CN106378334A - 精密光学元件的超声清洗方法 - Google Patents

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朱美萍
孙建
易葵
邵建达
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Abstract

一种精密光学元件的超声清洗方法，所述工艺依次包括去离子水喷淋、去离子水超声清洗、去离子水喷淋、去离子水漂洗、切水、烘干工艺，所述的去离子水超声清洗是在40KHz‑270KHz中选择多个不同频率的超声清洗3‑5分钟，清洗温度为50‑60°；清洗时超声时间3‑5min，温度为50‑60°。本发明采用多频段超声加温清洗，利用不同频率的超声波所能清洗的最有效颗粒的对应关系，全面去除光学精密元件表面残留的污染物，提高了元件表面的清洁度，增强了光学元件的抗激光损伤等应用能力。

Description

精密光学元件的超声清洗方法
技术领域
本发明属于精密光学元件的加工领域，特别是一种精密光学元件的超声清洗方法。
背景技术
超声波清洗原理是利用超声场所产生强大的作用力，促使物质发生一系列物理、化学变化，以及超声波空穴效应产生的机械力作用去除污染物而达到清洗目的。为了保证清洗手段对光学元件有高效的洁净能力又不损坏光学元件，多采用超声波清洗光学元件的方法。超声波清洗工艺已经成为光学零件加工过程中的重要工艺环节。特别是对于光学镀膜元件来说，玻璃基底的清洁程度是影响镀膜产品质量好坏的关键因素之一，确保光学零件在镀膜前的洁净度，降低薄膜内的杂质污染物，提高光学薄膜的抗激光损伤能力至关重要。
发明内容
本发明的目的是提供一种精密光学元件的超声清洗方法，该方法对玻璃基板无损伤，能有效进行光学元件表面清洗的超声清洗工艺。采用40KHz-270KHz的多频超声加温清洗工艺，对光学元件实现高效安全的清洗，清洗效果好，提升了精密光学元件的性能。
为实现上述目的，本发明的技术解决方案如下：
一种精密光学元件的超声清洗方法，该方法依次包括去离子水喷淋、去离子水超声清洗、去离子水喷淋、去离子水漂洗、切水、烘干的步骤，其特点在于所述的去离子水超声清洗是在40KHz-270KHz中选择多个不同频率的超声清洗3-5分钟，清洗温度为50-60°。
本发明的优点在于：采用40KHz-270KHz的多频超声加温清洗工艺，对光学元件实现高效安全的清洗，清洗效果好，提升了精密光学元件的性能。
附图说明
图1为本发明精密光学元件的超声清洗工艺的流程图
具体实施方式
实施例1
本发明精密光学元件的超声清洗工艺，包括下列步骤
(1)去离子水喷淋10分钟，去除表面灰尘、杂质，并达到湿润表面目的；
(2)碱液超声清洗，频率分别为40KHz、80KHz、120KHz、140KHz、170KHz、220KHz、270KHz，时间均设为3分钟，清洗温度60°，清洗表面有机物；
(3)去离子水喷淋，时间3-5分钟，冲洗残留的清洗剂；
(4)去离子水超声漂洗，频率分别为80KHz、120KHz、140KHz、170KHz、220KHz、270KHz，时间均为3分钟，清洗温度60°，对元件表面进行再次清洗；
(5)从清洗槽中提出基片，切水25分钟；
(6)基片烘干处理，红外烘烤5分钟。
试验采用Ф50×5mm的光学元件尺寸进行清洗试验，光学元件清洗前后的洁净度在暗室中采用100W强光灯检查元件表面颗粒污染物。
实施例2
本实施例在实施例1的基础上，改变超声清洗时间，将时间设为5min，温度为60°不变。
实施例3
本实施例在实施例1的基础上，改变超声清洗温度，将温度设为50°，清洗时间不变，仍为3分钟。
实施例4
本实施例在实施例1的基础上，同时改变超声清洗温度和清洗时间，将温度设为50°，清洗时间为5分钟。
实施例5
本实施例在实施例1的基础上，仅选用频率分别为40KHz、80KHz、120KHz、170KHz、220KHz、时间均设为3分钟，清洗温度60°，清洗表面有机物。
下面表1为本发明超声清洗与目前40KHz单频超声清洗后的效果比较，分别对10个样品进行电性能测试后得出的结果：
表1
由表1可知，在选用超声洗3-5分钟，将清洗温度设为50°-60°，超声清洗后基片表面的清洁度好，无明显的颗粒污染物，达到镀膜等其他工序的要求。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (1)

1.一种精密光学元件的超声清洗方法，该方法依次包括去离子水喷淋、去离子水超声清洗、去离子水喷淋、去离子水漂洗、切水、烘干的步骤，其特征在于所述的去离子水超声清洗是在40KHz-270KHz中选择多个不同频率的超声清洗3-5分钟，清洗温度为50-60°。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109719082A (zh) * 2019-01-14 2019-05-07 深圳市隆利科技股份有限公司 导光板清洗方法
CN110665888A (zh) * 2019-11-12 2020-01-10 萍乡市昊磁电子有限公司 一种超声波清洗生产工艺
CN111085497A (zh) * 2019-12-18 2020-05-01 武汉百臻半导体科技有限公司 一种多晶硅片清洗系统及其清洗方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1382708A2 (en) * 2002-07-03 2004-01-21 OMC Scientific Research Limited Surface recovery of contaminated deposition tools
CN103042008A (zh) * 2012-12-25 2013-04-17 同济大学 一种激光薄膜元件用光学基板的清洗方法
US20140182628A1 (en) * 2012-12-28 2014-07-03 Ebara Corporation Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method
CN104259132A (zh) * 2014-07-29 2015-01-07 蓝思科技股份有限公司 一种蓝宝石晶片清洗工艺
JP2015202441A (ja) * 2014-04-11 2015-11-16 株式会社ジェイテクト リング状のワークの洗浄装置
CN205289107U (zh) * 2015-11-18 2016-06-08 无锡科诺达电子有限公司 一种蓝宝石清洗装置
CN105710070A (zh) * 2014-12-05 2016-06-29 王丽香 一种液晶屏清洗方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1382708A2 (en) * 2002-07-03 2004-01-21 OMC Scientific Research Limited Surface recovery of contaminated deposition tools
CN103042008A (zh) * 2012-12-25 2013-04-17 同济大学 一种激光薄膜元件用光学基板的清洗方法
US20140182628A1 (en) * 2012-12-28 2014-07-03 Ebara Corporation Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method
JP2015202441A (ja) * 2014-04-11 2015-11-16 株式会社ジェイテクト リング状のワークの洗浄装置
CN104259132A (zh) * 2014-07-29 2015-01-07 蓝思科技股份有限公司 一种蓝宝石晶片清洗工艺
CN105710070A (zh) * 2014-12-05 2016-06-29 王丽香 一种液晶屏清洗方法
CN205289107U (zh) * 2015-11-18 2016-06-08 无锡科诺达电子有限公司 一种蓝宝石清洗装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109719082A (zh) * 2019-01-14 2019-05-07 深圳市隆利科技股份有限公司 导光板清洗方法
CN110665888A (zh) * 2019-11-12 2020-01-10 萍乡市昊磁电子有限公司 一种超声波清洗生产工艺
CN111085497A (zh) * 2019-12-18 2020-05-01 武汉百臻半导体科技有限公司 一种多晶硅片清洗系统及其清洗方法

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