CN103687915A - 可用于太阳能电池制造工艺中的油墨组合物以及使用该组合物形成图案的方法 - Google Patents

可用于太阳能电池制造工艺中的油墨组合物以及使用该组合物形成图案的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN103687915A
CN103687915A CN201380002253.6A CN201380002253A CN103687915A CN 103687915 A CN103687915 A CN 103687915A CN 201380002253 A CN201380002253 A CN 201380002253A CN 103687915 A CN103687915 A CN 103687915A
Authority
CN
China
Prior art keywords
ink composite
ink
weight part
pattern
fluorinated surfactant
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201380002253.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103687915B (zh
Inventor
柳民儿
具勇成
金俊衡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Corp
Original Assignee
LG Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Chemical Co Ltd filed Critical LG Chemical Co Ltd
Priority claimed from PCT/KR2013/003882 external-priority patent/WO2013165223A1/ko
Publication of CN103687915A publication Critical patent/CN103687915A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103687915B publication Critical patent/CN103687915B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01—Ink jet
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/30—Inkjet printing inks
    • C09D11/38—Inkjet printing inks characterised by non-macromolecular additives other than solvents, pigments or dyes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • H01L31/1804—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof comprising only elements of Group IV of the Periodic Table
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0046—Photosensitive materials with perfluoro compounds, e.g. for dry lithography
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G03F7/0392—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition
    • G03F7/0397—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition the macromolecular compound having an alicyclic moiety in a side chain
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/547—Monocrystalline silicon PV cells
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)

Abstract

本发明涉及一种可用于太阳能电池制造工艺中的油墨组合物。更具体而言，本发明涉及可用于太阳能电池制造工艺中的油墨组合物，其中所述油墨组合物包含：a)具有烯属不饱和键的可聚合化合物；b)氟化表面活性剂；和c)溶剂，所述油墨组合物的固体含量为45重量份至99.99重量份。本发明还涉及使用所述油墨组合物形成图案的方法以及由所述油墨组合物形成的绝缘膜和蚀刻掩模。

Description

可用于太阳能电池制造工艺中的油墨组合物以及使用该组合物形成图案的方法
技术领域
本发明涉及一种油墨组合物以及使用该油墨组合物形成图案的方法，所述油墨组合物的流动性可以调节，在太阳能电池制造方法中可以用于在不规则硅基片上形成图案。
背景技术
将太阳能转化成电能的太阳能电池是太阳能发电的核心装置。目前，将太阳能电池用于各种领域以向电气或电子产品、房屋、建筑物等供电。
太阳能电池的制造方法包括电镀法和蚀刻法。此类方法需要用于选择性地在太阳能电池上掩蔽硅基片的某些区域和形成绝缘膜的材料。在相关领域中，此类材料通常通过丝网印刷法涂布到基片上。然而，在这种情况下，难以获得太阳能电池所需的精细线宽。
此外，为了降低太阳能电池的制造成本，人们对使用薄硅基片已经进行了很多尝试。在这种情况下，如果使用丝网印刷法，由于丝网印刷法中是通过物理接触来形成图案的，因此太阳能电池易被损坏或断裂。
因此，人们对使用非接触型喷墨印刷法代替接触型丝网印刷法形成图案的技术的兴趣日益增长。也就是说，如果使用喷墨印刷法，就能通过非接触法形成具有精细线宽的电极图案、蚀刻薄膜图案或者绝缘薄膜图案。
然而，用于喷墨印刷的常规油墨组合物是高粘性的，由于油墨组合物可能流经不规则的硅基片，因此在太阳能电池制造工艺中难以使用这类常规油墨组合物在不规则硅基片上形成图案。因此，有必要开发一种在喷墨印刷法中用于在不规则硅基片上形成图案的油墨组合物。
发明内容
技术问题
本发明提供一种油墨组合物以及使用该油墨组合物形成图案的方法，所述油墨组合物的流动性可以调节，在太阳能电池制造工艺中用于在不规则硅基片上形成图案。
技术方案
根据本发明的一个方面，提供一种可用于太阳能电池制造工艺中的油墨组合物，所述油墨组合物包含：a)具有烯属不饱和键的可聚合化合物；b)氟化表面活性剂；和c)溶剂；其中基于所述油墨组合物的总重量，所述油墨组合物的固体含量为45重量份至99.99重量份。
根据本发明的另一个方面，提供一种形成图案的方法，所述方法包括：使用喷墨打印机的喷墨打印头涂布所述油墨组合物；和热处理所述被涂布的油墨组合物。
根据本发明的另一个方面，提供一种蚀刻掩模，所述蚀刻掩模由所述油墨组合物在用于制造太阳能电池的不规则硅基片上形成。
根据本发明的另一个方面，提供一种绝缘膜，所述绝缘膜由所述油墨组合物在用于制造太阳能电池的不规则硅基片上形成。
有益效果
根据本发明，可用于太阳能电池制造工艺的所述油墨组合物通过改变油墨组合物的固体含量可以调节流动性，因而即使在不规则的硅基片上仍可以由所述油墨组合物形成图案。
此外，因为在使用所述油墨组合物形成图案的方法中使用非接触型喷墨打印机，所以通过该方法可以适当形成图案的精细线，因此所述方法可以用于形成太阳能电池。
此外，在太阳能电池制造工艺中，通过调节所述油墨组合物中包含的助粘剂的浓度和图案形成过程中热处理的温度，所述油墨组合物可以用于形成绝缘膜或者蚀刻掩模。
附图说明
图1是通过在不规则硅基片上喷射实施例1制备的油墨组合物形成的图案的图像；
图2是通过在不规则硅基片上喷射实施例2制备的油墨组合物形成的图案的图像；
图3是通过在不规则硅基片上喷射实施例3制备的油墨组合物形成的图案的图像；
图4是通过在不规则硅基片上喷射对比例1制备的油墨组合物形成的图案的图像；
图5是通过在不规则硅基片上喷射对比例2制备的油墨组合物形成的图案的图像；
图6是通过在不规则硅基片上喷射对比例3制备的油墨组合物形成的图案的图像；和
图7是通过在不规则硅基片上喷射对比例4制备的油墨组合物形成的图案的图像。
具体实施方式
以下，将参考附图详细描述本发明的实施方案。然而，本发明可以以很多不同的形式实现，而不应解释为仅限于在此列出的这些实施方案。更确切地，提供这些实施方案以使本公开内容全面和完整，并将本发明的范围充分传达给本领域技术人员。
本发明的一个实施方案提供一种可用于太阳能电池制造工艺中的油墨组合物。所述油墨组合物包含：a)具有烯属不饱和键的可聚合化合物，b)氟化表面活性剂，和c)溶剂。基于油墨组合物的总重量，所述油墨组合物的固体含量为45重量份至99.99重量份。
所述a)具有烯属不饱和键的可聚合化合物具有用于聚合的基团。所述油墨组合物包含具有烯属不饱和键的可聚合化合物以提高由所述油墨组合物形成的图案的耐久性。所述具有烯属不饱和键的可聚合化合物具有粘性，因此通过该可聚合化合物可以调节油墨组合物在不规则硅基片上的流动性。
在当前的实施方案中，所述油墨组合物中的a)具有烯属不饱和键的可聚合化合物可以是丙烯酸单体。具体而言，所述具有烯属不饱和键的可聚合化合物可以是可交联的多官能丙烯酸酯。例如，所述具有烯属不饱和键的可聚合化合物可以包括选自以下中的至少两种：新戊二醇二丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、三羟甲基三丙烯酸酯(trimethylol triacrylate)、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯和已二醇二丙烯酸酯。然而，所述具有烯属不饱和键的可聚合化合物不局限于此。
特别地，在当前的实施方案中，所述油墨组合物中具有烯属不饱和键的可聚合化合物可以是二季戊四醇六丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和/或二丙二醇二丙烯酸酯。所述二季戊四醇六丙烯酸酯和三羟甲基丙烷三丙烯酸酯是可以相互交联用于提高油墨组合物的耐化学性的多官能丙烯酸酯。所述二丙二醇二丙烯酸酯具有较低的粘度，因此包含二丙二醇二丙烯酸酯的油墨组合物可以容易通过喷墨打印头进行喷射。
基于所述油墨组合物的总重量，所述油墨组合物可以包含40重量份至98重量份、60重量份至96重量份或者70重量份至94重量份的所述a)具有烯属不饱和键的可聚合化合物。在这种情况下，使用所述油墨组合物可以在不规则硅基片上形成高质量的线图案，并且可以向所述油墨组合物中加入添加剂或者表面活性剂来提高油墨组合物的粘性或者控制油墨组合物的扩散性能。
所述油墨组合物中包含b)氟化表面活性剂以控制所述油墨组合物的扩散性能。所述氟化表面活性剂可以具有高度的消泡性能，以在将油墨组合物供给喷墨印刷装置时防止气泡的形成或除去气泡，从而防止由气泡引起的油墨喷射故障。
在本发明的当前实施方案的所述油墨组合物中，所述b)氟化表面活性剂可以包含聚乙二醇和全氟化碳。在这种情况下，可以容易地控制所述油墨组合物的扩散性能，且所述油墨组合物不易流动。因此，使用所述油墨组合物可以容易地在不规则硅基片上形成图案。
在本发明的当前实施方案中，例如，当制备包含0.1wt%氟化表面活性剂的甲苯溶液时，所述甲苯溶液的表面张力可以在20mN/m至30mN/m，或者23mN/m至27mn/m之内。在另一个实施例中，当制备包含0.1wt%氟化表面活性剂的丙二醇甲醚溶液时，优选所述丙二醇甲醚溶液的表面张力在20mN/m至30mN/m，或者24mN/m至28mN/m之内。在本发明当前实施方案的油墨组合物中，所述包含0.1wt%氟化表面活性剂的甲苯溶液和所述包含0.1wt%氟化表面活性剂的丙二醇甲醚溶液的表面张力都可以在上述范围内。在这种情况下，所述油墨组合物可以恰当地覆盖不规则硅基片，而不会在不规则硅基片上过分扩散。因此，可以在不规则硅基片上稳定地形成和保持图案。此处，所述术语“表面张力”表示空气和溶液之间的张力。此外，使用Du NouyRing张力测量计在室温下测量表面张力值。
基于所述油墨组合物的总重量，所述油墨组合物可以包含0.01重量份至1.0重量份的氟化表面活性剂、0.01重量份至0.5重量份的氟化表面活性剂或者0.03重量份至0.1重量份的氟化表面活性剂。在这种情况下，使用所述油墨组合物可以形成具有高度重现性的图案，并可以改善油墨组合物的可储存性。
所述c)溶剂可以是用于控制所述油墨组合物的粘度和由所述油墨组合物形成的薄膜厚度的有机溶剂。例如，所述溶剂可以包括选自以下中的至少一种：二乙二醇丁基甲基醚、二乙二醇单丁基醚乙酸酯、二乙二醇单甲基醚乙酸酯、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇单乙基醚乙酸酯、二丙二醇甲醚乙酸酯、乳酸丁酯、乙酸乙氧基乙酯、乙二醇单丁醚、乙二醇单丁醚乙酸酯、乙氧基丙酸乙酯、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚和丙二醇丁醚。然而，所述溶剂不局限于此。
基于油墨组合物的总重量，所述油墨组合物可以包含0.001重量份至55重量份的c)溶剂。在这种情况下，可以降低所述油墨组合物的扩散，因而使用所述油墨组合物可以均匀形成线图案。
换句话说，基于油墨组合物的总重量，优选所述油墨组合物的固体含量(排除c)溶剂)在45重量份至99.99重量份、63重量份至99.99重量份或者70重量份至99.99重量份的范围内。当固体含量增加时，所述油墨组合物较少扩散，因而可以由所述油墨组合物稳定地形成均匀的图案。
所述溶剂可以是一种或更多种沸点均为140℃至250℃的物质的混合物。在这种情况下，喷墨打印机喷嘴表面上的油墨组合物不会干燥，因而所述油墨组合物可以流畅地通过喷嘴进行喷射。在由所述油墨组合物形成图案之后，所述溶剂可以被完全蒸发。也就是说，可以提高图案形成方法的生产率。
任选地，当前实施方案的油墨组合物还可以包含助粘剂，以增加对硅基片的粘着力。如果在太阳能电池制造工艺中使用当前实施方案的油墨组合物在基片上形成蚀刻掩模，由于增加了油墨组合物粘着力，当使用酸溶液处理基片以选择性蚀刻发射层时可以防止图案的分离。
所述助粘剂可以包含通过水解形成硅烷醇基的取代基，或者所述助粘剂的分子可以包含甲氧基甲硅烷基或乙氧基甲硅烷基。所述助粘剂可以包括选自以下中的至少一种：乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷和甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷。然而，所述助粘剂不局限于此。
基于油墨组合物的总重量，所述油墨组合物可以包含0.1重量份至5.0重量份的助粘剂。在这种情况下，可以改善所述油墨组合物的可储存性。此外，当将所述油墨组合物用于形成蚀刻掩模时，可以防止酸溶液处理期间图案的分离或断裂。
任选地，当前实施方案的油墨组合物还可以包含至少一种选自聚合引发剂和粘合剂中的添加剂。
所述聚合引发剂可以包括热引发剂、光引发剂或者它们的组合，以便硬化所述具有烯属不饱和键的可聚合化合物。如果所述聚合引发剂包括热引发剂，则所述油墨组合物可以通过一步热处理法从油墨组合物中除去溶剂而被硬化，不必进行另外的步骤。
基于所述油墨组合物的总重量，优选所述油墨组合物包含0.1重量份至5.0重量份的所述聚合引发剂。在这种情况下，可以保证有足够的基团用于热聚合，且可以充分溶解所述聚合引发剂以减少由油墨组合物形成绝缘膜时的表面缺陷。此外，使用剥离液(stripper)可以容易地去除由所述油墨组合物形成的蚀刻掩模。
例如，所述热引发剂可以包括选自偶氮化合物、有机过氧化物和过氧化氢中的至少一种。然而，所述热引发剂不局限于此。
所述光引发剂可以包括相关领域已知的光聚合引发剂或者光敏剂。然而，光引发剂不局限于此。例如，所述光引发剂可以包括选自三嗪化合物、非咪唑化合物、苯乙酮化合物、二苯甲酮化合物和噻吨酮化合物中的至少一种。
当所述油墨组合物形成油墨薄膜时，所述粘合剂可以增加油墨薄膜的粘着力，促进油墨薄膜的形成，并调节油墨薄膜的强度。所述粘合剂的类型或种类没有限制，只要所述粘合剂对所述油墨组合物的性能没有影响即可。例如，所述粘合剂可以包括选自以下中的一种或多种单体的共聚物：苯乙烯、氯苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、(甲基)丙烯酸2-乙基己基酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸二环戊基酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸四氢化糠基酯、(甲基)丙烯酸羟乙基酯、(甲基)丙烯酸2-羟乙基酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙基酯、2-羟基-3-氯丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羟丁基酯、(甲基)丙烯酸4-羟丁基酯、二甲基氨基甲基(甲基)丙烯酸酯、二乙基氨基(甲基)丙烯酸酯(diethylamino(meth)acrylate)、酰基辛氧基-2-羟丙基(甲基)丙烯酸酯(acyloctyloxy-2-hydroxypropyl(meth)acrylate)、丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁基酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸乙氧基二甘醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基二甘醇酯、(甲基)丙烯酸对壬基苯氧基聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸对壬基苯氧基聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸四氟丙基酯、(甲基)丙烯酸1,1,1,3,3,3-六氟异丙基酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、甲基-α-羟甲基丙烯酸酯、乙基-α-羟甲基丙烯酸酯、丙基-α-羟甲基丙烯酸酯、丁基-α-羟甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸月桂酯，N-苯基马来酰亚胺，N-(4-氯苯基)马来酰亚胺、甲基丙烯酸、马来酸和衣康酸。然而，粘合剂不局限于此。优选所述粘合剂的分子量为4,000至50,000。
基于油墨组合物的总重量，优选所述油墨组合物包含0.01重量份至8重量份的粘合剂。在这种情况下，所述油墨组合物的粘度不高，因而所述油墨组合物可以容易地形成图案。
在本发明当前的实施方案中，优选用于太阳能电池制造工艺中的所述油墨组合物的接触角为30°至60°。此处，术语“接触角”表示当墨滴滴在基底上时，基底表面与自基底和墨滴的接触点的墨滴表面切线的延长线之间的夹角。例如，所述墨滴的接触角可以使用接触角计量器(来自KRUSS的DSA100)测量。在本发明的实施方案中，测量墨滴滴在玻璃基片上的接触角。如果油墨(组合物)墨滴的接触角在上述范围内，则所述油墨组合物在不规则硅基片的扩散量可以较低，从而可以容易地形成具有期望线宽的图案。此外，还可以防止部分油墨凝块，从而可以连续地在基片上形成与基片具有高度粘着力的图案。
下面，根据本发明实施方案将描述图案形成方法。
所述图案形成方法包括：使用喷墨打印机的喷墨打印头涂布前述实施方案描述的油墨组合物；和热处理被涂布的油墨组合物。
可以将所述油墨组合物涂布到玻璃基片、硅基片或者其上沉积有金属、SiO2或ITO的基片上。例如，可以将所述油墨组合物涂布到用于形成太阳能电池的不规则硅基片上。
通过使用喷墨打印头的非接触法可以将所述油墨组合物涂布到基片上。可以加热喷墨打印头以降低油墨组合物的粘度，并由此使得油墨组合物易于通过喷墨打印头进行喷射。
例如，优选将喷墨打印头加热至40℃至80℃，以将油墨组合物的粘度降至10cP-20cP。在这种情况下，由于油墨组合物的粘度低，油墨组合物可以通过喷墨打印头稳定地喷射，而不会导致喷墨打印机驱动单元的任何故障。此外，也可以改进油墨组合物的可储存性。
所述涂布后的油墨组合物的热处理可以使用真空烘干机、对流烘箱、加热板或者IR烘箱进行，以通过干燥所述油墨组合物形成薄膜。热处理可以在130℃至250℃的温度范围内进行。如果热处理温度超出所述范围，由于硬化不足，由所述油墨组合物形成的薄膜不能用作蚀刻掩模或者绝缘膜，在使用由所述油墨组合物形成的薄膜作为蚀刻掩模的情况下，可能难以去除图案。此外，反应物可能被部分烧掉。
在根据所述实施方案使用油墨组合物形成图案的方法中，如果使用油墨组合物形成蚀刻掩模，则油墨组合物的热处理可以在160℃至200℃的温度范围内进行。在这种情况下，所述蚀刻掩模(掩模图案)在接下来的使用蚀刻掩模选择性地蚀刻发射极层的发射极成形工序中对蚀刻环境具有高度的抗性。因此，可以防止图案的分离或者断裂，且在发射极成形工序之后，使用碱溶液可以容易地去除所述蚀刻掩模。
在根据所述实施方案使用所述油墨组合物形成图案的方法中，如果使用所述油墨组合物形成绝缘膜，则油墨组合物的热处理可以在220℃至250℃的温度范围内进行。在这种情况下，由于热处理温度高，可以充分硬化所述油墨组合物。
在当前的实施方案中，可以使用油墨组合物在用于形成太阳能电池的不规则硅基片上形成蚀刻掩模。
蚀刻掩模可以通过本发明所属领域已知的方法形成，或者通过当前实施方案的图案形成方法形成的图案也可以用作所述蚀刻掩模。
如果使用当前实施方案的图案形成方法形成的蚀刻掩模制造太阳能电池，则所述蚀刻掩模对于选择性发射极成形工序中的蚀刻环境的抗性可以很高，在使用后通过碱溶液可以容易地去除所述蚀刻掩模。因此，可以制造具有高度的重现性和稳定性的太阳能电池。
在当前的实施方案中，可以使用所述油墨组合物在太阳能电池制造工艺中的不规则硅基片上形成绝缘膜。
所述绝缘膜可以通过本发明所属领域已知的方法形成，或者通过当前实施方案的图案形成方法形成的图案也可以用作所述绝缘膜。
实施例
制备实施例1：粘合剂A的制备
在反应器中将1.6重量份的热引发剂V65溶于溶剂中，并向反应器中添加摩尔比为68/32的(甲基)丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸。此后，使混合物在氮气氛中在65℃下反应7.5小时。将反应获得的共聚物溶液引入装有搅拌器的烧瓶中，并向烧瓶中添加(甲基)丙烯酸缩水甘油酯。然后，使混合物在110℃下反应6小时，从而获得丙烯酸系共聚物。
制备实施例2：粘合剂B的制备
在反应器中将1.6重量份的热引发剂V65溶于溶剂中，并向反应器中添加摩尔比为52/19/12/17的(甲基)丙烯酸苄酯/苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸月桂酯。此后，使混合物在氮气氛中在65℃下反应7.5小时，从而获得粘合剂树脂。
实施例1
根据本发明通过混合以下物质2小时，制备100重量份的油墨组合物：1.00重量份的粘合剂A；93.24重量份的二季戊四醇六丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和二丙二醇二丙烯酸酯的可聚合化合物混合物；2.00重量份的甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷；0.04重量份的氟化表面活性剂；0.25重量份的作为引发剂的V40(Wako制造)；和3.47重量份的作为溶剂的二乙二醇甲基丁基醚。
基于所述油墨组合物的总重量份，通过去除溶剂的重量份以其它组分的总重量份计算所述油墨组合物的固体含量，使用粘度计量器在室温下(25℃)测量所述油墨组合物的粘度。
实施例2至3和对比例1至4
以与实施例1相同的方式制备具有如下表1所示组分的油墨组合物。
[表1]
DPHA1：二季戊四醇六丙烯酸酯
TMPTA2：三羟甲基丙烷三丙烯酸酯
DPGDA3：二丙二醇二丙烯酸酯
**：硅氧烷表面活性剂
实验实施例
线图案形成
将实施例1至3和对比例1至4中制备的油墨组合物喷射到不规则硅基片上形成图案。通过喷墨打印头分别在45.5℃、37.6℃和42.7℃下喷射实施例1和对比例3的油墨组合物、对比例1的油墨组合物和对比例2的油墨组合物。在室温下通过喷墨打印头喷射实施例2和3以及对比例4的油墨组合物。在图案形成之后，在130℃或者更高的温度下热处理所述油墨组合物(图案)，以去除溶剂和硬化所述具有烯属不饱和键的可聚合化合物。
确定实施例1至3和对比例1至4的油墨组合物是否能形成线图案，结果表示在下表2中。使用光学显微镜观察线图案。在下表2中，“O”表示线图案良好，用“×”表示没有形成线图案的情况。
[表2]
实验号 线图案的形成
实施例1 O
实施例2 O
实施例3 O
对比例1 X
对比例2 X
对比例3 X
对比例4 X
图1至3是通过在不规则硅基片上喷射实施例1至3的油墨组合物形成的图案的图像，图4至7是通过在不规则硅基片上喷射对比例1至4的油墨组合物形成的图案的图像。
参见表2和图1至3，实施例1至3的油墨组合物形成了均匀的线图案。油墨组合物的固体含量越高，形成的线图案越均匀。然而，参见表2和图4至7，对比例1至4的油墨组合物由于油墨组合物的扩散而没有形成线图案。
基于所述结果，可以发现，如果本发明实施方案的油墨组合物的固体含量为40重量份或40重量份以下，所述油墨组合物形成的图案的均匀性会降低。换句话说，当所述油墨组合物固体含量降低时，油墨组合物的扩散量增加。如果所述油墨组合物的固体含量为40重量份或40重量份以下，使用所述油墨组合物难以形成线图案。此外，所述油墨组合物在不规则硅基片上形成图案并将溶剂从油墨组合物中蒸发之后，用于制造太阳能电池的不规则硅基片的尖角或边缘部分没有被图案适当覆盖。此外，在不使用氟化表面活性剂的情况下，虽然油墨组合物的固体含量高，但是使用所述油墨组合物难以在不规则基片上形成线图案。
虽然本发明已经结合上述示例性实施方案进行了展示和描述，但显然本领域技术人员可以在不背离附加权利要求定义的本发明精神和范围内对本发明进行改进和变化。

Claims (19)

1.一种可用于太阳能电池制造工艺中的油墨组合物，该油墨组合物包含：
a)具有烯属不饱和键的可聚合化合物；
b)氟化表面活性剂；和
c)溶剂，
其中，基于油墨组合物的总重量，该油墨组合物的固体含量为45重量份至99.99重量份。
2.根据权利要求1所述的油墨组合物，其中，每100重量份的油墨组合物包含：
a)40重量份至98重量份的具有烯属不饱和键的可聚合化合物；
b)0.01重量份至1.0重量份的氟化表面活性剂；和
c)0.001重量份至55重量份的溶剂。
3.根据权利要求1所述的油墨组合物，其中，所述具有烯属不饱和键的可聚合化合物包括选自以下中的至少两种的混合物：二季戊四醇六丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和三丙二醇二丙烯酸酯。
4.根据权利要求1所述的油墨组合物，其中，所述氟化表面活性剂包含聚乙二醇和全氟化碳。
5.根据权利要求1所述的油墨组合物，其中，包含0.1wt%所述氟化表面活性剂的甲苯溶液的表面张力为20mN/m至30mN/m。
6.根据权利要求1所述的油墨组合物，其中，包含0.1wt%所述氟化表面活性剂的甲苯溶液的表面张力为23mN/m至27mN/m。
7.根据权利要求1所述的油墨组合物，其中，包含0.1wt%所述氟化表面活性剂的丙二醇甲醚溶液的表面张力为20mN/m至30mN/m。
8.根据权利要求1所述的油墨组合物，其中，包含0.1wt%所述氟化表面活性剂的丙二醇甲醚溶液的表面张力为24mN/m至28mN/m。
9.根据权利要求1所述的油墨组合物，其中，所述溶剂包括选自以下中的至少一种：二乙二醇甲基丁基醚、二乙二醇单丁基醚乙酸酯、二乙二醇单甲基醚乙酸酯、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇单乙基醚乙酸酯、二丙二醇甲醚乙酸酯、乳酸丁酯、乙酸乙氧基乙酯、乙二醇单丁醚、乙二醇单丁醚乙酸酯、乙氧基丙酸乙酯、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚和丙二醇丁醚。
10.根据权利要求1所述的油墨组合物，还包含助粘剂。
11.根据权利要求10所述的油墨组合物，其中，所述助粘剂含有通过水解形成硅烷醇基的取代基，或者所述助粘剂的分子含有甲氧基甲硅烷基或乙氧基甲硅烷基，并且，基于油墨组合物的总重量，该油墨组合物包含0.1重量份至5.0重量份的助粘剂。
12.根据权利要求1所述的油墨组合物，还包含至少一种选自聚合引发剂和粘合剂中的添加剂。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的油墨组合物，其中，所述油墨组合物以30°至60°的接触角与玻璃基片接触。
14.一种形成图案的方法，包括：
使用喷墨打印机涂布权利要求1所述的油墨组合物；和
在130℃至250℃的温度下热处理被涂布的油墨组合物。
15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述油墨组合物的涂布包括将喷墨打印机的打印头加热至40℃至80℃的温度，以将油墨组合物的粘度调节到10cP至20cP的范围。
16.根据权利要求14所述的方法，其中，所述热处理在160℃至200℃的温度下进行。
17.根据权利要求14所述的方法，其中，所述热处理在220℃至250℃的温度下进行。
18.一种蚀刻掩模，该蚀刻掩模使用权利要求1所述的油墨组合物形成。
19.一种绝缘膜，该绝缘膜使用权利要求1所述的油墨组合物形成。
CN201380002253.6A 2012-05-03 2013-05-03 可用于太阳能电池制造工艺中的油墨组合物以及使用该组合物形成图案的方法 Active CN103687915B (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2012-0046866 2012-05-03
KR20120046866 2012-05-03
KR1020130050314A KR101431485B1 (ko) 2012-05-03 2013-05-03 태양전지 제조에서 이용 가능한 잉크 조성물 및 이를 이용한 패턴형성방법
KR10-2013-0050314 2013-05-03
PCT/KR2013/003882 WO2013165223A1 (ko) 2012-05-03 2013-05-03 태양전지 제조에서 이용 가능한 잉크 조성물 및 이를 이용한 패턴형성방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103687915A true CN103687915A (zh) 2014-03-26
CN103687915B CN103687915B (zh) 2015-06-17

Family

ID=49853246

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201380002253.6A Active CN103687915B (zh) 2012-05-03 2013-05-03 可用于太阳能电池制造工艺中的油墨组合物以及使用该组合物形成图案的方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9302466B2 (zh)
KR (1) KR101431485B1 (zh)
CN (1) CN103687915B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113148439A (zh) * 2016-12-28 2021-07-23 株式会社Lg化学 阳离子可聚合组合物的包装容器以及使用该包装容器的包装方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5776129B1 (ja) * 2014-03-26 2015-09-09 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 活性エネルギー線硬化型インクジェットインキ組成物
US20170298240A1 (en) 2016-04-13 2017-10-19 Inx International Ink Co. Solvent-uv hybrid inkjet ink for aluminum beverage can decoration

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101354533A (zh) * 2007-07-09 2009-01-28 Jsr株式会社 感光性糊剂组合物和图案形成方法
US20090163615A1 (en) * 2005-08-31 2009-06-25 Izhar Halahmi Uv curable hybridcuring ink jet ink composition and solder mask using the same
CN101771102A (zh) * 2008-12-30 2010-07-07 武汉楚天激光（集团）股份有限公司 在薄膜光伏电池板制造上的激光刻膜工艺方法
KR100983010B1 (ko) * 2007-12-27 2010-09-17 한국생산기술연구원 잉크젯을 이용한 유기박막 태양전지 제조방법

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100733920B1 (ko) * 2004-09-17 2007-07-02 주식회사 엘지화학 에칭 레지스트용 잉크 조성물, 이를 이용한 에칭 레지스트패턴 형성 방법 및 미세 유로 형성 방법
KR100955977B1 (ko) 2005-06-03 2010-05-04 다이킨 고교 가부시키가이샤 패턴 형성용 표면 처리제
US7735989B2 (en) * 2005-12-15 2010-06-15 E.I. Du Pont De Nemours And Company Curable inkjet ink
JP5477150B2 (ja) 2010-04-28 2014-04-23 Ｊｎｃ株式会社 インクジェット用インクおよびその用途
KR101896943B1 (ko) 2010-10-13 2018-09-11 제이엔씨 주식회사 광경화성 조성물

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090163615A1 (en) * 2005-08-31 2009-06-25 Izhar Halahmi Uv curable hybridcuring ink jet ink composition and solder mask using the same
CN101354533A (zh) * 2007-07-09 2009-01-28 Jsr株式会社 感光性糊剂组合物和图案形成方法
KR100983010B1 (ko) * 2007-12-27 2010-09-17 한국생산기술연구원 잉크젯을 이용한 유기박막 태양전지 제조방법
CN101771102A (zh) * 2008-12-30 2010-07-07 武汉楚天激光（集团）股份有限公司 在薄膜光伏电池板制造上的激光刻膜工艺方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113148439A (zh) * 2016-12-28 2021-07-23 株式会社Lg化学 阳离子可聚合组合物的包装容器以及使用该包装容器的包装方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130124227A (ko) 2013-11-13
KR101431485B1 (ko) 2014-08-26
US9302466B2 (en) 2016-04-05
US20140199527A1 (en) 2014-07-17
CN103687915B (zh) 2015-06-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106715607B (zh) 用于制造导电图案的抗蚀刻喷墨油墨
KR102116535B1 (ko) 자외선 자유 라디칼 경화성 잉크젯 잉크를 사용한 인쇄 회로 기판 제조
CN100378132C (zh) 喷墨用光固化性和热固化性组合物以及使用该组合物的印刷电路板
CN103154316B (zh) 金属膜材料及金属膜材料的制造方法
KR102080870B1 (ko) 에칭된 유리 물품의 제조 방법
CN108919605B (zh) 光阻组合物、像素界定层、其制备方法及应用
CN103687915B (zh) 可用于太阳能电池制造工艺中的油墨组合物以及使用该组合物形成图案的方法
JP2006243588A (ja) カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法
JPWO2005116763A1 (ja) グラフトパターン形成方法、グラフトパターン材料、リソグラフィ方法、導電性パターン形成方法、導電性パターン、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及びマイクロレンズの製造方法
CN105176377A (zh) 双重固化微凹涂布硬化液和含硬化涂层的pet硬化膜
JP2014172271A (ja) 多層構成物、及び、多層構成物の製造方法
EP3372388B1 (en) Method for forming three-dimensional object
CN103113822A (zh) 具有露珠效果的紫外光固化涂料及其制备方法和涂覆方法
CN1703652A (zh) 液晶显示装置的制造方法
KR101675446B1 (ko) 표면 처리제
CN102482525B (zh) 用于形成透明膜的喷墨组合物以及由该喷墨组合物形成的透明膜
TW202108709A (zh) 熱硬化性噴墨塗料
EP3210946A1 (en) Method of manufacturing an etched glass article
KR101025796B1 (ko) 패턴도광판과 개량된 제조방법
TWI796731B (zh) 硬化性組成物、防焊用塗料及印刷電路基板
JP4920334B2 (ja) カラーフィルタの製造方法
JP2007335442A (ja) 導電性パターン及び導電性パターンの作製方法
CN112135846B (zh) 聚合性组合物、喷墨用墨水、耐热性可溶构件、立体结构物、及立体造形物的制造方法
KR101598877B1 (ko) 터치 스크린 베젤의 형성 방법 및 이를 이용하여 제조된 터치 스크린 베젤
US20220334297A1 (en) Conductive optical film and method for manufacturing same

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant