作透明电极薄膜，包含用于触摸面板的薄膜，并且可以用作用于柔性触摸面板的透明电极薄膜。透明导体可以通过蚀刻等等进行图案化来以薄膜形式用作用于触摸面板、电子纸或太阳能电池的透明电极薄膜。
接下来，将描述制造根据本发明的一个实施例的透明导体的方法。
制造根据本发明的一个实施例的透明导体的方法可以包含：在基层的一个表面上形成金属纳米线网络层；以及过量涂布包含无机中空粒子、氟单体或其混合物的基质组合物到金属纳米线网络层上。在此情况下，有可能获得就导电性、光学特性、耐化学性和可靠性而言展现极好特性的透明导体。
首先，使用金属纳米线组合物在基层上形成金属纳米线网络层。如本文所用，分散有金属纳米线的液体组合物称为“金属纳米线组合物”。金属纳米线组合物是分散有金属纳米线的液体组合物，并且可以包含用于分散金属纳米线的粘合剂。在此情况下，金属纳米线组合物允许容易的沉积并且可以改良到基层的粘着力。对于金属纳米线组合物而言，粘合剂可以包含但不限于：例如，羧甲基纤维素(carboxy methylcellulose，CMC)、2-羟乙基纤维素(2-hydroxy ethyl cellulose，HEC)、羟基丙基甲基纤维素(hydroxy propylmethylcellulose，HPMC)、甲基纤维素(MC)、聚乙烯醇(PVA)、三聚丙烯乙二醇(TPG)、聚乙烯吡咯啶酮、黄原胶(xanthan gum，XG)、烷氧基化物(例如乙氧基化物、环氧乙烷、环氧丙烷)以及其共聚物。可使用例如(但不限于)棒涂、旋涂、浸涂、滚涂、浇涂、模涂等等的涂布方法将金属纳米线组合物涂布到基层上。金属纳米线网络层可以通过将金属纳米线组合物涂布到基层上继而干燥以形成在基层上。干燥可以例如在80℃到140℃下进行1分钟到30分钟。
随后，使用基质组合物将透明导电层形成于金属纳米线网络层上。基质组合物可以包含粘合剂和引发剂。在一些实施例中，基质组合物可以进一步包含溶剂。基质组合物的细节与根据如上文所描述的本发明实施例的透明导体的细节相同。
可以使用例如(但不限于)棒涂、旋涂、浸涂、滚涂、浇涂、模涂等等的涂布方法将基质组合物涂布到金属纳米线网络层上。
涂布到金属纳米线网络层上的基质组合物渗透金属纳米线网络层。因此，金属纳米线浸渍在基质组合物中，由此形成包含金属纳米线和基质的导电层。金属纳米线可以完全浸渍在基质中，或可以部分曝露于导电层的表面。
所述方法可进一步包含在涂布基质组合物之后干燥所述基质组合物。举例来说，基质组合物可以在80℃到120℃下干燥1分钟到30分钟。
在干燥基质组合物之后，所述方法可进一步包含通过进行光固化和热固化中的至少一种来固化。可以通过在300毫焦/平方厘米到1000毫焦/平方厘米的强度下照射具有400纳米或小于400纳米波长的光来进行光固化，并且热固化可以包含在50℃到200℃下固化1小时到120小时。
所述方法可进一步包含通过蚀刻等等来图案化经固化的透明导电层。
接下来，将描述根据本发明实施例的装置。根据本发明实施例的装置包含根据如上文所描述的本发明实施例的透明导体。确切地说，根据本发明实施例的装置可以包含但不限于光学显示器，例如触摸面板、触摸屏面板、柔性显示器等等；电子纸；或太阳能电池。应注意，在涉及图3到图7的描述中，术语“玻璃”不仅可以意谓由玻璃材料形成的玻璃片，也可以意谓由透明塑料薄膜形成的玻璃片。
接下来，将参考图3描述根据本发明的一个实施例的光学显示器。图3说明根据本发明的一个实施例的光学显示器的截面图。
参考图3，根据本发明的一个实施例的光学显示器600可以包含显示面板245；形成于所述显示面板上的透明电极结构230；以及形成于所述透明导体上的窗口玻璃205。
显示面板245可以是LCD、OLED或LED。当显示面板245是OLED面板时，可以在OLED面板上形成包封层以遮蔽湿气和氧气。
在一个实施例中，粘着薄膜210、粘着薄膜212可以安置在显示面板245与透明电极结构230之间以及在透明电极结构230与窗口玻璃205之间。
透明电极结构230可以包含根据本发明实施例的透明导体。
窗口玻璃205在光学显示器中执行屏幕显示功能，并且可以由典型的玻璃材料或透明塑料材料制备。
粘着薄膜210、粘着薄膜212是典型的粘着薄膜，例如光学透明粘着剂(opticallyclear adhesive，OCA)薄膜。
接下来，将参考图4描述根据本发明的另一实施例的光学显示器200。图4是根据本发明的另一实施例的光学显示器的截面图。根据这一实施例的光学显示器200可以包含：透明电极结构230，其包含基层110，形成于基层110的上表面上的第一电极255和第二电极260，以及形成于基层110的下表面上的第三电极265和第四电极270；放置在第一电极255和第二电极260上方的窗口玻璃205；放置在第三电极265和第四电极270下方的第一偏光板235；放置在第一偏光板235的下表面上的上衬底240；放置在上衬底240的下表面上的显示面板245；以及放置在显示面板245的下表面上的第二偏光板250。在这里，上衬底240可以是彩色滤光片(CF)玻璃、封装玻璃等等。显示面板245可以是LCD、OLED或LED。在一些实施例中，显示面板245可以包含薄膜晶体管(TFT)玻璃，并且第二偏光板250可以形成于TFT玻璃的下表面上。
透明电极结构230可以包含根据本发明实施例的透明导体。可以通过使用预定方法(例如蚀刻等等)图案化根据本发明实施例的透明导电层以形成第一、第二、第三和第四电极来制造透明电极结构230。第一电极255和第二电极260可以是Rx电极并且第三电极265和第四电极270可以是Tx电极，或第一电极255和第二电极260可以是Tx电极并且第三电极265和第四电极270可以是Rx电极。
窗口玻璃205在光学显示器中执行屏幕显示功能，并且可以由典型的玻璃材料或透明塑料材料制备。
第一偏光板235和第二偏光板250用以赋予光学显示器偏光能力并且可以使外部光或内部光偏振。另外，第一偏光板235和第二偏光板250中的每一个可以包含偏光器或偏光器与保护膜的堆叠体，并且偏光器和保护膜可以分别包含本领域中已知的典型偏光器和保护膜。粘着薄膜210、粘着薄膜212可以分别安置在窗口玻璃205与透明电极结构230之间以及在透明电极结构230与第一偏光板235之间，由此维持在透明电极结构230、窗口玻璃205与第一偏光板235之间的结合。粘着薄膜210、粘着薄膜212是典型的粘着薄膜并且可以包含例如光学透明粘着剂(OCA)薄膜。
接下来，将参考图5描述根据本发明的另一实施例的光学显示器300。图5是根据本发明的另一实施例的光学显示器的截面图。根据这一实施例的光学显示器300可以包含：透明电极结构230，其包含基层110，形成于基层110的上表面上的第一电极255和第二电极260，以及形成于基层110的下表面上的第三电极265和第四电极270；放置在第一电极255和第二电极260上方的第一偏光板235′；放置在第一偏光板235′上方的窗口玻璃205；放置在第三电极265和第四电极270下方的上衬底240；以及包含薄膜晶体管(TFT)玻璃的放置在上衬底240的下表面上的显示面板245。在这里，上衬底240可以是彩色滤光片(CF)玻璃、封装玻璃等等。此外，在一些实施例中，显示面板245可以是LCD、OLED或LED。
透明电极结构230可以包含根据本发明实施例的透明导体。可以通过使用预定方法(例如蚀刻等等)图案化透明导电层以形成第一、第二、第三和第四电极来制造透明电极结构230。第一电极255和第二电极260可以是Rx电极并且第三电极265和第四电极270可以是Tx电极，或第一电极255和第二电极260可以是Tx电极并且第三电极265和第四电极270可以是Rx电极。
窗口玻璃205在光学显示器中执行屏幕显示功能，并且可以由典型的玻璃材料或透明塑料材料制备。
偏光板235′用以赋予光学显示器偏光能力并且可以使外部光或内部光偏振。另外，偏光板235′可以包含偏光器、偏光器与保护膜的堆叠体或偏光器与保护膜的一体式单层结构。偏光器和保护膜可以分别包含本领域中已知的典型偏光器和保护膜。粘着薄膜210、粘着薄膜212可以分别安置在偏光板235′与窗口玻璃205之间以及在透明电极结构230与偏光板235′之间，由此维持在透明电极结构230、窗口玻璃205与偏光板235′之间的结合。粘着薄膜210、粘着薄膜212是典型的粘着薄膜并且可以包含例如光学透明粘着剂(OCA)薄膜。
接下来，将参考图6描述根据本发明的又一实施例的光学显示器400。参考图6，根据这一实施例的光学显示器400包含：透明电极结构330，其包含基层110和形成于基层110的上表面上的第三电极265和第四电极270；窗口玻璃205，其放置在第三电极265和第四电极270上方并且包含形成于其下表面上的第一电极255和第二电极260；放置在透明电极结构330下方的第一偏光板235；放置在第一偏光板235的下表面上的上衬底240；放置在上衬底240的下表面上的显示面板245；以及放置在显示面板245的下表面上的第二偏光板250。在一些实施例中，上衬底240可以是彩色滤光片(CF)玻璃、封装玻璃等等。显示面板245可以是LCD、OLED或LED。在一些实施例中，显示面板245可以包含薄膜晶体管(TFT)玻璃，并且第二偏光板250可以形成于TFT玻璃的下表面上。
透明电极结构330可以包含根据本发明实施例的透明导体。可以通过使用预定方法图案化透明导体以形成第三电极265和第四电极270来制造透明电极结构330。可以通过典型电极形成方法来形成第一电极255和第二电极260。粘着薄膜210、粘着薄膜212可以分别安置在窗口玻璃205与透明电极结构330之间以及在透明电极结构330与第一偏光板235之间，由此维持透明电极结构、窗口玻璃与第一偏光板之间的结合。
接下来，将参考图7描述根据本发明的又一实施例的光学显示器500。参考图7，根据这一实施例的光学显示器500包含：第一透明电极结构430a，其包含第一基层110a和形成于第一基层110a的上表面上的第一电极255和第二电极260；第二透明电极结构430b，其形成于第一透明电极结构430a下方并且包含第二基层110b和形成于第二基层110b的上表面上的第三电极265和第四电极270；形成于第二透明电极结构430b下方的第一偏光板235；放置在第一偏光板235的下表面上的上衬底240；放置在上衬底240的下表面上的显示面板245；以及放置在显示面板245的下表面上的第二偏光板250。第一透明电极结构430a和第二透明电极结构430b包含根据本发明实施例的透明导体。在一些实施例中，上衬底240可以是彩色滤光片(CF)玻璃、封装玻璃等等。显示面板245可以是LCD、OLED或LED。在一些实施例中，显示面板245可以包含薄膜晶体管(TFT)玻璃，并且第二偏光板250可以形成于TFT玻璃的下表面上。
可以通过使用预定方法图案化透明导体以形成第一、第二、第三和第四电极来制造第一透明电极结构430a和第二透明电极结构430b。
粘着薄膜210、粘着薄膜212、粘着薄膜214可以分别安置在第一透明电极结构430a与窗口玻璃205之间、第一透明电极结构430a与第二透明电极结构430b之间以及第二透明电极结构430b与第一偏光板235之间，由此维持透明电极结构、窗口玻璃与第一偏光板之间的结合。粘着薄膜210、粘着薄膜212、粘着薄膜214是典型的粘着薄膜并且可以包含例如光学透明粘着剂(OCA)薄膜。
接下来，将参考图8描述根据本发明的又一实施例的光学显示器设备700。图8是根据本发明的又一实施例的光学显示器的截面图。根据这一实施例的光学显示器700可以包含：透明电极结构530，其包含基层110、形成于基层110的上表面上的第一电极255和第二电极260以及形成于基层110的下表面上的第三电极265和第四电极270；放置在第一电极255和第二电极260上方的第一偏光板235；放置在第一偏光板235上方的窗口玻璃205；放置在第三电极265和第四电极270下方的上衬底240；以及放置在上衬底240的下表面上的显示面板245。在这里，上衬底240可以是彩色滤光片(CF)玻璃、封装玻璃等等。在一些实施例中，显示面板245可以具有以下结构：其中例如薄膜晶体管(TFT)的下衬底形成于例如LCD、OLED或LED的光学装置的下侧面上。此外，第二偏光板250可以形成于显示面板245下方。
透明电极结构530可以包含根据本发明实施例的透明导体。可以通过使用预定方法(例如蚀刻等等)图案化透明导电层以形成第一、第二、第三和第四电极来制造透明电极结构530。第一电极255和第二电极260可以是Rx电极并且第三电极265和第四电极270可以是Tx电极，或第一电极255和第二电极260可以是Tx电极并且第三电极265和第四电极270可以是Rx电极。
窗口玻璃205在光学显示器中执行屏幕显示功能，并且可以由典型的玻璃材料或透明塑料材料制备。
第一偏光板235和第二偏光板250用以赋予光学显示器偏光能力并且可以使外部光或内部光偏振。另外，第一偏光板235和第二偏光板250中的每一个可以包含偏光器或偏光器与保护膜的堆叠体，并且偏光器和保护膜可以分别包含本领域中已知的典型偏光器和保护膜。尽管未在附图中显示，但粘着薄膜可以分别安置在窗口玻璃205与第一偏光板235之间以及在透明电极结构530与第一偏光板235之间，由此维持在透明电极结构530、第一偏光板235与窗口玻璃205之间的结合。另外，粘着薄膜可以进一步安置在显示面板245的第二偏光板与薄膜晶体管(TFT)玻璃之间。粘着薄膜是典型的粘着薄膜并且可以包含例如光学透明粘着剂(OCA)薄膜。
接下来，将参考图9描述根据本发明的又一实施例的光学显示器800。图9是根据本发明的又一实施例的光学显示器的截面图。根据这一实施例的光学显示器800可以包含：透明电极结构630，其包含基层110、形成于基层110的上表面上的第一电极255和第二电极260以及形成于基层110的下表面上的第三电极265和第四电极270；放置在第一电极255和第二电极260上方的上衬底240；放置在上衬底240的上表面上的第一偏光板235；放置在第一偏光板235的上表面上的窗口玻璃205；放置在第三电极265与第四电极270下方的显示面板245；以及放置在显示面板245的下表面上的第二偏光板。在一些实施例中，上衬底240可以是彩色滤光片(CF)玻璃、封装玻璃等等。在一些实施例中，显示面板245可以具有以下结构：其中例如薄膜晶体管(TFT)的下衬底形成于例如LCD、OLED或LED的光学显示器装置的下侧面上。
透明电极结构630可以包含根据本发明实施例的透明导体。可以通过使用预定方法(例如蚀刻等等)图案化透明导电层以形成第一、第二、第三和第四电极来制造透明电极结构630。第一电极255和第二电极260可以是Rx电极并且第三电极265和第四电极270可以是Tx电极，或第一电极255和第二电极260可以是Tx电极并且第三电极265和第四电极270可以是Rx电极。
窗口玻璃205在光学显示器中执行屏幕显示功能，并且可以由典型的玻璃材料或透明塑料材料制备。
第一偏光板235和第二偏光板250用以赋予光学显示器偏光能力并且可以使外部光或内部光偏振。另外，第一偏光板235和第二偏光板250中的每一个可以包含偏光器或偏光器与保护膜的堆叠体，并且偏光器和保护膜可以分别包含本领域中已知的典型偏光器和保护膜。尽管未在附图中显示，但粘着薄膜可以分别安置在窗口玻璃205与第一偏光板235之间、第一偏光板235与上衬底240之间以及显示面板245与第二偏光板250之间，由此维持在上衬底240、第一偏光板235与窗口玻璃205之间的结合。另外，粘着薄膜可以安置在显示面板245的第二偏光板与薄膜晶体管(TFT)玻璃之间。粘着薄膜是典型的粘着薄膜并且可以包含例如光学透明粘着剂(OCA)薄膜。
另外，尽管未在图3到图9中显示，但基层也可以具有其中的树脂薄膜通过粘合剂等等堆叠的结构。
在下文中，将参考一些实例更详细地描述本发明。应理解，提供这些实例仅为了说明，并且不应以任何方式将其理解为限制本发明。
实例
实例1
将50wt％金属纳米线溶液(包含金属纳米线总数的2.45wt％和粘合剂(金属纳米线与粘合剂的重量比＝1∶1.45)，以及1wt％或小于1wt％的增稠剂、分散剂等等，以及一种溶剂，其产品名称是：ClearOhm墨，坎布利欧有限公司)添加到50wt％超纯蒸馏水中，继而搅拌，由此制备金属纳米线组合物。
将0.35wt％二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、0.1wt％三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、0.5wt％无机中空粒子(XJA-2502-LR，平均粒子直径：60纳米，折射率：1.36，表面处理粒子)，以及0.05wt％艳佳固(Irgacure)-184(汽巴有限公司(CIBA Co.，Ltd.))与99wt％丙二醇单甲基醚混合，由此制备基质组合物。
使用旋涂器将金属纳米线组合物涂布到聚碳酸酯薄膜(厚度：50微米)上，继而在80℃下在烘箱中干燥2分钟。接着，使用旋涂器将基质组合物涂布到金属纳米线层上，继而在80℃下在烘箱中干燥2分钟，随后使其在500毫焦/平方厘米下经受UV固化以形成85纳米厚的透明导电层，由此制备透明导体。
实例2
以与实例1中相同的方式制备透明导体，除了基质组合物是通过混合99wt％丙二醇单甲基醚、0.125wt％DPHA、O.125wt％TMPTA、0.7wt％无机中空粒子(XJA-2502-LR，平均粒子直径：60纳米，折射率：1.36，表面处理粒子)以及0.05wt％艳佳固-184(汽巴有限公司)来制备。
实例3
以与实例1中相同的方式制备透明导体，除了基质组合物是通过混合99wt％丙二醇单甲基醚、0.125wt％DPHA、0.125wt％TMPTA、0.7wt％氟单体(LINC-3A，共荣社有限公司(Kyoeisha Co.，Ltd.))以及0.05wt％艳佳固-184来制备。
实例4
以与实例1中相同的方式制备透明导体，除了基质组合物是通过混合99wt％丙二醇单甲基醚、0.035wt％DPHA、0.015wt％TMPTA、0.7wt％无机中空粒子(XJA-2502-LR，平均粒子直径：60纳米，折射率：1.36，表面处理粒子)、0.2wt％氟单体(LINC-3A，共荣社有限公司)以及0.05wt％艳佳固-184来制备。
实例5
以与实例1中相同的方式制备透明导体，除了基质组合物是通过混合99wt％丙二醇单甲基醚、0.105wt％DPHA、0.045wt％TMPTA、0.7wt％无机中空粒子(XJA-2502-LR，平均粒子直径：60纳米，折射率：1.36，表面处理粒子)、0.1wt％氟单体(AR-110，大金有限公司(DAIKIN Co.，Ltd.))以及0.05wt％艳佳固-184来制备。
实例6
以与实例1中相同的方式制备透明导体，除了基质组合物是通过混合99wt％丙二醇单甲基醚、0.10wt％DPHA、0.04wt％TMPTA、0.7wt％无机中空粒子(XJA-2502-LR，平均粒子直径：60纳米，折射率：1.36，表面处理粒子)、0.1wt％氟单体(AR-110，大金有限公司)、0.05wt％艳佳固-184以及0.005wt％廷纳芬(Tinuvin)152(巴斯夫)以及作为抗氧化剂的0.005wt％依佳弗(Igafos)168(巴斯夫)来制备。
比较实例1
以与实例1中相同的方式制备透明导体，除了基质组合物是通过混合99wt％丙二醇单甲基醚、0.7wt％DPHA、0.295wt％TMPTA、0wt％无机中空粒子(XJA-2502-LR，平均粒子直径：60纳米，折射率：1.36，表面处理粒子)以及0.05wt％艳佳固-184来制备。
比较实例2
以与实例1中相同的方式制备透明导体，除了基质组合物是通过混合99wt％丙二醇单甲基醚、0.315wt％DPHA、0.135wt％TMPTA、0.5wt％球形(非中空)二氧化硅纳米粒子(SST450V，兰柯有限公司(Ranco Co.，Ltd.)，平均粒子直径：30纳米)以及0.05wt％艳佳固-184来制备。
评估在实例和比较实例中制备的透明导体中的每一个的以下特性。结果显示于表1中。
(1)薄层电阻(Ω/□)：使用非接触式薄层电阻计(EC-80P，纳普森有限公司(NAPSON Co.，Ltd.))测量透明导体表面上的薄层电阻。
(2)雾度和总透射比(％)：面向光源放置透明导体的透明导电薄膜，继而使用雾度计(NDH-9000)在400纳米到700纳米波长下测量雾度和总透射比。
(3)透射b*值：使用分光光度计(发光体65度，观测者2度)CM 3600D(柯尼卡美能达有限公司)在400纳米到700纳米波长下在实例和比较实例中所制备的透明导体(聚碳酸酯薄膜厚度：50微米，包括金属纳米线和基质的导电层厚度：85纳米)上测量透射色彩坐标。
表1
如表1中所示，确认实例1到实例6的透明导体可以通过确保低雾度和高透射比展现良好的光学特性，并且可以通过确保低透射b*值防止色彩失真。
相反，在相同电阻下，在不使用无机中空粒子和氟单体的情况下所制备的比较实例1的透明导体具有雾度值高的问题。在不使用氟单体和包含在内的固体二氧化硅粒子的情况下所制备的比较实例1的透明导体和比较实例2的透明导体中，存在由于透射b*值增加而色彩失真的问题，以及例如透射比、雾度等等的光学特性退化的问题。
尽管上文已经描述了一些实施例，但本领域的技术人员显而易知，这些实施例仅以说明方式给出，并且在不脱离本发明的精神和范围的情况下，可以进行各种修改、改变、更改和等效实施例。本发明的范围应仅受所附权利要求和其等效物限制。

Claims (16)

1.一种透明导体，其特征在于，包括：
基层；以及
导电层，形成于所述基层上并且包括金属纳米线以及基质，
其中所述基质由包括无机中空粒子以及氟甲基丙烯酸酯单体的基质组合物形成，
其中所述透明导体具有1.0或小于1.0的透射b*值，
其中所述透明导体具有100Ω/□或小于100Ω/□的薄层电阻，
其中就固体含量而言，所述无机中空粒子以40wt％到80wt％的量存在于所述基质组合物中，且
其中就固体含量而言，所述氟甲基丙烯酸酯单体以10wt％到20wt％的量存在于所述基质组合物中。
2.根据权利要求1所述的透明导体，其中所述无机中空粒子具有1.4或小于1.4的折射率。
3.根据权利要求1所述的透明导体，其中所述无机中空粒子由硅、铝、镁、锂、锆以及锌中的至少一个的氧化物、碳化物或氮化物形成。
4.根据权利要求1所述的透明导体，其中所述基质组合物包括6wt％或小于6wt％的氟。
5.根据权利要求1所述的透明导体，其中就固体含量而言，所述基质组合物包括5wt％到40wt％的粘合剂，以及0.1wt％到5wt％的引发剂。
6.根据权利要求1所述的透明导体，其中所述金属纳米线包括银纳米线。
7.根据权利要求1所述的透明导体，进一步包括：
防蚀层、防眩光涂层、粘着促进层以及寡聚物洗提防止层中的至少一个，形成于所述基层的上表面或下表面上。
8.根据权利要求1所述的透明导体，其中所述基质组合物进一步包括多官能单体，所述多官能单体包括三官能单体以及五官能单体与六官能单体两者之一。
9.根据权利要求8所述的透明导体，其中所述三官能单体包括基于(甲基)丙烯酸酯的单体。
10.根据权利要求8所述的透明导体，其中所述三官能单体包括烷氧基化的基于(甲基)丙烯酸酯的单体。
11.根据权利要求8所述的透明导体，其中所述基质进一步包括粘着力促进剂、UV吸收剂、增稠剂以及分散剂中的至少一个。
12.一种制造透明导体的方法，其特征在于，包括：
在基层上形成金属纳米线网络层；以及
使用包括无机中空粒子以及氟甲基丙烯酸酯单体的基质组合物在所述金属纳米线网络层上形成导电层，
其中所述透明导体具有1.0或小于1.0的透射b*值，
其中所述透明导体具有100Ω/□或小于100Ω/□的薄层电阻，
其中就固体含量而言，所述无机中空粒子以40wt％到80wt％的量存在于所述基质组合物中，且
其中就固体含量而言，所述氟甲基丙烯酸酯单体以10wt％到20wt％的量存在于所述基质组合物中。
13.根据权利要求12所述的制造透明导体的方法，其中所述基质组合物进一步包括多官能单体，所述多官能单体包括三官能单体以及五官能单体与六官能单体两者之一。
14.一种光学显示器，其特征在于，包括根据权利要求1到11中任一权利要求所述的透明导体。
15.一种光学显示器，其特征在于，包括：显示面板；形成于所述显示面板上的透明导体；以及形成于所述透明导体上的窗口，所述透明导体是根据权利要求1到11中任一权利要求所述的透明导体。
16.根据权利要求15所述的光学显示器，其中所述显示面板包括LCD、OLED或LED。
CN201410730403.1A 2013-12-04 2014-12-04 透明导体、制备其的方法以及包括其的光学显示器 Active CN104700927B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2013-0150230 2013-12-04
KR20130150230 2013-12-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104700927A CN104700927A (zh) 2015-06-10
CN104700927B true CN104700927B (zh) 2018-03-09

Family

ID=53266498

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410730403.1A Active CN104700927B (zh) 2013-12-04 2014-12-04 透明导体、制备其的方法以及包括其的光学显示器

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9674947B2 (zh)
KR (1) KR101813749B1 (zh)
CN (1) CN104700927B (zh)
TW (1) TWI556269B (zh)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106339116B (zh) * 2015-07-11 2023-07-14 宸新科技(厦门)有限公司 触控面板及其制作方法
US10088931B2 (en) * 2015-11-16 2018-10-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Silver nanowires, production methods thereof, conductors and electronic devices including the same
KR101854509B1 (ko) * 2015-12-01 2018-06-15 삼성에스디아이 주식회사 투명 도전체, 그의 제조 방법 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
KR101942152B1 (ko) * 2016-01-18 2019-01-24 삼성에스디아이 주식회사 도전성 윈도우 필름 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
KR20170120461A (ko) * 2016-04-21 2017-10-31 삼성에스디아이 주식회사 디스플레이 장치
KR20180003352A (ko) * 2016-06-30 2018-01-09 삼성에스디아이 주식회사 투명 도전체 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
KR20180012098A (ko) * 2016-07-26 2018-02-05 삼성에스디아이 주식회사 투명 도전체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
CN106833353B (zh) * 2016-12-21 2019-10-18 华南理工大学 一种触摸屏用uv固化纳米银线浆料及其制备方法
CN108920994B (zh) * 2018-03-28 2021-09-17 上海天马微电子有限公司 一种显示面板及显示装置
CN108829289A (zh) * 2018-06-30 2018-11-16 云谷（固安）科技有限公司 导电叠层结构及其制备方法、触控屏
KR20220007826A (ko) 2020-07-10 2022-01-19 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치 및 그 제조방법

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009107694A1 (ja) * 2008-02-27 2009-09-03 株式会社クラレ 金属ナノワイヤの製造方法並びに得られた金属ナノワイヤよりなる分散液および透明導電膜
CN101971354A (zh) * 2007-04-20 2011-02-09 凯博瑞奥斯技术公司 高对比度的透明导体及其形成方法
JP2011029098A (ja) * 2009-07-28 2011-02-10 Panasonic Electric Works Co Ltd 透明導電膜付き基材
CN102763171A (zh) * 2010-01-15 2012-10-31 凯博瑞奥斯技术公司 低雾度透明导体
CN102985499A (zh) * 2010-07-08 2013-03-20 Lg化学株式会社 防反射膜及其制备方法
CN103201105A (zh) * 2010-11-11 2013-07-10 北川工业株式会社 透明导电膜

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6001163A (en) * 1997-04-17 1999-12-14 Sdc Coatings, Inc. Composition for providing an abrasion resistant coating on a substrate
JP3973330B2 (ja) * 1999-12-10 2007-09-12 触媒化成工業株式会社 透明被膜付基材、透明被膜形成用塗布液、および表示装置
US6589658B1 (en) * 2001-11-29 2003-07-08 Guardian Industries Corp. Coated article with anti-reflective layer(s) system
SG150514A1 (en) * 2005-08-12 2009-03-30 Cambrios Technologies Corp Nanowires-based transparent conductors
US8018568B2 (en) * 2006-10-12 2011-09-13 Cambrios Technologies Corporation Nanowire-based transparent conductors and applications thereof
EP3595016A1 (en) * 2006-10-12 2020-01-15 Cambrios Film Solutions Corporation Nanowire-based transparent conductors and method of making them
US8018563B2 (en) * 2007-04-20 2011-09-13 Cambrios Technologies Corporation Composite transparent conductors and methods of forming the same
JP5443878B2 (ja) * 2009-07-27 2014-03-19 パナソニック株式会社 透明導電膜付き基材
WO2011044687A1 (en) * 2009-10-16 2011-04-21 Paul Gregory O'brien Transparent conductive porous nanocomposites and methods of fabrication thereof
JP5600457B2 (ja) * 2010-03-26 2014-10-01 パナソニック株式会社 透明導電膜付き基材
KR101253553B1 (ko) 2010-11-18 2013-04-11 안철흥 투명 도전성 필름 및 그 제조방법
EP2648079A4 (en) * 2010-11-30 2016-05-04 Nitto Denko Corp DISPLAY PANEL DEVICE WITH TOUCH INPUT FUNCTION
CN103959397B (zh) * 2011-11-29 2016-09-07 东丽株式会社 导电层合体及使用该导电层合体而成的显示体
WO2013094832A1 (ko) * 2011-12-21 2013-06-27 제일모직 주식회사 도전성 필름용 조성물, 이로부터 형성된 도전성 필름 및 이를 포함하는 광학 표시 장치
KR20140046923A (ko) * 2012-10-11 2014-04-21 제일모직주식회사 투명 도전체, 이를 제조하기 위한 조성물 및 이를 포함하는 광학표시 장치
US20140186587A1 (en) * 2012-12-27 2014-07-03 Cheil Industries Inc. Transparent conductor and apparatus including the same
DE102014115156B4 (de) * 2013-10-17 2021-09-16 Samsung Sdi Co., Ltd. Transparenter Leiter und damit ausgestattetes optisches Display
US9754698B2 (en) * 2013-10-24 2017-09-05 Samsung Sdi Co., Ltd. Transparent conductor, method for preparing the same, and optical display including the same
KR101665173B1 (ko) * 2014-03-05 2016-10-11 제일모직주식회사 투명 도전체 및 이를 포함하는 광학표시장치
TWI534840B (zh) * 2014-10-30 2016-05-21 國立臺灣大學 可撓性透明電極及製備其之方法
US20170003808A1 (en) * 2015-06-30 2017-01-05 Samsung Sdi Co., Ltd. Transparent conductor, method of fabricating the same and optical display including the same

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101971354A (zh) * 2007-04-20 2011-02-09 凯博瑞奥斯技术公司 高对比度的透明导体及其形成方法
WO2009107694A1 (ja) * 2008-02-27 2009-09-03 株式会社クラレ 金属ナノワイヤの製造方法並びに得られた金属ナノワイヤよりなる分散液および透明導電膜
JP2011029098A (ja) * 2009-07-28 2011-02-10 Panasonic Electric Works Co Ltd 透明導電膜付き基材
CN102763171A (zh) * 2010-01-15 2012-10-31 凯博瑞奥斯技术公司 低雾度透明导体
CN102985499A (zh) * 2010-07-08 2013-03-20 Lg化学株式会社 防反射膜及其制备方法
CN103201105A (zh) * 2010-11-11 2013-07-10 北川工业株式会社 透明导电膜

Also Published As

Publication number Publication date
US9674947B2 (en) 2017-06-06
KR101813749B1 (ko) 2018-01-02
US20150156866A1 (en) 2015-06-04
TW201523650A (zh) 2015-06-16
TWI556269B (zh) 2016-11-01
KR20150065597A (ko) 2015-06-15
CN104700927A (zh) 2015-06-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104700927B (zh) 透明导体、制备其的方法以及包括其的光学显示器
CN1997712B (zh) 功能涂料组合物、由该组合物形成的膜以及形成该组合物和膜的方法
JP2020042289A (ja) 赤外線カットフィルタ及び撮像装置
US20150185890A1 (en) Transparent conductor, input device and electronic apparatus
TWI613683B (zh) 透明導電性膜塗布組成物、透明導電性膜及透明導電性膜之製造方法
CN107709430B (zh) 包含基体和散射成分的复合材料系统及其制备方法和用途
TW201334970A (zh) 適用於光學耦合層之含有表面改質高指數奈米粒子的組合物
CN103903682A (zh) 透明导体和包括它的装置
CN105121564B (zh) 涂料组合物
JP2010208035A (ja) 光学フィルム及びその製造方法
CN102012532A (zh) 光学层叠体、偏振片及使用其的显示装置
KR20120096897A (ko) 증반사 투명막용 조성물, 발광 소자, 및 발광 소자의 제조 방법
TW201538636A (zh) 低折射組合物及其製備方法以及透明導電膜
WO2019202942A1 (ja) 反射防止板
CN106104706A (zh) 透明导体、其制造方法和包括其的光学显示器装置
WO2016038898A1 (ja) 組成物
JP5082814B2 (ja) 無機酸化物含有透明複合体及びその製造方法
KR20210021447A (ko) 무기 산화물 미립자 분산액
CN106029798B (zh) 用于形成透明被膜的涂布液以及具有透明被膜的基材的制造方法
CN106873053A (zh) 防眩性薄膜的制造方法、防眩性薄膜、偏振片和图像显示装置
KR101608962B1 (ko) 인덱스 매칭 필름 및 그 제조방법
KR102213829B1 (ko) 코팅 조성물, 도전성 막, 터치 패널 및 제조 방법
KR101900538B1 (ko) 투명도전체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 광학표시장치
TWI687723B (zh) 顏色轉換面板及其製造方法
JP2016060754A (ja) 組成物、組成物の製造方法、該組成物から得られる導電性物質、該組成物から得られる導電層付き基板及び透明導電層付き基板、並びに該透明導電層付き基板の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant