CN104460237A - 位置计测装置、对准装置、图案描画装置及位置计测方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种使用能高精度地对基板相对于光束的位置进行计测的位置计测技术的位置计测装置、位置计测方法、以及对准装置及图案描画装置。本发明包括:拍摄部,在同一视野内,对于穿过基板中对光束具有透过性的第1透过部的光束、及第1透过部进行拍摄;及位置导出部,根据拍摄部所拍摄的图像来求出基板的位置。
Description
技术领域
本发明涉及一种对基板相对于从光学头(head)射出的光束(beam)的位置进行计测的位置计测技术、以及使用该位置计测技术的对准(alignment)装置及图案(pattern)描画装置。
背景技术
作为将光束照射至基板的装置,提出多种装置。例如日本专利特开2000-329523号公报、日本专利特开2003-162068号公报、日本专利特开2007-225886号公报、日本专利特开2008-65034号公报中,记载有将光束照射至由支撑载台(stage)等基板支撑部支撑的基板的表面而描画图案的装置。这些装置中,为了高精度地描画图案,须在形成图案之前预先使描画对象基板与光束(光学头)的位置对准。所以,对形成在基板上的对准标记(mark)等用于定位的基准标记进行拍摄而计测该基板的位置,而且计测光束(或者射出光束的光学头)的位置。而且,根据这些位置信息来求出基板相对于光束的位置,对光束与基板进行位置对准。
发明内容
[发明所要解决的问题]
然而,现有技术中,对基板位置进行计测的场所与对光束(或者光学头)位置进行计测的场所各自不同。因此,须使支撑载台从已进行一种计测的场所移动到要进行另一种计测的场所。有时,会因该载台的移动而使计测中含有误差因素,从而使相对于光束而对基板位置进行计测的精度(以下称为“计测精度”)降低。而且,也有时使用单独的相机(camera)来进行光束位置的计测、与基板位置的计测,这时,也会产生计测误差而令计测精度降低。
本发明是鉴于所述问题而完成,其目的在于提供一种能高精度地对基板相对于光束的位置进行计测的位置计测技术、以及使用该位置计测技术的对准装置及图案描画装置。
[解决问题的手段]
本发明的第1态样涉及一种对基板相对于从光学头射出的光束的位置进行计测的位置计测装置及方法。本发明的位置计测装置的特征在于包括:拍摄部,在同一视野内,对于穿过基板中对光束具有透过性的第1透过部的光束及第1透过部进行拍摄;及位置导出部,根据拍摄部所拍摄的图像来求出基板的位置。而且,本发明的位置计测方法的特征在于包括如下工序:对于基板中对光束具有透过性的透过部照射光束;在同一视野内,对穿过透过部的光束及透过部进行拍摄;及,根据所拍摄的图像来求出基板的位置。
在以所述方式构成的发明中,由拍摄部在同一视野内对基板的第1透过部与光束进行拍摄。在这样拍摄所得的图像中,包含反映出光束与基板的位置关系的信息,因此,能根据同一图像来求出基板相对于光束的位置。因此,与分别对基板与光束单独地进行拍摄、且根据这些图像来求出基板相对于光束的位置的现有技术相比,能抑制误差因素从而提高计测精度。
而且,本发明的第2态样是一种对准装置,其特征在于包括:位置计测部,具有与所述位置计测装置相同的构成;及位置调整部,根据位置计测部的位置导出部所求出的基板相对于光束的位置,使基板及光学头中的至少一个在与光束的行进方向正交的面内移动,从而调整基板相对于光束的位置。该发明中,通过使用所述位置计测部,可准确地求出基板相对于光束的位置。因此,能根据位置计测部的计测结果来高精度地调整基板相对于光束的位置。
另外,本发明的第3态样是一种图案描画装置,其特征在于,包括:光学头,具有对光束进行调变的光调变器,将经光调变器进行光调变后的调变光束照射至基板;位置计测部,具有与所述位置计测装置相同的构成;及,位置调整部,根据位置导出部所求出的基板相对于光束的位置,使基板及光学头中的至少一个在与光束的行进方向正交的面内移动,从而调整基板相对于光束的位置;且在由位置调整部进行调整之后,将调变光束照射至第1透过部以外的基板的表面而描画图案。该发明中,也能通过使用所述位置计测部而准确地求出基板相对于光束的位置,从而高精度地调整基板相对于光束的位置。并且,将调变光束照射至基板的表面而描画图案。因此,能在基板的表面上形成优良的图案。
[发明的效果]
根据本发明,在同一视野内对基板的第1透过部与光束进行拍摄、且根据该图像而求出基板相对于光束的位置,所以能高精度地对基板的位置进行计测。
附图说明
图1是示意性表示可适用本发明的图案描画装置的一例的侧视图。
图2是示意性表示图1的图案描画装置的局部俯视图。
图3是图1的图案描画装置的局部放大侧视图。
图4是表示图1的图案描画装置的动作的流程图(flowchart)。
图5是表示装载(loading)处理中的支撑载台与基板的位置关系的图。
图6是示意性表示对准用贯穿孔的拍摄处理的图。
图7是表示本发明的位置计测装置的另一实施方式的图。
图8是表示本发明的位置计测装置的另一实施方式的图。
图9是表示本发明的位置计测装置的又一实施方式的图。
[符号的说明]
1:图案描画装置
3:支撑部
5:曝光部
6、6a:光学头
9:拍摄部
11:搬入出口
31:支撑载台
32:(第2)透过部
32a、32b:透过用贯穿孔(第2贯穿孔、第2透过部)
32c:窗构件
33:升降台
34:旋转台
35:支撑板
37:线性马达
37a:动子
37b:定子
51:支撑台
52:线性引导件
91:CCD相机(拍摄部)
100:控制器
110:数据处理部
111:位置导出部
120:图像处理部
130:扫描控制部
140:照射控制部
Ia、Ib、Ic:图像
Isa、Ilb、Imk1、Imk2:像
LB:光束
MK1:十字标记(第1基准标记)
S:基板
Sa、Sb:对准用贯穿孔(第1贯穿孔、第1透过部)
Sc:标记赋予部(第1透过部)
S1~S10:步骤
X:轴
Y:轴
Z:(光束的行进)方向/铅垂方向
具体实施方式
图1是示意性表示可适用本发明的图案描画装置的一例的侧视图。图2是示意性表示图1的图案描画装置的局部俯视图。图3是图1的图案描画装置的局部放大侧视图。为了表示图案描画装置1的各部分的位置关系,在这些图中,适当地示出以Z轴方向作为铅垂方向的XYZ正交坐标轴。而且,根据需要,将各坐标轴的图中箭头侧称为正侧或者(+侧),且将各坐标轴的图中箭头的相反侧称为负侧或者(-侧)。
图案描画装置1中,利用省略图示的搬送机器人(robot),将未处理的基板S从Y轴方向的负侧的搬入出口11搬入至装置内部。而且,在装置内对基板S执行图案描画。之后,利用搬送机器人将已完成图案描画的基板S经由搬入出口11而搬出至装置外部。另外,就作为图案描画装置1的描画对象的基板S而言,包括其上表面(一主面)涂布有抗蚀剂(resist)液等感光材料的挠性印刷电路(Flexible Printed Circuits,FPC)用基板或印刷线路基板等。而且,基板S中,在相对于应描画图案的基板S的表面区域而具有预先决定的位置关系的位置设有2个贯穿孔Sa、贯穿孔Sb。更详细而言,在本实施方式中,2个贯穿孔Sa、贯穿孔Sb是在Y方向上相离而设,且如下文所述作为用以进行基板S的对准的基准标记(对准标记)(alignment mark)而发挥功能。
该图案描画装置1的概略构成包括:支撑部3,支撑已搬入的基板S;曝光部5,对由支撑部3支撑的基板S照射光束而使其曝光;拍摄部9,在同一视野内,对基板S的贯穿孔Sa、贯穿孔Sb及光束LB进行拍摄;及控制器(controller)100,控制各个部分3、部分5、部分9。
在支撑部3中,设有支撑载台31,该支撑载台31对于载置在所述支撑部3的上表面的基板S的背面进行吸附而予以支撑。在该支撑载台31上,在分别与对准用贯穿孔Sa、对准用贯穿孔Sb对应的位置上,设有作为使光束透过的透过部32而发挥功能的透过用贯穿孔32a、透过用贯穿孔32b。即,透过用贯穿孔32a、透过用贯穿孔32b是以与Y方向上的贯穿孔Sa、贯穿孔Sb的间距(pitch)间距离相同的间距,而在Y方向上相离地设置。然而,在本实施方式中,透过用贯穿孔32a、透过用贯穿孔32b具有大于对准用贯穿孔Sa、对准用贯穿孔Sb的内径。而且,当从铅垂方向Z观察时,以对准用贯穿孔Sa、对准用贯穿孔Sb分别包含在透过用贯穿孔32a、透过用贯穿孔32b内的方式,由搬送机器人将基板S载置在支撑载台31上。
该支撑载台31的水平地形成的上表面上具有多个吸引孔,通过省略图示的吸引机构对各吸引孔进行吸引,而对于基板S一面从铅垂下方进行支撑一面进行吸附保持。由此,对于由搬送机器人装载至支撑部3的基板S,能更牢固地由支撑载台31进行支撑,从而能稳定地对基板S执行图案描画。而且,当结束图案描画而搬出基板S时,可停止吸引孔的吸引,且由搬送机器人从支撑部3搬出基板S,即,可进行卸载(unloading)。另外,也可构成为:在停止吸引之后,利用剥离辊或剥离销等剥离构件将基板S从支撑载台31顶起而实施卸载作业。
而且,如图1所示,支撑载台31经由升降台(table)33、旋转台34及支撑板35而连接于线性马达(linear motor)37的动子37a。因此,支撑载台31在升降台33的作用下自如升降、且在旋转台34的作用下自如旋转。另外,通过沿着在Y轴方向上延伸的线性马达37的定子37b而对动子37a进行驱动,可在Y轴方向上驱动支撑载台31。
曝光部5具有相对于支撑载台31的可动区域而配置在上方侧的多个光学头6。各光学头6向位于其下方且由支撑载台31支撑的基板S射出光束,而使基板S曝光。另外,多个光学头6是并排配置在X轴方向上,且负责X轴方向上互不相同的区域的曝光。而且,支撑多个光学头6的支撑台51沿着在X轴方向上延伸的一对线性引导件(linear guide)52而自如移动。因此,通过利用省略图示的线性马达来沿线性引导件52驱动支撑台,能使多个光学头6一同向X轴方向移动。
拍摄部9具有电荷耦合器件(Charge Coupled Device,CCD)相机91。所述CCD相机91配置在如下光束的行进路径上,该光束是从当多个光学头6以如图2所示的方式定位在对准位置时、多个光学头6中最靠(-X)方向侧的光学头6a射出的光束。即,如图3所示,CCD相机91是在光学头6a的铅垂下方,且比支撑载台31的Y方向的移动路径更位于铅垂下方。而且,若在支撑载台31的透过用贯穿孔32a的大致中心部位于CCD相机91的正上方位置的状态下从光学头6a射出光束LB,则CCD相机91会经由透过用贯穿孔32a而在同一视野内对光束LB及对准用贯穿孔Sa进行拍摄(参照图6的(a))。而且,若在支撑载台31的透过用贯穿孔32b的大致中心部位于CCD相机91的正上方位置的状态下从光学头6a射出光束LB,则CCD相机91会经由透过用贯穿孔32b而在同一视野内对光束LB及对准用贯穿孔Sb进行拍摄(参照图6的(b))。拍摄部9将这样拍摄的图像传送至控制器100。
以上为图案描画装置1的机械构成的概要。接着,对于图案描画装置1的电构成即控制器100进行说明。控制器100主要执行如下动作:从各光学头6射出光束LB、且使光束LB在由支撑载台31支撑的基板S表面上扫描、从而在基板S表面上描画图案,且该控制器100包含数据(data)处理部110、图像处理部120、扫描控制部130及照射控制部140。
数据处理部110包括执行逻辑运算的中央处理器(Central ProcessingUnit,CPU)、存储对CPU进行控制的程序(program)等的只读存储器(ReadOnly Memory,ROM)、及在装置的动作过程中暂时存储多种数据的随机访问存储器(Random Access Memory,RAM)等。数据处理部110按照ROM内存储的程序,经由图像处理部120、扫描控制部130及照射控制部140而控制图案描画装置1的各部分。
图像处理部120根据来自数据处理部110的指令而对于从CCD相机91输出的图像进行多种图像处理,且将经图像处理后的图像写入至RAM中。而且,数据处理部110从RAM中读出图像,导出表示基板S相对于光束LB的位置的信息(以下称为“基板位置信息”)。这样,在本实施方式中,数据处理部110具有作为位置导出部111的功能。
而且,数据处理部110除了具有所述位置导出部111的功能以外,还具有对准功能、数据校正功能及路由信息协议(Routing Information Protocol,RIP)功能。其中,对准功能是根据基板位置信息来使基板S相对于光学头6进行位置对准的功能。而且,数据校正功能是对于包含描画在基板上的图案在内的设计数据,根据位置导出部111所求出的基板位置信息进行坐标校正或旋转校正后生成校正设计数据的功能。这里,设计数据是在图案描画装置1的外部预先由计算机辅助设计(computer aided design,CAD)等生成的数据,且在图案描画之前保存在数据处理部110的RAM内。剩下的RIP功能是对校正设计数据进行栅格化(rasterizing)处理而生成运行长度数据(runlength data)即描画数据且将其保存在RAM内的功能。这样生成的描画数据被输出至扫描控制部130及照射控制部140。
扫描控制部130根据描画数据来控制支撑载台31及光学头6的图案描画动作过程中的移动。而且,照射控制部140在图案描画动作过程中控制来自光学头6的光束LB的ON/OFF,且根据图案而照射调变光束LB。更具体而言,图案描画动作是以如下方式执行。
图4是表示图1的图案描画装置的动作的流程图。而且,图5是表示装载处理中支撑载台与基板的位置关系的图。而且,图6是示意性表示对准用贯穿孔的拍摄处理的图。该图案描画装置1中,在步骤(step)S1中,搬送机器人从搬入出口11将基板S搬入至装置内部,且搬送至支撑载台31上(装载处理)。这时,根据支撑载台31的位置信息、支撑载台31上的透过用贯穿孔32a、透过用贯穿孔32b的位置信息、基板S上的对准用贯穿孔Sa、对准用贯穿孔Sb的位置信息等来执行所述装载处理,且如图5所示将基板S载置在支撑载台31上。更详细而言,以当从铅垂下方俯视时对准用贯穿孔Sa、对准用贯穿孔Sb分别包含在透过用贯穿孔32a、透过用贯穿孔32b内的方式,由搬送机器人将基板S搬送至支撑载台31的上表面。
当基板S的装载结束时,控制器100根据存储在ROM内的程序而按以下方式控制装置的各部分,从而将与设计数据对应的图案描画在基板S的图案描画区域(不包含对准用贯穿孔Sa、对准用贯穿孔Sb的基板表面区域)。更详细而言,在步骤S2中,支撑载台31向Y轴方向的一侧、即(+Y)侧方向移动。而且,当支撑载台31的(+Y)侧的透过用贯穿孔32a到达CCD相机91的正上方位置时,支撑载台31停止移动。接着,位于CCD相机91的铅垂上方的光学头6a向(-Z)方向射出光束LB。于是,光束LB向(-Z)方向前进且如图6的(a-1)所示经由对准用贯穿孔Sa及透过用贯穿孔32a而入射至CCD相机91的拍摄面。由此,CCD相机91不仅对于对准用贯穿孔Sa进行拍摄,而且同时在同一视野内对于光束LB进行拍摄。另外,在本实施方式中,按照透过用贯穿孔32a(32b)、CCD相机91的视野、对准用贯穿孔Sa(Sb)及光束LB的有效束径(光束LB的光强度为峰值或者光轴上的值的1/e2的束径)的顺序而变小。因此,CCD相机91所拍摄的图像Ia如例如图6的(a-2)所示,在对准用贯穿孔Sa的像Isa的内部存在光束LB的像Ilb。
这里,若基板S相对于光学头6a而理想地定位,则光束LB的像Ilb位于贯穿孔Sa的像Isa的中心位置,但当基板S相对于光学头6a并未理想地定位时,如图6的(a-2)所示,光束LB的像Ilb偏离贯穿孔Sa的像Isa的中心位置。所以,在本实施方式中,位置导出部111根据CCD相机91所拍摄的图像而导出(+Y)侧的对准用贯穿孔Sa相对于光束LB的位置、即基板位置信息,且将其保存在RAM内(步骤S3)。
接着,关于(-Y)侧的对准用贯穿孔Sb的位置的信息,也以与所述相同的方式进行导出(步骤S4、步骤S5)。即,在步骤S4中,支撑载台31进一步向(+Y)侧方向移动。而且,当支撑载台31的(-Y)侧的透过用贯穿孔32b到达CCD相机91的正上方位置时,支撑载台31停止移动。接着,位于CCD相机91的铅垂上方的光学头6a射出光束LB(图6的(b-1))。这时,位置导出部111根据CCD相机91所拍摄的图像Ib来导出(-Y)侧的对准用贯穿孔Sb相对于光束LB的位置(基板位置信息),且将其保存在RAM内(步骤S5)。
若这样获得基板S的面内的互不相同的2点上的基板位置信息,则数据处理部110根据这些基板位置信息而求出基板S相对于光束LB的位置偏移量。而且,在步骤S6中,使支撑载台31在XY平面内移动而对位置偏移进行校正,对由支撑载台31支撑的基板S与所有光学头6的位置关系进行调整,使多个光学头6的位置对准支撑载台31上的开始对基板S进行曝光的位置(对准处理)。
而且,与该对准处理(步骤S6)并行地,由数据处理部110根据基板位置信息来执行设计数据的坐标校正及旋转校正从而生成校正设计数据(步骤S7),进而,对该校正设计数据进行RIP处理而生成描画数据(步骤S8)。
这些步骤S6~步骤S8结束时,支撑载台31开始向Y轴方向移动。而且,由多个光学头6分别对伴随该支撑载台31移动的基板S的表面照射图案与描画数据相应的光束LB。由此,多个光学头6分别使光束LB在Y轴方向(主扫描方向)上对基板表面进行扫描,在图案描画区域形成1行(1ine)的图案(线图案)。这样,在X轴方向上隔着间隔而并排地形成与光学头6的个数相应的多个线图案。
该多个线图案的形成结束时,控制器100使光学头6在X轴方向(副扫描方向)上移动。由此,多个光学头6分别与之前形成的多个线图案之间相对向。而且,当支撑载台31开始向与之前为相反侧即Y轴方向移动时,由多个光学头6分别对伴随该支撑载台31移动的基板S的图案描画区域照射图案与描画数据相应的光束LB。
这样,来自光学头6的光束LB在之前形成的多个线图案的各个之间进行扫描,从而形成新的线图案。从而,一面使光学头6在X轴方向上间歇地移动,一面依序形成多个线图案,由此,对于基板S的整个图案描画区域描画图案。最后,当图案形成结束时,搬送机器人从支撑载台31接受已完成图案描画的基板S,且将其从搬入出口11搬出至装置外部(步骤S10)。
如上文所述,在本实施方式中,由CCD相机91在同一视野内对设在基板S上的对准用贯穿孔Sa(Sb)与光束LB进行拍摄,且根据该图像Ia(Ib)而求出基板S相对于光束LB的位置。因此,与分别单独地拍摄基板与光束、且根据这些图像而导出基板相对于光束的位置的现有技术相比,能抑制误差因素,从而提高计测精度。
而且,能准确求出基板S相对于光束LB(光学头6)的位置,从而能高精度地调整基板S相对于光束LB的位置、即良好地进行对准处理。而且,当以这种方式进行对准处理之后,将调变光束LB照射至贯穿孔32a、32b以外的基板表面而描画图案。因此,能以高精度在基板S的表面上形成图案。
如上所述,在本实施方式中,本发明的“位置计测装置”及“位置计测部”的一例包括支撑载台31、拍摄部9、及具有位置导出部111的数据处理部110。而且,对准用贯穿孔Sa、对准用贯穿孔Sb相当于本发明的“第1贯穿孔”的一例,且作为本发明的“第1透过部”发挥功能。而且,透过用贯穿孔32a、透过用贯穿孔32b相当于本发明的“第2贯穿孔”的一例,且作为本发明的“第2透过部”发挥功能。另外,使支撑载台31在Y轴方向上移动的线性马达37相当于本发明的“位置调整部”的一例。
另外,本发明并不限于所述的实施方式,可在不脱离其宗旨的范围内进行所述之外的多种变更。例如,在第1实施方式中,将已穿过对准用贯穿孔Sa的光束LB经由透过用贯穿孔32a而导入至拍摄部9,但也可如图7所示,对透过用贯穿孔32a设置窗构件32c。窗构件32c包含对光束LB具有透过性的透过性材料。这样,在本实施方式中,本发明的“第2透过部”包含透过用贯穿孔32a及窗构件32c。
而且,在图7所示的实施方式中,对窗构件32c设有作为本发明的“第2基准标记”的十字标记(省略图示),CCD相机91所拍摄的图像Ia中包含十字标记的像Imk2。因此,也能根据光束LB的像Ilb、贯穿孔Sa的像Isa及十字标记的像Imk2而导出光束LB、基板S及支撑载台31的位置关系。当然,也可构成为:也对(-Y)侧的贯穿孔32b设置附十字标记的窗构件,而能导出光束LB、基板S及支撑载台31的位置关系。而且,能根据表示它们的位置关系的信息来进一步提高图案描画的精度。
而且,在图7所示的实施方式中,窗构件32c配置在透过用贯穿孔32a的最上部,且由窗构件32c的上表面支撑基板S。因此,也能获得如下作用效果。因透过用贯穿孔32a的内径大于贯穿孔Sa的内径,所以,如例如图6所示,贯穿孔Sa的周围部分未受到支撑载台31的支撑,该周围部分可能会产生向下的应力而出现变形。对此,在图7所示的实施方式中,因该周围部分由窗构件32c支撑,所以不会产生所述变形,能在基板S上描画图案。
这里,为了不设置窗构件而扩大该周围部分的支撑范围,也可如例如图8所示,使透过用贯穿孔32a的最上部的内径以略大于贯穿孔Sa的内径的程度而变得极小。当然,关于透过用贯穿孔32b,也可同样地构成。
而且,在所述实施方式中,透过用贯穿孔32a、透过用贯穿孔32b的内部为空气层,但也可在该内部填充透明构件。而且,也可使整个支撑载台31包含透明构件。
而且,在所述实施方式中,在基板S上设有对准用贯穿孔Sa、对准用贯穿孔Sb,且使它们作为本发明的“第1透过部”而发挥功能,但当基板S包含对光束LB具有透过性的板(sheet)构件时,也可设置代替贯穿孔的“第1透过部”。也可如例如图9所示,在基板S(板构件)的表面中的形成图案的图案描画区域以外的表面区域,设置例如十字标记MK1作为本发明的“第1基准标记”,且使该标记赋予部Sc作为本发明的“第1透过部”而发挥功能。这时,如例如图9所示,在CCD相机91所拍摄的图像Ic中包含十字标记MK1的像Imk1。因此,能根据光束LB的像Ilb及标记赋予部Sc的像Imk1而导出基板S相对于光束LB的位置。
而且,已针对第1透过部及第2透过部的多种态样进行了说明,但这些态样当然可进行适当组合。例如,也可将图9所示的标记赋予部Sc用作第1透过部,将图7所示的透过用贯穿孔32a与窗构件32c组合而成者用作第2透过部。
而且,在所述实施方式中,针对基板S的2个第1透过部(对准用贯穿孔Sa、对准用贯穿孔Sb或标记赋予部Sc)的各个而导出基板位置信息,根据这些基板位置信息而进行基板S相对于光学头6的位置对准、即对准处理,但也可针对3个以上的第1透过部导出基板位置信息而进行对准处理。
而且,在所述实施方式中,支撑载台31一面吸附基板S的背面一面进行保持,但基板S的保持态样并不限于此,例如也可采用仅对基板S的周缘部进行支撑而加以保持的、所谓机械夹头(mechanical chuck)方式。
另外,本发明的位置计测装置的适用对象并不限于图案描画装置,也可适用于将光束照射至基板的装置、例如激光(laser)加工机或激光切边(lasertrimming)装置等。
本发明可用于对基板相对于从光学头射出的光束的位置进行计测的位置计测技术、以及使用该位置计测技术而对基板相对于光束的位置进行调整的技术及图案描画技术中。
Claims (11)
1.一种位置计测装置,对基板相对于从光学头射出的光束的位置进行计测,所述位置计测装置的特征在于包括:
拍摄部,在同一视野内,对于穿过所述基板中对所述光束具有透过性的第1透过部的所述光束、及所述第1透过部进行拍摄;及
位置导出部,根据由所述拍摄部所拍摄的图像来求出所述基板的位置。
2.根据权利要求1所述的位置计测装置,其特征在于:所述第1透过部具有在所述光束的行进方向上贯穿所述基板而设的第1贯穿孔。
3.根据权利要求1所述的位置计测装置,其特征在于:所述基板包含对所述光束具有透过性的板构件,所述第1透过部是对于所述板构件赋予第1基准标记的标记赋予部。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的位置计测装置,其特征在于:包括支撑载台,所述支撑载台是从所述光束入射的所述基板的主面的相反侧支撑所述基板,
所述支撑载台包括第2透过部,所述第2透过部使已穿过所述第1透过部的所述光束穿过且将其导引至所述拍摄部,
所述拍摄部经由所述第2透过部而在同一视野内对所述光束及所述第1透过部进行拍摄。
5.根据权利要求4所述的位置计测装置,其特征在于:所述第2透过部具有在所述光束的行进方向上贯穿所述支撑载台而设的第2贯穿孔。
6.根据权利要求5所述的位置计测装置,其特征在于:所述第2透过部具有窗构件,所述窗构件包含对所述光束具有透过性的透过性材料、且以堵塞所述第2贯穿孔的方式设在所述支撑载台上,所述拍摄部经由所述窗构件而在同一视野内对所述光束及所述第1透过部进行拍摄。
7.根据权利要求6所述的位置计测装置,其特征在于:在所述第2透过部,对所述窗构件赋予第2基准标记。
8.根据权利要求2所述的位置计测装置,其特征在于:包括支撑载台,所述支撑载台具有第2透过部,所述第2透过部包含内径比所述第1贯穿孔的内径更大、且贯穿所述光束的行进方向而设的第2贯穿孔,
所述支撑载台是以当从所述光束的所述行进方向的相反方向进行俯视时所述第1贯穿孔包含在所述第2贯穿孔内的方式,从所述光束入射的所述基板的主面的相反侧支撑所述基板,
所述拍摄部经由所述第2透过部而在同一视野内对所述光束及所述第1透过部进行拍摄。
9.一种对准装置,其特征在于包括:
位置计测部,具有与根据权利要求1所述的位置计测装置相同的构成;及
位置调整部,根据所述位置计测部的位置导出部所求出的所述基板相对于所述光束的位置,使所述基板及所述光学头中的至少一个在与所述光束的行进方向正交的面内移动,从而调整所述基板相对于所述光束的位置。
10.一种图案描画装置,其特征在于,包括:
光学头,将光束照射至基板;
位置计测部,具有与根据权利要求1所述的位置计测装置相同的构成;及
位置调整部,根据所述位置导出部所求出的所述基板相对于所述光束的位置,使所述基板及所述光学头中的至少一个在与所述光束的行进方向正交的面内移动,从而调整所述基板相对于所述光束的位置;
由所述位置调整部进行调整之后,将所述光束照射至所述第1透过部以外的所述基板的表面而描画图案。
11.一种位置计测方法,对基板相对于从光学头射出的光束的位置进行计测,所述位置计测方法的特征在于包括如下工序:
对于所述基板中对所述光束具有透过性的透过部照射所述光束;
在同一视野内,对穿过所述透过部的所述光束及所述透过部进行拍摄;及根据所拍摄的图像来求出所述基板的位置。
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