CN104024996B - 触摸面板和带触摸面板的显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明能够得到具有能够将配线和端子稳定地连接的端子构造的触摸面板的结构。触摸面板具备：绝缘性的基板(10)；在上述基板(10)上形成的在第一方向延伸的第一电极；在上述基板(10)上形成的在与上述第一方向交叉的第二方向延伸的第二电极；将上述第一电极和上述第二电极相互绝缘的第一绝缘膜(15)；在上述基板(10)上形成的端子部(18)；和将上述第一电极以及上述第二电极与上述端子部(18)电连接的配线(14)。上述端子部(18)包括：与上述配线(14)的下表面接触地形成的第一导电膜(181)；和与上述第一导电膜(181)的上表面接触地形成的第二导电膜(182)，上述第二导电膜(182)与上述配线(14)仅在上述配线(14)的侧面部接触。

Description

触摸面板和带触摸面板的显示装置
技术领域
本发明涉及触摸面板和带触摸面板的显示装置，更详细地说，涉及触摸面板的端子的构造。
背景技术
触摸面板与显示装置重叠使用。因此，在显示区域中形成的传感电极通常由氧化铟锡(ITO：Indium Tin Oxide)、氧化铟锌(IZO：IndiumZinc Oxide)等的透明导电膜形成。
另一方面，在显示区域以外的边框区域中，有使用电阻低的金属配线的情况。但是，金属配线当曝露于大气或水分时会腐蚀。因此，当金属配线露出时，存在长期可靠性差的情况。
日本特开2004-61687号公报中公开了一种液晶显示装置用基板，其具有：多个总线；在总线上形成的绝缘树脂层；在绝缘树脂层上形成的像素电极；与像素电极和总线连接的薄膜晶体管；和将外部电路与总线电连接的外部连接端子。
该液晶显示装置用基板具备：与总线电连接的第一端子电极；在第一端子电极的外周部上的至少一部分形成的构造物；在第一端子电极和构造物上形成的第二端子电极；和将第一端子电极和第二端子电极连接的电极连接改换区域。在此，构造物由与绝缘树脂层不同的形成材料形成，第二端子电极由与像素电极相同的形成材料形成。
上述文献中记载有：构造物由与树脂绝缘层不同的形成材料形成，由此，能够密合良好地形成第二端子电极和构造物。
发明内容
在上述结构中，在第二端子电极由金属形成的情况下，根据金属的种类的不同，存在发生腐蚀，长期可靠性差的情况。
另一方面，在第二端子电极由ITO或IZO等的透明电极膜形成的情况下，这些材料的电阻高成为问题。特别是，在端子的截面积小的情况下，电阻变高。另外，在配线与透明电极的接触面积小的情况下，接触电阻变高。这些成为使触摸面板的灵敏度下降的原因。
本发明的目的是得到具有能够将配线和端子稳定地连接的端子构造的触摸面板的结构。
在此公开的触摸面板具备：绝缘性的基板；在上述基板上形成的在第一方向延伸的第一电极；在上述基板上形成的在与上述第一方向交叉的第二方向延伸的第二电极；将上述第一电极和上述第二电极相互绝缘的第一绝缘膜；在上述基板上形成的端子部；和将上述第一电极以及上述第二电极与上述端子部电连接的配线。上述端子部包括：与上述配线的下表面接触地形成的第一导电膜；和与上述第一导电膜的上表面接触地形成的第二导电膜，上述第二导电膜与上述配线仅在上述配线的侧面部接触。
根据本发明，能够得到具有能够将配线和端子稳定地连接的端子构造的触摸面板的结构。
附图说明
图1是表示本发明的一个实施方式的带触摸面板的显示装置的概略结构的截面图。
图2是表示本发明的第一实施方式的触摸面板的概略结构的平面图。
图3是沿图2的A-A’线和B-B’线的各线的截面图。
图4是表示第一实施方式的端子部的概略结构的平面图。
图5是沿图4的C-C’线、D-D’线和E-E’线的各线的截面图。
图6A是用于对本发明的第一实施方式的触摸面板的制造方法进行说明的截面图。
图6B是用于对本发明的第一实施方式的触摸面板的制造方法进行说明的截面图。
图6C是用于对本发明的第一实施方式的触摸面板的制造方法进行说明的截面图。
图6D是用于对本发明的第一实施方式的触摸面板的制造方法进行说明的截面图。
图6E是用于对本发明的第一实施方式的触摸面板的制造方法进行说明的截面图。
图6F是用于对本发明的第一实施方式的触摸面板的制造方法进行说明的截面图。
图7是表示比较例的端子部的概略结构的平面图。
图8是沿图7的C-C’线、D-D’线和E-E’线的各线的截面图。
图9是表示本发明的第一实施方式的变形例的触摸面板的概略结构的平面图。
图10是沿图9的A-A’线和B-B’线的各线的截面图。
图11A是用于对本发明的第一实施方式的变形例的触摸面板的制造方法进行说明的截面图。
图11B是用于对本发明的第一实施方式的变形例的触摸面板的制造方法进行说明的截面图。
图11C是用于对本发明的第一实施方式的变形例的触摸面板的制造方法进行说明的截面图。
图11D是用于对本发明的第一实施方式的变形例的触摸面板的制造方法进行说明的截面图。
图11E是用于对本发明的第一实施方式的变形例的触摸面板的制造方法进行说明的截面图。
图11F是用于对本发明的第一实施方式的变形例的触摸面板的制造方法进行说明的截面图。
图12是表示本发明的第二实施方式的端子部的概略结构的平面图。
图13是沿图12的C-C’线、D-D’线和E-E’线的各线的截面图。
图14是表示本发明的第三实施方式的端子部的概略结构的平面图。
图15是沿图14的C-C’线、D-D’线和E-E’线的各线的截面图。
图16是表示本发明的第四实施方式的端子部的概略结构的平面图。
图17是沿图16的C-C’线、D-D’线和E-E’线的各线的截面图。
图18是表示本发明的另一个实施方式的触摸面板的概略结构的平面图。
图19是沿图18的A-A’线和B-B’线的各线的截面图。
图20是表示本发明的又一个实施方式的触摸面板的概略结构的平面图。
图21是沿图20的A-A’线和B-B’线的各线的截面图。
图22是表示本发明的另一个实施方式的带触摸面板的显示装置的概略结构的截面图。
具体实施方式
本发明的一个实施方式的触摸面板具备：绝缘性的基板；在上述基板上形成的在第一方向延伸的第一电极；在上述基板上形成的在与上述第一方向交叉的第二方向延伸的第二电极；将上述第一电极和上述第二电极相互绝缘的第一绝缘膜；在上述基板上形成的端子部；和将上述第一电极以及上述第二电极与上述端子部电连接的配线。上述端子部包括：与上述配线的下表面接触地形成的第一导电膜；和与上述第一导电膜的上表面接触地形成的第二导电膜，上述第二导电膜与上述配线仅在上述配线的侧面部接触(第一结构)。
根据上述结构，端子部由第一导电膜和第二导电膜的二层构成。因此，能够使端子部的截面积变大，能够使电阻降低。
配线在制造工序中表面会变性(例如氧化)，当在其上形成导电膜时，存在接触电阻变高的情况。根据上述结构，第一导电膜与配线的下表面接触地形成。另外，第二导电膜与配线仅在配线的侧面部接触。由此，能够将端子部和配线稳定地连接。
在上述第一结构中，能够采用以下结构：上述第一电极包括：沿上述第一方向配置的多个第一岛状电极；和将相邻的上述第一岛状电极彼此连接的第一连接部，上述第二电极包括：沿上述第二方向配置的多个第二岛状电极；和将相邻的上述第二岛状电极彼此连接的第二连接部，上述第一岛状电极、上述第二岛状电极、上述第一连接部和上述第一导电膜由相同的材料形成，上述第二连接部和上述第二导电膜由相同的材料形成(第二结构)。
在上述第一结构中，能够采用以下结构：上述第一电极包括：沿上述第一方向配置的多个第一岛状电极；和将相邻的上述第一岛状电极彼此连接的第一连接部，上述第二电极包括：沿上述第二方向配置的多个第二岛状电极；和将相邻的上述第二岛状电极彼此连接的第二连接部，上述第二连接部和上述第一导电膜由相同的材料形成，上述第一岛状电极、上述第二岛状电极、上述第一连接部和上述第二导电膜由相同的材料形成(第三结构)。
在上述第一结构中，能够采用以下结构：上述第一电极包括：沿上述第一方向配置的多个第一岛状电极；和将相邻的上述第一岛状电极彼此连接的第一连接部，上述第二电极包括：沿上述第二方向配置的多个第二岛状电极；和将相邻的上述第二岛状电极彼此连接的第二连接部，上述第一岛状电极、上述第二岛状电极、上述第一连接部、上述第二连接部、上述第一导电膜和上述第二导电膜由相同的材料形成(第四结构)。
根据上述第二至第四结构，能够使制造工序简化。
在上述第一至第四结构中的任一结构中，优选还具有覆盖上述配线形成的第二绝缘膜(第五结构)。
根据上述结构，配线被第二绝缘膜覆盖。因此，不会曝露于大气或水分。由此，能够防止配线的腐蚀，提高长期可靠性。
在上述第五结构中，能够采用以下结构：上述绝缘膜和上述配线，在与上述端子部在俯视时重叠的部分具有缺口部，上述第一导电膜和上述第二导电膜经由上述缺口部接触(第六结构)。
在上述第五结构中，能够采用以下结构：上述绝缘膜和上述配线，在与上述端子部在俯视时重叠的部分具有开口部，上述第一导电膜和上述第二导电膜经由上述开口部接触(第七结构)。
根据上述第六或第七结构，能够使第一导电膜与第二导电膜的接触面积增大。另外，能够使电流的通路增加。由此，能够使第一导电膜与第二导电膜的接触电阻降低。
在上述第一至第七结构中的任一结构中，优选在上述第一导电膜与上述配线重叠的部分，上述第一导电膜的宽度比上述配线的宽度宽(第八结构)。
根据上述结构，能够使第一导电膜与配线的接触面积增大。因此，能够使第一导电膜与配线的接触电阻降低。
在上述第一至第八结构中的任一结构中，优选上述第一导电膜形成为与上述配线的整体在俯视时重叠(第九结构)。
根据上述结构，第一导电膜与配线重叠地形成。由此，能够使电阻降低。另外，通过采用这样的冗余结构，即使一方断线也能够维持导通，因此，能够提高可靠性。
本发明的一个实施方式的带触摸面板的显示装置具备：液晶显示装置；和上述第一至第九结构中的任一结构的触摸面板(带触摸面板的显示装置的第一结构)。
[实施方式]
以下，参照附图对本发明的实施方式进行详细说明。对图中相同或对应的部分，标注相同的符号，不重复进行其说明。此外，为了使得说明容易理解，在以下参照的附图中，结构被简化或示意化地表示，一部分的构成部件被省略。另外，各图中所示的构成部件间的尺寸比不一定表示实际的尺寸比。
[整体结构]
图1是表示本发明的一个实施方式的带触摸面板的显示装置7的概略结构的截面图。带触摸面板的显示装置7具备触摸面板1、彩色滤光片基板71、薄膜晶体管(TFT：Thin Film Transistor)基板72、密封件73、液晶74、偏光板75、76和粘贴件77。
彩色滤光片基板71与TFT基板72相互相对配置。在彩色滤光片基板71和TFT基板72的周缘部形成有密封件73，在内部封入有液晶74。在彩色滤光片基板71的与液晶74侧相反的一侧的表面上，通过粘贴件77粘贴有触摸面板1。在触摸面板1的与彩色滤光片基板71侧相反的一侧的表面上，配置有偏光板75。在TFT基板72的与液晶74侧相反的一侧的表面上，配置有偏光板76。
触摸面板1，详细结构将在后面说明，是静电电容方式的触摸面板，具备绝缘性的基板10和传感电极(X电极11、Y电极12等)等。X电极11和Y电极12形成为格子状。X电极11和Y电极12在它们与接近触摸面板1的手指等之间形成静电电容。触摸面板1根据该静电电容的变化，检测出手指等的位置。
彩色滤光片基板71具备绝缘性的基板711、黑矩阵712、彩色滤光片713和共用电极714。共用电极714在基板711的大致整个面上均匀地形成。
TFT基板72具备绝缘性的基板721、像素电极722和未图示的TFT。像素电极722和TFT在基板721上形成为矩阵状。此外，作为TFT，能够使用包含非晶硅或氧化铟镓锌(IZGO)的TFT，优选使用包含电子迁移率大的IZGO的TFT。
带触摸面板的显示装置7驱动TFT基板72的TFT，在任意的像素电极722与共用电极714之间生成电场。通过该电场，液晶74的取向变化。从偏光板76侧入射的光，通过偏光板76，在特定的方向偏振。入射至液晶74的光的偏振方向根据液晶74的取向而变化。仅在特定的方向偏振的光透过偏光板75。
这样，带触摸面板的显示装置7能够在任意的像素电极722中控制光的透过和不透过。透过像素电极722的光由彩色滤光片713着色。通过规则地预先配置多种颜色例如红色、绿色、蓝色的彩色滤光片713，能够通过加法混色显示各种颜色。黑矩阵712对来自形成有像素电极722的部位以外的部位的光进行遮光，使对比度提高。
以上对带触摸面板的显示装置7的概略结构进行了说明。在带触摸面板的显示装置7中，将偏光板75配置在触摸面板1的外侧(与彩色滤光片基板71侧相反的一侧)的表面上。但是，带触摸面板的显示装置7也可以为将偏光板75配置在彩色滤光片基板71的与液晶74侧相反的一侧的表面上，在其上贴合触摸面板1的结构。
[触摸面板的结构]
以下，对触摸面板1的结构进行详细说明。
图2是示意性地表示本发明的一个实施方式的触摸面板1的概略结构的平面图。图3是沿图2的A-A’线和B-B’线的各线的截面图。触摸面板1具备基板10、X电极11、Y电极12、配线14、绝缘膜15和保护膜16。此外，在图2中，为了容易看图，对配线14画有阴影线。
X电极11包括：沿图2的左右方向配置的多个岛状电极110；和将相邻的岛状电极110彼此连接的连接部111。岛状电极110和连接部111连续地形成为一体。
Y电极12包括：沿图2的上下方向配置的多个岛状电极120；和将相邻的岛状电极120彼此连接的连接部121。岛状电极120和连接部121，如图3所示，夹着绝缘膜15形成在不同的层。岛状电极120和连接部121经由在绝缘膜15中形成的多个接触孔15a接触。
通过该结构，X电极11和Y电极12将绝缘膜15夹在中间而交叉，相互绝缘。
在基板10的端部附近形成有端子部18。X电极11以及Y电极12与端子部18通过配线14电连接。
如图2所示，X电极11与配线14的连接改换部分14a，与其它部分相比形成为更大的面积。这是为了使X电极11与配线14的接触电阻变小。对于Y电极12与配线14也是同样。
另外，如图3所示，在X电极11与配线14的连接改换部分14a，X电极11与配线14的下表面接触地形成。在此，“与下表面接触”是指电极11一部分潜入配线14的下部而接触的状态。虽然没有图示，但是Y电极12与配线14的连接改换部分也是同样。
覆盖X电极11的岛状电极110、连接部111、Y电极12的岛状电极120和配线14的整体，形成有绝缘膜15。绝缘膜15形成为也覆盖基板10和端子部18的一部分。在绝缘膜15之上进一步形成有保护膜16。端子部18的一部分未被绝缘膜15和保护膜16覆盖而露出。端子部18的露出部分经由挠性印刷基板(FPC：Flexible Printed Circuit)等与驱动电路连接。
此外，保护膜16是包含无机类的材料的保护膜161和包含有机类的材料的保护膜162的二层结构。无机类的保护膜161一般比有机类的保护膜162致密，能够防止来自外部的水分等的浸透。因此，通过形成无机类的保护膜161，能够防止由水分等引起的配线14的腐蚀。另一方面，有机类的保护膜162与无机类的保护膜161相比具有弹性，能够缓和由意外的接触等造成的冲击。另外，利用有机类的保护膜162使触摸面板1的表面平坦化。
[端子部的结构]
[第一实施方式]
接着，对端子部18的结构进行说明。图4是表示本发明的第一实施方式的端子部18的结构的平面图。图5是沿图4的C-C’线、D-D’线和E-E’线的各线的截面图。端子部18包括第一导电膜181和第二导电膜182。
如图5所示，第一导电膜181与配线14的下表面接触地形成。在此，“与下表面接触”是指第一导电膜181一部分潜入配线14的下部而接触的状态。第二导电膜182与第一导电膜181的上表面接触地形成。在此，“与上表面接触”是指第一导电膜182与第一导电膜的上部部分重叠地接触的状态。
绝缘膜15和配线14，在配线14与端子部18在俯视时重叠的部分的一部分具有缺口部15b。第二导电膜182和配线14经由缺口部15b仅在配线14的侧面部接触。第一导电膜181和第二导电膜182，在与保护膜16在俯视时重叠的部分经由缺口部15b接触。此外，第一导电膜181和第二导电膜182，在与保护膜16在俯视时不重叠的部分(端子部18露出到外部的部分)相互整面地接触。
[触摸面板1的制造方法]
以下，参照图6A～图6F对触摸面板1的制造方法进行说明。此外，图6A～图6F是沿图2的A-A’线、图4的D-D’线和E-E’线的各线的截面图。
如图6A所示，在基板10上形成X电极11的连接部111、Y电极12的岛状电极120、和端子部18的第一导电膜181。基板10例如为玻璃基板。在图6A中虽然没有图示，但是也同时形成X电极11的岛状电极110(参照图2)。
首先，在基板10上，通过溅射或CVD(Chemical Vapor Deposition：化学气相沉积)形成均匀的透明导电膜。透明导电膜例如为ITO或IZO。透明导电膜的厚度没有特别限定，例如为10～50nm。
利用光刻法对在基板10上形成的透明导电膜进行图案化。具体地说，在形成岛状电极110、120、连接部111和第一导电膜181的部位形成光致抗蚀剂的掩模。然后，通过蚀刻将其余部分除去。蚀刻方法是任意的，例如能够使用草酸或磷酸/醋酸/硝酸的混合酸等。
在图案化结束后，在200～250℃的温度范围进行退火。通过该退火，非晶的透明导电膜(岛状电极110、120、连接部111、第一导电膜181)多晶化。
接着，如图6B所示，形成配线14。首先，通过溅射或蒸镀，覆盖岛状电极110、120、连接部111和第一导电膜181，整面地形成金属膜。金属膜优选为低电阻，例如可以使用Al。但是，Al容易被碱腐蚀，另外，当使Al与ITO直接接触时，会发生由电离化趋势的不同引起的电腐蚀。因此，优选为与耐腐蚀性高的金属的叠层结构。因此，金属膜例如优选使用MoNb/Al/MoNb、MoN/Al/MoN、Mo/Al/Mo等叠层膜。金属膜的厚度没有特别限制，例如为0.3～1.0μm。
利用光刻法对在基板10的整个面上形成的金属膜进行图案化。具体地说，在形成配线14的部位形成光致抗蚀剂的掩模。然后，通过蚀刻将其余部分除去。蚀刻方法是任意的，例如能够使用磷酸/醋酸/硝酸的混合酸等。
接着，如图6C所示，覆盖基板10的整个面形成绝缘膜15。接着，如图6D所示，在绝缘膜15中形成接触孔15a和缺口部15b。在绝缘膜15中形成缺口部15b时，同时也在配线14中形成缺口部。
作为绝缘膜15，可以使用有机类绝缘体或无机类绝缘体。
首先，对作为绝缘膜15使用有机类绝缘体的情况进行说明。有机类绝缘体例如是包含丙烯酸树脂、酚醛树脂等的光致抗蚀剂。在基板10的整个面上，利用旋转涂敷机或狭缝涂敷机均匀地涂敷光致抗蚀剂。绝缘膜15除了将X电极11和Y电极12绝缘以外，还承担保护配线14等的作用。因此，绝缘膜15优选较厚。绝缘膜15的厚度没有特别限定，例如为1.5～3.0μm。
利用光刻法对在基板10的整个面上形成的绝缘膜15进行图案化，形成接触孔15a和缺口部15b。
进一步，将绝缘膜15作为掩模，进行蚀刻，在配线14中也形成缺口部。蚀刻方法是任意的，例如能够使用磷酸/醋酸/硝酸的混合酸等。
对作为绝缘膜15使用无机类绝缘体的情况进行说明。无机类绝缘体例如是SiN、SiO2、SiON等。在基板10的整个面上，通过CVD形成由这些物质构成的均匀的无机膜。在该情况下，绝缘膜15的厚度也优选较厚，优选为配线14的厚度的2倍以上。
利用光刻法对在基板10的整个面上形成的绝缘膜15进行图案化，形成接触孔15a和缺口部15b。具体地说，在形成接触孔15a和缺口部15b的部位以外的部位形成光致抗蚀剂的掩模。然后，通过蚀刻形成接触孔15a和缺口部15b。蚀刻方法是任意的，例如能够使用利用氟类气体的干式蚀刻。
进一步，保持残留该掩模的状态，对配线14进行蚀刻，在配线14中也形成缺口部。蚀刻方法是任意的，例如能够使用磷酸/醋酸/硝酸的混合酸等。
接着，如图6E所示，形成Y电极12的连接部121和端子部18的第二导电膜182。通过溅射或CVD，形成均匀的透明导电膜。透明导电膜例如为ITO或IZO。透明导电膜的厚度没有特别限定，例如为10～50nm。
利用光刻法对在基板10上形成的透明导电膜进行图案化。具体地说，在形成连接部121和第二导电膜182的部位形成光致抗蚀剂的掩模。然后，通过蚀刻将其余部分除去。蚀刻方法是任意的，例如能够使用草酸或磷酸/醋酸/硝酸的混合酸等。
在图案化结束后，可以进行用于使连接部121和第二导电膜182多晶化的退火。
最后，如图6F所示，覆盖基板10的大致整个面形成保护膜16。保护膜16如上所述是将包含无机类的材料的保护膜161和包含有机类的材料的保护膜162叠层而得到的。
无机类的保护膜161例如是SiN、SiO2、SiON等。在基板10的整个面上，通过CVD形成由这些物质构成的均匀的无机膜。此时，使用金属掩模等，使得端子部18的一部分露出。保护膜161的厚度没有特别限定，例如为50～500nm。
有机类的保护膜162例如为丙烯酸树脂。在基板10的整个面上，利用旋转涂敷机或狭缝涂敷机形成均匀的膜。此时，使用金属掩模等，使得端子部18的一部分露出。保护膜162的厚度没有特别限定，例如为1.5～3.0μm。
以上，对本发明的第一实施方式的触摸面板1的结构和制造方法进行了说明。
根据本实施方式的触摸面板1的结构，端子部18由第一导电膜181和第二导电膜182的二层构成。因此，能够使端子部18的截面积变大，能够使电阻降低。
包含金属的配线14在制造工序中表面会变性(例如氧化)，当在其上形成导电膜时，存在接触电阻变高的情况。根据本实施方式，在形成第一导电膜181之后，在其上形成配线14使它们接触。即，第一导电膜181形成为与配线14的下表面接触。由此，能够使接触电阻稳定化。
在本实施方式中，在绝缘膜15和配线14中形成缺口部15b，使第一导电膜181和第二导电膜182经由缺口部15b接触。如上所述，在配线14之上形成有导电膜的情况下，存在接触电阻变高的情况。因此，存在配线14与第二导电膜182之间成为高电阻的可能性。在本实施方式中，通过形成缺口部15b，使第二导电膜182和配线14仅在配线14的侧面部接触。另外，通过形成缺口部15b，使第一导电膜181与第二导电膜182的接触面积增加。由此，能够使电流的通路增加。因此，能够使端子部18低电阻化。
在本实施方式中，同时形成X电极11的岛状电极110、连接部111、Y电极12的岛状电极120和端子部18的第一导电膜181。另外，同时形成Y电极12的连接部121和端子部18的第二导电膜182。即，端子部18与X电极11和Y电极12由相同材料在同一工序中形成，不需要另外的工序。由此，能够使制造工序简化。
X电极11和Y电极12，为了提高光透过度，有形成得较薄的情况。在该情况下，端子部18由第一导电膜181和第二导电膜182这两层叠层而形成，由此，能够使截面积增加，使电阻降低。
此外，在本实施方式中，在基板10的大致整个面上形成绝缘膜15。采用了使Y电极12的岛状电极120和连接部121经由接触孔15a接触的结构。但是，只要X电极11与Y电极12绝缘，可以为任何结构。例如，可以采用仅在X电极11与Y电极12交叉的部位形成绝缘膜15的结构。
另外，在本实施方式中，作为保护膜16，例示了使无机类的保护膜161和有机类的保护膜162依次叠层而成的结构。但是，保护膜16也可以仅由其中任一个构成。另外，叠层的顺序也可以调换。
在本实施方式中，在绝缘膜15中形成缺口部15b时，同时在配线14中形成缺口部。配线14的缺口部也可以在形成配线14时形成。但是，当像本实施方式这样在绝缘膜15和配线14中同时形成缺口部15b时，能够使对位精密，因此更优选。
[比较例]
在此，为了说明触摸面板1的效果，对假想的比较例的结构进行说明。图7是表示比较例的端子部98的概略结构的平面图。图8是沿图7的C-C’线、D-D’线和E-E’线的各线的截面图。
端子部98由一层的导电膜980构成。如图8所示，导电膜980与配线14的上表面接触地形成。
配线14在制造工序中例如在蚀刻或清洗工序等中曝露于大气或水分。由此，存在配线14的表面变性的情况。因此，存在与配线14的上表面接触地形成的导电膜980与配线14之间的接触电阻变高的情况。
另外，在导电膜980形成得较薄的情况、或导电膜980的宽度形成得较窄的情况下，端子部980的电阻变高。
在本实施方式的触摸面板1具备的端子部18中，第一导电膜181与配线14的下表面接触地形成。因此，能够使第一导电膜181和配线14稳定地接触。另外，端子部18由第一导电膜181和第二导电膜182的二层构成。因此，能够使截面积变大，能够使电阻降低。
[第一实施方式的变形例]
带触摸面板的显示装置7可以具备以下说明的触摸面板2代替触摸面板1。图9是表示本发明的第一实施方式的变形例的触摸面板2的概略结构的平面图。图10是沿图9的A-A’线和B-B’线的截面图。此外，在图9中，为了容易看图，对配线14画有阴影线。
触摸面板2具备基板10、X电极21、Y电极22、配线14、绝缘膜15、保护膜16和端子部18。触摸面板2与触摸面板1比较，X电极和Y电极的结构不同。
X电极21包括岛状电极210、连接部211和取出电极212。Y电极22包括岛状电极220、连接部221和取出电极222。
X电极21与X电极11同样包括：沿图10的左右方向配置的多个岛状电极210；和将相邻的岛状电极210彼此连接的连接部211。岛状电极210和连接部211连续地形成为一体。X电极21与X电极11不同，如图11所示形成在绝缘膜15的上层。
Y电极22与Y电极12同样包括：沿图10的上下方向配置的多个岛状电极220；和将相邻的岛状电极220彼此连接的连接部221。如图10所示，岛状电极220形成在绝缘膜15的上层，连接部221形成在绝缘膜15的下层。岛状电极220和连接部221经由在绝缘膜15中形成的多个接触孔15a接触。
X电极21以及Y电极22与配线14经由在绝缘膜15中形成的接触孔15c连接。
如图10所示，在X电极21与配线14的连接改换部分14a形成有取出电极212。配线14与取出电极212重叠地形成。配线14与绝缘膜15的接触孔15c的位置对应地具有开口部。X电极21和取出电极212经由接触孔15c和配线14的开口部接触。由此，X电极21、取出电极212和配线14相互电连接。采用这样的结构是因为，如上所述，存在即使使导电膜与配线14的上表面接触，也得不到稳定的接触电阻的情况。虽然没有图示，但是Y电极22、取出电极222和配线14也通过同样的结构相互电连接。
[触摸面板2的制造方法]
以下，参照图11A～图11F对触摸面板2的制造方法的概要进行说明。此外，图11A～图11F是沿图9的A-A’线、图4的D-D’线和E-E’线的各线的截面图。对于与触摸面板1同样的工序，适当省略说明。
首先，如图11A所示，在基板10上形成Y电极22的连接部221和端子部18的第一导电膜181。虽然在图11A中没有图示，但是同时形成X电极21的取出电极212(参照图9和图10)和Y电极22的取出电极222(参照图9)。
接着，如图11B所示，形成配线14。
接着，如图11C所示，覆盖基板10的整个面形成绝缘膜15。接着，如图11D所示，在绝缘膜15中形成接触孔15a和缺口部15b。虽然在图11D中没有图示，但是也同时形成接触孔15c(参照图9和图10)。
在绝缘膜15中形成缺口部15b时，同时也在配线14中形成缺口部。另外，在绝缘膜15中形成接触孔15c时，同时也在配线14中形成开口部。
接着，如图11E所示，形成X电极21的连接部211、Y电极22的岛状电极220和端子部18的第二导电膜182。虽然在图11E中没有图示，但是也同时形成X电极21的岛状电极220(参照图9)。
最后，如图11F所示，覆盖基板10的大致整个面形成保护膜16。
以上，对本发明的第一实施方式的变形例的触摸面板2的结构和制造方法进行了说明。
在触摸面板1中，同时形成岛状电极110、120和连接部111、与第一导电膜181，同时形成连接部121和第二导电膜182。而在触摸面板2中，同时形成连接部221、取出电极212和222、与第一导电膜181，同时形成岛状电极210、220和连接部211、与第二导电膜182。
利用触摸面板2也能够得到与触摸面板1同样的效果。因此，通过触摸面板2能够得到触摸面板的结构的变化。
[第二实施方式]
触摸面板1或2可以具备以下说明的端子部28、38和48中的任一个代替端子部18。
图12是表示本发明的第二实施方式的端子部28的结构的平面图。图13是沿图12的C-C’线、D-D’线和E-E’线的各线的截面图。
端子部28具备接触孔(开口部)15d代替端子部18具备的缺口部15b。即，绝缘膜15和配线14，在配线14与端子部28在俯视时重叠的部分的一部分具有接触孔15d。第二导电膜182和配线14经由接触孔15d仅在配线14的侧面部接触。第一导电膜181和第二导电膜182，在与保护膜16在俯视时重叠的部分，经由接触孔15d接触。此外，第一导电膜181和第二导电膜182，在与保护膜16在俯视时不重叠的部分(端子部28露出到外部的部分)相互整面地接触。
利用本实施方式的端子部28，也能够使电阻降低。另外，能够使其与配线14稳定地接触。
[第三实施方式]
图14是表示本发明的第三实施方式的端子部38的结构的平面图。图15是沿图14的C-C’线、D-D’线和E-E’线的各线的截面图。
端子部38具备第一导电膜381和第二导电膜182。即，端子部38与端子部18比较，第一导电膜的结构不同。如图14所示，第一导电膜381，在第一导电膜381与配线14重叠的部分，形成得比配线14的宽度宽。
由此，第一导电膜381与配线14的接触面积变大。因此，能够使接触电阻降低，能够得到稳定的连接。
[第四实施方式]
图16是表示本发明的第四实施方式的端子部48的结构的平面图。图17是沿图16的C-C’线、D-D’线和E-E’线的各线的截面图。
端子部48具备第一导电膜481和第二导电膜182。与端子部38的第一导电膜381同样，第一导电膜481，在第一导电膜481与配线14重叠的部分，形成得比配线14的宽度宽。端子部48具备接触孔15d代替端子部38具备的缺口部15b。
在本实施方式中也是，通过使第一导电膜481与配线14的接触面积变大，能够使接触电阻降低。
[其它实施方式]
图18是表示本发明的另一个实施方式的触摸面板3的概略结构的平面图。图19是沿图18的A-A’线和B-B’线的各线的截面图。触摸面板3具备基板10、X电极11、Y电极12、配线14、绝缘膜15、保护膜16和端子部38。此外，在图18中，为了容易看图，对配线14画有阴影线。
在触摸面板3中，端子部38的第一导电膜381形成为与配线14的整体在俯视时重叠。另外，如图19所示，X电极11和第一导电膜381连续地形成为一体。虽然没有图示，但是Y电极12的岛状电极120和第一导电膜381也连续地形成为一体。
根据本实施方式，第一导电膜381和配线14重叠地形成。由此，能够使电阻降低。另外，通过采用这样的冗余结构，即使一方断线也能够维持导通，因此，能够提高可靠性。
此外，在本实施方式中，将配线14的宽度形成得比第一导电膜381的宽度窄。但是，配线14的宽度和第一导电膜381的宽度也可以相同，也可以配线14的宽度比第一导电膜381的宽度宽。另外，触摸面板3可以具备端子部48代替端子部38。
图20是表示本发明的又一个实施方式的触摸面板4的概略结构的平面图。图21是沿图20的A-A’线和B-B’线的各线的截面图。触摸面板4具备基板10、X电极21、Y电极22、配线14、绝缘膜15、保护膜16和端子部38。此外，在图20中，为了容易看图，对配线14画有阴影线。
在触摸面板4中，端子部38的第一导电膜381形成为与配线14的整体在俯视时重叠。另外，如图21所示，X电极11的取出电极212和第一导电膜381连续地形成为一体。虽然没有图示，但是Y电极22的取出电极222和第一导电膜381也连续地形成为一体。
根据本实施方式，第一导电膜381和配线14重叠地形成。由此，能够使电阻降低。另外，通过采用这样的冗余结构，即使一方断线也能够维持导通，因此，能够提高可靠性。
此外，在本实施方式中，将配线14的宽度形成得比第一导电膜381的宽度窄。但是，配线14的宽度和第一导电膜381的宽度也可以相同，也可以配线14的宽度比第一导电膜381的宽度宽。另外，触摸面板4可以具备端子部48代替端子部38。
图22是表示本发明的另一个实施方式的带触摸面板的显示装置8的概略结构的截面图。带触摸面板的显示装置8具备带彩色滤光片的触摸面板基板81、TFT基板72、密封件73、液晶74和偏光板75和76。
在带触摸面板的显示装置8中，在形成有传感电极(X电极11和Y电极12)等的触摸面板基板10的背面，形成有黑矩阵712、彩色滤光片713和共用电极714。即，带彩色滤光片的触摸面板基板81兼具触摸面板的功能和彩色滤光片的功能。
带触摸面板的显示装置8与带触摸面板的显示装置7比较，不需要基板711和粘贴件77。因此，能够薄型化，能够提高光透过度。
在带触摸面板的显示装置8中，将传感电极形成在基板10的与液晶74侧相反的一侧的表面上。但是，也可以将传感电极形成在基板10的形成有黑矩阵712等的一侧的表面上。此时，可以在它们之间形成平坦化膜等。
在带触摸面板的显示装置8中，带彩色滤光片的触摸面板基板81可以具备触摸面板2～4中的任一个代替触摸面板1。
以上，对本发明的实施方式进行了说明，但是本发明并不仅限于上述的各实施方式，能够在发明的范围内进行各种变更。另外，各实施方式能够适当组合而实施。
产业上的可利用性
本发明作为触摸面板和带触摸面板的显示装置能够在产业上利用。

Claims (11)

1.一种触摸面板，其特征在于，具备：
绝缘性的基板；
在所述基板上形成的在第一方向延伸的第一电极；
在所述基板上形成的在与所述第一方向交叉的第二方向延伸的第二电极；
将所述第一电极和所述第二电极相互绝缘的第一绝缘膜；
在所述基板上形成的端子部；和
将所述第一电极以及所述第二电极与所述端子部电连接的配线，
所述端子部包括：与所述配线的下表面接触地形成的第一导电膜；和与所述第一导电膜的上表面接触地形成的第二导电膜，
所述第二导电膜与所述配线仅在所述配线的侧面部接触。
2.如权利要求1所述的触摸面板，其特征在于：
所述第一电极包括：沿所述第一方向配置的多个第一岛状电极；和将相邻的所述第一岛状电极彼此连接的第一连接部，
所述第二电极包括：沿所述第二方向配置的多个第二岛状电极；和将相邻的所述第二岛状电极彼此连接的第二连接部，
所述第一岛状电极、所述第二岛状电极、所述第一连接部和所述第一导电膜由相同的材料形成，
所述第二连接部和所述第二导电膜由相同的材料形成。
3.如权利要求1所述的触摸面板，其特征在于：
所述第一电极包括：沿所述第一方向配置的多个第一岛状电极；和将相邻的所述第一岛状电极彼此连接的第一连接部，
所述第二电极包括：沿所述第二方向配置的多个第二岛状电极；和将相邻的所述第二岛状电极彼此连接的第二连接部，
所述第二连接部和所述第一导电膜由相同的材料形成，
所述第一岛状电极、所述第二岛状电极、所述第一连接部和所述第二导电膜由相同的材料形成。
4.如权利要求1所述的触摸面板，其特征在于：
所述第一电极包括：沿所述第一方向配置的多个第一岛状电极；和将相邻的所述第一岛状电极彼此连接的第一连接部，
所述第二电极包括：沿所述第二方向配置的多个第二岛状电极；和将相邻的所述第二岛状电极彼此连接的第二连接部，
所述第一岛状电极、所述第二岛状电极、所述第一连接部、所述第二连接部、所述第一导电膜和所述第二导电膜由相同的材料形成。
5.如权利要求1至4中任一项所述的触摸面板，其特征在于：
还具备覆盖所述配线形成的第二绝缘膜。
6.如权利要求5所述的触摸面板，其特征在于：
所述配线和所述第二绝缘膜，在所述配线与所述端子部在俯视时重叠的部分的一部分具有缺口部，所述第一导电膜和所述第二导电膜经由所述缺口部接触。
7.如权利要求5所述的触摸面板，其特征在于：
所述配线和所述第二绝缘膜，在所述配线与所述端子部在俯视时重叠的部分的一部分具有开口部，所述第一导电膜和所述第二导电膜经由所述开口部接触。
8.如权利要求1所述的触摸面板，其特征在于：
在所述第一导电膜与所述配线重叠的部分，所述第一导电膜的宽度比所述配线的宽度宽。
9.如权利要求1所述的触摸面板，其特征在于：
所述第一导电膜形成为与所述配线的整体在俯视时重叠。
10.一种带触摸面板的显示装置，其特征在于，具备：
液晶显示装置；和
权利要求1至9中任一项所述的触摸面板。
11.如权利要求10所述的带触摸面板的显示装置，其特征在于：
所述液晶显示装置具备使用氧化铟镓锌的TFT。
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