CN104480504A - 一种涡旋壁氧化装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种涡旋壁氧化装置，包括：一定涡旋盘，其具有一从该定涡旋盘上表面朝向该定涡旋盘下表面轴向延伸的涡旋壁；一局部氧化工装，其相对于该定涡旋盘的外形开设有一内凹的容置空间，用以容置并对外封闭该定涡旋盘，其中，该容置空间具有一开口，该开口仅用以暴露出该涡旋壁。藉由本发明的涡旋壁氧化装置解决了现有技术中在氧化涡旋壁的同时，造成定涡旋盘的其他不需氧化的部件亦会被氧化的问题，在氧化涡旋壁，提高其硬度的同时亦保证了定涡旋盘其他部件的性能。

Description

一种涡旋壁氧化装置
技术领域
本发明属于涡旋式压缩机的领域，具体涉及一种涡旋式压缩机的定涡旋盘硬化技术。
背景技术
涡旋式压缩机以其效率高、噪音低、体积小、有利于节能及保护环境等优点而广泛应用于工业、农业、交通运输等行业需要压缩空气的场合。
涡旋压缩机的工作原理是通过二组由具有盘体和涡旋壁的动涡旋盘与定涡旋盘相互啮合运动来实现对压缩介质的吸入、压缩和排出的。在涡旋压缩机工作过程中，定涡旋盘固定在机壳上，动涡旋盘在偏心驱动轴的带动下绕定涡旋盘中心做较小半径的旋转运动。压缩介质吸入后，随着偏心驱动轴的转动，压缩介质在由定涡旋盘和动涡旋盘的涡旋壁相互啮合形成的若干个月牙形压缩腔内被逐步压缩，压缩介质由低压腔向高压腔移动，最后从定涡旋盘中心的高压腔部分的排气孔排出。
由于定涡旋盘的涡旋壁经常承受较大的挤压，因此其相较定涡旋盘其他部件而言，需要更大的硬度用以抵抗因挤压导致的变形等问题。现有技术中，定涡旋盘的硬化技术通常是将定涡旋盘整个放入电解液进行氧化从而提高涡旋壁的整体硬度。然而，采用此种做法，在提高涡旋壁硬度的同时，由于定涡旋盘的其他不需氧化的部件亦会被氧化，进而影响到其他部件的性能，导致整个定涡旋盘不符合使用要求。
因此，在涡旋式压缩机行业中急需一种新型的涡旋壁氧化装置来解决现有技术中存在的问题。
发明内容
为了克服上述现有技术的不足，本发明提供了一种涡旋壁氧化装置，包括：一定涡旋盘，其具有一从该定涡旋盘上表面朝向该定涡旋盘下表面轴向延伸的涡旋壁；一局部氧化工装，其相对于该定涡旋盘的外形开设有一内凹的容置空间，用以容置并对外封闭该定涡旋盘，其中，该容置空间具有一开口，该开口仅用以暴露出该涡旋壁。
在一较佳实施例中，该定涡旋盘进一步包括复数个卡槽，设置于该涡旋壁外侧，该局部氧化工装卡设于该些卡槽中。
在一较佳实施例中，该局部氧化工装进一步包括复数个密封凸台，该密封凸台对应该卡槽设置且与该卡槽相互嵌合，且该密封凸台与该卡槽为过盈配合。
在一较佳实施例中，该局部氧化工装包括一凹形框体及一设置于该凹形框体上方的端盖，其中该凹形框体用以容置该定涡旋盘；该端盖用以封闭该凹形框体，并对应该涡旋壁形成一开口，该开口仅用以暴露出该涡旋壁。
在一较佳实施例中，该局部氧化工装为弹性材料制成，且该凹形框体与该端盖为一体成型。
在一较佳实施例中，该端盖可拆卸式设置在该凹形框体上。
在一较佳实施例中，该端盖与该凹形框体通过螺丝固定。
在一较佳实施例中，进一步包括一氧化槽，该氧化槽中具有电解液，该电解液用以对容置在该局部氧化工装中的定涡旋盘的该涡旋壁进行氧化。
在一较佳实施例中，进一步包括一水冷却循环装置，用以对氧化过程中的定涡旋盘进行冷却降温。
在一较佳实施例中，该凹形框体上具有一进水口，一出水口，及一绕设在 该凹形框体内部的流道，该流道连通该进水口及该出水口。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
藉此，本实施发明藉由新型的涡旋壁氧化装置解决了现有技术中在氧化涡旋壁的同时，造成定涡旋盘的其他不需氧化的部件亦会被氧化的问题，在氧化涡旋壁，提高其硬度的同时亦保证了定涡旋盘其他部件的性能。
附图说明
图1为本发明之涡旋壁氧化装置的第一实施例的示意图；
图2为本发明之涡旋壁氧化装置的第二实施例的立体图；
图3为本发明之涡旋壁氧化装置的第二实施例的示意图；
具体实施例
在下文的细节描述中，组件符号会标示在随附的图示中成为其中的一部份，并且以可实行该实施例之特定范例描述方式来表示。这类实施例会说明足够的细节俾使该领域的一般技艺人士得以具以实施。阅者须了解到本发明中亦可利用其他的实施例或是在不悖离所述实施例的前提下作出结构性、逻辑性、及电性上的改变。因此，下文之细节描述将不欲被视为是一种限定，反之，其中所包含的实施例将由权利要求范围来加以界定。
首先请配合参照图1及图2，图1绘示出根据本发明之涡旋壁氧化装置的第一实施例的示意图，图2绘示出根据本发明之涡旋壁氧化装置的第一实施例的立体图；如图1所示，涡旋壁氧化装置1包括：一定涡旋盘20，其具有一从该定涡旋盘20上表面21朝向该定涡旋盘20下表面22轴向延伸的涡旋壁23。其 中涡旋壁23的制造方法为现有技术，在此不作赘述。
一局部氧化工装10，该局部氧化工装10包括一凹形框体11及一设置于该凹形框体11上方的端盖12，其中该凹形框体11相对于该定涡旋盘20的外形开设有一内凹的容置空间111，用以容置该定涡旋盘20。该端盖12用以将定涡旋盘20对外封闭，且该端盖12对应该涡旋壁23形成一开口121，该开口121仅用以暴露出该涡旋壁23。
该定涡旋盘20进一步包括复数个卡槽24(图1中仅显示2个，但本实施例并不限制其数量)，设置于该涡旋壁23外侧，该局部氧化工装10卡设于该些卡槽24中。
在一较佳实施例中，该局部氧化工装10进一步包括复数个密封凸台13(图1中仅显示2个，但本实施例并不限制其数量)，该密封凸台13对应该卡槽24设置且与该卡槽24相互嵌合，且该密封凸台13与该卡槽24为过盈配合。藉此，局部氧化工装10可以将涡旋壁23以外的定涡旋盘20的其他部件封闭在局部氧化工装10形成的容置空间111中，以便后续对涡旋壁23的氧化作业的顺利进行。
于实际生产中，容置在该局部氧化工装10中的定涡旋盘20将会被放置在一具有电解液的氧化槽(图中未示)中，该电解液用以对定涡旋盘20的涡旋壁23进行氧化，由于此时局部氧化工装10可以将涡旋壁23以外的定涡旋盘20的其他部件封闭在局部氧化工装10形成的容置空间111中，因此电解液不会接触到其他部件，从而避免电解液对其他部件造成氧化作用。
在一较佳实施例中，该端盖12可拆卸式设置在该凹形框体11上。藉此，该局部氧化空间10可以在先将端盖12与凹形框体11分离后，再将定涡旋盘20的放置进凹形框体11的容置空间111中。
请参照图2，在一较佳实施例中，该端盖12与该凹形框体11通过螺丝30固定。值得注意的是，在其他实施例中，端盖12亦可以通过其他结构可拆卸式的设置在凹形框体11上，如卡扣结构。
在一较佳实施例中，该局部氧化工装10为弹性材料制成，且该凹形框体11与该端盖12为一体成型。藉此该定涡旋盘20可以通过局部氧化工装10的弹性形变作用，通过开口121将定涡旋盘20放置进容置空间111中。从而可以减少端盖12与凹形框体11分离作业，保证端盖12与凹形框体11之间良好的封闭性能。
请参照图3，图3绘示出根据本发明之涡旋壁氧化装置1的第二实施例的示意图。如图3所示，本实施例与第一实施例大致相同，差别之处在于：进一步包括一水冷却循环装置40，用以对氧化过程中的定涡旋盘20进行冷却降温。
在一较佳实施例中，该凹形框体11上具有一进水口112，一出水口113，及一绕设在该凹形框体11内部的流道(图中未示)，该流道连通该进水口112及该出水口113。
该水冷却循环装置40进一步包括一进水管41及一出水管42，其中该进水管41连通该进水口112，该出水管42连通该出水口113。水冷却循环装置40通过进水管41及进水口112向凹形框体11提供冷却液，该冷却液流经该流道并通过出水口113及出水管42重新流向水冷却循环装置40。藉此，水冷却循环装置40可以对氧化过程中的定涡旋盘20起到冷却降温作用，在保证涡旋盘23的氧化效果的同时，亦可防止涡旋盘23在氧化过程中产生的热量对其他部件造成影响。
综上，本实施发明藉由新型的涡旋壁氧化装置解决了现有技术中在氧化涡旋壁23的同时，造成定涡旋盘20的其他不需氧化的部件亦会被氧化的问题， 在氧化涡旋壁23，提高其硬度的同时亦保证了定涡旋盘20其他部件的性能。
以上所述仅为本发明的实施例，其并非用以限定本发明的专利保护范围。任何熟习相像技艺者，在不脱离本发明的精神与范围内，所作的更动及润饰的等效替换，仍为本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种涡旋壁氧化装置，其特征在于，包括：
一定涡旋盘，其具有一从该定涡旋盘上表面朝向该定涡旋盘下表面轴向延伸的涡旋壁；
一局部氧化工装，其相对于该定涡旋盘的外形开设有一内凹的容置空间，用以容置并对外封闭该定涡旋盘，其中，该容置空间具有一开口，该开口仅用以暴露出该涡旋壁。
2.根据权利要求1所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：该定涡旋盘进一步包括复数个卡槽，设置于该涡旋壁外侧，该局部氧化工装卡设于该些卡槽中。
3.根据权利要求2所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：该局部氧化工装进一步包括复数个密封凸台，该密封凸台对应该卡槽设置且与该卡槽相互嵌合，且该密封凸台与该卡槽为过盈配合。
4.根据权利要求1所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：该局部氧化工装包括一凹形框体及一设置于该凹形框体上方的端盖，其中该凹形框体用以容置该定涡旋盘；该端盖用以封闭该凹形框体，并对应该涡旋壁形成一开口，该开口仅用以暴露出该涡旋壁。
5.根据权利要求4所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：该局部氧化工装为弹性材料制成，且该凹形框体与该端盖为一体成型。
6.根据权利要求4所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：该端盖可拆卸式设置在该凹形框体上。
7.根据权利要求6所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：该端盖与该凹形框体通过螺丝固定。
8.根据权利要求4所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：进一步包括一氧化槽，该氧化槽中具有电解液，该电解液用以对容置在该局部氧化工装中的定涡旋盘的该涡旋壁进行氧化。
9.根据权利要求8所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：进一步包括一水冷却循环装置，用以对氧化过程中的定涡旋盘进行冷却降温。
10.根据权利要求9所述的涡旋壁氧化装置，其特征在于：该凹形框体上具有一进水口，一出水口，及一绕设在该凹形框体内部的流道，该流道连通该进水口及该出水口。
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