CN104425561B - 显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种显示装置，其包括：排列多个设置有发光元件的像素的元件基板；和与像素分别对应地设置有透射波段不同的滤色片层和该彩色滤光层上的保护层的滤色片基板，在该显示装置中设置有：与像素的排列对应地设置的第一遮光层；和与该第一遮光层分离地设置在更靠近像素一侧的位置，宽度比该第一遮光层宽的第二遮光层，由此，使向相邻的像素漏出的斜方向的出射光入射到第二遮光层，实际上延长该入射光的光路长度，从而使其在第二遮光层中被充分吸收而衰减，不用极力地降低像素的开口率就能改善视角特性。
Description
技术领域
本发明的一个实施方式涉及显示装置，涉及一种适用于例如使用有机电致发光元件这样的发光元件的顶部发射型显示装置的有效技术。
背景技术
正在开发在像素中配备对有机电致发光元件这样的发光元件的发光进行控制的薄膜晶体管的显示装置。如果在像素中的光的射出方向上观察该显示装置，则大体分为在形成有薄膜晶体管的基板侧射出光线的底部发射方式、与在像素的上方射出光线的顶部发射方式。其中，与底部发射方式相比，顶部发射方式容易提高像素的开口率这一点是有利因素。
作为像素的结构，在使用发出白色光的发光元件的情况下，在光的射出侧设置与红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)各色对应的滤色片，进行彩色显示。在顶部发射方式中，并未在发光元件上直接形成滤色片，而是按照与形成有发光元件的基板相对的方式重叠设置有滤色片的基板。滤色片具有使红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的各色域的光透射的滤色片层，为了防止混色在该滤色片层的各色的边界设置遮光层。
图10(A)是该显示装置的一个例子，该图(B)表示点划线所围成的部分的放大图。显示装置10在下基板12上隔着绝缘层14层叠像素电极16、有机电致发光层(以下也称作“有机EL层”)20、上部电极22，从而形成发光元件24。堤堰层18按照覆盖像素电极16的周边部的方式而设置。在上基板30，与像素电极16的边界区域对应地设置遮光层32，在其上设置滤色片层34和保护层36。
在发光元件24中，如果在有机EL层20中发出的光用立体角表示，向4π的所有方向扩散。从有机EL层20向大致垂直方向传播的光通过滤色片层34，从上基板30射出(路径a)。从有机EL层20向遮光层32的某个方向传播的光在遮光层32中被吸收而不会向外部射出(路径b)。另一方面，从有机EL层20向斜方向射出的光变成向相邻像素漏出的漏光(路径c)。向该相邻像素漏出的光透射与自像素不同颜色的滤色片层而产生混色，影响显示特性。为了遮住向该相邻像素的漏光，如果扩大遮光层32的宽度W，则能够透光的开口部的面积就会缩小，在发光元件中发出的光的利用效率就会下降。
按照围绕滤色片层的轮廓的方式而设置的遮光层发挥衍射光栅的作用，因此，如果为了高精细化缩小像素，则也会发生通过相邻的滤色片层的光衍射并混色这样的问题。因此，在日本特开2012－209201号公报中公开了一种显示装置，即使在缩小像素尺寸的情况下，为了抑制因通过相邻的滤色片的光的衍射而引起的混色，设置与设置于滤色片层的下层侧的遮光层接触的宽度较大的半透射层。
发明内容
发明所要解决的技术问题
日本特开2012－209201号公报所公开的显示装置采用直接层叠遮光层和宽度比该遮光层宽的半透射层的构造，以减少向相邻像素的漏光。但是，遮光层和半透射层，由于在它们的上层部存在滤色片层，因此导致它们距离发光元件远。因此，如果不将半透射层的宽度扩大至比遮光层更宽，则就会产生无法充分吸收斜方向的出射光这样的问题。如果扩大半透射层的宽度，则在某一像素中发光并向垂直方向射出的光就会在半透射层中被吸收，光的利用效率就会大幅下降。
用于解决问题的技术手段
本发明的一个实施方式的显示装置包括：排列多个设置有发光元件的像素的元件基板；和滤色片基板，其在透光性的支承基板上与像素分别对应地设置有透射波段不同的滤色片层，滤色片基板具有：与像素排列的边界区域对应设置的第一遮光层；和设置成隔着滤色片层与第一遮光层重叠，透射率比第一遮光层高、比透光性的支承基板低的第二遮光层，第二遮光层比第一遮光层的宽度宽，且设置于比第一遮光层更靠发光元件的一侧。
本发明的一个实施方式的显示装置包括：排列多个设置有发光元件的像素的元件基板；和滤色片基板，其在透光性的支承基板上与像素分别对应地设置有透射波段不同的滤色片层，滤色片基板具有：与像素排列的边界区域对应地设置在滤色片层的支承基板一侧的第一遮光层；和以隔着滤色片层与第一遮光层重叠的方式设置在滤色片层的与支承基板相反的一侧，透射率比第一遮光层高、比透光性的支承基板低的第二遮光层，第二遮光层设置成比第一遮光层的宽度宽。
本发明的一个实施方式的显示装置包括：排列多个设置有发光元件的像素的元件基板；和滤色片基板，其在透光性的支承基板上与像素分别对应地设置有透射波段不同的滤色片层，滤色片基板具有与像素排列的边界区域对应地设置在滤色片层的下层侧的第一遮光层，元件基板具有：设置于发光元件的上层侧的密封层；和与像素排列的边界区域对应地设置在该密封层上，透射率比第一遮光层高、比透光性的支承基板低的第二遮光层，第二遮光层设置成比第一遮光层的宽度宽。
发明效果
根据本发明的一个实施方式，以靠近发光元件的方式配设与第一遮光层重叠设置的第二遮光层，由此能够在第二遮光层中有效地吸收从发光元件向斜方向射出的光，所以能够减少向相邻像素漏出的光。即，到达相邻像素的斜方向的出射光透射第二遮光层的光路长度变长，因此，在到达相邻像素的不同颜色的滤色片层之前，能够被第二遮光层有效地吸收。
因此，对于向自像素出射的出射光，使第二遮光层从第一遮光层伸出的长度短即可，由此能够减少第二遮光层的影响，因此，与仅按照相同的宽度设置第一遮光层的情况相比，能够提高光利用效率。由此，能够同时实现视角特性的改善以及抑制光利用效率的下降。
附图说明
图1是说明本发明一个实施方式的显示装置的结构的立体图。
图2是说明本发明的一个实施方式的显示装置的像素区域的结构的平面图。
图3是说明本发明的一个实施方式的显示装置的像素区域的结构，(A)是断面图，(B)是说明利用第二遮光层吸收斜方向的出射光的方式的图。
图4是说明本发明的一个实施方式的显示装置的像素区域的结构，(A)是断面图，(B)是说明利用第二遮光层吸收斜方向的出射光的方式的图。
图5是说明本发明的一个实施方式的显示装置的像素区域的结构的平面图。
图6是说明本发明的一个实施方式的显示装置的像素区域的结构，(A)是断面图，(B)是说明利用第二遮光层吸收斜方向的出射光的方式的图。
图7是说明本发明的一个实施方式的显示装置的像素区域的结构的断面图。
图8是说明本发明的一个实施方式的显示装置的像素区域的结构，(A)是断面图，(B)是说明利用第二遮光层吸收斜方向的出射光的方式的图。
图9是说明本发明的一个实施方式的显示装置的像素区域的结构，(A)是断面图，(B)是说明利用第二遮光层吸收斜方向的出射光的方式的图。
图10是表示显示装置的一个例子的图。
具体实施方式
下面，参照附图等说明本发明的实施方式。但是，本发明能够采用很多不同的方式来实施，并不限于以下所举例表示的实施方式的记载内容。
此外，对于以下将要说明的发明内容，对于相同部分或者具有同样功能的部分，相同的符号在不同的附图之间通用，在此情况下，如果没有特别说明，则省略重复的说明。
【实施方式1】
(1)显示装置的整体结构
图1表示显示送装置100的结构例。显示装置100由元件基板102和彩色滤波器基板104构成。在元件基板102上设有：像素108所排列的像素区域106、栅极信号线驱动电路110、以及数据信号线驱动电路114。从栅极信号线驱动电路110输出的信号发送给栅极信号线112，从数据信号线驱动电路114输出的数据信号发送给数据信号线116。栅极信号线112和数据信号线116与设置于像素108中的晶体管118连接。在像素108中设有：从栅极信号线112输入选择信号，从数据信号线116输入数据信号的选择晶体管118；和将来自选择晶体管118的信号输入栅极，控制发光元件120与电源线115的连接的驱动晶体管119。在滤色片基板104上，在与像素108对应的位置设有滤色片122。在像素区域106中，与红(R)、绿(G)、蓝(B)等各色像素108(R像素108r、G像素108g、B像素108b)对应，设有滤色片层126(R滤色片层126r、G滤色片层126g、B滤色片层126b)。
在图1所示的显示装置中，既可以将配设于各个像素中的发光元件的发光色作为单色来进行黑白显示，也可以将按红(R)、绿(G)、蓝(B)各色发光的发光元件配设于各个像素中，或者在其中还设置白色(W)发光的像素来进行彩色显示。
图2(A)表示从滤色片基板104侧所看到的像素区域106的方式。图2(A)表示，红(R)、绿(G)、蓝(B)等各色像素108(R像素108r、G像素108g、B像素108b)对角线排列的例子。在各色像素108的边界区域中设有第一遮光层124。第二遮光层128以围绕各色像素108(R像素108r、G像素108g、B像素108b)的外围区域的方式设置。第二遮光层128是透射率比第一遮光层124高的层，由薄的金属膜或者吸光性的树脂形成。此外，在图2(A)中，在像素108中也可以包括白色像素108w。在白色像素108w中，也可以使光直接透射发光元件120，但也可以设置根据与射出其他有色光的像素关联性设定成虽然为大致白色光但特定波段的分光强度增强的滤色片层。
图2(B)表示各色像素108(R像素108r、G像素108g、B像素108b)的滤色片层成带状设置时的像素区域106的方式。在此情况下，在同列方向上设置颜色相同的滤色片层，所以，第二遮光层128仅设置于不同颜色的滤色片层所邻接的区域。图2(B)的情况下也与图2(A)时同样，也可以设置白色像素108w。
此外，图中并未表示，在DELTA排列和PENTILE排列的像素中也同样能适用。本实施方式的显示装置的遮光层与半透射层的关系不受像素排列的影响能够适用，在以下的说明中，对于包括具有上述排列的像素区域，具有其他排列的区域也能适用。
图3表示与图2(A)以及图2(B)所示的A－B线对应的像素区域106的断面构造。在图2(A)与(B)中，滤色片层126的排列不同，但该图中所示的A－B线对应的断面构造能够通用，所以图3中所示的构造表示该两者。
(2)关于像素区域的结构
图3(A)表示显示装置中的像素区域106的断面构造的一个例子，该图(B)表示由点划线所围成的部分的放大图。像素区域中，设有发光元件120的元件基板102与设有滤色片层的滤色片层104相对地配设，在两个基板之间具有由例如丙烯等有机树脂材料构成的填充材料144。填充材料144的厚度是任意厚度，在发光元件120的上部，优选按照1～4μm，更优选2～3μm的厚度来设置。如果填充材料144的厚度过薄，则不能充分保持显示装置的机械强度，另外，如果过厚，则使来自像素的出射光衰减，所以优选上述的膜厚。
(a)关于元件基板
元件基板102的结构大体如下所述。在形成于支承基板130a的绝缘层132上按每个像素设置像素电极134。以覆盖像素电极134的周边部的方式设置堤堰层136。有机EL层138与上部电极140设置于像素电极134上，还可以延长至堤堰层136。上部电极140是在各像素之间提供共用电位的共用电极，在多个像素连续地设置。在上部电极140的上层，由氮化硅膜等构成的密封层142大体设置于整个表面。密封层142的厚度优选按照200nm～4000nm，更优选300nm～3000nm的厚度形成。氮化硅膜适合用作密封层，但是有时对于短波光呈现一些吸光性，如果按所述膜厚的范围形成，则不会破坏密封功能，能够将其作为透光膜。
发光元件120形成于像素电极134、有机EL层138以及上部电极140重叠的区域。在发光元件120中，像素电极134与上部电极140具有其中的一个为阳极(注入空穴一侧的电极)，另一个为阴极(注入电子一侧的电极)的功能。阳极与阴极采用各种导电性材料形成，但是通常与阴极相比阳极采用功函数高的材料形成。
例如，为了将像素电极134作为反光性的电极，且作为阳极，例如，优选适用钛(Ti)、氮化钛(TiN)、白金(Pt)、镍(Ni)、铬(Cr)、钨(W)等金属材料。这些金属与铝(Al)和银(Ag)相比反射率低，因此，作为反射电极进一步提高反射率，优选适用在与有机EL层138接触的一侧设置功函数高的铟锡氧化物(ITO)层，在其下层侧设置作为反光面的铝(Al)和银(Ag)层的多层构造。
为了将上部电极140作为阴极，例如，也可以采用在铝(Al)中包含钙(Ca)或镁(Mg)，或者锂(Li)等碱性金属的材料而形成。为了将上部电极140作为阴极，且具有透光性，为了使光能够透过上述金属层，也可以按照50nm～200nm左右的厚度形成，另外在其上层叠铟锡氧化物(ITO)和、铟锡锌氧化物(IZO)等透明导电膜。
另一方面，为了将像素电极134作为反光性的电极，且作为阴极，如上所述，也可以采用铝类或者银(Ag)类的金属材料。另外，为了将上部电极140作为透光性的电极，且将其作为阳极，也可以使用铟锡氧化物(ITO)和铟锡锌氧化物(IZO)等透明导电膜。
有机EL层138也可以采用低分子类或高分子类的任意一种有机材料形成。例如，在采用低分子类有机材料的情况下，除了包括发光性有机材料的发光层外，在夹着该发光层的两侧还包括空穴输送层和电子输送层等。为了在发光元件120中射出白色光，采用层叠发出红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)各色的发光层或者发光元件的构造，或者采用层叠发出蓝色(B)和黄色(Y)的发光层或者发光元件的构造。
有机EL层138的厚度包括各层的膜厚共计是100nm至300nm左右。因此，如果像素电极134的端部照原样地露出，则有机EL层138就不能完全覆盖该端部，因此，上部电极140与在其上面形成的像素电极134就会短路。堤堰层136具有防止发生这种短路不良的功能，为了覆盖像素电极134的端部，且使有机EL层138尽可能形成一样，优选以表面具有曲面形状的方式形成。这种堤堰层136由二氧化硅(SiO2)和氮化硅(Si3N4)等无机绝缘性的材料、或者丙烯树脂和聚酰亚胺树脂等有机绝缘性材料形成。例如，如果使用感光性的有机树脂材料，通过适当调节曝光时间和显影时间等，能够形成上端部带有圆角的形状。
(b)关于滤色片基板
滤色片基板104的结构大体如下所述。在透光性的支承基板130b上，与像素电极134的边界区域(或者堤堰层136所形成的区域)对应地设置第一遮光层124。透光性的支承基板130b配置于在发光元件120中发出的光所射出的一侧，因此，对于至少垂直入射的可见光带的光，透射率优选80％以上，例如优选具有80％～100％的透射率。
在第一遮光层124上设有滤色片122。滤色片层126与像素的各色对应地包括透光波段不同的多层(例如，如图3(A)所示，红色(R)滤色片层126r、绿色(G)滤色片层126g、蓝色(B)滤色片层126b)。滤色片层126采用包含颜料或者染料的有机树脂按照3μm左右的厚度形成。第一遮光层124在不同颜色的滤色片层所邻接的部分，按照与其边界区域重叠方式设置。
在滤色片层126上采用丙烯等透光性的有机树脂材料设置保护层127。为了保护滤色片层126以及使表面平坦化，保护层127具有2μm左右的厚度。保护层127的透射率优选比可见光波段的光的波长大70％，例如优选具有80％～95％的透射率。此外，也能省略保护层127。
在图3中，第二遮光层128设置于滤色片层126与保护层127之间。第二遮光层128是具有透射率比第一遮光层124高且比保护层127低的特性的层。第二遮光层128以与第一遮光层124重叠的方式配置，滤色片层126介于两者之间。因此，在像素区域中，第二遮光层128设置于比第一遮光层124更靠近发光元件120的位置。第二遮光层128的宽度比第一遮光层124的幅度宽。例如，如图3(B)所示，假设第一遮光层124的宽度为W，则第二遮光层128的宽度是第一遮光层124的宽度、从自像素突出的宽度X1和从相邻像素突出的宽度X2之和(W+X1+X2)。
第一遮光层124采用铬(Cr)和钛(Ti)、钽(Ta)等金属形成光不会透过程度的厚度。例如，作为第一遮光层124，将铬(Cr)和钛(Ti)、钽(Ta)等金属形成200nm～500nm，优选200nm～300nm的厚度。如果第一遮光层124的膜厚过薄，则光就会透射，就不能充分发挥作为遮光层的作用，如果其膜厚过厚，则会在滤色片出现断层，所以并不优选。第一遮光层124的透射率优选小于25％。
第二遮光层128采用形成能够透射光程度的薄层的铬(Cr)和钛(Ti)、钽(Ta)等金属薄膜、或者包含钛黑和碳黑等黑色颜料的吸光性的树脂材料形成。为了使光一定程度地透射，第二遮光层128的膜厚优选是150nm左右的膜厚，如下所示，根据光学特性设定适合的厚度即可。通过改变金属膜的膜厚，或者改变黑色颜料的浓度，能够适当调整第二遮光层128的透射率，但其透射率比第一遮光层124高，比采用透光性的有机树脂材料所形成的保护层127的透射率低。
例如，第二遮光层128优选具有作为该层的厚度(图3(B)所示的厚度d)方向上的可见光带的透光率为25％～70％的光学特性。将第二遮光层128设定在该范围，这样，在自像素区域中，不会使从发光元件射出的光大幅减弱而使其透过，充分吸收向相邻像素漏出的斜射光，从而能够减少漏光的影响。另一方面，如果用该层的厚度方向上的入射光的衰减率来表示第一遮光层124的特性，则作为光密度(OD值)优选具有3.0以上的值。通过使第一遮光层124具有这样的特性值，能够遮挡入射光，提高遮光性。即，通过将第二遮光层的光学特性设定在该范围，在自像素区域中，不会使从发光元件射出的光大幅衰减而使其透过，能够充分吸收向相邻像素漏出的斜射光，减少漏光的影响。
(3)关于遮光层与半透射层
在发光元件120的中央区域，有机EL层138中发出的光中的、向大致垂直方向射出的光(路径a)和透射第二遮光层128的光(路径b)，透射上部电极140、密封层142、填充材料144、保护层127、滤色片126，规定波长范围的光被取出到外部。另一方面，在发光元件120的端部附近，朝着相邻像素的斜方向出射的出射光透射密封层142、填充材料144、保护层127后，从斜方向入射到具有光吸收性的第二遮光层128。
朝着相邻像素从有机EL层138向斜方向射出的光中的、比较靠近正面方向(滤色片基板104的方向)的角度的光到达第一遮光层124并被遮挡(路径c)。但是，如图3(B)所示，与垂直方向的角度θ大的斜射光，如果在第二遮光层128中未被充分地吸收，则到达相邻像素的不同颜色的滤色片层126，因此，有可能变成不期望的波长范围的漏光(路径d)。
但是，在本实施方式的像素区域的结构中，按照与有机EL层138的距离缩短的方式设置第二遮光层128，因此，能够充分减少向相邻像素的漏光。具体而言，假设第二遮光层128的膜厚为d，则角度θ方向的出射光透射第二遮光层128的光路长度L是L＝d/cosθ。例如，在角度θ＝60度的情况下，L＝d/cos(60度)＝2d。假设第二遮光层128的该层厚度方向上的透射率为30％，则角度θ＝60度方向的透射率为T(L/d)＝0.32＝0.09＝9％，因此，91％的光不会透射。即，按照与第一遮光层124分离，与有机EL层138接近的方式设置具有遮光功能的第二遮光层128，由此，不增大第一遮光层124的宽度，就能够充分降低向相邻像素漏出的光的强度。由此，不用如以往那样大地缩小像素的开口率，就能够减少混色的影响，改善视角特性。
此外，如专利文献1中所公开的那样，在遮光层上直接接触设置幅宽的半透射层的结构中，为了充分吸收向上述所示角度θ的方向射出的斜方向的光，必须增大X1以及X2的宽度。于是，半透射层就会向像素的内侧区域大幅突出，自像素的出射光相应地衰减，所以，实际的开口率就会下降。
与此相反，在本实施方式所示的显示装置中，隔着滤色片层126设置第一遮光层124和相当于半透射层的第二遮光层128，其中，将第二遮光层128设置于靠近发光元件120的一侧。由此，有机EL层138至第二遮光层128的距离缩短，斜方向的出射光从朝着相邻像素的前面位置被第二遮光层128吸收。因此，即使第二遮光层128从遮光层突出的长度X1和X2缩短，也能获得吸收斜方向的出射光的效果，能够获得改善视角特性的效果。即，将比第一遮光层宽的第二遮光层隔着滤色片层设置，从而能够使该第二遮光层与像素的距离至少缩短与滤色片层的厚度相应的量，对于从自像素朝向相邻像素的斜方向的出射光，能够延长通过第二遮光层时的光学距离，所以能够使该斜方向的出射光充分衰减。
此外，向一定程度以上角度的斜方向出射的出射光，在滤色片基板与空气的界面因两者折射率差所引起的完全反射而不会向外部射出，所以X1和X2的宽度不必为所需宽度以上。
自像素的出射光中的透射半透射层的光的一部分被吸收，其余的透射光作为自像素的出射光能够取出到外部。另外，由于X1和X2短，半透射层在遮光层的开口部中所占的面积也小，因此，能够减少半透射层的影响，并且能够抑制光利用效率的下降。因此，能够同时改善视角特性以及抑制光利用效率的下降。
根据本实施方式所示的显示装置，通过将与遮光层重叠设置的半透射层以靠近发光元件的方式配设，能够在半透射层中吸收从发光元件向斜方向射出的光。由此，能够减少向相邻像素漏出的光。即，到达相邻像素的斜方向的出射光，由于透设半透射层的光路长度变长，因此能够在到达相邻像素的不同颜色的滤色片层之前被半透射层有效地吸收。因此，能够在抑制光利用效率的下降的同时改善起因于混色的视角特性，在显示装置中能够改善综合的画质。即，将宽度比第一遮光层宽的第二遮光层设置于像素侧，对于从自像素朝向相邻像素的斜方向的出射光，能够延长其通过第二遮光层时的光学距离，所以能够使该斜方向的出射光充分衰减。
[实施方式2]
图4(A)表示在像素区域中，将吸光性的第二遮光层128设置于保护层127上的结构，该图(B)表示由点划线所围成部分的放大图。通过将第二遮光层128设置于保护层127上，除了进一步缩短了有机EL层138至第二遮光层128的距离外，其余与实施方式1同样。
如果将第二遮光层128设置于保护层127上，则从自像素向斜方向射出的光(路径d)从朝着相邻像素的更靠前面的位置开始被第二遮光层128吸收。因此，即使进一步缩短第二遮光层128从第一遮光层124伸出的长度X1和X2，也能够获得与实施方式1同样的视角特性改善的效果。另外，能够缩小第二遮光层128在第一遮光层124的开口部中所占的面积，因此，能够减少第二遮光层128的影响，从而进一步提高光的利用效率(自像素中的出射光的强度)。
(变形例1)
图5(A)表示在设置于保护层127上的第二遮光层128上设置衬垫129的一个例子。衬垫129的厚度与填充材料144相同，或者比其薄。即，衬垫129设置于与堤堰层136大致重叠的区域中，所以，衬垫129的厚度与填充材料144的厚度相比，优选按照堤堰层136的厚度相应地做薄。通过设置这种厚度的衬垫129，能够均匀地保持元件基板102与滤色片基板104的间隔并将其粘贴。在此情况下，衬垫129设置于第二遮光层128的内侧区域(与第一遮光层124大致重叠的区域)，由此能够防止像素的开口率下降。
使元件基板102与滤色片基板104尽可能接近，由此，能够进一步缩短第二遮光层128与有机EL层138的距离。由此，即使进一步缩短第二遮光层128从第一遮光层124伸出的长度X1和X2，也能获得与实施方式1同样的视角特性改善的效果。
图5(B)采用使第二遮光层128的膜厚在中央区域与周边区域不同，以中央区域变厚的方式形成，从而兼具衬垫的功能的结构。这种形状的第二遮光层128可以通过分两次进行抗蚀剂掩模的形成和蚀刻来制作。另外，在形成抗蚀剂掩模时，如果使用半色调掩模作为光刻掩模，则能够削减制作抗蚀剂掩模的工艺。
通过设置中央部的膜厚比周边区域厚的第二遮光层128，射入该厚膜区域的斜光的成分进一步被第二遮光层128吸收，所以，能够进一步减少向相邻像素的漏光。
[实施方式3]
图6(A)表示在像素区域中，将吸光性的第二遮光层128设置于保护层127上的结构，该图(B)表示点划线所围成的部分的放大图。不仅将第二遮光层128设置在保护层127上，还以第二遮光层128中的端部的膜厚逐渐减少的方式形成锥形状，其余与实施方式2同样。
从自像素射出的斜方向的出射光中的一定以上的角度θmax的斜射光在透光性的支承基板130b与空气的界面中，因两者的折射率差而完全反射，因此，不会变成向外部射出的光，可以忽略。
另一方面，对于成为漏光的角度范围的斜方向的出射光(路径d)，即使第二遮光层128的端部具有锥形状，如果将锥角α设置在(90度-θmax)以上，则与实施方式1或实施方式2所示同样能够确保斜着透射半透射层的光路长度L。
因此，吸收向相邻像素的斜方向的出射光从而减少混色，能够维持视角特性改善的效果。另外，对于向自像素射出的出射光中的透射半透射层的光，在锥部具有吸光性的半透射层的膜厚d’比通常部小，作为自像素的出射光透射半透射层的光路长度短，因此，与实施方式2相比，光吸收减少，能够抑制向自像素出射的出射光的利用效率的下降。即，通过将第二遮光层128的端部设为锥形状，能够维持使作为漏光的斜方向的出射光衰减的效果，同时，对于自像素的出射光，能够缩短透射第二遮光层的光路长度。
(变形例2)
图7(A)是表示在保护层127上设置端部具有锥形状的第二遮光层128的结构，与该第二遮光层128重叠设置衬垫129的一个例子。衬垫129的厚度与填充材料144的厚度相同，优选按照1μm～4μm，更优选按照2μm～3μm的厚度设置。通过设置衬垫129，能够均匀地保持元件基板102与滤色片基板104的间隔并将其粘贴。通过尽量使元件基板102与滤色片基板104接近，能够进一步缩短第二遮光层128与有机EL层138的距离，所以，即使进一步缩短第二遮光层128从第一遮光层124伸出的长度X1和X2，也能获得与实施方式1以及实施方式2同样的视角特性改善的效果。
图7(B)是使第二遮光层128的膜厚在中央区域与周边区域不同，以中央区域厚的方式形成，从而能够兼具衬垫功能的结构。兼具这种衬垫功能的第二遮光层128能够按照与图5(B)时同样的方式制作。
通过设置这种中央部的膜厚厚的第二遮光层128，入射该厚膜区域的斜光成分更多地被第二遮光层128吸收，所以能够进一步减少向相邻像素的漏光。
[实施方式4]
图8(A)表示在像素区域中，将吸光性的第二遮光层128设置于滤色片层126上的结构，该图(B)表示由点划线所围成的部分的放大图。除了将第二遮光层128设置于滤色片层126上外，其余与实施方式3同样。
第二遮光层128的端部具有锥形状，与实施方式3的情况相同，吸收向相邻像素的斜方向的出射光以减少混色，能够维持改善视角特性的效果，并且与实施方式1相比，能够进一步抑制向自像素的出射光的利用效率的降低。
[实施方式5]
本实施方式表示将第二遮光层128设置于元件基板102一侧而非滤色片基板104上的一个例子。图9(A)表示在像素区域中，将吸光性的第二遮光层128设置于元件基板102的密封层142上的结构，该图(B)表示点划线所围成的部分的放大图。
第二遮光层128也可以使用阴影掩模采用溅射法形成具有规定图形的金属层。另外，遮光层并非采用金属，也可以采用由包含钛黑和碳黑等黑色颜料的感光性树脂构成的吸光性的有机树脂形成。
如果将第二遮光层128设置于密封层142上，则能够进一步缩短有机EL层138至第二遮光层128的距离，因此，能够获得实施方式1的视角特性，并且能够进一步缩小半透射层在遮光层的开口部中所占的面积，因此，能够减少半透射层的影响从而抑制光利用效率的下降。
根据本实施方式，将宽度比第一遮光层宽的第二遮光层设置于元件基板的密封层上，从而能够使该第二遮光层更接近像素，并且对于从自像素朝着相邻像素的斜方向的出射光，能够延长其通过第二遮光层时的光学距离，所以能够使该斜方向的出射光充分地衰减。
Claims (14)
1.一种显示装置，其特征在于，包括：
配置有多个像素和堤堰层的元件基板；和
滤色片基板，其具有与所述像素分别对应地设置的滤色片层、第一遮光层、第二遮光层和透光性的支承基板；
所述多个像素分别具有发光元件，该发光元件具有像素电极、有机电致发光层和上部电极，
所述堤堰层覆盖所述像素电极的周边部，并且配置于所述多个像素的边界区域上，
所述滤色片层设置于所述透光性的支承基板上，该滤色片层包括：具有对应于红色光的透射波段的红色滤色片层；具有对应于绿色光的透射波段的绿色滤色片层；和具有对应于蓝色光的透射波段的蓝色滤色片层；
所述第一遮光层围绕所述多个像素、并且在所述多个像素的边界区域上对应地配置，
所述第二遮光层在所述多个像素的边界区域上对应地配置，并且在所述堤堰层的上方围绕所述多个像素，
所述第一遮光层在所述多个像素的边界区域上与所述红色滤色片层、所述绿色滤色片层和所述蓝色滤色片层的边界区域相对应地配置，
所述第一遮光层和所述第二遮光层隔着所述滤色片层，从俯视方向上观察所述第二遮光层以与所述第一遮光层重叠的方式配置，
从排列有所述多个像素的断面观察，所述第一遮光层和所述第二遮光层各自的断面存在多个，第一遮光层的断面和第二遮光层的断面隔着所述滤色片层重叠地配置，
所述第二遮光层的透射率比所述第一遮光层高、比所述透光性的支承基板低，
所述第二遮光层比所述第一遮光层的宽度宽，且设置于比所述第一遮光层更靠所述发光元件的一侧。
2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于：
所述滤色片基板在所述滤色片层的与所述支承基板相反的一侧具有保护层，
所述第二遮光层设置于所述滤色片层与所述保护层之间。
3.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于：
所述第二遮光层具有端部的膜厚连续减少的锥形状。
4.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于：
所述第二遮光层的厚度方向的透射率在25％～70％的范围内。
5.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于：
所述第一遮光层的厚度方向的光密度为3.0以上。
6.一种显示装置，其特征在于，包括：
配置有多个像素和堤堰层的元件基板；和
滤色片基板，其具有与所述像素分别对应地设置的滤色片层、第一遮光层、第二遮光层和透光性的支承基板，
所述多个像素分别具有发光元件，该发光元件具有像素电极、有机电致发光层和上部电极，
所述堤堰层配置于所述多个像素的边界区域上，并且覆盖所述像素电极的周边部，
所述滤色片层包括：具有对应于红色光的透射波段的红色滤色片层；具有对应于绿色光的透射波段的绿色滤色片层；和具有对应于蓝色光的透射波段的蓝色第三滤色片层；
所述第一遮光层与所述多个像素排列的边界区域相对应地设置在所述滤色片层的所述支承基板一侧的面上，
所述第二遮光层与所述多个像素排列的边界区域相对应地设置，并且在所述滤色片层的与所述支承基板相反的一侧的面上，以与所述第一遮光层重叠的方式配置，
所述第一遮光层与所述红色滤色片层、所述绿色滤色片层和所述蓝色滤色片层的边界区域相对应地配置，
从俯视方向上观察，所述第二遮光层隔着所述滤色片层以与所述第一遮光层重叠的方式配置，
从排列有所述多个像素的断面观察，所述第一遮光层和所述第二遮光层各自的断面存在多个，第一遮光层的断面和第二遮光层的断面隔着所述滤色片层重叠地配置，
所述第二遮光层的透射率比所述第一遮光层高、比所述透光性的支承基板低，
所述第二遮光层比所述第一遮光层的宽度宽。
7.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于：
所述滤色片基板在所述滤色片层的与所述支承基板相反的一侧具有保护层，
所述第二遮光层设置于所述滤色片层与所述保护层之间。
8.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于：
所述第二遮光层具有端部的膜厚连续减少的锥形状。
9.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于：
所述第二遮光层的厚度方向的透射率在25％～70％的范围内。
10.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于：
所述第一遮光层的厚度方向的光密度为3.0以上。
11.一种显示装置，其特征在于，包括：
配置有多个像素和堤堰层的元件基板；和
滤色片基板，其具有与所述像素分别对应地设置的滤色片层、第一遮光层、第二遮光层和透光性的支承基板，
所述多个像素分别具有发光元件，该发光元件具有像素电极、有机电致发光层和上部电极，
所述堤堰层配置于所述多个像素的边界区域上，并且覆盖所述像素电极的周边部，
所述滤色片层包括：具有对应于红色光的透射波段的红色滤色片层；具有对应于绿色光的透射波段的绿色滤色片层；和具有对应于蓝色光的透射波段的蓝色滤色片层；
所述第一遮光层围绕所述多个像素、在所述多个像素的边界区域上对应地配置，并且在所述滤色片层的一个面上与所述像素排列的边界区域相对应地设置，
所述元件基板具有设置于所述发光元件的上层侧的密封层，
所述第二遮光层与所述像素排列的边界区域相对应地设置在该密封层上，
所述第一遮光层与所述红色滤色片层、所述绿色滤色片层和所述蓝色滤色片层的边界区域相对应地配置，
从俯视方向上观察，所述第二遮光层在密封层上以与所述第一遮光层重叠、并且与所述堤堰层重叠的方式配置，
所述滤色片层配置于所述第二遮光层的与所述堤堰层相反的一侧的面上，
所述第一遮光层配置于所述滤色片层的与所述第二遮光层一侧的面相反的面上，
从排列有所述多个像素的断面观察，所述第一遮光层和所述第二遮光层各自的断面存在多个，第一遮光层的断面和第二遮光层的断面隔着所述滤色片层重叠地配置，
所述第二遮光层的透射率比所述第一遮光层高、比所述透光性的支承基板低，
所述第二遮光层比所述第一遮光层的宽度宽。
12.如权利要求11所述的显示装置，其特征在于：
所述第二遮光层具有端部的膜厚连续减少的锥形状。
13.如权利要求11所述的显示装置，其特征在于：
所述第二遮光层的厚度方向的透射率在25％～70％的范围内。
14.如权利要求11所述的显示装置，其特征在于：
所述第一遮光层的厚度方向的光密度为3.0以上。
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