CN103748194B - 对流体和气体进行间接磁处理的方法和设备 - Google Patents

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Abstract

提供了对流体/气体进行间接磁处理的方法和设备，其中在第一步骤中，向工作流体/气体施加具有特定的维度、几何形貌和通量密度的磁场或者电磁场，以得到直接磁化的流体/气体。然后在第二步骤中，直接磁化的流体/气体用作磁化剂或磁处理剂对正常、非磁化的流体/气体进行间接磁化，该间接磁化是通过以所述直接磁化的流体/气体与正常、非磁化的工作流体/气体之间预定的混合比和混合方法，混合直接磁化的流体/气体与正常、非磁化的流体/气体来实现的。之后，所得到的混合或间接磁化的流体/气体直接用于适当的应用中或者储存在储存罐中以待后用。本发明的可能的应用包括但不限于，对流体/气体进行直接磁处理的所有现有应用，例如水处理、烃类燃料处理。

Description

对流体和气体进行间接磁处理的方法和设备
技术领域
本发明一般地属于流体和/或气体的磁处理领域，更具体地是对流体和气体进行间接磁处理的方法和设备，其主要基于直接磁化的流体/气体（采用具有特定几何形貌和通量密度的直接磁场或电磁场处理的流体/气体）与正常非磁化的流体/气体之间的混合，以得到新的混合或间接磁化的流体/气体，所述新的混合或间接磁化的流体/气体具有比直接磁化的流体/气体以及正常非磁化的流体/气体更好的性能。
发明背景
磁流动力学(MHD)（磁流体动力学或水磁动力学）是研究导电流体在磁场作用下的动力学的科学学科。MHD中的M指的是磁场，H指的是液体，D指的是移动或运动。HannesAlfven在1942年开创了MHD领域，他为此得到了1970年的诺贝尔物理学奖。
MHD的理念是磁场会在移动的导电流体中引起电流，这会对流体产生机械作用力，还会改变磁场本身。描述MHD的一组方程是熟悉的流体动力学的纳维-斯托克斯(Navier-Stokes)方程和电磁场麦克斯韦方程的组合。研究指出磁流动力作用可用于流体和气体的磁处理。
流体和气体的磁处理的所有先前的应用聚焦于向移动的流体或气体直接施加各种通量密度和可变几何形貌的磁场或电磁场，其中全部或全体流体或气体应该直接通过磁场或电磁场，从而进行处理。该直接处理实际上是限制磁处理流行起来的潜在障碍，因为这导致仅在安装磁处理装置的初始阶段具有有效处理，而在之后的阶段通常为无效处理。
发明内容
因此，本发明的一个目的是提供一种对流体和气体进行间接磁处理的方法和设备，其克服了流体和气体的直接磁处理的缺陷。
提供了对流体或气体进行间接处理的方法，所述方法包括：提供第一流体或气体；对于所述第一流体或气体施加具有特定通量密度和几何形貌的直接磁场或电磁场，得到直接磁化的流体/气体；提供第二正常、非磁化的流体/气体；将第一直接磁化的流体/气体与第二正常、非磁化的流体/气体混合，以得到第三混合或间接磁化的流体/气体，该第三混合或间接磁化的流体/气体也经过处理，并且比第一直接磁化的流体/气体和第二正常、非磁化的流体/气体更有效。
这表示，根据本发明，第一流体/气体是经过直接磁处理或电磁处理的直接磁化的流体/气体，而第二流体/气体是未通过任意直接磁场或电磁场的正常、非磁化的流体/气体。在第三混合或间接磁化的流体/气体中，第二正常、非磁化的流体/气体受到第一直接磁化的流体/气体的间接处理，第三混合或间接磁化的流体/气体以间接的方式受到完全处理。也就是说，第一直接磁化的流体/气体起了磁化剂或磁处理剂的作用，对第二正常、非磁化的流体/气体进行磁化。
在本发明的意思中，涉及流体和/或气体的术语“直接磁化”或“直接处理”或者简称的“处理”，具体表示利用具有特定几何形貌和通量密度的直接磁场或电磁场分别对流体和/或气体进行处理或磁化，所述磁场或电磁场可以由，例如分别产生所述磁场或电磁场的装置或单元提供。此外，涉及流体和/或气体的术语“正常、非磁化的”或“正常”分别具体地表示各个流体和/或气体未被磁化或者未经过任意直接的磁场或电磁场。此外，涉及流体和/或气体的术语“混合”或“间接磁化”具体表示通过起了磁化剂或磁处理剂的作用的直接磁化流体/气体，以间接的方式进行磁处理的流体和/或气体。除此之外，术语“间接磁流体/气体处理”具体表示分别对正常流体和/或气体进行处理或磁化，它们不是直接磁场或电磁场的目标（这是对于“直接磁化”的流体和/或气体的情况），而是通过“直接磁化”的流体和/或气体进行磁化（例如与其混合从而磁化）。
优选地，第一直接磁化的流体/气体与第二正常、非磁化的流体/气体之间的混合是根据预定的混合比进行的，其中大部分的混合物是第二正常、非磁化的流体/气体。
优选地，用于产生直接磁化流体/气体的处理单元可以是永磁体装置或者采用线圈和受控电源的电磁装置。处理单元中的磁场或电磁场可以是任意几何形貌（一维、二维或三维磁场，取决于所需的通量密度值Bx、By和Bz）；磁场的性质可以是相吸形式或相斥形式（在永磁体装置的情况下）；磁场与流体/气体流动方向之间的角度可以是任意角度，如90、0、180度，或者任意其他所需的角度。
优选地，当流体/气体循环时，在处理单元中，对直接磁化的流体/气体进行施加具有特定通量密度和几何形貌的磁场或电磁场的过程。
优选地，可以使用“直列式预处理和后处理传感器配置”来实现直接磁化的流体/气体的生产过程，所述“直列式预处理和后处理传感器配置”包括：首先，从正常流体主供给罐将正常、非磁化的流体/气体填充到处理容器中；以及接着，进行受控制的流动通过处理单元的循环过程，该循环过程输出其流体回到处理容器。
在该配置中，在处理单元之前和之后安装一组所需的传感器（其可以是取决于应用和流体的），所述传感器将其传感数据传输至控制盒，从而出于分析目的，追踪在处理单元之前和之后的直接磁化的流体/气体的物理量和化学量随时间的变化。
或者，也可以使用“罐内传感器配置”来实现直接磁化的流体/气体的生产过程，所述“罐内传感器配置”包括：首先，从正常流体主供给罐将正常、非磁化的流体/气体填充到处理容器中；以及接着，进行受控制的流动通过处理单元的循环过程，该循环过程输出其流体回到处理容器。在该配置中，在处理容器内安装一组所需的传感器（其可以是取决于应用和流体的），所述传感器将其传感数据传输至控制盒，从而对于处理罐中的流体/气体，追踪直接磁化的流体/气体的物理量和化学量随时间的变化。
或者，也可以使用“并行流动配置”来实现直接磁化的流体/气体的生产过程，所述“并行流动配置”包括：首先，从正常流体主供给罐将正常、非磁化的流体/气体填充到处理容器中；以及接着，进行受控制的流动的循环过程，其中处理容器同时接收通过处理单元的第一受控流和直接来自处理容器的第二受控流。
或者，也可以使用“单循环配置”来实现直接磁化的流体/气体的生产过程，所述“单循环配置”包括：首先，从正常流体主供给罐将正常、非磁化的流体/气体填充到正常流体容器中；以及接着，进行向第二处理容器的受控制的流动，所述第二处理容器接收通过处理单元的受控制的流体。
优选地，可以采用底部配置来实现混合过程，其包括：首先，使得第一直接磁化的流体/气体沉积到混合容器的底部；以及接着，使得第二正常、非磁化的流体/气体沉积到所述第一直接磁化的流体/气体的顶部上。该过程也可以重复多次（交替底部配置）。
或者，也可以采用顶部配置来实现混合过程，其包括：首先，使得第二正常、非磁化的流体/气体沉积到混合容器的底部；以及接着，使得第一直接磁化的流体/气体沉积到所述第二正常、非磁化的流体/气体的顶部上。该过程也可以重复多次（交替顶部配置）。
或者，也可以采用并行流双罐配置实现混合过程，其包括：提供用于接收第一直接磁化的流体/气体的第一容器；提供用于接收第二正常、非磁化的流体/气体的第二容器；以及提供用于接收第三混合或间接磁化的流体/气体的第三容器，该第三容器与第一和第二容器相连，用于同时接收第一直接磁化的流体/气体的第一受控流和第二正常、非磁化流体/气体的第二受控流。
或者，也可以采用并行流单罐配置实现混合过程，其包括：提供直列式磁处理单元，用于向第二正常、非磁化的流体/气体施加特定通量密度和几何形貌的磁场或电磁场，以瞬间得到第一直接磁化的流体/气体；提供用于正常、非磁化的流体/气体的第一容器，该第一容器与处理单元和用于混合或间接磁化的流体/气体的第二容器相连；其中，所述处理单元从第一容器接收第二正常、非磁化的流体/气体的受控流并向第二流体/气体施加磁场或电磁场；并且其中，第二容器同时从处理单元接收第一直接磁化的流体/气体的第一受控流和从第一容器接收第二正常、非磁化的流体的第二受控流。
或者，也可以采用序列式单罐配置实现混合过程，其包括：提供用于接收第二正常、非磁化的流体/气体的第一容器；提供用于接收第一直接磁化的流体/气体的第二较小容器；以及提供用于接收混合或间接磁化的流体/气体的第三容器；其中，所述第二较小容器从第一容器接收第二正常、非磁化的流体/气体的受控流，并向第三容器输出包含第一直接磁化的流体/气体和第二正常、非磁化的流体/气体的混合或间接磁化的流体/气体的物流。
作为本发明的另一个方面，提供了用于生产直接磁化的流体/气体的设备，其包括如图1所示的直列式预处理和后处理传感器配置，如图2所示的罐内传感器配置，如图3所示的并行流配置，如图4所示的单循环配置。
作为本发明的另一个方面，提供了用于混合过程的设备，其包括如图5所示的底部配置，如图6所示的替代底部配置，如图7所示的顶部配置，如图8所示的替代顶部配置，如图9所示的并行流双罐配置，如图10所示的并行流单罐配置，如图11所示的序列流单罐配置。
作为本发明的另一个方面，提供了处理流体/气体的方法，所述方法包括使用第一直接磁化的流体/气体作为磁化剂或磁处理剂，对第二正常、非磁化的流体/气体进行磁化。
优选地，所述使用第一直接磁化的流体/气体作为磁化剂或磁处理剂，对第二正常、非磁化的流体/气体进行磁化包括根据预定的混合比混合第一流体/气体和第二流体/气体。
附图简要说明
通过以下详细描述结合附图，本发明的其他特征和优点将是显而易见的，其中：
图1显示了采用直列式预处理和后处理传感器配置的直接磁化的流体/气体的一个示例性生产过程。
图2显示了采用罐内传感器配置的直接磁化的流体/气体的一个示例性生产过程。
图3显示了采用并行流配置的直接磁化的流体/气体的一个示例性生产过程。
图4显示了采用单循环配置的直接磁化的流体/气体的一个示例性生产过程。
图5显示了采用底部配置的一个示例性混合过程。
图6显示了采用替代底部配置的一个示例性混合过程。
图7显示了采用顶部配置的一个示例性混合过程。
图8显示了采用替代顶部配置的一个示例性混合过程。
图9显示了采用并行流双罐配置的一个示例性混合过程。
图10显示了采用并行流单罐配置的一个示例性混合过程。
图11显示了采用序列流单罐配置的一个示例性混合过程。
图12显示了用于产生可变电磁场的一个示例性线圈装置。
图13显示了用于产生可变电磁场的一个示例性永磁体装置。
图14显示了用于永磁体装置的一个示例性液压回路。
图15显示了采用步进式电动机的永磁体装置的一个示例性磁体旋转。
图16显示了永磁体装置的一个示例性磁场极性手动翻转。
图17显示了在磁场作用下的一个示例性的可能的管配置。
图18显示了在应用情况下使用相吸形式的永磁体装置的一个示例性三维通量密度。
图19显示了在应用情况下使用相斥形式的永磁体装置的一个示例性三维通量密度。
发明详述
根据本发明的第一个方面，例如，提供了用于间接磁流体/气体处理的方法，其中，对正常流体/气体进行磁处理，但不作为直接磁场或电磁场的目标。
所述间接磁流体/气体处理的方法可包括以下步骤中的一个或多个或者全部：
1.通过如下方式生产第一直接磁化的流体/气体：
a.根据如下要求中的一个或多个或者全部，向工作流体/气体施加直接磁场或电磁场：
i.所需的磁场几何形貌。我们可以施加一维、二维、三维磁场。
ii.所需的通量密度值Bx、By和Bz。
iii.磁场的特性，无论是相吸形式或相斥形式。这仅适用于永磁体的情况下。
iv.磁场与流体/气体流动之间所要求的角度，其中所述角度可以是90、0、180度，或者任意其他所需的角度。
v.所需的工作流体/气体的温度、压力和体积。
b.根据（如图1-4所示的）选定的处理配置，在磁场或电磁场的作用下，使工作流体/气体循环持续所需的循环时间。循环过程可以是使得工作流体/气体通过磁场或电磁场至少一次，并且可以最高至数天。
2.根据（如图5-11所示的）选定的混合配置，以第一直接磁化的流体/气体的体积(Vt)与第二正常、非磁化的流体/气体的体积(Vn)之间所要求的混合比，来混合第一直接磁化的流体/气体和第二正常、非磁化的流体/气体。混合过程可以是以下形式中的一种：
a.一次向混合容器中加入一种类型的流体。该过程可采用如下配置中的一种。
i.底部配置。如图5所示，在混合容器的底部加入第一直接磁化的流体/气体，然后在顶部加入第二正常、非磁化的流体/气体。
ii.替代底部配置。在混合容器的底部加入第一直接磁化的流体/气体，然后在顶部加入第二正常、非磁化的流体/气体。然后将该过程重复多次，如图6所示。
iii.顶部配置。如图7所示，在混合容器的底部加入第二正常、非磁化的流体/气体，然后在顶部加入第一直接磁化的流体/气体。
iv.替代顶部配置。在混合容器的底部加入第二正常、非磁化的流体/气体，然后在顶部加入第一直接磁化的流体/气体。然后将该过程重复多次，如图8所示。
b.并行流双罐配置。在该情形下，一个罐用于直接磁化的流体/气体，第二个罐用于正常、非磁化的流体/气体，第三个罐用于混合或间接磁化的流体/气体。两个比例阀设置在第一和第二罐输出处，其同时控制直接磁化的流体/气体与正常的、非磁化的流体/气体之间的混合比，如图9所示。
c.并行流单罐配置。在该情形下，一个罐用于正常、非磁化的流体/气体，第二个罐用于混合或间接磁化的流体/气体。从第一罐以并行方式伸出两个输出管。第一个管通过磁处理单元，处理单元的输出物（直接磁化的流体/气体）在第二混合罐中混合。两个比例阀设置在第一罐输出处，其同时控制直接磁化的流体/气体与正常的、非磁化的流体/气体之间的混合比。实际上，在该情况下，我们没有用于直接磁化或处理的流体/气体的储存罐，流体/气体通过处理单元得到立即处理，之后在第二罐中与正常、非磁化的流体/气体混合。应注意的是，如图10所示，在处理期间，磁处理单元内的物流的内部流速可能不同于离开磁处理单元的输出流速。
d.序列流单罐配置。此处，同时进行直接磁化的流体/气体与正常、非磁化的流体/气体之间的序列混合。在该情形下，一个罐用于直接磁化的流体/气体，第二个罐用于正常、非磁化的流体/气体，第三个罐用于混合或间接磁化的流体/气体。从它的罐流出的正常、非磁化的流体/气体受到比例阀的控制并流过经处理罐，其中经处理罐的输出流可以被立即用于应用中或者存储在第三混合罐中。在此情况下，经处理罐的体积和比例阀开口率是控制参数，如图11所示。
3.在适当的应用中使用混合或间接磁化的流体/气体。在此情况下，具有两种情形。在第一种情形中，将混合或间接磁化的流体/气体储存在混合罐中以待后用；而在第二种情形中，将混合或间接磁化的流体/气体立即用于应用中，而没有储存在混合罐中。
应注意的是，前述处理过程具有如下控制参数中的一个或多个或者全部，它们是依赖于流体/气体和应用的：
1.直接磁化的流体/气体的直接磁场或电磁场处理参数：
a.磁场的维度和几何形貌（一维、二维、三维）。
b.取决于给定的维度，所需的通量密度值（Bx、By、Bz）。
c.磁场的特性，无论是相吸形式或相斥形式（在永磁体装置的情况下）。
d.磁场与流体/气体流动之间所要求的角度，其中所述角度可以是90度（垂直方向）、0度（相同方向）、180度（相反方向），或者任意其他所需的角度。
e.所要求的直接磁化的流体/气体的体积。
f.所要求的直接磁化的流体/气体的温度和压力。
g.在磁场作用下的流体/气体的流速。
h.所要求的循环时间或者磁场在流体/气体上的施加时间。
i.磁处理的管的几何形貌和管的内截面。
2.混合过程参数：
a.正常、非磁化的流体/气体的体积。
b.直接磁化的流体/气体的体积。
c.所要求的正常、非磁化的流体/气体和直接磁化的流体/气体的温度和压力。
d.受到比例阀（只要使用的情况下）开口控制的两个流体之间的混合比。
e.正常、非磁化的流体/气体和直接磁化的流体/气体的混合流速。
本发明的主要特征可包括如下一个或多个或者全部：
1.使用直接磁化或处理的流体/气体作为用于正常、非磁化的流体/气体的磁化剂或磁处理剂。
2.使用储存在直接磁化的流体/气体中的磁场作为用于正常、非磁化的流体/气体的处理方法。
3.在制备直接磁化的流体/气体中使用具有特定通量密度的一维、二维或三维磁几何形貌。在永磁体装置的情况下，可以产生最高至三维的通量密度，这取决于磁体装置之间的距离，磁体装置的几何形貌以及磁体装置之间的相吸或相斥作用力。
4.在制备直接磁化的流体/气体中使用任意磁装置或者电磁装置。这包括所用磁体的类型（NdFeb，或者任意其他磁体材料），磁体的形状（矩形、圆柱形或者任意其他形状），所用磁体的数量，装置的三维配置，以及与装置相关的其他相关参数。
5.在制备直接磁化的流体/气体中使用数高斯至数特斯拉的范围的通量密度（Bx、By、Bz）。
6.在制备直接磁化的流体/气体中，在永磁体的情况下，采用无论是相吸形式或相斥形式的磁场。
7.在电磁场装置的情况下，电流控制系统可以是直流电流源或者与可变电阻器串联的直流电压源。在采用交流电源的情况下，则可以使用变换器将其转换为直流，然后用于前述两种情形中的一种。
8.在产生直接磁化的流体/气体期间和混合过程中，对直接磁化的流体/气体的温度、压力和体积（水平）进行调节和控制。
9.在混合过程和存储阶段，对正常、非磁化的流体/气体以及混合或间接磁化的流体/气体的温度、压力和体积（水平）进行调节和控制。
10.附图中任意位置所使用的加热或冷却元件表示根据实际需要对流体/气体的温度进行控制的加热和/或冷却系统。
11.在直接磁化的流体/气体的制备过程中，用于工作流体/气体的流控制系统可用于控制在磁场作用下移动的流体/气体的流速。
12.本发明的所有控制参数可以根据直列式传感器数据进行控制，其可用于两个处理阶段（产生直接磁化的流体/气体以及混合过程）。这些传感器取决于流体/气体和取决于应用。例如，在燃料处理的情况下，使用直列式粘度和密度传感器来观察流体/气体的物理参数的变化。如果工作流体/气体是水，则我们可使用直列式pH和TDS传感器或者任意其他传感器。
13.对于磁场和流体/气体流之间的角度，采用最常用的操作模式，其中，所述角度可以是90、0、180度，或者任意其他角度，这取决于磁场源以及流体/气体在其中流动的管的形状。
14.可以使用永磁体装置（例如但不限于图13-16）或者电磁场（其中，直流电流流过线圈，例如但不限于图12）来产生用于制备直接磁化的流体/气体的磁场。
15.在可变距离的永磁体装置的情况下，控制两个磁体之间的距离的致动机制可以是液压、气压、电致动器，或者任意其他可能的机制。
16.管的形状可以是直的、垂直-水平的、螺旋状三维（弹簧）形状，或者如图17所示的任意其他形状，流体/气体在磁场作用下在所述管中流动。
17.在制备直接磁化的流体/气体过程中，在磁场作用下的流体/气体流在垂直流动的情况下可能受到重力的作用，或者可能是水平流动。
18.在磁场的作用下，管的内芯采用圆形、正方形或者矩形截面，如图17所示。
19.管的直径可以是微观水平或宏观水平或者可以是微微尺寸至厘米尺寸的任意值，流体/气体在磁场作用下在所述管中流动。
20.可以使用一次循环时间（在磁场中通过一次）或者可以持续循环一段特定的时间来产生直接磁化的流体/气体。
21.直接磁化的流体/气体与正常、非磁化的流体/气体之间的混合比通常取决于工作流体/气体，工作流体/气体的操作温度和压力，三维空间的通量密度，流体/气体流与施加的通量之间的角度，循环时间以及应用。
22.在其储存期间，直接磁化的流体/气体以及混合或间接磁化的流体/气体可以在特定压力和温度下保持特定的持续时间，以待后用。该过程对流体/气体的磁记忆都起了控制作用。
23.正常、非磁化的流体/气体和直接磁化的流体/气体通常具有相同的化学结构，但是在一些应用中，它们可以具有不同的化学结构。
24.本发明的可能的应用可以包括但不限于，对流体/气体进行直接磁处理的常规应用，例如农业目的的水处理，用于水垢的水处理，用于降低盐度的水处理，用于建筑的水处理，燃料处理，柴油处理，汽油处理，煤油处理，燃油处理，喷气燃料处理以及所有其他现有的磁处理方法。
应用情况
将根据本发明的方法和设备用于柴油机燃料处理。在该例子中，对于磁处理装置中使用的各个磁体分别使用一对尺寸为15*10*6cm的矩形NdFeb磁体装置，如图13-16所示。图18显示了对于相吸情况下，在磁体宽度和长度上的中点的磁通量密度（Bx、By、Bz）与磁体之间的内部距离的关系。图19显示了对于相斥情况下，在磁体宽度和长度上的中点的磁通量密度（Bx、By、Bz）与磁体之间的内部距离的关系。为了处理目的，在相吸情况下操作磁体，并且分开2cm的距离。首先，柴油处理36小时，然后根据各种混合比，将该直接磁化的柴油与正常柴油混合。混合或间接磁化的柴油的热含量结果以及相应的粘度和密度见表1。混合比为体积比，总样品体积为1升。
虽然上述应用情况包含许多特异性，但是它们不应理解为对本发明的限制，而仅仅是本发明现有优选实施方式的代表。上述本发明的实施方式仅仅是示例性的。因此，本发明的范围仅受所附权利要求的范围限制。

Claims (14)

1.一种对流体进行间接磁处理的方法，所述方法包括两个如下子过程：
a)通过如下方式产生第一直接磁化流体：
1)首先，在处理容器中提供第二正常、非磁化流体；
2)接着，进行受控制的流动通过处理单元的循环过程，该循环过程输出其流体回到处理容器，其中，在循环过程中，处理容器中的第二正常流体通过直接磁场或电磁场；
b)根据预定的混合比与混合方法，通过混合由第一子过程产生的第一直接磁化流体和第二正常、非磁化流体，以产生第三混合或间接磁化流体，其中，该第三混合或间接磁化流体也经过磁处理，并且比第一直接磁化的流体和第二正常、非磁化的流体更有效；
其中，在第一直接磁化流体以及第三混合或间接磁化流体的产生过程中，对两个子过程的温度、压力和体积进行调节和控制。
2.如权利要求1所述的对流体进行间接磁处理的方法，其特征在于，所述第一流体是经过直接磁处理或电磁处理的直接磁化的流体，而所述第二流体是未通过任何直接磁场/电磁场的正常、非磁化的流体。
3.如权利要求1所述的对流体进行间接磁处理的方法，其特征在于，在产生第三混合或间接磁化流体的过程中，第二正常、非磁化流体受到第一直接磁化流体的磁处理，即，以没有任意直接施加磁场或电磁场的间接方式，使得第三混合或间接磁化流体受到完全处理。
4.如权利要求1所述的对流体进行间接磁处理的方法，其特征在于，在使用混合过程产生直接磁化流体的过程中，使用第一直接磁化的流体作为磁化剂或磁处理剂，对第二正常、非磁化的流体进行磁化。
5.如权利要求1所述的对流体进行间接磁处理的方法，其特征在于，产生直接磁化的流体的过程包括受控制的流动的循环过程，其中部分或全部的流体通过处理单元。
6.如权利要求1所述的对流体进行间接磁处理的方法，其特征在于，采用混合过程产生第三混合或间接磁化流体包括：
a)首先，使得第一直接磁化的流体沉积到混合容器的底部；以及
b)接着，使得第二正常、非磁化的流体沉积到所述第一直接磁化的流体的顶部上；
c)该过程进行一次或者重复多次。
7.如权利要求1所述的对流体进行间接磁处理的方法，其特征在于，采用混合过程产生第三混合或间接磁化流体包括：
a)首先，使得第二正常、非磁化的流体沉积到混合容器的底部；以及
b)接着，使得第一直接磁化的流体沉积到所述第二正常、非磁化的流体的顶部上；
c)该过程进行一次或者重复多次。
8.如权利要求1所述的对流体进行间接磁处理的方法，其特征在于，采用混合过程产生第三混合或间接磁化流体包括：
a)提供用于接收第一直接磁化的流体的第一容器；
b)提供用于接收第二正常、非磁化的流体的第二容器；以及
c)提供用于接收第三混合或间接磁化的流体的第三容器，该第三容器与第一和第二容器相连，用于同时接收第一直接磁化的流体的第一受控流和第二正常、非磁化流体的第二受控流。
9.如权利要求1所述的对流体进行间接磁处理的方法，其特征在于，采用混合过程产生第三混合或间接磁化流体包括：
a)提供直列式磁处理单元，用于向第二正常、非磁化的流体施加磁场或电磁场，以立即得到第一直接磁化的流体；以及
b)提供用于正常、非磁化的流体的第一容器，该第一容器与处理单元和用于混合或间接磁化的流体的第二容器相连；其中，所述处理单元从第一容器接收第二正常、非磁化的流体的受控流并向第二流体施加磁场或电磁场；并且其中，第二容器同时从处理单元接收第一直接磁化的流体的第一受控流和从第一容器接收第二正常、非磁化的液体的第二受控流。
10.如权利要求1所述的对流体进行间接磁处理的方法，其特征在于，采用混合过程产生第三混合或间接磁化流体包括：
a)提供用于接收第二正常、非磁化的流体的第一容器；
b)提供用于接收第一直接磁化的流体的第二较小容器；以及
c)提供用于接收混合或间接磁化的流体的第三容器；其中，第二较小容器从第一容器接收第二正常、非磁化的流体的受控流，并向第三容器输出包含第一直接磁化的流体和第二正常、非磁化的流体的混合或间接磁化的流体的流。
11.如权利要求1所述的对流体进行间接磁处理的方法，其特征在于，用于混合过程中的第一直接磁化的流体和第二正常、非磁化的流体具有相似的化学结构或者不同的化学结构。
12.如权利要求1所述的对流体进行间接磁处理的方法，其特征在于，直接磁化的流体在混合过程中直接使用，或者短暂存储或长期存储，以在以后的混合过程中使用。
13.如权利要求1所述的对流体进行间接磁处理的方法，其特征在于，混合或间接磁化的流体直接用于预期用途，或者短暂存储或长期存储，以在以后用于预期用途。
14.如权利要求1所述的对流体进行间接磁处理的方法，其特征在于，混合或间接磁化的流体用作磁化剂或磁处理剂，根据混合比，对正常、非磁化的流体进行不止一次的磁化。
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