CN104393192A - 一种像素界定层及其制作方法、显示面板、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种像素界定层及其制作方法、显示面板、显示装置。所述像素界定层包括第一像素界定层和层叠在所述第一像素界定层之上的第二像素界定层；其中，所述第一像素界定层具有与各个子像素单元的发光区域一一对应的多个第一开口，所述第二像素界定层具有与所述多个第一开口一一对应的多个第二开口，所述第一开口的横截面呈上窄下宽的正梯形状，所述第二开口的横截面呈上宽下窄的倒梯形状。本发明有利于避免出现阳极和阴极短路以及阴极开路的现象，能够提高产品良率，增强画质。

Description

一种像素界定层及其制作方法、显示面板、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种像素界定层及其制作方法、显示面板、显示装置。

背景技术

采用溶液制程制造OLED/PLED显示器具有低成本、高产能、易于实现大尺寸等诸多优势和潜力，是OLED技术中一个很有潜力的发展方向。

在OLED/PLED技术中需要采用有机或者无机材料制作像素界定层，以将用于发光的有机材料限定在像素界定层限定出的子像素区域中，实现高分辨率和全彩色显示。

在采用喷墨打印(inkjet printing)或者喷嘴打印(nozzle printing)方式制作有机电致发光显示器件时，阳极102通常采用ITO等一种亲水的透明导电薄膜形成，为了与阳极102形成良好的附着，所形成的含有空穴注入层和空穴传输层有机发光材料层104的溶剂也是亲水的；然而，像素界定层103常采用正性光阻形成，采用正性光阻，曝光显影后形成的图形为倒梯形(顶部宽，底部窄)，其坡度角较好，可以减少有机材料薄膜层或阴极薄膜层出现的断裂现象。但是，正性光阻具有疏水的特性，这样就造成亲水的有机材料溶剂与疏水的像素界定层之间粘附性不好，从而造成有机发光材料层104收缩，造成阴极105与阳极102的短路现象，造成屏幕的显示不良现象，如图1(a)所示，其中，101为基板。

如果像素界定层采用负性光阻形成，则可以实现解决像素界定层与有机材料溶剂都是亲水特性，避免有机材料的收缩，避免阴极与阳极之间的短路现象；但是，负性光阻形成的图形为正梯形(顶部窄，底部宽)，其坡度角很差，极易造成阴极的开路，也会造成屏幕的显示不良现象，如图1(b)所示。

发明内容

有鉴于此，本发明提出了一种像素界定层及其制备方法、显示面板，以解决采用喷墨打印或喷嘴打印方式制作有机电致发光显示器件中容易出现的阴极与阳极的短路现象以及阴极的开路现象的问题。

根据本发明一方面，提供了一种像素界定层，其包括第一像素界定层和层叠在所述第一像素界定层之上的第二像素界定层；其中，所述第一像素界定层具有与各个子像素单元的发光区域一一对应的多个第一开口，所述第二像素界定层具有与所述多个第一开口一一对应的多个第二开口，所述第一开口的横截面呈上窄下宽的正梯形状，所述第二开口的横截面呈上宽下窄的倒梯形状。

其中，所述第一像素界定层为亲水性薄膜层，所述第二像素界定层为疏水性薄膜层。

其中，所述亲水性薄膜层为负性光阻膜层，所述疏水性薄膜层为正性光阻膜层。

其中，所述第一像素界定层的厚度小于所述第二像素界定层的厚度。

其中，所述第一像素界定层的厚度在之间，所述第二像素界定层的厚度在之间。

根据本发明第二方面，提供了一种显示面板，其包括形成在基板上的如上所述的像素界定层。

其中，所述第一像素界定层的多个第一开口形成有各个子像素单元的有机发光层，所述有机发光层的厚度等于或大于所述第一像素界定层的厚度。

根据本发明第三方面，提供了一种显示装置，其包括如上所述的显示面板。

根据本发明第四方面，提供了一种像素界定层的制备方法，其包括：

在基板上形成一层亲水性薄膜，并对其图形化形成具有与各个子像素单元的发光区域一一对应的多个第一开口的第一像素界定层；

在形成有第一像素界定层的基板上形成一层疏水性薄膜，并对其图形化形成具有与所述多个第一开口一一对应的多个第二开口的第二像素界定层。

其中，所述在基板上形成一层亲水性薄膜，并对其图形化形成具有与各个像素单元的发光区域一一对应的多个第一开口的第一像素界定层，具体为：

采用旋涂法或滴涂法在基板上形成一层第一预设厚度的负性光阻膜；

对所述负性光阻胶进行曝光显影，形成与各个子像素单元的发光区域一一对应的多个第一开口。

其中，所述在形成有第一像素界定层的基板上形成一层疏水性薄膜，并对其图形化形成具有与所述多个第一开口一一对应的多个第二开口的第二像素界定层，具体为：

采用旋涂法或滴涂法在形成有第一像素界定层的基板上形成一层第二预设厚度的正性光阻膜；

对所述正性光阻膜进行曝光显影，形成与所述多个第一开口一一对应的多个第二开口。

本发明针对制作有机电致发光器件的像素界定层时会产生有机发光材料收缩而导致像素单元中的阴极和阳极短路的现象，或者产生阴极开路的现象，采用两层像素界定层即第一像素界定层和第二像素界定层构成限定各个像素单元的发光区域的像素界定层，并且所述第一像素界定层采用亲水性薄膜层，而第二像素界定层采用疏水性薄膜层。当在第一像素界定层和第二像素界定层界定出的发光区域打印有机发光材料溶液后，由于所述有机发光层的亲水特性，其可以很好地附着在所述第一像素界定层上，充满所述发光区域的整个底部，不会在后续之制备了阴极后，由于有机发光层的收缩而产生阳极和阴极的短路现象。此外，由于采用负性光阻膜形成第一像素界定层时，其上形成的多个第一开口的横截面通常为上窄下宽的正梯形状，为避免在制备阴极时，出现阴极开路的线性，本发明通过在第一像素界定层上形成具有疏水特性的第二像素界定层，第二像素界定层上形成与所述多个第一开口一一对应的多个第二开口，且第二开口的横截面为上宽下窄的倒梯形状。这样，就能很好的避免在有机发光层上方形成阴极时出现开路现象。

附图说明

图1(a)和图1(b)是现有技术中有机电致发光器件的结构示意图；

图2(a)是本发明中像素界定层的结构示意图；

图2(b)是本发明中包括像素界定层的显示面板的结构示意图；

图3是本发明中像素界定层的制备方法流程图；

图4(a)～(d)是本发明中像素界定层的制备工艺流程图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本发明作进一步的详细说明。

图2示出了本发明实施例提出的一种像素界定层的结构示意图。如图2所示，所述像素界定层包括第一像素界定层202和层叠在所述第一像素界定层202之上的第二像素界定层203；其中，所述第一像素界定层202具有与各个子像素单元的发光区域一一对应的多个第一开口204，所述第二像素界定层203具有与所述多个第一开口204一一对应的多个第二开口205，所述第一开口204的横截面呈上窄下宽的正梯形状，所述第二开口205的横截面呈上宽下窄的倒梯形状。

可选地，所述第一像素界定层202为亲水性薄膜层，所述第二像素界定层203为疏水性薄膜层。

可选地，所述亲水性薄膜层可以为负性光阻材料，所述疏水性薄膜层为正性光阻材料。

在OLED/PLED显示面板中，像素界定层上形成的多个开口用于界定各个子像素单元的发光区域，有机发光材料溶液会通过打印方式形成在所述发光区域内，因此像素界定层能够很好的避免不同颜色的子像素单元的有机发光材料混色的问题。

通常，像素界定层可采用光阻材料实现，本发明针对利用光阻材料实现像素界定层时会产生有机发光材料收缩而导致像素单元中的阴极和阳极短路的现象，或者产生阴极开路的现象，采用两层像素界定层即第一像素界定层202和第二像素界定层203构成限定各个像素单元的发光区域的像素界定层，并且所述第一像素界定层202采用亲水性薄膜层，而第二像素界定层203采用疏水性薄膜层。当在第一像素界定层202和第二像素界定层203界定出的发光区域打印有机发光材料溶液后，由于所述有机发光层的亲水特性，其可以很好地附着在所述第一像素界定层202上，充满所述发光区域的整个底部，不会在后续之制备了阴极后，由于有机发光层的收缩而产生阳极和阴极的短路现象。此外，由于采用负性光阻膜形成第一像素界定层202时，其上形成的多个第一开口204的横截面通常为上窄下宽的正梯形状，为避免在制备阴极时，出现阴极开路的线性，本发明通过在第一像素界定层202上形成具有疏水特性的第二像素界定层203，第二像素界定层203上形成与所述多个第一开口204一一对应的多个第二开口205，且第二开口205的横截面为上宽下窄的倒梯形状。这样，就能很好的避免在有机发光层上方形成阴极时出现开路现象。

可选地，所述第一像素界定层202形成在基板201上。

可选地，所述第一像素界定层202的厚度小于所述第二像素界定层203的厚度。所述第一像素界定层202上形成的多个第一开口204主要是用于填充有机发光层材料，如果第一像素界定层202的厚度太厚，以致大于有机发光层的厚度，这样在形成阴极层时，同样由于阴极层可能会形成在上窄下宽的第一开口204而出现开路现象。因此第一像素界定层202的厚度最好小于或等于所述有机发光层的厚度，这样阴极层只能形成在上宽下窄的第二开口205区域，不会出现开路。

可选地，所述第一像素界定层202的厚度在之间，其厚度可以在曝光显影形成多个第一开口204后采用等离子灰化(PlasmaAshing)工艺来实现减薄。

可选地，所述多个第一开口204可以采用曝光显影工艺形成。由于所述第一像素界定层202采用亲水性的负性光阻薄膜形成，在曝光显影后，形成的第一开口204的横截面通常为上窄下宽的正梯形状。当然，所述第一像素界定层202采用其他亲水性的材料形成时，在某些的生长环境和参数下，形成的第一开口204的横截面也为上窄下宽的正梯形状。

可选地，所述第二像素界定层203的厚度在之间。

可选地，所述多个第二开口205可采用曝光显影工艺形成。由于所述第二像素界定层203采用疏水性的正性光阻薄膜形成，在曝光显影后，形成的第二开口205的横截面通常为上宽下窄的倒梯形状。

显示面板的制作中，在形成第一像素界定层202和第二像素界定层203后，可以在第一开口204区域打印有机发光材料溶液而形成有机发光层，由于所述有机发光材料溶液具有亲水特性，与具有亲水性的第一像素界定层202有很好的结合力，因此可以填充满整个所述第一开口204内部，从而避免了有机发光材料溶液的收缩造成的阴极与阳极的短路现象。

在制备形成有机发光层后，在其上蒸镀金属而形成阴极层。由于所述第二像素界定层203上形成的第二开口205为上宽下窄的倒梯形状，因此有效避免了蒸镀阴极金属时造成阴极开路的现象。

本发明提出的上述方案，可以有效避免采用喷墨打印或喷嘴打印制作有机电致发光显示器件时出现的阴极与阳极的短路现象，以及阴极的开路现象。

本发明还提出了一种显示面板，其包括形成在基板上的如上所述的像素界定层。

其中，所述第一像素界定层202的多个第一开口204形成有各个子像素单元的有机发光层，所述有机发光层的厚度等于或大于所述第一像素界定层202的厚度。如图2(b)所示，其中206为阳极层，207为发光层，208为阳极层。从图上可以看出，本发明提出的这种方案中，不存在阳极和阴极短路的现象，也不存在阴极开路的现象。

图3示出了本发明实施例提出的一种像素单元的制作方法流程图。图4(a)～(d)示出了本发明实施例提出的一种像素单元的制作工艺流程图。如图3和4所示，该方法包括：

步骤301：在基板上形成一层亲水性薄膜，如图4(a)所示，并对其图形化形成具有与各个子像素单元的发光区域一一对应的多个第一开口204的第一像素界定层202，如图4(b)所示；

可选地，所述基板可以玻璃基板或阵列基板。

可选地，所述步骤301进一步包括：

在所述基板上旋涂或滴涂一层第一预定厚度的负性光阻薄膜，所述第一预定厚度可以根据实际情况确定，最好在之间。当然，也可以在对其图形化形成多个第一开口204后采用等离子灰化(PlasmaAshing)工艺减薄至之间。

在旋涂或滴涂完所述负性光阻薄膜后，对其进行曝光显影，形成与各个子像素单元的发光区域一一对应的多个第一开口204。

由于所述第一像素界定层202采用负性光阻薄膜形成，因此对其曝光显影形成的多个第一开口204的横截面为上窄下宽的正梯形状。

步骤302：在形成有第一像素界定层202的基板上形成一层疏水性薄膜，如图4(c)所示，并对其图形化形成具有与所述多个第一开口204一一对应的多个第二开口205的第二像素界定层203，如图4(d)所示。

可选地，所述步骤302进一步包括：

采用旋涂法或滴涂法在形成有第一像素界定层202的基板上形成一层第二预设厚度的正性光阻膜；

对所述正性光阻膜进行曝光显影，形成与所述多个第一开口204一一对应的多个第二开口205。

由于所述第二像素界定层203采用正性光阻膜形成，因此对其曝光显影形成的第二开口205的横截面为上宽下窄的倒梯形状。

本发明另一实施例中，为了节省工艺，还可以在基板上依次形成亲水性薄膜层和疏水性薄膜层，然后一起对所述亲水性薄膜层和疏水性薄膜层进行构图工艺，形成亲水性薄膜层上的多个第一开口204和疏水性薄膜层上的多个第二开口205。

利用本发明提出的上述方法制成的像素界定层，由于其采用亲水性第一像素界定层202和疏水性第二像素界定层203共同构成像素界定层，且第一像素界定层202上形成了与各个子像素单元的发光区域一一对应的多个第一开口204，第二像素界定层203上形成了与第一开口204一一对应的第二开口205。由于第一像素界定层202的亲水特性，使得亲水性的有机发光材料溶液在第一像素界定层202的多个第一开口204处比较容易展开，能够充满第一开口204，而避免出现阴极和阳极短路的现象；此外，由于第二像素界定层203采用疏水性薄膜制成，在其上形成的第二开口205为上宽下窄的倒梯形状，故避免了阴极开路的现象。

以上所述的具体实施例，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施例而已，并不用于限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (11)

1.一种像素界定层，其包括第一像素界定层和层叠在所述第一像素界定层之上的第二像素界定层；其中，所述第一像素界定层具有与各个子像素单元的发光区域一一对应的多个第一开口，所述第二像素界定层具有与所述多个第一开口一一对应的多个第二开口，所述第一开口的横截面呈上窄下宽的正梯形状，所述第二开口的横截面呈上宽下窄的倒梯形状。

2.如权利要求1所述的像素界定层，其中，所述第一像素界定层为亲水性薄膜层，所述第二像素界定层为疏水性薄膜层。

3.如权利要求2所述的像素界定层，其中，所述亲水性薄膜层为负性光阻膜层，所述疏水性薄膜层为正性光阻膜层。

4.如权利要求1-3任一项所述的像素界定层，其中，所述第一像素界定层的厚度小于所述第二像素界定层的厚度。

5.如权利要求4所述的像素界定层，其中，所述第一像素界定层的厚度在之间，所述第二像素界定层的厚度在之间。

6.一种显示面板，其包括形成在基板上的如权利要求1-5任一项所述的像素界定层。

7.如权利要求6所述的显示面板，其中，所述第一像素界定层的多个第一开口形成有各个子像素单元的有机发光层，所述有机发光层的厚度等于或大于所述第一像素界定层的厚度。

8.一种显示装置，其包括如权利要求6或7所述的显示面板。

9.一种像素界定层的制备方法，其包括：

在基板上形成一层亲水性薄膜，并对其图形化形成具有与各个子像素单元的发光区域一一对应的多个第一开口的第一像素界定层；

在形成有第一像素界定层的基板上形成一层疏水性薄膜，并对其图形化形成具有与所述多个第一开口一一对应的多个第二开口的第二像素界定层。

10.如权利要求9所述的制备方法，其中，所述在基板上形成一层亲水性薄膜，并对其图形化形成具有与各个像素单元的发光区域一一对应的多个第一开口的第一像素界定层，具体为：

采用旋涂法或滴涂法在基板上形成一层第一预设厚度的负性光阻膜；

对所述负性光阻胶进行曝光显影，形成与各个子像素单元的发光区域一一对应的多个第一开口。

11.如权利要求9所述的制备方法，其中，所述在形成有第一像素界定层的基板上形成一层疏水性薄膜，并对其图形化形成具有与所述多个第一开口一一对应的多个第二开口的第二像素界定层，具体为：

采用旋涂法或滴涂法在形成有第一像素界定层的基板上形成一层第二预设厚度的正性光阻膜；

对所述正性光阻膜进行曝光显影，形成与所述多个第一开口一一对应的多个第二开口。