CN104635431A - 用于曝光机的托盘 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种用于曝光机的托盘，能够保持并下压面板以面向曝光装置来呈现面板。所述托盘包括工作台面，其适配成接收不同尺寸的面板，工作台面大致为平面且具有沿着限定参照角(C)的大致正交的第一和第二方向(X，Y)延伸的相邻的第一和第二边缘；第一类型的第一和第二保持装置和至少一个第二类型的第一保持装置，每个保持装置可在第一、保持状态与第二、待用状态之间被致动，在所述第一、保持状态下每个保持装置朝向工作台面施加压力从而限定保持位置；在所述第二、待用状态下压力被释放；以及定位装置，其沿着第一边缘的至少一部分且沿着第二边缘的至少一部分设置。

Description

用于曝光机的托盘
技术领域
本说明书涉及一种用于面板曝光机的托盘以及所述机器，托盘能够保持面板并使面板被下压以使该面板面向曝光装置而呈现。
本发明的应用领域主要为印刷电路，但本发明也可用于使用图像传输方法的任意领域，诸如液晶显示(LCD)屏、触摸屏、光伏电池领域，甚至可用于通过化学刻蚀制造微机械部件的领域。
背景技术
在用于曝光面板和传输图像的技术中，所谓的“直接成像”的技术具有不使用物理图像的优点，通常称为“负片”，即使正像并不是不可能的，从数字负片直接投影用于传输的图像，例如，借助具有能够投影像素组成的图像且用于通过或阻挡来自用于数字负片的每个像素的光源的光的可控微镜矩阵的曝光头。这一技术使得制造更为简便，特别是在改变系列时，这是因为仅改变文件即可简单地改编负片，而无需操作曝光机本身。
然而，这种曝光头具有微镜矩阵，其构成了在直接成像技术中最广泛使用的技术，但具有景深小的缺陷，通常为300微米(μm)量级。在这种情况下，为了确保传输的图像在整个面板表面上都是清晰的，就需要确保面板足够平坦。
为了确保面板平坦，传统的曝光机通常配备有通过吸附力抵靠工作台表面压住面板的吸附装置。然而，这种吸附装置并不足以实现这种景深所需要的平坦度。某些面板非常厚，特别是印刷电路，厚度为几个毫米的量级，因而非常硬，在这种情况下，如果面板稍微弯曲，吸附力不足以校正面板的这种曲度。薄且柔性的面板，例如印刷电路的内层或用于柔性屏或化学刻蚀的面板，当其具有卷曲的角时也出现严重的问题，这是因为面板卷曲的部分和吸附装置之间存在较大间距，因而吸附装置无法有效地保持面板的该部分。此外，面板或厚或薄，限制了某些吸嘴在这种情况下无障碍地吸入空气，从而消弱了形成常规阵列部分的全部相邻喷嘴的吸附力，并因此减弱了在大面积上下压面板的程度。
为了解决已知吸附装置的不足，已提出一个如下方案：为工作台配备四个能够向下抵靠面板的边缘以将它们压在工作台上的保持装置。为了能够适合不同尺寸的面板，这些装置中的每一个安装在垂直于面板的边缘的能够平移的托架上，从而，不论面板尺寸如何，面板居中在所述台的中心处，而每个保持装置朝着台的内侧移动以到达面板的边缘处，该边缘借由传感器来探测。
然而，该方案对负责装载面板的操作者而言存在有人体工程学问题。由于面板必须位于台中心处，因此总是需要距工作台的边缘一定距离放置面板，因而需要距操作者的工作站一定距离放置面板，因此操作者需要伸出手臂的长度来握住面板并俯身在台上以将面板放置在台的中心处。当面板较小时，这种不舒服的位置会更糟糕，需要距边缘很远地进行放置。可以理解，对于操作者而言这是很费劲的，例如，存在着肌肉骨骼失调的风险。
另外，将面板置于台的中心处必须要精确以确保正确地将投影的图像与面板对准，这需要操作者沿着两个不同方向平移调节面板的位置，以及还要围绕竖直轴线旋转，这使得执行起来困难得多，特别是因为面板距操作者一定距离，因此面板的定位精度相对较差，且会出现与曝光头的对准的问题。
因此，需要一种能够保持面板并使面板被下压以向曝光装置呈现的托盘和曝光机，其中托盘和曝光机至少部分地克服了上述已知装置所固有的缺陷。
发明内容
本说明书提供了一种托盘，适配成在面板曝光机中面向曝光装置呈现面板，该托盘包括工作台面，适配成接收不同尺寸的面板，所述工作台面大致为平面且具有沿着限定参照角的大致正交的第一和第二方向延伸的相邻的第一和第二边缘，第一类型的第一和第二保持装置和至少一个第二类型的第一保持装置，每个保持装置可在其朝向工作台面直接施加的压力从而限定保持位置的保持、第一状态，与释放所述压力的待用、第二状态之间被致动，以及定位装置，其沿着至少第一边缘的一部分且沿着第二边缘的至少一部分设置；第一类型的保持装置分别沿着第一和第二边缘的至少一部分延伸，其保持位置固定在平行于工作台面的平面上；且第二类型的保持装置可在平行于工作台面的平面上移动，以将其保持位置随着所使用的面板尺寸而变化。
在本说明书中，术语“面板”用于表示任意类型大致为平面的基板，而不论其厚度或硬度如何。典型地，其可为用于印刷电路或微电电路的面板，但也可以为待被化学蚀刻以制造微机械部件的金属片材，或为在其上制成导电线路以制造柔性触摸屏或光伏电池的塑料片材。
借由该托盘，并使用参照角，操作者可更加靠近面板工作，而不论其大小如何。这种配置使得面板靠着工作台面的第一和第二边缘放置，从而使得操作者能够位于这些边缘中的一个边缘附近，从而能够在操作者前方随时处理面板。
以这种方式，操作者需要执行的操作简单、快速，并且疲劳较少，特别地，由于面板装载区域就在操作者前方，因而无需俯身或伸出手臂的长度来工作。因而，大大改善了工作站的人体工程学，且工作不再费劲。另外，还减少了工作中事故的风险，例如与肌肉骨骼失调相关的。
此外，还提高了定位面板的精度。在工作台面上定位面板时，靠近操作者布置面板为操作者提供了更佳的可视性和更佳的精准度。另外，定位装置对操作者进行引导，从而确保了面板被正确布置在工作台面上。由于面板的定位更加精确，传输图像的位置更加精确，从而提高了曝光面板的质量。这种图像定位的精度在进行双面曝光时尤其重要，前表面上的图像的元素必须与后表面上图像的元素重合。
另外，所提出的基于参照角的配置使得能够沿着第一和第二边缘放置面板四个角中的三个角，从而能够通过第一类型的保持装置有效地保持这些角，而无需对这些装置进行任何特殊的调节，这是因为这三个角自然地位于第一类型的保持装置的保持位置上。以此方式，与那些位置需要被调节为随着面板尺寸而变化的可移动装置不同，避免了可能会降低下压面板的有效性或可能会干扰面板工作面积的潜在定位错误。
这种无需沿着工作台面移动的保持装置更易于设计和安装，因而它们更廉价。它们重量也更轻，当托盘自身在曝光机内移动时这成为主要优点：其降低了托盘的惯量，从而提高了其移动的精度。对于给定的精度，还能够以更快的速度移动面板。
最后，由于如此配置，一个第二类型的保持装置(即可移动的)足以保持并下压面板的第四角。另外，由于角参考和非常精确的面板布置，仅知道面板尺寸就可精确地移动并定位第二类型的保持装置。特别地，不再需要探测面板的边缘以定位第二类型的保持装置的传感器。
在一些实施方案中，定位装置包括靠着工作台面的第一边缘和/或第二边缘设置的至少一个止动件。优选地，该装置具有靠着第一和第二边缘设置的多个止动件。这些止动件有助于定位并提供良好的精度，因为推动面板以与止动件紧靠足以确保面板在各个方向上和旋转中被正确地定位。
在一些实施方案中，所述止动件是从面板顶面凸出的销钉并被设置为靠着所述边缘。这种销钉易于就位在面板顶面的位置上，而不影响顶面的平坦度。
在另一些实施方案中，定位装置可包括可视标记，诸如标尺或十字准线，或是在托盘的顶面中形成且限定所述边缘的台阶部。通过形成用于面板的止动件，当第一类型的保持装置处于待用状态下其还可作为定位装置。
在一些实施方案中，第二类型的第一保持装置可沿着如下行程平移移动，所述行程至少从工作台面的第三边缘朝向工作台面的内部并大致朝向第一类型的第一保持装置延伸。以此方式，第二类型的保持装置能够容易地保持并下压面板的第三边缘和第四角，而不论面板长度如何。所述第三边缘优选地在第一方向上延伸。
在一些实施方案中，第二类型的第一保持装置的行程与第一方向所成的角度严格介于45°至90°之间。一般地，当面板的宽度减小且长度也减小时，这种倾斜的行程使其能够调节第二类型的保持装置的位置，包括面板的横向尺寸，保持装置朝着第二边缘移动，从而使其抵靠面板第三边缘的更长的长度施压，或使其相对于所述边缘更加居中。
在一些实施方案中，第二类型的第一保持装置的行程与第一方向所成的角度严格介于65°至75°之间。在给定面板的常用尺寸和它们的长/宽比的情况下，该角度范围使得能够有效地保持较大范围的面板，从测量为25.4厘米(cm)×25.4cm的小面板至测量为76.2cm×61cm的大面板。特别地，这使其能够向下保持常规尺寸面板的第三边缘的至少三分之二长度。
然而，在其他实施方案中，第三保持装置的行程可大致垂直于第一方向。
在一些实施方案中，托盘包括第二类型的第二保持装置。这使其能够保持并下压面板的第四边缘，而不论面板尺寸如何。
在一些实施方案中，第二类型的第二保持装置可沿着如下行程平移移动：所述行程至少从工作台面的第四边缘朝向工作台面的内部并大致朝向第一类型的第二保持装置延伸。以此方式，第二类型的保持装置能够容易地保持并下压面板的第四边缘，而不论面板宽度如何。所述第四边缘优选地沿第二方向延伸。
在一些实施方案中，所述行程与第二方向所成的角度严格介于45°至90°之间。与上述相同的方式，这种倾斜的行程使其能够朝着第一边缘移动保持装置，从而使其下压面板的第四边缘的更长的长度，或使其相对于所述边缘更加居中。
在一些实施方案中，所述行程与第二方向所成的角度严格介于50°至60°之间。在给定面板的常用尺寸和它们的长/宽比的情况下，该角度范围使得能够有效地保持较大范围的面板，从测量为25.4厘米(cm)×25.4cm的小面板至测量为76.2cm×61cm的大面板。特别地，这使其能够向下保持常规尺寸面板的第三边缘的至少三分之二长度。
在一些实施方案中，至少一个第二类型的保持装置的最大行程延伸超过至少10cm，优选地超过至少40cm，更优选地超过至少50cm。第二类型的第一保持装置大于50cm的行程及第二类型的第二保持装置大于40cm的行程使其能够覆盖大范围的面板，从测量为25.4厘米(cm)×25.4cm的小面板至测量为76.2cm×61cm的大面板。
在一些实施方案中，第一类型的保持装置的最大横向移动小于10cm，优选地小于5cm。该较小的移动是在留足用于将面板就位所需的空间同时最小化保持装置的移动。由于面板的第一和第二边缘相对于这些第一类型的保持装置的位置是恒定的，因而这是可能的。
在这种情况下，对于第二类型的保持装置还应注意到，能够将其定位成基于在给定系列中的待曝光的面板尺寸，从面板的第二和第四边缘期望的位置略向后设置。该待用位置对于整个系列都是恒定的，则当装载或卸载给定系列中的面板时可最小化保持装置的移动。将第一类型或第二类型的保持装置的移动最小化用于缩短制造每个面板的周期时间，从而提高了生产盈利性。
在一些实施方案中，托盘包括至少一个第一移动装置，用于移动至少一个第二类型的保持装置。
在一些实施方案中，每个第二类型的保持装置配备有该移动装置。
在一些实施方案中，第一移动装置包括蜗杆，其与固定至所述第二类型的保持装置的螺母协作。
在一些实施方案中，所述蜗杆布置在工作台面下方。
在一些实施方案中，蜗杆被电机旋转，优选地被固定在工作台面的下方的步进电机旋转。
在其他实施方案中，蜗杆以固定的方式固定在工作台面下方，而第二类型的保持装置的螺母被电机旋转，优选地被步进电机旋转。
在一些实施方案中，至少一个且优选每个保持装置包括被致动装置致动的力施加器，致动装置被配置为保持状态下朝着工作台面降下力施加器，以及待用状态下远离工作台面升起力施加器。该力施加器是在保持状态下抵靠面板的部件。其移动返回至待用状态以释放面板。
在一些实施方案中，力施加器是分别在第一方向或第二方向上延伸的长方形条状件。这种形状使其能够压住面板的边缘的较长长度。如合适的话，还能使其有效地将面板的角部向下压在工作台面上。
在一些实施方案中，待用状态下力施加器的位置比保持状态下的位置更高、更远。以此方式，能够使用不同厚度的面板，而不存在当力施加器朝保持状态移动时会邻接面板的边缘面的风险。另外，待用状态下，这能够允许在装载或卸载面板时使面板从下方通过。
在一些实施方案中，至少一个第一类型的保持装置的致动装置包括第一致动器和第二致动器，所述第一致动器配置为升起或降下力施加器，所述第二致动器配置为使得力施加器横向行进或后退。由于这两个致动器是不同的，因而每一个致动器专用于一个特定任务，其能够独立于另一个致动器的行为并有效地实施该任务。因而，以示例的方式，力施加器在其保持状态下的水平位置可被校正，而不论面板的厚度如何。同样，第一致动器使用的力可单独用于阻止面板移动。
然而，在其他实施方案中，单独的致动器可同时执行这两种移动。
在一些实施方案中，第一致动器包括具有移动传递连接的升降机。
在一些实施方案中，第二致动器包括驱动由第一致动器和力施加器形成的组件的升降机。
在一些实施方案中，至少一个第二类型的保持装置的致动装置包括单独的配置为升起或降下力施加器的致动器，且对应的移动装置被配置为使得力施加器横向行进或后退。以此方式，不需要向致动装置提供额外的致动器，以执行力施加器的后退移动。
在一些实施方案中，第一致动器包括升降机。
在一些实施方案中，托盘还包括配置为通过吸附力而将面板保持在工作台面上的吸附装置。该装置与保持装置协同运行，这是因为面板被保持装置下压，缩小了面板和吸附系统之间的间隙，在这种情况下，来自该组吸嘴的吸附力增强，从而相应更好地下压面板。
在一些实施方案中，吸附装置包括真空泵，优选为Venturi型，以及在工作台面中开口的吸附孔口的阵列。
在一些实施方案中，吸附装置包括对应于工作台面不同区域的多个吸附阵列。
在一些实施方案中，托盘还包括配置为关闭至少部分吸附孔口的可移动罩。基于面板的尺寸，这能够遮盖那些未被面板覆盖的吸附孔口，从而保持吸附装置的吸附力。托盘优选地包括一组具有不同形状的罩。
在一些实施方案中，托盘还包括在工作台面中提供的至少一个光学装置，其靠近托盘的第一和/或其第二边缘，即距该边缘在小于5cm的范围内，且优选地小于3cm。因而，定位装置确保面板确实定位在光学装置的探测区域中。
本说明书还涉及一种面板曝光机，其包括曝光装置和根据上述任一实施方案且适配成面向曝光装置呈现面板的托盘。
在一些实施方案中，所述曝光装置为直接成像类型。
在一些实施方案中，所述托盘可在平行于工作台面的平面上相对于曝光装置移动。这使得能够从装载站移动面板以面向曝光装置。这也使得能够在面板位于曝光装置下方时移动面板从而当曝光头以这种方式工作时一块接一块地对其进行曝光。
在一些实施方案中，所述托盘可在第一和第二方向上相对于曝光装置移动。
在阅读下文对所提出装置的实施方案和所提出方法的实施方式的详细描述之后，呈现出上述特征和优点及其他优点。该详细描述将参考附图进行。
附图说明
附图是示意性地，主要为解释本发明的原理。
在这些附图中，各个附图之间，相同的元件(或元件的部分)以相同的附图标记来标识。
图1是本发明的托盘的立体图。
图2是托盘的平面视图。
图3A和3B分别示出了当使用大尺寸面板时，托盘的保持装置的待用状态和保持状态。
图4A和4B分别示出了当使用小尺寸面板时，保持装置的待用状态和保持状态。
图5是从下方观察的面板的视图。
图6A和6B是从两个不同角度观察的第一类型的保持装置的详细视图。
图7是第二类型的保持装置的详细立体视图。
图8是本发明的曝光机的平面视图。
图9是上述曝光机的轮廓图。
具体实施方式
为了使得本发明更加具体，下文将参考附图详细地描述托盘和曝光机的实施方案。但应注意，本发明并不限于该实施方案。
图1和2示出了本发明的示例性托盘1。该托盘1包括框架10，其形状大致为具有顶面11和底面12的矩形平行六面体。为了最小化托盘的重量，从而最小化其运动时的惯量，框架具有较小的厚度，小于30毫米(mm)，其底面12具有加强肋以为托盘1提供整体刚度，并确保托盘的顶面11为平面，其应为公差小于200μm的平面。该加强肋也用于将辅助装置固定至框架10的底面12。
框架10的顶面11具有在两个正交的方向X和Y上延伸的矩形区域，且限定了配置为接收大致矩形的用于曝光的面板90的工作台面13。因而，工作台面13具有平行于方向X的第一和第三边缘13a，13c，以及平行于方向Y的第二和第四边缘13b，13d。因而第一和第二边缘13a和13b相邻，且在相交处限定了参照角C，在使用时定位每个面板90靠住所述参照角C放置，而无论面板尺寸的大小如何。
为了辅助这种定位，销钉形式的止动件14沿着工作台面13的第一和第二边缘13a，13b布置在框架10的表面上。通过这种方式，抵着参照角C而对面板90的定位是精确的，并可通过推动面板90直至抵住止动件14来立刻实现。
抵着框架10的底面12(参见附图5)固定且在工作台面13中的顶面11中开口的光学装置15也设置在工作台面13的第一和第二边缘13a，13b附近。在双面曝光的情况下，在合适的情况下，这些光学装置15能够探测设置在面板90的第一面上的标记，从而便于对准面板90的第二面上的图像。
托盘1还具有吸附装置，使得面板90通过吸附力抵靠在工作台面13上。为此，工作台面13具有在整个工作台面13上分布并通过管道网络(未示出)连接至框架10下方的多个真空泵22的吸附孔21。这些吸附孔21可以组织成不同的吸附区域，这些吸附区域可作为根据面板尺寸的变化而彼此独立地运行。
为了改善面板90抵靠工作台面13的保持力，特别地为了确保面板侧部90a-90a和面板的角部被适当地下压，托盘1还具有第一类型的保持装置30a，30b和第二类型的保持装置40a，40b，每个保持装置都被配置为保持并压持面板90的一个侧部。
第一类型的第一保持装置30a大致沿着工作台面13的第一边缘13a布置。其包括平行于第一方向X沿着一定长度的延伸的条状件形式的力施加器31，所述长度至少大致等于工作台面13的第一边缘13a的长度。该实例中，该条状件长61cm。
第一类型的第二保持装置30b完全类似于第一保持装置30a，区别在于其大致沿着工作台面13的第二边缘13b布置。类似地，其力施加器31为平行于第二方向Y沿着一定长度的延伸的条状件形式，所述长度至少大致等于工作台面13的第二边缘13b的长度。该实例中，该条状件长为75cm。
如图6A和6B所示，第一类型的每个保持装置30a，30b具有托架32，其安装为沿着设置在框架10下方的导轨33移动，并分别垂直于工作台面13的第一边缘13a和第二边缘13b。每个托架还枢转地承载曲柄34，托架大致处于曲柄的中部。力施加器31通过两个立柱35安装在曲柄34上，立柱35大致位于在力施加器长度的三分之一和三分之二处，立柱通过狭槽16穿过框架且可枢转地连接至曲柄34的端曲柄梢34a。
第一类型的每个保持装置30a，30b具有配置为竖直地移动力施加器31的第一致动器36，以及配置为水平地移动力施加器31的第二致动器38。
第一致动器为气动升降机36，其具有固定至托架32的第一和第二入口36a和36b，并且具有通过枢轴连接至曲柄34的中心曲柄梢34b的杆37的活塞。
以此方式，当气动压力经由第一入口36a进入升降机36的腔室中时，活塞被朝外推动，从而使升降机36的杆37伸长，因而曲柄34沿逆时针方向被驱动，使得立柱35向下移动，并带动力施加器31向下移动，从而向工作台面13施加力，或当所述面板90放置在工作台面13上时，向面板90施加力。
相反，当气动压力经由第二入口36b进入升降机36的腔室中时，活塞被朝内推动，从而使升降机36的杆37缩短，因而曲柄34沿顺时针方向被驱动，从而向上驱动立柱35和力施加器31，并释放施加在工作台面13或面板90上的压力。
第二致动器是另一气动升降机38，其具有第一和第二入口38a和38b，且所述气动升降机38的活塞杆连接至托架32的。
以此方式，当气动压力经由第一入口38a进入升降机38的腔室中时，活塞被朝外推动，从而导致升降机38的杆伸长，托架32被横向朝外驱动，因而使得力施加器31也被横向朝外驱动，远离工作台面13。
相反，当气动压力经由第二入口38b进入升降机38的腔室中时，活塞被朝内推动，从而将升降机38的杆缩短，托架32被横向朝内驱动，因而使得力施加器31也被横向朝内驱动，朝向工作台面13。
第二类型的第一保持装置40a具有平行于第一方向X延伸的条状件形式的力施加器41，从而能够保持面板90的第三边缘90c的大部分及其第四角部。该实例中，该条状件长42cm。
第二类型的第二保持装置40b也具有平行于第二方向Y延伸的条状件形式的力施加器41，从而能够保持面板90的第四边缘90d的大部分。该实例中，该条状件长15cm。
如图5和7所示，第二类型的每个保持装置40a，40b分别具有托架42，所述托架42如下安装：其沿着设置在框架10下方的导轨43移动并分别从工作台面13的第三边缘13c或第四边缘13d大致沿对角方向朝向工作台面13的内部延伸的行程移动。
力施加器41通过立柱44安装在托架42上，所述立柱44通过狭槽18c或18d穿过框架10，所述狭槽18c或18d从工作台面13的外侧向工作台面13的内侧且平行于导轨43延伸。优选地，并用于第二类型的第二保持装置40b而所示出的(但在其他实施方案中也适用于第二类型的第一保持装置40a)，立柱44大致设置在力施加器41长度方向上的中间处。
第二类型的每个保持装置40a，40b包括致动器45(更精确地为包括气动升降机)，致动器45配置为在竖直方向上移动立柱44，从而在竖直方向上移动力施加器41。
第二类型的每个保持装置40a，40b还配备有移动装置49，其配置为沿着导轨43移动托架42。为此，移动装置49包括由步进电机47驱动的蜗杆46，托架42固定至啮合在蜗杆46上的螺母48。
因而，移动装置49使得托架42沿其行程移动、并从而使得力施加器41也沿其行程移动，以使力施加器41的位置适应于使用的面板90的尺寸。
当托盘1未使用时，为保护每个保持装置30a，30b，40a，40b的力施加器31，41，并且为了能更加容易地清洁托盘，框架10的顶面11包括沿着工作台面13的边缘13a-13d靠后设置的凹槽17。这些凹槽17与力施加器31，41的尺寸相匹配，从而能够在托盘1未使用时将力施加器31，41容纳在框架10中。
下文将参考附图3A，3B，4A和4B来描述托盘1的操作。在图3A和3B的实例中，使用大尺寸面板90，而在图4A和4B的实例中，使用较小的面板90’。
当一系列新的面板90待曝光时，通过设置尺寸(即使用的面板90的长度和宽度)对托盘1进行初始化。随后，通过所述移动装置来驱动第二类型的保持装置40a，40b，从而将各个力施加器41移至待用位置，在待用位置处力施加器沿着为面板90的第三和第四边缘90c，90d所期望的位置延伸并略微靠后设置，并距离框架10的顶面11一定距离。典型地，相对于面板90的边缘设置约10mm的水平间隙，相对于顶面11设置约20mm的竖直间隙。
对第一类型的保持装置30a，30b进行致动，从而将每个力施加器31移至待用位置，在待用位置处力施加器沿着工作台面13的第一和第二边缘13a和13b延伸并略微靠后设置，并距离框架10的顶面11一定距离。典型地，相对于工作台面13的边缘13a和13b设置约25mm的水平间隙，相对于顶面11设置约20mm的竖直间隙。
在该初始位置，操作者99可将未曝光的面板90放置在工作台面13上，并通过朝着止动件14推动面板而抵住第一和第二边缘13a，13b并抵住工作台面13的参照角C从而将面板定位。图3A示出了这种配置。
一旦面板被合适地定位，操作者99可使得保持装置30a，30b，40a，40b移动至保持状态。该状态下，第一类型的保持装置30a，30b的第二致动器38在面板90的第一和第二边缘90a和90b上水平地移动力施加器31。此后，保持装置30a，30b的第一致动器36朝着工作台面13垂直移动力施加器31，从而到达保持位置，在该保持位置处，力施加器向面板90施加竖直的力。
当第二类型的保持装置40a，40b达到保持状态下，移动装置49在面板90的第三和第四边缘90c，90d上水平地移动力施加器41。此后，这些保持装置40a，40b的升降机45朝着工作台面13竖直地移动力施加器41，从而到达各自的保持位置，在该保持位置处，力施加器向面板90施加竖直的力。图3B示出了这种设置。
在这种设置中，面板90被紧固地抵靠工作台面13压持，然后准备面向曝光装置呈现。特别地，应观察到，面板90的四个角部、面板90的第一和第二边缘90a和90b的大致整个长度、面板90的第三边缘90c的主要部分(即其长度的至少一半)，以及面板90的第四边缘90d的至少中间部分被力施加器31，41向下按压。
一旦曝光结束，保持装置返回至图3A的待用位置，从而释放已曝光的面板90，随后操作者99可移走面板90，以将新的面板放置就位并开始新的循环。当然可以理解如下情况：可完美地由机械夹具和传送装置来替换操作者99以自动装载和卸载面板90。
当使用较小尺寸的面板90’时，通过移动装置使得第二类型的保持装置40a和40b朝着工作台面13内部行进，从而使得它们的待用和保持位置与新面板90’的尺寸匹配。这些保持装置40a和40b的行程相对于工作台面13的边缘13c和13d倾斜。
更精确而言，第二类型的第一保持装置40a的行程可通过查看狭槽18c来估计，所述第二类型的第一保持装置40a的行程与工作台面13的第三边缘13c(即与第一方向X)形成近似为70°的角度A。以此方式，尽管面板90’的尺寸较小，第二类型的第一保持装置40a仍能将面板90’的第四角部和第三边缘90’c的主要部分保持。
第二类型的第二保持装置40b的行程可通过查看狭槽18d来观察，所述第二类型的第二保持装置40b的行程与工作台面13的第四边缘13d(即与第二方向Y)形成近似为56°的角度B。以此方式，尽管面板90’的尺寸较小，第二类型的第二保持装置40b仍能保持第四边缘90’d的中间部分。
下文将参考附图8和9来描述示例性的曝光机80。该曝光机80包括直接成像类型的曝光头81，例如包括能够基于数字负片投影图像的可控微镜矩阵。该曝光机80还具有根据本发明的托盘1(例如如上所述的)，其用于保持待曝光的面板90。
曝光机80还具有能够沿两个方向X和Y在水平平面内移动托盘1的二维移动装置82。为此，托盘可固定在第一托架83上，所述第一托架83可沿第一导轨84并平行于第一方向X移动，这些第一导轨自身被可沿着第二导轨86并平行于第二方向Y移动的第二托架85承载。以此方式，能够在操作者99进行工作以装载和卸载面板90的装载区域87与面向曝光头81的区域之间移动托盘1。
此外，当面板90大于曝光头能够投影的图像尺寸时，移动装置通过将面板90移动至面对曝光头81的连续的位置上而以分块的方式使面板曝光。
为了确保在图像被投影时图像被精确地对准(包括在托盘1移动时投影的图像变化的时候)，移动装置82被配置为对托盘1进行精确度大约为3μm的绝对定位，即使在托盘1移动时，并且使得托盘的移动速度有可能达到大约为420毫米每秒(mm/s)。必要时，移动装置82可被配置为实现高达800mm/s的最大速度。
本说明书中描述的各实施方案是以非限制性叙述的方式给出，并且根据说明书的精神，本领域技术人员能够容易地修改这些实施方案或可预料到其他实施方案，而这些都落在本发明的范围内。
此外，这些实施方案的各个特征可单独使用或彼此组合使用。当被组合时，这些特征可以上述方式或以其它方式进行组合，本发明并不限制为本说明书中所描述的特定组合。特别地，除非有相反的说明，否则在一个实施方案中描述的特则可以类似的方式应用至其他实施方案。

Claims (15)

1.一种适配成在面板曝光机中面向曝光装置来呈现面板的托盘，该托盘包括：
工作台面(13)，其适配成接收不同尺寸的面板(90)，所述工作台面(13)大致为平面且具有沿着限定参照角(C)的基本正交的第一和第二方向(X，Y)延伸的相邻的第一和第二边缘(13a，13b)；以及
第一类型的第一和第二保持装置(30a，30b)和至少一个第二类型的第一保持装置(40a)，每个保持装置能够在第一、保持状态与第二、待用状态之间被致动，在所述第一、保持状态下每个保持装置朝向工作台面(13)施加压力从而限定保持位置；在所述第二、待用状态下压力被释放；
所述托盘的特征在于，其进一步包括定位装置(14)，所述定位装置(14)沿着第一边缘(13a)的至少一部分且沿着第二边缘(13b)的至少一部分设置；
并且特征还在于，第一类型的保持装置(30a，30b)分别沿着第一和第二边缘(13a，13b)的至少一部分延伸，所述第一类型的保持装置(30a，30b)的保持位置被固定在平行于工作台面的平面上；且
特征还在于，所述第二类型的保持装置(40a)能够在平行于工作台面(13)的平面上移动，以将第二类型的保持装置(40a)的保持位置适配成根据所使用的面板(90)尺寸来变化。
2.根据权利要求1所述的适配成在面板曝光机中面向曝光装置来呈现面板的托盘，其中定位装置包括倚靠工作台面(13)的第一边缘(13a)和/或第二边缘(13b)设置的至少一个止动件(14)。
3.根据权利要求1所述的适配成在面板曝光机中面向曝光装置来呈现面板的托盘，其中所述第二类型的第一保持装置(40a)能够沿着如下行程平移移动：所述行程至少从工作台面(13)的第三边缘(13c)朝向工作台面(13)的内部并大致朝向所述第一类型的第一保持装置(30a)延伸。
4.根据权利要求3所述的适配成在面板曝光机中面向曝光装置来呈现面板的托盘，其中所述第二类型的第一保持装置的行程与第一方向(X)所成的角度(A)严格介于45°至90°之间，优选地介于65°至75°之间。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的适配成在面板曝光机中面向曝光装置来呈现面板的托盘，其包括第二类型的第二保持装置(40b)，
其中所述第二类型的第二保持装置(40b)能够沿着如下行程平移移动：所述行程至少从工作台面(13)的第四边缘(13d)朝向工作台面(13)的内部且大致朝向所述第一类型的第二保持装置(30b)延伸；且
其中所述行程与第二方向(Y)所成的角度(B)严格介于45°至90°之间，优选地介于50°至60°之间。
6.根据权利要求3所述的适配成在面板曝光机中面向曝光装置来呈现面板的托盘，其中至少一个第二类型的保持装置(40a，40b)的最大行程延伸超过至少10cm，优选地超过至少35cm，更优选地超过至少50cm，并且其中所述第一类型的保持装置(30a，30b)的最大横向行程小于10cm，优选地小于5cm。
7.根据权利要求1所述的适配成在面板曝光机中面向曝光装置来呈现面板的托盘，其包括至少一个第一移动装置(49)，用于移动至少一个第二类型的保持装置(40a，40b)。
8.根据权利要求7所述的适配成在面板曝光机中面向曝光装置来呈现面板的托盘，其中所述第一移动装置(49)包括蜗杆(46)，其与固定至所述第二类型的保持装置(40a，40b)的螺母(48)协同工作。
9.根据权利要求1所述的适配成在面板曝光机中面向曝光装置来呈现面板的托盘，其中至少一个所述保持装置(30a，30b，40a，40b)并且优选每个保持装置(30a，30b，40a，40b)包括由致动装置(36，38，45)致动的力施加器(31，41)，所述致动装置(36，38，45)配置为在保持状态下朝着工作台面(13)将力施加器(31，41)下降，并且在待用状态下使力施加器(31，41)升起远离工作台面(13)一定距离。
10.根据权利要求9所述的适配成在面板曝光机中面向曝光装置来呈现面板的托盘，其中在待用状态下所述力施加器(31，41)的位置比其在保持状态下的位置更高、更远。
11.根据权利要求9或10所述的适配成在面板曝光机中面向曝光装置来呈现面板的托盘，其中至少一个所述第一类型的保持装置(30a，30b)的致动装置包括配置为将力施加器(31)升起或使所述力施加器(31)下降的第一致动器(36)和配置为使所述力施加器(31)横向行进或后退的第二致动器(38)。
12.根据权利要求7和9所述的适配成在面板曝光机中面向曝光装置来呈现面板的托盘，其中至少一个所述第二类型的保持装置(40a，40b)的致动装置包括配置为使所述力施加器(41)升起或使力施加器(41)下降的单独的致动器(45)，并且其中对应的移动装置(49)配置为使得力施加器(41)横向行进或后退。
13.根据权利要求1所述的适配成在面板曝光机中面向曝光装置来呈现面板的托盘，进一步包括配置为通过吸附力将面板(90)保持在工作台面(13)上的吸附装置(21，22)。
14.一种面板曝光机，包括曝光装置(81)和根据前述任一项权利要求所述的适配成面向曝光装置(81)来呈现面板(90)的托盘(1)。
15.根据权利要求14所述的面板曝光机，其中，所述托盘(1)能够在平行于工作台面的平面上相对于所述曝光装置(81)移动。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20220163894A1 (en) * 2019-01-25 2022-05-26 Zhongshan Aiscent Technologies Co, Ltd. System and method for double-sided digital lithography or exposure
CN113438338B (zh) * 2021-05-10 2024-03-22 维沃移动通信有限公司 电子设备

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20010022652A1 (en) * 2000-03-16 2001-09-20 Van Schaik Frank Substrate holder for lithographic apparatus
CN1474236A (zh) * 2002-08-05 2004-02-11 尼康株式会社 十字标记保持方法、十字标记保持装置以及曝光装置
JP2007013165A (ja) * 2005-06-30 2007-01-18 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
US20100078865A1 (en) * 2008-09-26 2010-04-01 Pan Yung Shuen Sheet clamping apparatus
CN102455606A (zh) * 2010-10-22 2012-05-16 株式会社拓普康 载置台架
CN202257028U (zh) * 2011-09-13 2012-05-30 深圳市华星光电技术有限公司 Lcd曝光平台装置及曝光系统
JP2013171918A (ja) * 2012-02-20 2013-09-02 Toshiba Corp 基板回転保持装置および基板処理装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3119369B2 (ja) * 1990-12-21 2000-12-18 富士写真フイルム株式会社 カラー印刷用印刷版の製版装置
JP3320153B2 (ja) * 1993-08-09 2002-09-03 日本たばこ産業株式会社 自動露光機の露光枠部材
US5611146A (en) 1995-10-25 1997-03-18 Ducret; Lucien C. Clamping device for use with a hand-held tool
US5738014A (en) * 1996-07-31 1998-04-14 Agfa Division, Bayer Corporation Method and apparatus for making lithographic printing plates in an automated computer to plate imaging system
IL119213A (en) * 1996-09-06 2000-08-31 Orbot Instr Ltd Universal chuck for holding plates of various sizes
US6211945B1 (en) * 1998-05-19 2001-04-03 Orc Technologies, Inc. Apparatus and method for exposing substrates
US6328508B1 (en) 2000-08-02 2001-12-11 Arnold R. Jines Indexing device for a machine tool
JP4942188B2 (ja) * 2007-04-27 2012-05-30 富士フイルム株式会社 基板クランプ機構及び描画システム
JP4369504B2 (ja) * 2007-09-03 2009-11-25 日立ビアメカニクス株式会社 レーザ直接描画装置および描画方法
US8698099B2 (en) * 2009-09-30 2014-04-15 Kyocera Corporation Attraction member, and attraction device and charged particle beam apparatus using the same
US9636793B2 (en) 2013-10-04 2017-05-02 John Morgan Part fixturing device with adjustable positioning

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20010022652A1 (en) * 2000-03-16 2001-09-20 Van Schaik Frank Substrate holder for lithographic apparatus
CN1474236A (zh) * 2002-08-05 2004-02-11 尼康株式会社 十字标记保持方法、十字标记保持装置以及曝光装置
JP2007013165A (ja) * 2005-06-30 2007-01-18 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
US20100078865A1 (en) * 2008-09-26 2010-04-01 Pan Yung Shuen Sheet clamping apparatus
CN102455606A (zh) * 2010-10-22 2012-05-16 株式会社拓普康 载置台架
CN202257028U (zh) * 2011-09-13 2012-05-30 深圳市华星光电技术有限公司 Lcd曝光平台装置及曝光系统
JP2013171918A (ja) * 2012-02-20 2013-09-02 Toshiba Corp 基板回転保持装置および基板処理装置

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