CN104550698A - 挖斗抛高再生机 - Google Patents
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Abstract
本发明属于铸造旧砂资源化再生利用技术领域,涉及一种用于对分离后的砂团进行破碎磋磨再生装置,具体地说是一种挖斗抛高再生机,包括机架及支撑于机架上的抛高室,所述抛高室下部转动设置有挖斗辊,抛高室下部侧壁固定有主轴电机,所述主轴电机的输出端与挖斗辊一端相连接,所述挖斗辊轴向表面均布设置有若干抛射盘,每个抛射盘表面均呈圆周状均布设置若干个挖斗;抛高室内腔形成抛砂通道,抛砂通道上壁转动设置有至少一块反射板;所述抛高室顶部设置有抽风口,抽风口连通抛砂通道,抛砂通道上端、对应于抛砂通道下壁处设置有出砂口。采用该再生机能对砂粒进行抛挖搓擦,同时使砂粒表面的残留粘结剂膜被去除达到再生目的。
Description
技术领域
本发明属于铸造旧砂资源化再生利用技术领域,涉及一种用于对分离后的砂团进行破碎磋磨再生装置,具体地说是一种挖斗抛高再生机。
背景技术
随着自硬砂铸造车间对旧砂循环再生回用的质量需求越来越严格,对旧砂落砂再生设备的布置空间节省和节能环保的需求也越来越大。目前铸造自硬砂砂型浇注后落砂破碎再生输送环节复杂,设备接口多,设备控制多、维修量大、地坑深且占地面积大。故本发明专利力求以一种全新的旧砂破碎脱膜再生输送短流程砂处理技术,改变传统的、流程繁杂的砂处理工部的一种再生装置。它将破碎、再生、分选、输送集于一体,其占地省、土建工程量小、效率高、节能、操作环境好等优点。为客户提供了具有“较短的处理流程”、“较少的主机设备”、“较低的土建投入”和“较低的运行成本”的资源循环化节能产品。
发明内容
本发明针对上述问题,提供一种挖斗抛高再生机,采用该再生机能对砂粒进行抛挖搓擦,同时使砂粒表面的残留粘结剂膜被去除达到再生目的。
按照本发明的技术方案:一种挖斗抛高再生机,其特征是:包括机架及支撑于机架上的抛高室,所述抛高室下部转动设置有挖斗辊,抛高室下部侧壁固定有主轴电机,所述主轴电机的输出端与挖斗辊一端相连接,所述挖斗辊轴向表面均布设置有若干抛射盘,每个抛射盘外圆周上均布设置若干个挖斗;抛高室内腔形成抛砂通道,抛砂通道上壁转动设置有至少一块反射板;所述抛高室顶部设置有抽风口,抽风口连通抛砂通道,抛砂通道上端、对应于抛砂通道下壁处设置有出砂口,抛高室下部设置有受料口,受料口连通抛高室内腔。
作为本发明的进一步改进,每块反射板分别通过一根转轴设置于抛高室内。
作为本发明的进一步改进,所述挖斗为陶瓷挖斗。
本发明的技术效果在于:本发明产品结构简单、合理,能对砂粒进行有效的挖取、摩擦、抛射,使砂粒表面的残留粘结剂膜分离、弥散,在除尘气流的作用下达到脱膜再生的目的;同时抛高室内部设置可调节的反射板,通过对反射板的调节达到控制砂子抛射量,调整再生效果的目的;本发明还可以根据不同砂量、不同工艺,设置电机的转速,使得陶瓷挖斗获得不同的线速度,挖取、摩擦、抛射旧砂,使得旧砂满足工艺要求,获得最佳处理结果。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
图2为图1的俯视图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步的说明。
图1、2中,包括受料口1、抛射盘2、主轴电机3、反射板4、抽风口5、出砂口6、机架7、抛高室8、挖斗辊9、挖斗10、抛砂通道11等。
如图1、2所示,本发明是一种挖斗抛高再生机,包括机架7及支撑于机架7上的抛高室8,所述抛高室8下部转动设置有挖斗辊9,抛高室8下部侧壁固定有主轴电机3,所述主轴电机3的输出端与挖斗辊9一端相连接,所述挖斗辊9轴向表面均布设置有若干抛射盘2,每个抛射盘2外圆周上均布设置若干个挖斗10;抛高室8内腔形成抛砂通道1,抛砂通道11上壁转动设置有至少一块反射板4;所述抛高室8顶部设置有抽风口5,抽风口5连通抛砂通道11,抛砂通道11上端、对应于抛砂通道下壁处设置有出砂口6,抛高室8下部设置有受料口1,受料口1连通抛高室8内腔。
每块反射板4分别通过一根转轴设置于抛高室8内。
所述挖斗10为陶瓷挖斗。本发明产品在工作时,可以将砂粒输送提升至300~2000mm的高速
本发明的工作过程如下:工作时, 旧砂在挖斗抛高再生机内部的互相交错的挖斗10的作用下,作高速旋转,挖斗10表面采用陶瓷材料,在高速旋转中对砂粒进行挖取、摩擦、抛射;使砂粒沸腾抛高同时使附着在砂粒表面的残留粘结剂膜被去除达到再生目的,然后通过抛高进入下道工序。抛高室8内部安装有1~5块角度可调的反射板4,通过调节反射板4的角度来控制砂子抛射出去的量,从而调整再生效果。
Claims (3)
1.一种挖斗抛高再生机,其特征是:包括机架(7)及支撑于机架(7)上的抛高室(8),所述抛高室(8)下部转动设置有挖斗辊(9),抛高室(8)下部侧壁固定有主轴电机(3),所述主轴电机(3)的输出端与挖斗辊(9)一端相连接,所述挖斗辊(9)轴向表面均布设置有若干抛射盘(2),每个抛射盘(2)外圆周上均布设置若干个挖斗(10);抛高室(8)内腔形成抛砂通道(1),抛砂通道(11)上壁转动设置有至少一块反射板(4);所述抛高室(8)顶部设置有抽风口(5),抽风口(5)连通抛砂通道(11),抛砂通道(11)上端、对应于抛砂通道下壁处设置有出砂口(6),抛高室(8)下部设置有受料口(1),受料口(1)连通抛高室(8)内腔。
2.按照权利要求1所述的挖斗抛高再生机,其特征是:每块反射板(4)分别通过一根转轴设置于抛高室(8)内。
3.按照权利要求1所述的挖斗抛高再生机,其特征是:所述挖斗(10)为陶瓷挖斗。
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