CN112420968A - 一种显示面板的制造方法、显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示面板的制造方法，包括提供衬底基板；通过第一次曝光在衬底基板上形成具有像素坑的第一光阻层，第一光阻层的材料包括混合有光敏材料的负性光阻材料；对第一光阻层进行第二次曝光形成最终光阻层，最终光阻层包括剩余部分的第一光阻层及位于剩余部分的第一光阻层上的第二光阻层，且第一光阻层和第二光阻层的亲水特性不同。本发明的负性光阻材料中混合有光敏材料，在第二次曝光的过程中，负性光阻材料的上层部分接收光照较多，光敏材料在光照条件下发生反应变成疏水特性，而负性光阻材料的下层部分受光照影响较小仍然是亲水特性，当色阻材料注入至像素坑的时候可有效防止墨水溢出像素坑，减小产生混色和mura现象的概率。

Description

一种显示面板的制造方法、显示面板及显示装置

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示面板的制造方法、显示面板及显示装置。

背景技术

平面显示装置具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。而随着信息技术的发展，人们对平面显示装置的需求得到了快速的增长。为了满足这种需求，以液晶显示装置(LCD，Liquid Crystal Display)、等离子体显示器(PDP，PlasmaDisplayPanel)、有机发光显示装置(OLED，Organic Light Emitting Diode)为代表的显示装置都得到了迅猛地发展。

有机发光显示装置由于同时具备自发光、高亮度、宽视角、高对比度、可挠曲、低能耗、不需背光源、反应速度快等特性，因此受到广泛的关注，并作为新一代的显示方式，已开始逐渐取代传统液晶显示装置，被认为是下一代平面显示装置的新兴应用技术，并被广泛应用在手机屏幕、电脑显示器、全彩电视机等领域。有机电致发光器件与传统的液晶显示器不同，其无需背光源，直接在玻璃基板上设置非常薄的有机材料涂层，当有电流通过时，这些有机材料涂层就会发光。

但是，有机电致发光器件在喷墨印刷过程中，像素界定层(Bank结构)对于打印的良率以及后期成膜均匀性非常重要，在喷墨打印过程中墨水溢出像素坑容易造成混色和mura(亮度不均匀)现象。

发明内容

为了解决现有技术中存在的上述问题，本发明提供了一种显示面板的制造方法、显示面板及显示装置。本发明要解决的技术问题通过以下技术方案实现：

一种显示面板的制造方法，包括：

提供衬底基板；

通过第一次曝光在所述衬底基板上形成具有像素坑的第一光阻层，所述第一光阻层的材料包括混合有光敏材料的负性光阻材料；

对所述第一光阻层进行第二次曝光形成最终光阻层，所述最终光阻层包括剩余部分的第一光阻层及位于所述剩余部分的第一光阻层上的第二光阻层，且所述第一光阻层和所述第二光阻层的亲水特性不同。

在本发明的一个实施例中，通过第一次曝光在所述衬底基板上形成具有像素坑的第一光阻层，包括：

在所述衬底基板上涂布混合有光敏材料的负性光阻材料；

利用紫外光对所述混合有光敏材料的负性光阻材料进行第一次曝光形成初始光阻层；

对所述初始光阻层进行显影和刻蚀形成具有像素坑的第一光阻层。

在本发明的一个实施例中，所述紫外光的光照强度为355-375nm。

在本发明的一个实施例中，对所述第一光阻层进行第二次曝光形成最终光阻层，包括：

利用紫外光对所述第一光阻层进行第二次曝光形成最终光阻层。

在本发明的一个实施例中，所述紫外光的光照强度为244-264nm。

在本发明的一个实施例中，所述衬底基板为TFT基板。

在本发明的一个实施例中，所述光敏材料的第一端包括-NCO、-SCO基团中的至少一种，所述光敏材料的第二端包括-NH₂、-OH和-COOH基团中的至少一种。

在本发明的一个实施例中，在对所述第一光阻层进行第二次曝光形成最终光阻层之后，还包括：

将色阻材料注入所述像素坑形成色阻层。

本发明一个实施例还提供一种显示面板，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板上的具有像素坑的最终光阻层，所述最终光阻层的材料包括混合有光敏材料的负性光阻材料，且所述最终光阻层包括第一光阻层及位于所述第一光阻层上的第二光阻层，且所述第一光阻层具有亲水特性、所述第二光阻层具有疏水特性；

所述色阻层位于所述像素坑内。

本发明一个实施例还提供一种显示装置，包括上述任一项实施例所述的显示面板。

本发明的有益效果：

本发明的负性光阻材料中混合有光敏材料，在第二次曝光的过程中，负性光阻材料的上层部分接收光照较多，光敏材料的活性基团在光照条件下发生反应，亲水特性发生变化，变成疏水特性，而负性光阻材料的下层部分受光照影响较小，仍然是亲水特性，使得负性光阻材料上下层的亲疏水特性不一致，当色阻材料注入至像素坑的时候可有效防止墨水溢出像素坑，减小产生混色和mura现象的概率。

以下将结合附图及实施例对本发明做进一步详细说明。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程示意图；

图2a-图2f为本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法的示意图；

图3为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明做进一步详细的描述，但本发明的实施方式不限于此。

实施例一

目前市面上成熟的显示技术为LCD(液晶显示器)技术，而OLED(有机电致发光显示器)、QLED(量子点电致发光显示器)等新型显示技术以自发光所带来的高对比度、高色域、宽视角、低能耗、低反应时间以及其更轻薄的优势被大家所关注。

目前，三星、LG等显示巨头已推出大尺寸OLED电视产品，更有曲面屏OLED电视产品面世。但是，因为大尺寸OLED产品的成本居高不下，市面上量产的OLED显示器还是以小尺寸为主，大尺寸OLED数量较少，面对残酷的市场环境，难以形成竞争优势。限制大尺寸OLED显示器的主要因素为OLED器件的制备。目前主流的OLED显示器件制作一般都采用了蒸镀的工艺，然而这一工艺技术主要面临着良品率和成本的问题。而利用喷墨打印技术(IJP，Ink-Jet Print)制备的OLED显示面板相比于蒸镀工艺是降低生产成本的一个可行方法。这是因为喷墨打印技术具有多方面的优势，一方面的优势是喷墨打印技术的制作工艺十分简单，并且OLED材料的蒸发效率更高，方便进行大批量生产；第二方面的优势是喷墨打印技术能够节省原料，从而降低生产成本；第三方面的优势是相较于传统的蒸镀技术，喷墨打印技术更加的精准，尤其是用来处理大尺寸面板的时候，更加具有优势。

典型的喷墨打印设备具有多个印刷头，分别用于打印不同颜色的聚合物发光材料，每一个都带有数个微型喷嘴，把红、绿、蓝发光材料溶液分别精确地沉积在ITO(IndiumTin Oxide，氧化铟锡)玻璃基板的隔离柱槽中，溶剂挥发后形成纳米薄层(厚度在100纳米左右)，构成发光像素。

虽然喷墨打印技术相较于蒸镀技术更具优势，前景也备受看好，然而，应用喷墨打印技术生产平板显示器还存在一些问题需要解决，比如Bank结构的制备需要进一步优化，以提高印刷器件的分辨率。而在喷墨打印过程中，Bank结构对于打印的良率以及后期成膜均匀性非常重要，在打印过程中墨水溢出像素坑容易造成混色和mura现象。

请参见图1，图1为本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程示意图，为了解决上述问题，本实施例提出了一种显示面板的制造方法，该显示面板的制造方法具体可以包括：

步骤一、提供衬底基板；

步骤二、通过第一次曝光在衬底基板上形成具有像素坑的第一光阻层，第一光阻层的材料包括混合有光敏材料的负性光阻材料；

步骤三、对第一光阻层进行第二次曝光形成最终光阻层，最终光阻层包括剩余部分的第一光阻层及位于剩余部分的第一光阻层上的第二光阻层，且第一光阻层和第二光阻层的亲水特性不同。

具体而言，本实施例首先选取了一衬底基板，之后在第一次曝光和显影条件下在衬底基板上形成具有像素坑的第一光阻层，第一光阻层则是bank结构，该像素坑则是用于注入红色、绿色和蓝色发光材料溶液的结构，且该第一光阻层为负性光阻材料，且该负性光阻材料中混合有光敏材料，经第一次曝光和显影后所形成的第一光阻层为亲水特性结构，之后对第一光阻层进行第二次曝光，在第二次曝光的过程中，第一光阻层的上层部分所接收的光照能量较多，负性光阻材料中的光敏材料对254nm的光比较敏感，在第二次曝光时发生反应，使得第一光阻层的上层部分的亲水特性发生变化，由亲水特性变成了疏水特性，产生该变化的部分即为第二光阻层，即第二光阻层具有疏水特性，而第一光阻层的下层部分则因所吸收的光照能量较少，受到光照影响较小，第一光阻层的下层部分中的光敏材料未发生反应，因此第一光阻层的下层部分的疏水特性未发生变化，第一光阻层的下层部分即为剩余部分的第一光阻层，则剩余部分的第一光阻层与第二光阻层的亲疏水特性不一致，因第二光阻层具有疏水特性，则在利用喷墨打印技术向像素坑注入色阻材料时，则误喷到第二光阻层的顶表面的色阻材料不会在第二光阻层的顶表面停留，而是因第二光阻层的疏水特性流入其对应的像素坑中，不会因为误喷到第二光阻层的顶表面停留，甚至流入相邻的像素坑中造成混色问题，同时因为第一光阻层的下层部分仍然具有亲水特性，因此流入像素坑中的色阻材料则会在像素坑中充分、均匀的铺展，最终防止色阻材料溢出像素坑，从而彻底避免了混色现象，同时还降低了mura现象的发生。同时，本实施例从原料端改善光阻层材料的组成，从而改善第二光阻层的亲疏水特性，不需要增加新的工艺流程和设备，成本较低。

需要说明的是，本发明中显示面板的制造方法只示出了与本发明相关的步骤，在上述步骤之前、之后、之中可能还包括其他步骤，在此本实施例不对其他步骤进行赘述。

实施例二

为了更好的对实施例一的显示面板的制造方法进行说明，本实施例在上述实施例的基础上对显示面板的制造方法进行具体说明。

请参见图2a-图2f，图2a-图2f为本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法的示意图。显示面板的制造方法具体可以包括：

步骤一、提供衬底基板10，该衬底基板10为TFT基板，TFT基板具体可以包括玻璃基板、TFT阵列层、覆盖TFT阵列层的平坦化层、及设于平坦化层上与多个像素区域对应的多个阳极，TFT阵列层具体可以多个TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)、传输扫描信号的扫描信号线(或栅极线)和传输图像信号的图像信号线(或数据线)，TFT分别连接至栅极线和数据线；像素电极，连接至TFT；栅极绝缘层，覆盖栅极线且使之绝缘；以及保护层，覆盖TFT和数据线，且使TFT和数据线绝缘。此处，栅极绝缘层和保护层通常由氮化硅制成。进一步地，TFT包括：栅电极，其为栅极线的一部分；半导体层，其形成沟道部；源电极，其为数据线的一部分；漏电极；栅极绝缘层；保护层；等等。TFT是开关元件，TFT是有源矩阵驱动式有机电致发光显示装置中的主要驱动元件，其根据通过栅极线传输的扫描信号来传输或中断通过数据线传输的图像信号。TFT可为低温多晶硅(LTPS)TFT、氧化物半导体(Oxide)TFT、固相晶化(SPC)TFT、或其他常用于OLED显示器中的TFT。

步骤二、通过第一次曝光在所述衬底基板上形成具有像素坑的第一光阻层，具体可以包括：

步骤2.1、请参见图2b，在衬底基板10上涂布混合有光敏材料的负性光阻材料20，该混合有光敏材料的负性光阻材料20具有亲水特性，光敏材料的表面能比较低，会自动聚集在光阻材料的上层。

进一步地，例如可以利用喷涂工艺、旋涂工艺或其他涂布工艺在衬底基板10上涂布混合有光敏材料的负性光阻材料20，之后通过对混合有光敏材料的负性光阻材料20进行真空干燥、预烘烤、冷却等工艺步骤使混合有光敏材料的负性光阻材料2以固态形式形成于衬底基板10之上。

优选地，光敏材料的含量为负性光阻材料总量的3-6％，且负性光阻材料20的厚度为4-5μm，负性光阻材料20厚度设计根据RGB色阻的填充进行，负性光阻材料20太薄，无法起到限域作用，RGB墨水滴入以后，容易溢出；负性光阻材料20太厚，会造成材料的浪费，增大成本。

步骤2.2、利用紫外光对混合有光敏材料的负性光阻材料20进行第一次曝光形成初始光阻层。

进一步地，请参见图2c，首先在混合有光敏材料的负性光阻材料20上表面涂布一层设置有开口图案的掩膜层30，掩膜层30即为掩膜版，之后利用紫外光在需要形成像素坑的位置进行第一次曝光，经过第一次曝光后混合有光敏材料的负性光阻材料20即形成为初始光阻层，初始光阻层具有亲水特性。

进一步地，第一次曝光的紫外光的光照强度例如可以为355-375nm，紫外光的光照强度为355-375nm时能够保证不改变初始光阻层的亲疏水特性，使其仍然保持为亲水特性，另外还可以在接下来的显影刻蚀中保证形成像素坑，而第一次曝光的紫外光的光照强度过大容易影响初始光阻层的亲疏水特性，而紫外光的光照强度过小容易使得接下来所形成的像素坑不能暴露衬底基板。

优选地，第一次曝光的紫外光的光照强度为365nm，365nm波长的紫外光能量较小，365nm波长的紫外光便可使负光阻中单体发生聚合，并且紫外光的光照强度为365nm能够更加准确的保证在不改变初始光阻层的亲疏水特性的前提下，还能够保证经过显影和刻蚀后所形成的像素坑能够暴露衬底基板。

步骤2.3、请参见图2d，对初始光阻层进行显影和刻蚀形成具有像素坑40的第一光阻层50，经过显影和刻蚀所形成的像素坑40能够暴露出衬底基板10，像素坑40用于对应形成红色像素区域、绿色像素区域和蓝色像素区域，该像素坑40根据需要的颜色分别在红色像素区域、绿色像素区域和蓝色像素区域对应填充红色色阻材料、绿色色阻材料和蓝色色阻材料。

步骤三、对第一光阻层进行第二次曝光形成最终光阻层，具体可以包括：

步骤3.1、利用紫外光对第一光阻层进行第二次曝光形成最终光阻层。

请参见图2e，利用紫外光对第一光阻层的顶表面进行第二次曝光，紫外光照射过程中，因为是从第一光阻层的顶表面进行的照射，因此第一光阻层的顶表面所接收的光照能量最多，而因为第一光阻层中混合有光敏材料，而光敏材料中的活性基团在紫外光的照射下会发生反应，从而使得第一光阻层的亲疏水特性发生变化，使得第一光阻层的上层部分的亲水特性变为疏水特性，变为疏水特性的部分即为第二光阻层60，紫外光的光照强度应该保证仅第一光阻层的上层部分的亲水特性产生变化，而第一光阻层的下层部分的亲水特性则不需产生变化，即应该保证第一光阻层的下层部分所接收的紫外光的光照强度不能对第一光阻层的下层部分产生影响，使第一光阻层的下层部分仍保持为亲水特性，因第二光阻层具有疏水特性，而色阻材料一般具有亲水特性，则在向像素坑中注入色阻材料时，误喷到第二光阻层的顶表面的色阻材料不会在第二光阻层的顶表面停留，而是因第二光阻层的疏水特性流入其对应的像素坑中，不会因为误喷到第二光阻层的顶表面而流入相邻的像素坑中，避免了混色问题的发生，同时因为第一光阻层的下层部分仍然具有亲水特性，因此流入像素坑中的色阻材料则会在像素坑中充分、均匀的铺展，从而可以进一步防止色阻材料溢出像素坑，从而彻底避免了混色现象，同时因像素坑中的色阻材料能够均匀平铺，则可以有效的降低显示面板mura现象的发生。

进一步地，第二次曝光的紫外光的光照强度例如可以为244-264nm，紫外光的光照强度为244-264nm时能够有效的保证第一光阻层的上层部分有亲水特性变为疏水特性，同时还能保证第一光阻层的下层部分的亲水特性不发生变化，从而保证在向像素坑中注入色阻材料时，能够有效避免混色现象的产生，并可以有效的降低显示面板mura现象的发生，而第二次曝光的紫外光的光照强度过大容易使得第一光阻层的下层部分的亲疏水特性也产生变化，过大的紫外光光照强度容易使第一光阻层的下层部分由亲水特性变为疏水特性，由此导致注入像素坑的色阻材料不能注入至像素坑中，从而不能解决容易出现的混色问题和mura现象，而紫外光的光照强度过小容易使得第一光阻层的上层部分的亲疏水特性不产生变化，也不能解决容易出现的混色问题和mura现象。

优选地，第二次曝光的紫外光的光照强度为254nm，254nm波长的紫外光能量较大，光敏材料的两端在254nm波长的紫外光光照强度下发生反应偶联成疏水性基团的效果最佳，紫外光的光照强度为254nm能够更加准确的保证在不改变第一光阻层的下层部分的亲疏水特性的前提下，使得第一光阻层的上层部分由亲水特性变为疏水特性，从而更有效的防止出现混色问题和mura现象的产生。

进一步地，第一光阻层和第二光阻层的厚度比例为第一光阻层：第二光阻层＝8:3-10:3，同时设置光敏材料的含量为负性光阻材料总量的3-6％，且第一光阻层和第二光阻层的总厚度范围为4-5μm，在光照强度为254nm的第二次曝光时，既可保证合适量的色阻墨水滴入像素坑，并被限制在像素坑内，同时还能避免因疏水层过厚，像素坑内不能容纳足够量的色阻溶液。

进一步地，光敏材料的第一端包括-NCO基团、-SCO基团中的至少一种，光敏材料的第二端包括-NH₂基团、-OH基团和-COOH基团中的至少一种，负性光阻材料中的光敏材料在紫外光的光照强度为355-375nm时，光敏材料第一端的-NCO基团和/或-SCO基团与光敏材料第二端的-NH₂基团和/或-OH基团和/或-COOH基团会发生反应，而-NH₂基团、-OH基团和-COOH基团均属于亲水基团，在发生反应之后则变为疏水基团，改变了其亲疏水特性，从而使得第一光阻层的上层部分由亲水特性变为疏水特性。

本实施例通过使第二光阻层变为疏水特性，从原料端改善了bank结构的组成，不需要增加新的工艺流程和设备，使得成本较低。

步骤四、请参见2f，将色阻材料注入像素坑50形成色阻层70；

具体地，利用喷墨打印技术将红色色阻材料、绿色色阻材料和蓝色色阻材料分别注入中对应的像素坑中，对应形成红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层。

需要说明的是，本发明中显示面板的制造方法只示出了与本发明相关的步骤，在上述步骤之前、之后、之中可能还包括其他步骤，在此本实施例不对其他步骤进行赘述。

实施例三

本实施例在上述实施例的基础上还提供一种显示面板，该显示面板是根据上述任一项实施例的制造方法制造而成，请参见图3，该显示面板具体可以包括衬底基板10、具有像素坑50的最终光阻层和色阻层70，其中：

衬底基板10为TFT基板，TFT基板具体可以包括玻璃基板、TFT阵列层、覆盖TFT阵列层的平坦化层、及设于平坦化层上与多个像素区域对应的多个阳极。

最终光阻层位于衬底基板10上，且最终光阻层的材料为混合有光敏材料的负性光阻材料，且最终光阻层包括第一光阻层及位于第一光阻层上的第二光阻层，且第一光阻层和第二光阻层的亲水特性不同，第一光阻层具有亲水特性、第二光阻层具有疏水特性，因第二光阻层位于第一光阻层之上，则在向像素坑中注入色阻材料时，误喷到第二光阻层顶表面的色阻材料不会在第二光阻层的顶表面停留，而是因第二光阻层的疏水特性流入其对应的像素坑中，不会因为误喷到第二光阻层的顶表面而流入相邻的像素坑中，避免了混色问题的发生，同时因为第一光阻层具有亲水特性，因此流入像素坑中的色阻材料则会在像素坑中充分、均匀的铺展，从而可以进一步防止色阻材料溢出像素坑，从而彻底避免了混色现象，同时因像素坑中的色阻材料能够均匀平铺，则可以有效的降低显示面板mura现象的发生。

进一步地，光敏材料的第一端包括-NCO基团、-SCO基团中的至少一种，光敏材料的第二端包括-NH₂基团、-OH基团和-COOH基团中的至少一种。

色阻层70位于像素坑50内，色阻层70包括红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层，每个像素坑50内对应设置红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层中的一种。

需要说明的是，本发明中的显示面板只示出了与本发明相关的结构，本发明的显示面板还包括其他结构，在此本实施例不对其他结构进行赘述。

本发明实施例所提供的显示面板，其实现原理和技术效果与上述实施例所述的显示面板的制造方法类似，在此不再赘述。

实施例四

本发明实施例还提供一种显示装置，该显示装置包括上述实施例所述的显示面板。该显示装置例如可以为：LTPO显示装置、Micro LED显示装置、电子纸、OLED面板、AMOLED面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框等任何具有显示功能的产品或部件。

具体地，请再次参见图2，该显示面板具体可以包括衬底基板10、具有像素坑50的最终光阻层和色阻层70，其中：

衬底基板10为TFT基板，TFT基板具体可以包括玻璃基板、TFT阵列层、覆盖TFT阵列层的平坦化层、及设于平坦化层上与多个像素区域对应的多个阳极。

最终光阻层位于衬底基板10上，且最终光阻层的材料为混合有光敏材料的负性光阻材料，且最终光阻层包括第一光阻层及位于第一光阻层上的第二光阻层，且第一光阻层和第二光阻层的亲水特性不同，第一光阻层具有亲水特性、第二光阻层具有疏水特性。

进一步地，光敏材料的第一端包括-NCO基团、-SCO基团中的至少一种，光敏材料的第二端包括-NH₂基团、-OH基团和-COOH基团中的至少一种。

色阻层70位于像素坑50内，色阻层70包括红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层，每个像素坑50内对应设置红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层中的一种。

本发明实施例所提供的显示装置，其实现原理和技术效果与上述实施例所述的显示面板类似，在此不再赘述。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例进行接合和组合。

为使附图图面简洁，各个附图中只示意性地表示出了与本发明相关的部分，它们并不代表其作为产品的实际结构。另外，以使图面简洁便于理解，在有些图中具有相同结构或功能的部件，仅示意性地绘示了其中的一个，或仅标出了其中的一个。在本文中。“一个”不仅表示“仅此一个”，也可以表示“多于一个”的情形。

以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括：

提供衬底基板；

通过第一次曝光在所述衬底基板上形成具有像素坑的第一光阻层，所述第一光阻层的材料包括混合有光敏材料的负性光阻材料；

对所述第一光阻层进行第二次曝光形成最终光阻层，所述最终光阻层包括剩余部分的第一光阻层及位于所述剩余部分的第一光阻层上的第二光阻层，且所述第一光阻层和所述第二光阻层的亲水特性不同。

2.根据权利要求1所述的显示面板的制造方法，其特征在于，通过第一次曝光在所述衬底基板上形成具有像素坑的第一光阻层，包括：

在所述衬底基板上涂布混合有光敏材料的负性光阻材料；

利用紫外光对所述混合有光敏材料的负性光阻材料进行第一次曝光形成初始光阻层；

对所述初始光阻层进行显影和刻蚀形成具有像素坑的第一光阻层。

3.根据权利要求2所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述紫外光的光照强度为355-375nm。

4.根据权利要求1所述的显示面板的制造方法，其特征在于，对所述第一光阻层进行第二次曝光形成最终光阻层，包括：

利用紫外光对所述第一光阻层进行第二次曝光形成最终光阻层。

5.根据权利要求4所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述紫外光的光照强度为244-264nm。

6.根据权利要求1所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述衬底基板为TFT基板。

7.根据权利要求1所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述光敏材料的第一端包括-NCO、-SCO基团中的至少一种，所述光敏材料的第二端包括-NH₂、-OH和-COOH基团中的至少一种。

8.根据权利要求1所述的显示面板的制造方法，其特征在于，在对所述第一光阻层进行第二次曝光形成最终光阻层之后，还包括：

将色阻材料注入所述像素坑形成色阻层。

9.一种显示面板，其特征在于，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板上的具有像素坑的最终光阻层，所述最终光阻层的材料包括混合有光敏材料的负性光阻材料，且所述最终光阻层包括第一光阻层及位于所述第一光阻层上的第二光阻层，且所述第一光阻层具有亲水特性、所述第二光阻层具有疏水特性；

所述色阻层位于所述像素坑内。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的显示面板。

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