CN109541895A - 一种基于lcd生产中铬板的清洗方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种铬板的清洗方法，特别是一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一，建立一个预清洗设备，在预清洗设备中放入清洗液，用清洗液对铬板预清洗，步骤二，用大量温纯水冲洗去清洗液及污染物，步骤三，提供铬板清洗机，步骤四，采用IPA/D.I冲洗、刷洗、高压喷淋等工艺清洗。本发明的工艺条件相对宽松，既满足清洗效果又能减少版才及产品损失，提高了工作效率。

Description

一种基于LCD生产中铬板的清洗方法
技术领域
本发明涉及一种铬板的清洗方法，特别是一种基于LCD生产中铬板的清洗方法。
背景技术
LCD制造技术主要包括形成ITO电极图形的光刻技术、形成取向层的液晶分子取向技术、形成液晶盒的装配技术。ITO透明电极的形成图案复杂且精细时，基板表面要全部覆盖透明电极，然后在其表面涂覆光刻胶，用图案掩膜覆盖后经曝光、显影、刻蚀、脱模形成透明电极。在ITO电极图形形成过程的包帮工序使用铬板，铬板使用时如果清洗不干净会造成产品短路不良，处理时消耗大量时间和精力，对生产效率造成很大影响。目前的铬板清洁处理是将铬板置于洁净工作台，用无尘布蘸IPA或者丙酮沿一个方向轻轻擦拭，每擦拭一次要检查无尘布表面是否干净，这种方法是人工操作，可靠性差，一次清洁难以保证满足需求，需多次反复清洗多次，严重影响生产效率，成为产能制约。而单纯用铬板清洗机清洗又会造成铬层脱落，参数安全设置下又会产生换线时间长，效率低的问题。
发明内容
本发明的目的是为克服现有技术的不足而提供一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，该方法能够极大改善清洗效果，提高生产率。
本发明提供的一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，包括以下步骤：
步骤一，建立一个预清洗设备，在预清洗设备中放入清洗液，用清洗液对铬板预清洗；
步骤二，用大量温纯水冲洗去清洗液及污染物；
步骤三，提供铬板清洗机；
步骤四，采用IPA/D.I冲洗、刷洗、高压喷淋等工艺清洗。
本发明提供的一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，所述步骤一中的清洗液是低浓度的碱性清洗液，所述清洗液按体积百分比由下述组分组成：胺碱３０％～４５％，非离子表面活性剂１％～５％。
本发明提供的一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，所述步骤一中用清洗液对铬板预清洗，是用清洗液对铬板进行浸泡和循环喷淋清洗。
本发明提供的一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，所述浸泡水温度为20-30度或40-60度，所述浸泡时间为10-20分钟。
本发明提供的一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，所述循环喷淋时间为3-6分钟。
本发明提供的一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，所述步骤二的大量纯水的温度为20-30度，温纯水冲洗时间为5-10分鈡。
本发明提供的一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，所述步骤三中铬板清洗机含有冲洗系统和清洁系统，所述冲洗系统包括放置铬板的清洗槽和设于清洗槽上方对铬板进行冲洗的纯水喷淋机构，所述清洁系统包括设于甩干槽内对铬板进行水迹甩干的离心装置。
本发明与现有技术相比其显著优点：
1、清洗过程中不会出现铬层脱落现象，既达到清理要求又使铬板免遭破坏。
2.生产换线时间缩短，效率得到很大提高。
具体实施方式
下面结合具体实施方式，进一步对本发明作进一步的详细描述。
实施例一
本发明提供的一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，包括以下步骤：
步骤一：建立一预清洗设备，在预清洗设备中放入清洗液，所述清洗液按体积百分比由下述部分组成：胺碱３０％，非离子表面活性剂１％。用清洗液对铬板预清洗，首先将铬板完全浸泡在清洗液中，所述浸泡水温度为20，所述浸泡时间为10分钟，浸泡完后，使用清洗液循环喷淋铬板，喷淋时间为3分钟。
步骤二：循环喷淋结束后，排空清洗设备中所有液体，用大量温纯水喷淋铬板，温度为20度，喷淋时间为5分鈡，洗去铬板上的清洗液及污染物；
步骤三：提供一铬板清洗机，所述铬板清洗机含有冲洗系统和清洁系统，所述冲洗系统包括放置铬板的清洗槽和设于清洗槽上方对铬板进行冲洗的纯水喷淋机构，所述清洁系统包括设于甩干槽内对铬板进行水迹甩干的离心装置。
步骤四：将铬板放入铬板清洗机其中一个清洗槽中，加入IPA清洗液，铬板放入其中浸泡3分钟，然后晃动刷洗5分钟，然后在第二各清洗槽中放入高纯水，加热至50℃，将铬板从一槽拿出放入二槽，浸泡洗去清洗液，再用铬板清洗机中的纯水喷淋机构对铬板进行高压喷淋，为了避免铬层脱落机器设定参数，转速不超过1000r/min,喷射压力低于0.5X105Pa.，最后使用离心装置对铬板进行离心甩干。
实施例二
本发明提供的一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，包括以下步骤：
步骤一：建立一预清洗设备，在预清洗设备中放入清洗液，所述清洗液按体积百分比由下述部分组成：胺碱４５％，非离子表面活性剂５％。用清洗液对铬板预清洗，首先将铬板完全浸泡在清洗液中，所述浸泡水温度为60，所述浸泡时间为20分钟，浸泡完后，使用清洗液循环喷淋铬板，喷淋时间为6分钟。
步骤二：循环喷淋结束后，排空清洗设备中所有液体，用大量温纯水喷淋铬板，温度为30度，喷淋时间为10分鈡，洗去铬板上的清洗液及污染物；
步骤三：提供一铬板清洗机，所述铬板清洗机含有冲洗系统和清洁系统，所述冲洗系统包括放置铬板的清洗槽和设于清洗槽上方对铬板进行冲洗的纯水喷淋机构，所述清洁系统包括设于甩干槽内对铬板进行水迹甩干的离心装置。
步骤四：将铬板放入铬板清洗机其中一个清洗槽中，加入IPA清洗液，铬板放入其中浸泡10分钟，然后晃动刷洗5分钟，然后在第二各清洗槽中放入高纯水，加热至60℃，将铬板从一槽拿出放入二槽，浸泡洗去清洗液，再用铬板清洗机中的纯水喷淋机构对铬板进行高压喷淋，为了避免铬层脱落机器设定参数，转速不超过1000r/min,喷射压力低于0.5X105Pa.，最后使用离心装置对铬板进行离心甩干。

Claims (5)

1.一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，其特征在于；包括以下步骤：
步骤一，建立一个预清洗设备，在预清洗设备中放入清洗液，用清洗液对铬板进行浸泡和循环喷淋清洗，进行对铬板预清洗；
步骤二，用大量温纯水冲洗去清洗液及污染物；
步骤三，提供铬板清洗机，所述铬板清洗机含有冲洗系统和清洁系统，所述冲洗系统包括放置铬板的清洗槽和设于清洗槽上方对铬板进行冲洗的纯水喷淋机构，所述清洁系统包括设于甩干槽内对铬板进行水迹甩干的离心装置；
步骤四，采用IPA/D.I冲洗、刷洗、高压喷淋等工艺清洗。
2.根据权利要求1所述的一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，其特征在于，所述步骤一中的清洗液是低浓度的碱性清洗液，所述清洗液按体积百分比由下述组分组成：胺碱３０％～４５％，非离子表面活性剂1％～５％。
3.根据权利要求1所述的一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，其特征在于，所述预清洗中浸泡水温度为20-30度或40-60度，所述浸泡时间为10-20分钟。
4.根据权利要求3所述的一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，其特征在于，所述循环喷淋时间为3-6分钟。
5.根据权利要求1所述的一种基于LCD生产中铬板的清洗方法，其特征在于，所述步骤二的大量纯水的温度为20-30度，温纯水冲洗时间为5-10分鈡。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110449398A (zh) * 2019-07-02 2019-11-15 成都拓维高科光电科技有限公司 一种掩膜版精密再生工艺及其系统

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