CN104178816B - 一种蓝宝石晶片褪镀工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种蓝宝石晶片褪镀工艺,用于蓝宝石加工过程中的褪镀返工,包括如下步骤:第一步、高温脱墨;第二步、降温;第三步、使用碱性光学玻璃清洗剂进行清洗脱膜;第四步、使用去离子水漂洗;第五步、使用碱性水基环保清洗剂清洗;第六步、使用柠檬酸溶液浸泡去残留;第七步、使用去离子水二次漂洗。本发明避免采用强酸溶剂通过氧化还原进行褪镀,通过新型的清洗剂结合加热处理,实现蓝宝石镜片表面镀层的物理剥离,褪镀效果好,有效解决了现有技术中蓝宝石晶片难以褪镀返工、褪镀成本高的问题,具有环保、安全的优点。
Description
技术领域
本发明属于蓝宝石加工技术领域,具体涉及一种蓝宝石晶片褪镀工艺。
背景技术
在蓝宝石晶片生产中,由于镀膜、丝印等工艺不合格,需要对蓝宝石晶片表面的油墨及镀层进行褪镀处理,然后进行重新镀膜、丝印。
现有的蓝宝石褪镀技术,通常采用无机酸腐蚀、强氧化还原反应、和有机溶剂浸泡等方法的来祛除蓝宝石表面的油墨及镀层,由于蓝宝石油墨附着力强,往往出现褪镀不干净的现象,影响重新镀膜、丝印的效果。同时,由于褪镀使用的溶剂具有高强度的腐蚀性,因此对褪镀处理的设备要求较高,要求耐强酸强碱,另因使用到的都是强酸和具体刺激性气味的化学品,对员工的操作和废液处理带来了极大的安全隐患和环境影响,同时也导致褪镀的成本较高,甚至褪镀的成本超过了褪镀处理的蓝宝石晶片本身的价值。
发明内容
本发明解决的技术问题是:提供一种高品质,安全环保的蓝宝石镜片褪镀工艺,用以解决传统强腐蚀性酸碱溶剂对蓝宝石晶片褪镀存在的成本高、安全隐患高和环境影响大的技术缺陷。
本发明采用如下技术方案实现:一种蓝宝石晶片褪镀工艺,包括如下步骤:
第一步、高温脱墨,将蓝宝石晶片加热至450~480℃,利用高温将油墨炭化,从而达到物理分离的效果;
第二步、降温,将蓝宝石晶片的温度降至80~100℃,为了方便后续运转物料,防止高温烫伤;
第三步、脱膜,使用质量比100%的碱性光学玻璃清洗剂对蓝宝石晶片进行清洗,有效袪除产品表面镀层;
第四步、漂洗,使用去离子水对蓝宝石晶片进行漂洗,去除产品表面具有腐蚀的清洗液残留;
第五步、清洗,使用质量比为10~15%的碱性水基环保清洗剂对蓝宝石晶片进行清洗,有效去除产品表面脏污;
第六步、去残留,使用柠檬酸溶液对蓝宝石晶片进行浸泡,有效中和碱性清洗剂;
第七步、二次漂洗,使用去离子水对蓝宝石晶片进行漂洗,去除表面清洗液残留。
进一步的,所述第一步中的高温脱墨采用加压炉对蓝宝石晶片进行加热,并保温120~140min。
进一步的,所述第二步中的降温采用降温罩对蓝宝石晶片进行降温。
进一步的,所述第三步中,将碱性光学玻璃清洗剂加热至110~120℃对蓝宝石晶片进行清洗。
进一步的,所述第三步在超声波清洗机中进行,在40kHz的超声波环境下清洗90~100min。
进一步的,所述第五步中,将碱性水基环保清洗剂加热至80℃对蓝宝石晶片进行清洗。
进一步的,所述第五步在超声波清洗机中进行,在40kHz的超声波环境下清洗30~40min。
进一步的,所述第六步中采用质量比为1%的柠檬酸溶液浸泡10~15min。
进一步的,所述第四步和第七步中的漂洗均采用常温去离子水进行,漂洗60~90s。
本发明采用上述技术方案避免采用强酸溶剂对蓝宝石晶片进行褪镀,不通过强氧化还原反应,采用新型的清洗剂结合加热处理,实现蓝宝石镜片表面镀层的剥离,褪镀效果好,有效解决了现有技术中蓝宝石晶片难以褪镀返工、褪镀成本高的问题,具有环保、安全的优点,具有广泛的市场经济价值。
以下结合具体实施方式对本发明做进一步说明。
具体实施方式
实施例
本实施例对Ф5.50mm*0.3mm蓝宝石晶片丝印后进行褪镀返工,褪镀过程中采用的去离子水电阻为18MΩ.cm,超声波清洗机的电流控制在:2.5±0.5A;按以下步骤进行褪镀。
1)高温脱墨:使用加压炉将蓝宝石晶片加热至450~480℃,保温时间120~140min。
2)降温:使用保温罩将蓝宝石晶片的温度降至80~100℃即可。
3)脱膜:将蓝宝石晶片浸入超声波清洗机的清洗槽,采用质量比为100%的碱性光学玻璃清洗剂(采购于广东山之风环保科技有限公司的WIN-19C光学玻璃清洗剂,其主要成分包括氢氧化钠、助剂、表面活性剂)加热至110~120℃,在40kHz的超声波环境下对蓝宝石晶片清洗清洗90~100min。将清洗剂加热是为了防止降温后的蓝宝石晶片遇冷将清洗剂蒸发,并且加热的清洗剂更有利于油墨的脱膜效果。
4)漂洗:将脱膜后的蓝宝石晶片使用常温去离子水漂洗60s~90s。
5)清洗:再次将蓝宝石晶片浸入超声波清洗机的清洗槽,这次采用质量比为10%的弱碱性水基环保清洗剂(采购于广东山之风环保科技有限公司的WIN-152B光学玻璃清洗剂)加热至80℃,在40kHz的超声波环境下对蓝宝石晶片清洗清洗30~40min。
6)清洗去残留:将清洗后的蓝宝石晶片使用质量比为1%的常温柠檬酸溶液浸泡10~15min。
7)二次漂洗:最后将蓝宝石晶片使用常温去离子水再次进行漂洗60~90s即完成蓝宝石的褪镀工艺,检验后即可可进行再次镀膜、丝印。
褪镀后的蓝宝石晶片检视在以下条件下进行:在检验灯光照度为800~1200Lux,产品距眼睛30cm,产品距光源40cm,检验时间为15s,检验角度为:眼睛视线与玻璃表面垂直,上下左右旋转30-75°,要求在检验背景为黑色背景的情况下,采用上述工艺褪镀的蓝宝石晶片均能达到晶片表面无油墨残留,无脏污,水滴角测试在18-22°之间,透光率测试波长范围410nm-750nm的测试平均值≥85T%,即可以满足蓝宝石晶片再次丝印、镀膜工艺要求。
Claims (9)
1.一种蓝宝石晶片褪镀工艺,其特征在于包括如下步骤:
第一步、高温脱墨,将蓝宝石晶片加热至450~480℃;
第二步、降温,将蓝宝石晶片的温度降至80~100℃;
第三步、脱膜,使用质量比100%的碱性光学玻璃清洗剂对蓝宝石晶片进行清洗;
第四步、漂洗,使用去离子水对蓝宝石晶片进行漂洗;
第五步、清洗,使用质量比为10~15%的碱性水基环保清洗剂对蓝宝石晶片进行清洗;
第六步、去残留,使用柠檬酸溶液对蓝宝石晶片进行浸泡;
第七步、二次漂洗,使用去离子水对蓝宝石晶片进行漂洗。
2.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺,其特征在于:所述第一步中的高温脱墨采用加压炉对蓝宝石晶片进行加热,并保温120~140min。
3.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺,其特征在于:所述第二步中的降温采用降温罩对蓝宝石晶片进行降温。
4.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺,其特征在于:所述第三步中,将碱性光学玻璃清洗剂加热至110~120℃对蓝宝石晶片进行清洗。
5.根据权利要求4所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺,其特征在于:所述第三步在超声波清洗机中进行,在40kHz的超声波环境下清洗90~100min。
6.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺,其特征在于:所述第五步中,将碱性水基环保清洗剂加热至80℃对蓝宝石晶片进行清洗。
7.根据权利要求6所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺,其特征在于:所述第五步在超声波清洗机中进行,在40kHz的超声波环境下清洗30~40min。
8.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺,其特征在于:所述第六步中采用质量比为1%的柠檬酸溶液浸泡10~15min。
9.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺,其特征在于:所述第四步和第七步中的漂洗均采用常温去离子水进行,漂洗60~90s。
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