CN104570419B - 吸附式载台及其吸附方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种吸附式载台及其吸附方法。该吸附式载台包括载台本体(1)、及数个能够相对于所述载台本体(1)进行升降的真空吸附装置(2)；所述载台本体(1)用于承载基板(3)，该载台本体(1)内设有数个贯穿的阶梯孔(11)；每一真空吸附装置(2)包括一中空的支撑杆(21)、及固设于所述支撑杆(21)顶部的真空吸盘(22)；所述支撑杆(21)的内部设有与真空压力相连接的真空管路(211)；每一真空吸附装置(2)对应设于一所述阶梯孔(11)内，且每一真空吸附装置(2)独立受控，能够沿其所在的阶梯孔(11)的轴向进行升降，从而数个真空吸附装置(2)相对于所述载台本体(1)能够处于不同的高度。

Description

吸附式载台及其吸附方法
技术领域
本发明涉及平板显示器件制程领域，尤其涉及一种吸附式载台及其吸附方法。
背景技术
在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机电致发光显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示器件已经逐步取代CRT显示器，成为市场上的主流产品。液晶显示器具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用，如：移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。有机电致发光显示器相比于液晶显示器，同时具备自发光，不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、使用温度范围广等优异特性，被公认为是下一代显示的主流技术，得到了各大显示器厂家的青睐。
不论是制作液晶显示器面板，还是制作有机电致发光显示器面板，均需要在平整的基板上多次进行光制程及成膜制程。出于光制程及成膜制程对基板的平面度要求较高，以及对基板进行稳定固定的需要，吸附式载台被广泛应用于基板的承载与固定。
现有的吸附式载台一般为完整的平面载台(或者由若干块小的平面组成)，平面载台内留有真空吸附孔位，真空吸附孔位与真空管路相连，并由电磁阀等方式控制真空开启或关闭，通过真空吸附孔位将基板吸附在平面载台上，使基板相对于载台的位置固定。
然而在显示面板、特别是柔性显示面板的生产过程中，受前制程中高温等因素的影响，基板上贴附的塑料膜与衬底玻璃的收缩率差异导致基板不可避免的出现不规则翘曲而变得不平整，如四周翘起或中间拱起等情况，并且随着基板尺寸的增大，翘曲的程度也不断加大。现有的整面平面型吸附式载台遇到不平整的基板时，由于基板上的翘起部分远离载台上的真空吸附孔位，无法建立真空吸附，导致基板不能紧密贴合载台，无法稳定的固定于载台上，进一步的，不平整的基板表面会破坏光制程及成膜制程造的均一性，直接影响到显示面板的质量。另外，部分设备内部的动作机构之间的空间极为有限，如果基板不平整，则其发生翘曲的位置有可能在制作或传输过程中发生碰撞，导致基板破裂甚至设备损坏。
因此，有必要设计一种新型的吸附式载台，能够避免以上问题的发生，保障制程生产顺利进行。
发明内容
本发明的目的在于提供一种吸附式载台，遇到不规则翘曲的基板时，能够使真空吸附顺利进行，将基板完整地吸附于载台上，确保基板相对载台完全固定的同时，还能够使基板各处平整贴附于载台上，保证基板的平面度，避免基板翘曲对制程产生的不良影响，保障制程生产顺利进行。
本发明的另一目的在于提供一种吸附式载台的吸附方法，适用于吸附不规则翘曲基板，能够将基板完整地吸附于载台上，确保基板相对载台完全固定的同时，还能够使基板各处平整贴附于载台上，保证基板的平面度，避免基板翘曲对制程产生的不良影响，保障制程生产顺利进行。
实现上述目的，本发明首先提供一种吸附式载台，包括载台本体、及数个能够相对于所述载台本体进行升降的真空吸附装置；
所述载台本体用于承载基板，该载台本体内设有数个贯穿的阶梯孔；
每一真空吸附装置包括一中空的支撑杆、及固设于所述支撑杆顶部的真空吸盘；所述支撑杆的内部设有与真空压力相连接的真空管路；
每一真空吸附装置对应设于一所述阶梯孔内，且每一真空吸附装置独立受控，能够沿其所在的阶梯孔的轴向进行升降，从而数个真空吸附装置相对于所述载台本体能够处于不同的高度。
所述阶梯孔包括凹陷于所述载台本体上表面的沉孔、及连接所述沉孔的直孔；
所述沉孔用于容纳所述真空吸盘，其形状、尺寸与所述真空吸盘的形状、尺寸相适应；所述直孔用于供支撑杆穿过，其形状、尺寸与所述支撑杆的形状、尺寸相适应。
所述真空吸盘内设有通孔，所述真空管路与所述通孔连通。
所述吸附式载台，通过电磁阀控制所述真空压力的开启或关闭。
每一真空吸附装置的支撑杆连接一个伺服步进电机；通过该伺服步进电机精确控制与其连接的相应支撑杆的位移量，使相应的真空吸附装置沿其所在的阶梯孔的轴向进行升降。
所述真空吸盘的材料为丁腈橡胶或硅橡胶；所述真空吸盘具有波纹管结构。
本发明还提供一种吸附式载台的吸附方法，包括如下步骤：
步骤1、提供吸附式载台、及基板，将所述基板置于所述吸附式载台上；
所述吸附式载台包括载台本体、及数个能够相对于所述载台本体进行升降的真空吸附装置；
所述载台本体内设有数个贯穿的阶梯孔；
每一真空吸附装置包括一中空的支撑杆、及固设于所述支撑杆顶部的真空吸盘；所述支撑杆的内部设有与真空压力相连接的真空管路；
每一真空吸附装置对应设于一所述阶梯孔内，且每一真空吸附装置独立受控，能够沿其所在的阶梯孔的轴向进行升降，从而数个真空吸附装置相对于所述载台本体能够处于不同的高度；
步骤2、根据所述基板的翘曲情况控制各个真空吸附装置分别升起相应的高度，以适应基板各处的翘曲量，由各个真空吸附装置承接所述基板，并使各个真空吸盘与基板保持在能够顺利进行真空吸附的范围内；
步骤3、开启真空压力，使所述基板各处分别吸附在各个真空吸盘上；
步骤4、控制所述数个真空吸附装置升降至同一高度，使所述基板平整化；
步骤5、控制所述数个真空吸附装置同时下降，使其完全进入相应的阶梯孔，使平整化的基板完整的吸附在所述载台本体上。
每一真空吸附装置的支撑杆连接一个伺服步进电机；通过该伺服步进电机精确控制与其连接的相应支撑杆的位移量，使相应的真空吸附装置沿其所在的阶梯孔的轴向进行升降。
所述吸附式载台的吸附方法中，通过电磁阀控制所述真空压力的开启或关闭。
所述真空吸盘的材料为丁腈橡胶或硅橡胶，所述真空吸盘具有波纹管结构。
本发明的有益效果：本发明提供的一种吸附式载台，通过设置数个能够相对于载台本体进行升降的真空吸附装置，且每一真空吸附装置的升降高度独立受控，保证了在遇到不规则翘曲的基板时，该吸附式载台能够使真空吸附顺利进行，将基板完整地吸附于载台上，确保基板相对载台完全固定的同时，还能够使基板各处平整贴附于载台上，保证基板的平面度，避免基板翘曲对制程产生的不良影响，保障制程生产顺利进行。本发明提供的一种吸附式载台的吸附方法，通过控制各个真空吸附装置分别升起相应的高度，以适应基板各处的翘曲量，使真空吸附顺利进行，再通过控制数个真空吸附装置升降至同一高度，使基板平整化，最后将平整化的基板完整的吸附在载台本体上，适用于吸附不规则翘曲基板，在确保基板相对载台完全固定的同时，还能够使基板各处平整贴附于载台上，保证基板的平面度，避免基板翘曲对制程产生的不良影响，保障制程生产顺利进行。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
附图中，
图1为本发明吸附式载台的剖面示意图；
图2为本发明吸附式载台的吸附方法的流程图；
图3为本发明吸附式载台的吸附方法的步骤1的示意图；
图4为本发明吸附式载台的吸附方法的步骤2的示意图；
图5为本发明吸附式载台的吸附方法的步骤4的示意图；
图6为本发明吸附式载台的吸附方法的步骤5的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1，结合图3至图6，本发明首先提供一种吸附式载台。该吸附式载台包括载台本体1、及数个能够相对于所述载台本体1进行升降的真空吸附装置2。
所述载台本体1用于承载基板3，该载台本体1内设有数个贯穿的阶梯孔11。
每一真空吸附装置2对应设于一所述阶梯孔11内，且每一真空吸附装置2独立受控，能够沿其所在的阶梯孔11的轴向进行升降，从而数个真空吸附装置2相对于所述载台本体1能够处于不同的高度。
每一真空吸附装置2包括一中空的支撑杆21、及固设于所述支撑杆21顶部的真空吸盘22；所述支撑杆21的内部设有与真空压力相连接的真空管路211。值得一提的是，所述真空吸盘22为由丁腈橡胶或硅橡胶制成且具有波纹管结构，可根据基板3翘曲产生的斜度自由活动，保证所述真空吸盘22与基板3良好贴合，更有助于真空吸附的顺利进行。
具体的，所述阶梯孔11包括凹陷于所述载台本体1上表面的沉孔111、及连接所述沉孔111的直孔112。所述沉孔111用于容纳所述真空吸盘22，其形状、尺寸与所述真空吸盘22的形状、尺寸相适应；所述直孔112用于供支撑杆21穿过，其形状、尺寸与所述支撑杆21的形状、尺寸相适应。
所述真空吸盘22内设有通孔221，所述真空管路211与所述通孔221连通。
每一真空吸附装置2的支撑杆21连接一个伺服步进电机；通过该伺服步进电机精确控制与其连接的相应支撑杆21的位移量，使相应的真空吸附装置2沿其所在的阶梯孔11的轴向进行升降。
所述真空压力的开启或关闭通过电磁阀进行控制。
使用该吸附式载台时，先在所述载台本体1上放置基板3；再根据所述基板3的翘曲情况控制各个真空吸附装置2分别升起相应的高度，以适应基板3各处的翘曲量，由各个真空吸附装置2承接基板3，并使各个真空吸盘22与基板3保持在能够顺利进行真空吸附的范围内；然后开启真空压力，使所述基板3各处分别吸附在各个真空吸盘22上；接下来控制所述数个真空吸附装置2升降至同一高度，使所述基板3平整化；最后控制所述数个真空吸附装置2同时下降，使其完全进入相应的阶梯孔11，使平整化的基板3完整的吸附在所述载台本体1上。由此可见，本发明的吸附式载台，通过设置数个能够相对于载台本体1进行升降的真空吸附装置2，且每一真空吸附装置2的升降高度独立受控，保证了在遇到不规则翘曲的基板3时，该吸附式载台能够使真空吸附顺利进行，将基板3完整地吸附于载台上，确保基板3相对载台完全固定的同时，还能够使基板3各处平整贴附于载台上，保证基板3的平面度，避免基板3翘曲对其它光制程及成膜制程产生的不良影响，保障制程生产顺利进行。
请参阅图2，本发明还提供一种吸附式载台的吸附方法，包括如下步骤：
步骤1、如图3所示，提供吸附式载台、及基板3，将所述基板3置于所述吸附式载台上。
所述吸附式载台包括载台本体1、及数个能够相对于所述载台本体1进行升降的真空吸附装置2。
所述载台本体1内设有数个贯穿的阶梯孔11。
每一真空吸附装置2对应设于一所述阶梯孔11内，且每一真空吸附装置2独立受控，能够沿其所在的阶梯孔11的轴向进行升降，从而数个真空吸附装置2相对于所述载台本体1能够处于不同的高度。
每一真空吸附装置2包括一中空的支撑杆21、及固设于所述支撑杆21顶部的真空吸盘22；所述支撑杆21的内部设有与真空压力相连接的真空管路211。
步骤2、如图4所示，根据所述基板3的翘曲情况控制各个真空吸附装置2分别升起相应的高度，以适应基板3各处的翘曲量，由各个真空吸附装置2承接所述基板3，并使各个真空吸盘22与基板3保持在能够顺利进行真空吸附的范围内。
具体的，可以根据同批次基板3的翘曲情况来设定对应于基板3各个位置处的真空吸附装置2分别升起的高度，以适应基板3各处的翘曲量。
每一真空吸附装置2的支撑杆21连接一个伺服步进电机；通过该伺服步进电机精确控制与其连接的相应支撑杆21的位移量，使相应的真空吸附装置2沿其所在的阶梯孔11的轴向进行升降。
步骤3、开启真空压力，使所述基板3各处分别吸附在各个真空吸盘22上。
优选的，所述真空吸盘22为由丁腈橡胶或硅橡胶制成且具有波纹管结构，可根据基板3翘曲产生的斜度自由活动，保证所述真空吸盘22与基板3良好贴合，更有助于该步骤3中真空吸附的顺利进行。
步骤4、如图5所示，控制所述数个真空吸附装置2升降至同一高度，使所述基板3平整化。
步骤5、如图6所示，控制所述数个真空吸附装置2同时下降，使其完全进入相应的阶梯孔11，使平整化的基板3完整的吸附在所述载台本体1上。
上述吸附式载台的吸附方法，通过控制各个真空吸附装置2分别升起相应的高度，以适应基板3各处的翘曲量，使真空吸附顺利进行，再通过控制数个真空吸附装置2升降至同一高度，使基板3平整化，最后将平整化的基板3完整的吸附在载台本体1上，适用于吸附不规则翘曲基板，在确保基板3相对载台完全固定的同时，还能够使基板3各处平整贴附于载台上，保证基板3的平面度，避免基板3翘曲对其它光制程及成膜制程产生的不良影响，保障制程生产顺利进行。
综上所述，本发明的吸附式载台，通过设置数个能够相对于载台本体进行升降的真空吸附装置，且每一真空吸附装置的升降高度独立受控，保证了在遇到不规则翘曲的基板时，该吸附式载台能够使真空吸附顺利进行，将基板完整地吸附于载台上，确保基板相对载台完全固定的同时，还能够使基板各处平整贴附于载台上，保证基板的平面度，避免基板翘曲对制程产生的不良影响，保障制程生产顺利进行。本发明的吸附式载台的吸附方法，通过控制各个真空吸附装置分别升起相应的高度，以适应基板各处的翘曲量，使真空吸附顺利进行，再通过控制数个真空吸附装置升降至同一高度，使基板平整化，最后将平整化的基板完整的吸附在载台本体上，适用于吸附不规则翘曲基板，在确保基板相对载台完全固定的同时，还能够使基板各处平整贴附于载台上，保证基板的平面度，避免基板翘曲对制程产生的不良影响，保障制程生产顺利进行。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种吸附式载台，其特征在于，包括载台本体(1)及数个能够相对于所述载台本体(1)进行升降的真空吸附装置(2)；
所述载台本体(1)用于承载基板(3)，该载台本体(1)内设有数个贯穿的阶梯孔(11)；
每一真空吸附装置(2)包括一中空的支撑杆(21)及固设于所述支撑杆(21)顶部的真空吸盘(22)；所述支撑杆(21)的内部设有与真空压力相连接的真空管路(211)；
每一真空吸附装置(2)对应设于一所述阶梯孔(11)内，且每一真空吸附装置(2)独立受控，能够沿其所在的阶梯孔(11)的轴向进行升降，从而数个真空吸附装置(2)相对于所述载台本体(1)能够处于不同的高度。
2.如权利要求1所述的吸附式载台，其特征在于，所述阶梯孔(11)包括凹陷于所述载台本体(1)上表面的沉孔(111)及连接所述沉孔(111)的直孔(112)；
所述沉孔(111)用于容纳所述真空吸盘(22)，其形状、尺寸与所述真空吸盘(22)的形状、尺寸相适应；所述直孔(112)用于供支撑杆(21)穿过，其形状、尺寸与所述支撑杆(21)的形状、尺寸相适应。
3.如权利要求1所述的吸附式载台，其特征在于，所述真空吸盘(22)内设有通孔(221)，所述真空管路(211)与所述通孔(221)连通。
4.如权利要求1所述的吸附式载台，其特征在于，通过电磁阀控制所述真空压力的开启或关闭。
5.如权利要求1所述的吸附式载台，其特征在于，每一真空吸附装置(2)的支撑杆(21)连接一个伺服步进电机；通过该伺服步进电机精确控制与其连接的相应支撑杆(21)的位移量，使相应的真空吸附装置(2)沿其所在的阶梯孔(11)的轴向进行升降。
6.如权利要求1所述的吸附式载台，其特征在于，所述真空吸盘(22)的材料为丁腈橡胶或硅橡胶；所述真空吸盘(22)具有波纹管结构。
7.一种吸附式载台的吸附方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供吸附式载台及基板(3)，将所述基板(3)置于所述吸附式载台上；
所述吸附式载台包括载台本体(1)及数个能够相对于所述载台本体(1)进行升降的真空吸附装置(2)；
所述载台本体(1)内设有数个贯穿的阶梯孔(11)；
每一真空吸附装置(2)包括一中空的支撑杆(21)及固设于所述支撑杆(21)顶部的真空吸盘(22)；所述支撑杆(21)的内部设有与真空压力相连接的真空管路(211)；
每一真空吸附装置(2)对应设于一所述阶梯孔(11)内，且每一真空吸附装置(2)独立受控，能够沿其所在的阶梯孔(11)的轴向进行升降，从而数个真空吸附装置(2)相对于所述载台本体(1)能够处于不同的高度；
步骤2、根据所述基板(3)的翘曲情况控制各个真空吸附装置(2)分别升起相应的高度，以适应基板(3)各处的翘曲量，由各个真空吸附装置(2)承接所述基板(3)，并使各个真空吸盘(22)与基板(3)保持在能够顺利进行真空吸附的范围内；
步骤3、开启真空压力，使所述基板(3)各处分别吸附在各个真空吸盘(22)上；
步骤4、控制所述数个真空吸附装置(2)升降至同一高度，使所述基板(3)平整化；
步骤5、控制所述数个真空吸附装置(2)同时下降，使其完全进入相应的阶梯孔(11)，使平整化的基板(3)完整的吸附在所述载台本体(1)上。
8.如权利要求7所述的吸附式载台的吸附方法，其特征在于，每一真空吸附装置(2)的支撑杆(21)连接一个伺服步进电机；通过该伺服步进电机精确控制与其连接的相应支撑杆(21)的位移量，使相应的真空吸附装置(2)沿其所在的阶梯孔(11)的轴向进行升降。
9.如权利要求7所述的吸附式载台的吸附方法，其特征在于，通过电磁阀控制所述真空压力的开启或关闭。
10.如权利要求7所述的吸附式载台的吸附方法，其特征在于，所述真空吸盘(22)的材料为丁腈橡胶或硅橡胶，所述真空吸盘(22)具有波纹管结构。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105676492B (zh) * 2016-04-06 2019-02-01 深圳市华星光电技术有限公司 真空吸着平台及玻璃基板搬送方法
CN106707569A (zh) * 2016-12-26 2017-05-24 惠科股份有限公司 紫外光固化主制程机台及承载平台
CN106597711B (zh) * 2017-01-19 2019-11-22 宁波视睿迪光电有限公司 曲面屏贴合装置及方法
CN106950485A (zh) * 2017-03-24 2017-07-14 京东方科技集团股份有限公司 一种基板测试载台及基板测试设备
CN107016936B (zh) * 2017-04-25 2019-05-28 武汉华星光电技术有限公司 柔性面板曲面贴合的装置及方法
CN107170369A (zh) * 2017-05-08 2017-09-15 苏州精濑光电有限公司 柔性面板承载装置及承载方法
CN107086275B (zh) * 2017-05-12 2018-10-23 京东方科技集团股份有限公司 基板对盒装置及对盒方法
KR102076285B1 (ko) * 2017-06-08 2020-02-11 단국대학교 천안캠퍼스 산학협력단 사방에 코너부를 갖는 사방 엣지형 윈도우 기판의 코너부 디스플레이가 가능하도록 한 라미네이션 방법 및 이를 위한 라미네이션 장치
CN107591356A (zh) * 2017-10-13 2018-01-16 深圳中科飞测科技有限公司 晶圆固定装置及其使用方法
CN109920719A (zh) * 2017-12-13 2019-06-21 大量科技（涟水）有限公司 晶圆加工机的二次整平设备
CN108059337B (zh) * 2017-12-22 2019-12-10 长飞光纤光缆股份有限公司 一种用于酸洗工序的光纤预制棒拾取装置及拾取方法
CN108357922B (zh) * 2018-02-05 2019-12-03 浙江金康铜业有限公司 一种铜板材的上料移材设备及其上料移材方法
KR102183673B1 (ko) * 2018-05-17 2020-11-27 주식회사 엘지화학 광학 디바이스의 제조 방법
CN109759721A (zh) * 2018-12-28 2019-05-17 武汉华星光电技术有限公司 切割设备及切割方法
CN109765246A (zh) * 2019-02-27 2019-05-17 武汉精立电子技术有限公司 一种真空吸附背光载台
CN110605735A (zh) * 2019-09-27 2019-12-24 南京中电熊猫液晶材料科技有限公司 一种真空溅射镀膜设备的基板抓取装置及其工作方法
CN110703473B (zh) * 2019-10-29 2022-05-31 武汉华星光电技术有限公司 一种真空吸附底座及显示面板绑定用设备
CN111564403A (zh) * 2020-05-11 2020-08-21 Tcl华星光电技术有限公司 基板承载台及基板处理方法
CN111745301A (zh) * 2020-06-17 2020-10-09 武汉大学 Oled面板激光剥离装置
CN112331089B (zh) * 2020-11-03 2022-05-31 Tcl华星光电技术有限公司 吸附装置、压合设备及基板的压合方法
CN113020819B (zh) * 2021-01-25 2022-07-19 江苏法斯特激光智能科技有限公司 一种激光切割机可调式工作台
CN113066751A (zh) * 2021-03-25 2021-07-02 深圳中科飞测科技股份有限公司 承载装置及承载系统
CN113078094A (zh) * 2021-03-25 2021-07-06 深圳中科飞测科技股份有限公司 翘曲校正方法、承载装置及承载系统
CN113387132B (zh) * 2021-05-12 2023-09-12 合肥欣奕华智能机器股份有限公司 一种基板作业平台及基板作业平台的控制方法
CN115602516A (zh) * 2021-07-07 2023-01-13 长鑫存储技术有限公司（Cn） 一种机台及晶圆制程设备
CN115101468B (zh) * 2022-07-06 2023-07-25 蓝泽半导体科技(芜湖)有限公司 一种晶圆吸附方法
CN115064479B (zh) * 2022-07-12 2023-02-24 法特迪精密科技（苏州）有限公司 面向探针台的晶圆吸附方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1469171A (zh) * 2002-07-19 2004-01-21 日立产业有限公司 基板装配装置
CN1721933A (zh) * 2004-07-09 2006-01-18 应用材料股份有限公司 可单独移动的基材支撑件
KR20120007804A (ko) * 2010-07-15 2012-01-25 에이피시스템 주식회사 기판 접합 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법
CN102633442A (zh) * 2012-04-19 2012-08-15 深圳市华星光电技术有限公司 温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置及方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6510888B1 (en) * 2001-08-01 2003-01-28 Applied Materials, Inc. Substrate support and method of fabricating the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1469171A (zh) * 2002-07-19 2004-01-21 日立产业有限公司 基板装配装置
CN1721933A (zh) * 2004-07-09 2006-01-18 应用材料股份有限公司 可单独移动的基材支撑件
KR20120007804A (ko) * 2010-07-15 2012-01-25 에이피시스템 주식회사 기판 접합 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법
CN102633442A (zh) * 2012-04-19 2012-08-15 深圳市华星光电技术有限公司 温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置及方法

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