CN114247699A - 晶振片超声波脱膜方法 - Google Patents
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Abstract
本公开提供了一种晶振片超声波脱膜方法，包括以下步骤：步骤一，将晶振片固定于超声晶体篮中；步骤二，将装有晶振片的清洗篮浸没于超声波清洗机的强碱原液清洗槽中，在加热强碱中浸泡；步骤三，将超声装有晶振片的清洗篮置于超声波清洗机的纯水喷淋槽中冲洗；步骤四，将装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号弱碱清洗剂槽中，加热清洗；步骤五，将弱碱清洗后的装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号纯水清洗槽中清洗；步骤六，将装有晶振片的清洗篮置于甩干机中进行甩干，晶振脱膜过程结束。通过本公开的方法，脱膜后的晶振片可重复使用，大大的节约了成本。
Description
技术领域
本发明涉及光学镀膜领域，具体涉及一种晶振片超声波脱膜方法。
背景技术
晶振来源于多面体石英棒，先被切成六面体棒，再经过反复切割和研磨后被做成厚0.23mm，直径13.98mm的圆片，最后经切边、抛光、清洗，镀上金属电极。
利用晶振片监控膜厚，主要是利用了石英晶体的压电效应和质量负荷效应。晶振片压电效应的固有频率取决于其几何尺寸、AT切割和厚度，当晶振片表面镀上某种膜层，则其厚度增大，固有频率将将相应衰减，此效应就是质量负荷效应。晶振片膜厚监控仪就是通过固有频率或与固有频率相关的参量的变化进行监控膜层的厚度。
选择固有频率为5-10MHz，在沉积过程中，基频下降太多，振荡器不能稳定工作，产生跳频现象，如果此时继续沉积膜层，就会出现停振，为了保证振荡稳定和高的灵敏度，晶振上膜层镀到一定厚度以后，就需要更换新的晶振片。
现有处理更换后的旧的晶振片的方式是直接报废处理，严重浪费材料，浪费成本，污染环境。
发明内容
鉴于背景技术中存在的问题，本公开的目的在于提供一种晶振片超声波脱膜方法。
为了实现上述目的，本公开提供了一种晶振片超声波脱膜方法，包括以下步骤：步骤一，将晶振片固定于超声晶体篮中；步骤二，将装有晶振片的清洗篮浸没于超声波清洗机的强碱原液清洗槽中，在加热强碱中浸泡；步骤三，将超声装有晶振片的清洗篮置于超声波清洗机的纯水喷淋槽中冲洗；步骤四，将装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号弱碱清洗剂槽中，加热清洗；步骤五，将弱碱清洗后的装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号纯水清洗槽中清洗；步骤六，将装有晶振片的清洗篮置于甩干机中进行甩干，晶振脱膜过程结束。
在一些实施例中，在步骤二中强碱原液选自WIN-18清洗剂和AK181清洗剂中的一种。
在一些实施例中，在步骤一中，所述强碱原液加热温度为65℃-75℃；
在一些实施例中，在步骤一中，所述超声波清洗时间为40min-60min。
在一些实施例中，在步骤三中，纯水的温度为30℃-45℃；
在一些实施例中，在步骤三中，纯水冲洗5min-10min。
在一些实施例中，在步骤四中，1号、2号、3号弱碱清洗剂槽中的弱碱浓度均为5％-8％。
在一些实施例中，在步骤四中，装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号弱碱清洗剂槽中加热温度均为35℃-50℃。
在一些实施例中，在步骤五中，将弱碱清洗后的装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号纯水清洗槽中清洗时间均为2min-3min。
本公开的有益效果如下：
本申请公开的晶振片超声波脱膜方法，通过对镀膜后的晶振片进行处理，将镀在晶振片上的膜层进行脱膜，脱膜后的晶振片可重复使用，大大的节约了成本。
具体实施方式
下面详细说明根据本公开的晶振片超声波脱膜方法。
本申请公开一种晶振片超声波脱膜方法，包括以下步骤：步骤一，将晶振片固定于超声晶体篮中；步骤二，将装有晶振片的清洗篮浸没于超声波清洗机的强碱原液清洗槽中，在加热强碱中浸泡；步骤三，将超声装有晶振片的清洗篮置于超声波清洗机的纯水喷淋槽中冲洗；步骤四，将装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号弱碱清洗剂槽中，加热清洗；步骤五，将弱碱清洗后的装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号纯水清洗槽中清洗；步骤六，将装有晶振片的清洗篮置于甩干机中进行甩干，晶振脱膜过程结束。
本申请中镀膜的晶振片在加热后的强碱原液中经超声波清洗，清洗剂在超声波作用下渗透至膜层边缘，逐渐软化并溶解膜层，最终达到剥离膜层的目的。
在步骤一中，固定晶振片，以便后续清洗时晶振不会相互接触和碰撞。
在一些实施例中，在步骤二中强碱原液选自WIN-18清洗剂和AK181清洗剂中的一种。
在一些实施例中，在步骤一中，所述强碱原液加热温度为65℃-75℃。在该温度范围内，强碱强碱原液可以渗透膜层，软化并溶解膜层。
在一些实施例中，在步骤一中，所述超声波清洗时间为40min-60min。超声超声波清洗时间在上述范围内能够冲洗掉绝大部分溶解膜层材料。
在步骤二中，不能开启超声波，否则产品会发黑，造成报废。
在一些实施例中，在步骤三中，纯水的温度为30℃-45℃。纯水的温度在上述范围内能够冲洗掉绝大部分溶解膜层材料。
在一些实施例中，在步骤三中，纯水冲洗5min-10min。纯水冲洗时间在上述范围内能够冲洗掉绝大部分溶解膜层材料。
在一些实施例中，在步骤四中，1号、2号、3号弱碱清洗剂槽中的弱碱浓度均为5％-8％。碱性洗剂与水的配置5％-8％为最佳状态，浓度过高会对产品清洗效果反而差，影响超声波的震波强度，使超声波震波受阻，浓度过低产品表面的脏污清洗不干净，达不到使用效果。
在一些实施例中，在步骤四中，装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号弱碱清洗剂槽中加热温度均为35℃-50℃，清洗时间为2min-3min。在该温度范围内清洗2min-3min冲洗残余的膜层材料。
另外，1号、2号、3号弱碱清洗剂槽中加热温度不同，震荡3次其实是3个温度不同的清洗剂槽体。清洗剂温度达到50℃为去污最佳状态，如在一个洗剂槽内清洗3次会占用单槽清洗时间的延长，不利有批量流水线的作业，产能会减少三分之二，并且若在50℃的温度直接到常温的纯水槽内会因温度的差异造成产品的破裂问题。
在一些实施例中，在步骤五中，将弱碱清洗后的装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号纯水清洗槽中清洗时间均为2min-3min。纯水为溢流状态，纯水槽数少于3槽体清洗的产品会产生水迹及脏污。也就是镜片表面的洗剂不能完全漂洗干净，部分的洗剂残留在产品的表面会导致产品表面洁净度不达标，达不到使用的效果。
下面结合实施例，进一步阐述本公开。应理解，这些实施例仅用于说明本公开而不用于限制本公开的范围。
实施例1
步骤一，将晶振片固定于超声晶体篮中；
步骤二，将装有晶振片的清洗篮浸没于超声波清洗机的强碱原液WIN-18清洗槽中，加热强碱原液到70℃中浸泡45min。
步骤三，将超声装有晶振片的清洗篮置于超声波清洗机中30℃纯水喷淋槽中冲洗5min；
步骤四，将装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号50℃、2号45摄氏度、3号35摄氏度弱碱清洗剂槽中；
步骤五，将弱碱清洗后的装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号纯水清洗槽中均清洗2min；
步骤六，将装有晶振片的清洗篮置于甩干机中进行甩干，晶振脱膜过程结束。
脱膜后的晶振使用率为80％。
对比例1
步骤二中，强碱原液使用WIN-18原液与水5∶5配比，其余同实施例1，晶振脱膜使用率20％。
对比例2
步骤二中，强碱原液使用WIN-18原液与水5∶8配比，其余同实施例1，晶振脱膜使用率50％。
对比例4
在步骤三中，纯水温度为10℃，其余同实施例1，晶振脱膜使用率40％。
对比例5
在步骤四中，1号、2号、3号弱碱溶液中浓度均为2％，其余同实施例1，晶振脱膜使用率为40％。
对比例6
在步骤四中，弱碱加热温度为30℃，其余同实施例1，晶振脱膜使用率为40％。
上述公开特征并非用来限制本公开的实施范围，因此，以本公开权利要求所述内容所做的等效变化，均应包括在本公开的权利要求范围之内。
Claims (7)
1.一种晶振片超声波脱膜方法，包括以下步骤：
步骤一，将晶振片固定于超声晶体篮中；
步骤二，将装有晶振片的清洗篮浸没于超声波清洗机的强碱原液清洗槽中，在加热强碱中浸泡；
步骤三，将超声装有晶振片的清洗篮置于超声波清洗机的纯水喷淋槽中冲洗；
步骤四，将装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号弱碱清洗剂槽中，加热清洗；
步骤五，将弱碱清洗后的装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号纯水清洗槽中清洗；
步骤六，将装有晶振片的清洗篮置于甩干机中进行甩干，晶振脱膜过程结束。
2.根据权利要求1所述的晶振片超声波脱膜方法，其特征在于，
在步骤二中强碱原液选自WIN-18清洗剂和AK181清洗剂中的一种。
3.根据权利要求1所述的晶振片超声波脱膜方法，其特征在于，
在步骤一中，所述强碱原液加热温度为65℃-75℃；
在步骤一中，所述超声波清洗时间为40min-60min。
4.根据权利要求1所述的晶振片超声波脱膜方法，其特征在于，
在步骤三中，纯水的温度为30℃-45℃；
在步骤三中，纯水冲洗5min-10min。
5.根据权利要求1所述的晶振片超声波脱膜方法，其特征在于，
在步骤四中，1号、2号、3号弱碱清洗剂槽中的弱碱浓度均为5％-8％。
6.根据权利要求1所述的晶振片超声波脱膜方法，其特征在于，
在步骤四中，装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号弱碱清洗剂槽中加热温度均为35℃-50℃。
7.根据权利要求1所述的晶振片超声波脱膜方法，其特征在于，
在步骤五中，将弱碱清洗后的装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号纯水清洗槽中清洗时间均为2min-3min。
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Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101708497A (zh) * | 2009-12-11 | 2010-05-19 | 廊坊中电大成电子有限公司 | 石英晶体频率片清洗方法 |
| CN102029272A (zh) * | 2010-11-10 | 2011-04-27 | 江苏淘镜有限公司 | 一种光学镜片的洗液方法 |
| CN104178816A (zh) * | 2014-08-08 | 2014-12-03 | 蓝思科技股份有限公司 | 一种蓝宝石晶片褪镀工艺 |
| CN104259128A (zh) * | 2014-08-01 | 2015-01-07 | 苏州普京真空技术有限公司 | 一种晶振片清洗方法 |
| CN109047160A (zh) * | 2018-08-07 | 2018-12-21 | 湖南普照信息材料有限公司 | 一种掩膜版玻璃基板的清洗方法 |
| CN111627795A (zh) * | 2019-02-28 | 2020-09-04 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 一种清洗晶振片的方法 |
| CN111940394A (zh) * | 2020-07-17 | 2020-11-17 | 上海富乐德智能科技发展有限公司 | 半导体高阶制程apc装置的石英部件再生清洗方法 |
| CN213529921U (zh) * | 2020-11-02 | 2021-06-25 | 芮城县通泰电子有限公司 | 一种晶振片回收装置 |
| CN113210349A (zh) * | 2021-05-10 | 2021-08-06 | 南通瑞景光电科技有限公司 | 光学元件的高效清洗工艺 |
| CN113651542A (zh) * | 2021-09-16 | 2021-11-16 | 安徽光智科技有限公司 | 石英舟或石英管表面镀膜的方法 |
-
2021
- 2021-12-13 CN CN202111526982.4A patent/CN114247699A/zh active Pending
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101708497A (zh) * | 2009-12-11 | 2010-05-19 | 廊坊中电大成电子有限公司 | 石英晶体频率片清洗方法 |
| CN102029272A (zh) * | 2010-11-10 | 2011-04-27 | 江苏淘镜有限公司 | 一种光学镜片的洗液方法 |
| CN104259128A (zh) * | 2014-08-01 | 2015-01-07 | 苏州普京真空技术有限公司 | 一种晶振片清洗方法 |
| CN104178816A (zh) * | 2014-08-08 | 2014-12-03 | 蓝思科技股份有限公司 | 一种蓝宝石晶片褪镀工艺 |
| CN109047160A (zh) * | 2018-08-07 | 2018-12-21 | 湖南普照信息材料有限公司 | 一种掩膜版玻璃基板的清洗方法 |
| CN111627795A (zh) * | 2019-02-28 | 2020-09-04 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 一种清洗晶振片的方法 |
| CN111940394A (zh) * | 2020-07-17 | 2020-11-17 | 上海富乐德智能科技发展有限公司 | 半导体高阶制程apc装置的石英部件再生清洗方法 |
| CN213529921U (zh) * | 2020-11-02 | 2021-06-25 | 芮城县通泰电子有限公司 | 一种晶振片回收装置 |
| CN113210349A (zh) * | 2021-05-10 | 2021-08-06 | 南通瑞景光电科技有限公司 | 光学元件的高效清洗工艺 |
| CN113651542A (zh) * | 2021-09-16 | 2021-11-16 | 安徽光智科技有限公司 | 石英舟或石英管表面镀膜的方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 水边鹤: "《百度文库》", 12 April 2010 * |
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