CN103539363A - 超薄玻璃的制造方法 - Google Patents
超薄玻璃的制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103539363A CN103539363A CN201210497757.7A CN201210497757A CN103539363A CN 103539363 A CN103539363 A CN 103539363A CN 201210497757 A CN201210497757 A CN 201210497757A CN 103539363 A CN103539363 A CN 103539363A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- atomization
- etching solution
- catheter
- ultra
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 84
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 75
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 claims description 59
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 33
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000003381 solubilizing effect Effects 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hcl hcl Chemical compound Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0095—Solution impregnating; Solution doping; Molecular stuffing, e.g. of porous glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K13/00—Etching, surface-brightening or pickling compositions
- C09K13/04—Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid
- C09K13/08—Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid containing a fluorine compound
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
- H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133302—Rigid substrates, e.g. inorganic substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
一种超薄玻璃的制造方法,包括:提供至少一玻璃;将所述玻璃固定为垂直站立状态;对一蚀刻液进行雾化以得到一雾化的蚀刻液;以及通过至少一导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述导液管具有的至少一喷嘴,经由所述喷嘴喷洒所述雾化的蚀刻液于所述玻璃表面。通过本发明所述方法能制造出平坦的超薄玻璃。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃技术领域,尤其涉及一种超薄玻璃的制造方法。
背景技术
随着电子产品轻薄短小的要求下,例如手持式装置,对超薄玻璃的需求越来越高。
由于超薄玻璃的厚度非常小,因此在制造上并不容易,目前制造超薄玻璃的制造方法是针对一厚度较大的玻璃进行薄化制程以使其厚度变小,而薄化制程主要以蚀刻的方式来蚀刻玻璃的厚度。
然而在蚀刻制程中太多因素会影响超薄玻璃的制造良率,光是蚀刻液就有许多条件不易控制,例如蚀刻液的扰动、蚀刻液的喷淋压力、蚀刻液流量以及蚀刻液温度等等。
举例来说,当上述蚀刻液的条件控制不精确时,制造出的超薄玻璃其表面平坦度差,一旦表面平坦度差,也会使后续在超薄玻璃上制造电子组件的良率不佳,甚至导致超薄玻璃变形或容易破裂的问题。
是以,确有需要对上述超薄玻璃的制造良率不佳的问题提出解决方法。
发明内容
本发明的目的在于提供一种薄玻璃的制造方法,其能制造出表面平坦的超薄玻璃并提高超薄玻璃的制造良率。
为达成上述目的,本发明提供了一种超薄玻璃的制造方法,包括:提供至少一玻璃;将所述玻璃固定为垂直站立状态;对一蚀刻液进行雾化以得到一雾化的蚀刻液;以及通过至少一导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述导液管具有的至少一喷嘴,经由所述喷嘴喷洒所述雾化的蚀刻液于所述玻璃表面。
在通过所述导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述导液管具有的所述喷嘴的步骤中,进一步包括:控制所述雾化的蚀刻液的一喷洒范围、一喷洒压力以及一喷洒均匀性中至少一项。
在控制所述雾化的蚀刻液的步骤中,进一步包括:将所述喷嘴设置于所述导液管表面且平行于所述导液管的轴心的一条线上,并且与所述导液管的内部相通,用以控制所述喷洒范围、所述喷洒压力以及所述喷洒均匀性中至少一项。
在将所述喷嘴设置于所述导液管表面的步骤中,进一步包括:使所述导液管的内部具有一渐变的管径,用以控制所述喷洒范围、所述喷洒压力以及所述喷洒均匀性中至少一项。
进一步,在通过所述导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述导液管具有的所述喷嘴,经由所述喷嘴喷洒所述雾化的蚀刻液于所述玻璃表面的步骤中,使所述玻璃的表面被蚀刻至厚度为0.1毫米至1.5毫米。
进一步,对所述蚀刻液进行雾化的方法为超音速雾化、加压式雾化或涡流式雾化。
进一步,所述蚀刻液至少包含氢氟酸。
为达成上述目的,本发明还提供了一种超薄玻璃的制造方法,包括:提供至少一玻璃;将所述玻璃固定为垂直站立状态;对一蚀刻液进行雾化以得到一雾化的蚀刻液;将至少一喷嘴设置于一导液管表面且平行于所述导液管的轴心的一条在线,并且与所述导液管的内部相通;以及通过所述导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述喷嘴,经由所述喷嘴喷洒所述雾化的蚀刻液于所述玻璃表面。
在通过所述导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述喷嘴的步骤中,进一步包括:控制所述雾化的蚀刻液的一喷洒范围、一喷洒压力以及一喷洒均匀性中至少一项。
在控制所述雾化的蚀刻液的步骤中,进一步包括:使所述导液管的内部具有一渐变的管径,用以控制所述喷洒范围、所述喷洒压力以及所述喷洒均匀性中至少一项。
本发明的超薄玻璃的制造方法以雾化的蚀刻液蚀刻玻璃,制造出的超薄玻璃具有平坦的表面,因此能提高超薄玻璃的制造良率。
附图说明
附图1是本发明所述的超薄玻璃的制造方法流程图;
附图2以及附图3是本发明所述的超薄玻璃的制造方法示意图。
【主要组件符号说明】
10、玻璃; 20、雾化的蚀刻液;
30、导液管; 300、喷嘴;
S100-S140、步骤。
具体实施方式
下面结合附图对本发明提供的超薄玻璃的制造方法的具体实施方式做详细说明。
请参阅附图1至附图3,其中,附图1是本发明所述的超薄玻璃的制造方法流程图,附图2-3是本发明所述的超薄玻璃的制造方法示意图。
首先,在步骤S100中,提供至少一玻璃10。一般来说,玻璃10的厚度约为大于1.5毫米(millimeter; mm)。
在步骤S110中,将所述玻璃10固定为如附图2所示的垂直站立状态。举例来说,以一治具(未图示)夹持所述玻璃10,以使其固定为垂直站立状态。
在步骤S120中,对一蚀刻液(未图示)进行雾化以得到一雾化的蚀刻液20。雾化的方法可以为超音速雾化、加压式雾化或涡流式雾化。
超音速雾化是将蚀刻液经超音速喷射后形成喷雾状。加压式雾化是将蚀刻液加压后形成喷雾状。涡流式雾化则是利用扰流叶片使蚀刻液产生高速旋转,再经由一涡流室将蚀刻液形成喷雾状。
蚀刻液至少包含氢氟酸(HF),也可以使用氢氟酸并调配适量的硫酸(H2SO4)、盐酸(HCL)或硝酸(HNO3)等酸液或具有表面活性剂特质的化学液体作为氧化硅材料溶解反应的缓冲剂,各成分依适当浓度比例调配作为所述蚀刻液。添加上述除HF以外的其它物质所组成的蚀刻液可改善因玻璃(氧化硅)与HF发生溶解反应时因蚀刻液浓度无法达成完全理想均匀,或是有局部浓度集中现象发生时所造成玻璃基板表面的微小缺陷,进而达成较佳的表面均一性与完整性。
在随着薄化需求以及厚度都增大的状况下,不论是喷洒式或是浸泡式玻璃薄化,其蚀刻液配比方式将会是良率及成本的一主要关键。 本发明中除了HF本身会与氧化硅玻璃材质反应外,其它所添加的物质是为了通过其本身较大的分子体积来缓和HF与氧化硅在接触接口因浓度(溶液本身即有理想浓度均匀性的实际困难)与温度(蚀刻为放热反应,该反应越剧烈、单位时间温度上升越快,而温度越高亦会加速蚀刻速率)所产生的蚀刻反应差异。另外主要蚀刻反应:SiO2(S)+4HF(L)-> SiF4(S)+2H2O(L)中所产生的氟化硅(SiF4)固体也会造成玻璃蚀刻反应后的缺陷,因为会有反应产生物附着在原有玻璃材质表面(HF无法接触玻璃将其反应)造成蚀刻反应不均而形成微小缺陷。因此,适当的添加其它物质所形成的蚀刻液本身可以形成良好的润滑特性(例如硫酸还有表面活性剂等本身的特性),以避免氟化硅颗粒附着的现象,也能改善蚀刻后的质量,同时也能改善因氟化硅固体在管路中凝结所造成的堵塞现象。
在步骤S130中,通过至少一导液管30传送雾化的蚀刻液20至其具有的至少一喷嘴300,经由所述喷嘴300喷洒雾化的蚀刻液20于所述玻璃10表面,以使所述玻璃10被薄化至厚度为0.1毫米至1.5毫米,也就是说,薄化至超薄玻璃的厚度。
在一实施例中,本步骤可以进一步包括控制雾化的蚀刻液20的喷洒范围、喷洒压力以及喷洒均匀性中至少一项的步骤。
在另一实施例中,本步骤可以进一步包括将喷嘴300设置于导液管30表面且平行于导液管30的轴心的一条线上,并且与导液管30的内部相通,用以控制喷洒范围、喷洒压力以及喷洒均匀性中至少一项的步骤。
在另一实施例中,本步骤可以进一步包括使导液管30的内部具有一渐变的管径(如附图3所示),用以控制喷洒范围、喷洒压力以及喷洒均匀性中至少一项的步骤。更明确地说,导液管30的内部为渐变的管径具有加压的功能,使雾化的蚀刻液20的喷洒范围、喷洒压力以及喷洒均匀性更容易控制。由于导液管30的内部为渐变的管径,因此可以节省雾化的蚀刻液20的使用量,达到降低超薄玻璃的制造成本。
要注意的是,将雾化的蚀刻液20喷洒于所述玻璃10表面除了能达成薄化玻璃10的目的之外,还能进一步移除玻璃10表面上的微尘粒子,达到清洁玻璃10表面的目的。
在步骤S140中,清洗玻璃10的表面,完成超薄玻璃的制造。
本发明所述的超薄玻璃的制造方法以雾化的蚀刻液蚀刻玻璃,制造出的超薄玻璃具有平坦的表面;再者,通过喷嘴设置于导液管表面且平行于导液管的轴心的一条线上能更容易控制雾化的蚀刻液的喷洒范围、喷洒压力以及喷洒均匀性,提高超薄玻璃的制造良率。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种超薄玻璃的制造方法,其特征在于,包括: 提供至少一玻璃; 将所述玻璃固定为垂直站立状态; 对一蚀刻液进行雾化以得到一雾化的蚀刻液;以及 通过至少一导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述导液管具有的至少一喷嘴,经由所述喷嘴喷洒所述雾化的蚀刻液于所述玻璃表面。
2.根据权利要求1所述的超薄玻璃的制造方法,其特征在于,在通过所述导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述导液管具有的所述喷嘴的步骤中,进一步包括:控制所述雾化的蚀刻液的一喷洒范围、一喷洒压力以及一喷洒均匀性中至少一项。
3.根据权利要求2所述的超薄玻璃的制造方法,其特征在于,在控制所述雾化的蚀刻液的步骤中,进一步包括:将所述喷嘴设置于所述导液管表面且平行于所述导液管的轴心的一条线上,并且与所述导液管的内部相通,用以控制所述喷洒范围、所述喷洒压力以及所述喷洒均匀性中至少一项。
4.根据权利要求3所述的超薄玻璃的制造方法,其特征在于,在将所述喷嘴设置于所述导液管表面的步骤中,进一步包括:使所述导液管的内部具有一渐变的管径,用以控制所述喷洒范围、所述喷洒压力以及所述喷洒均匀性中至少一项。
5.根据权利要求1所述的超薄玻璃的制造方法,其特征在于,在通过所述导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述导液管具有的所述喷嘴,经由所述喷嘴喷洒所述雾化的蚀刻液于所述玻璃表面的步骤中,使所述玻璃的表面被蚀刻至厚度为0.1毫米至1.5毫米。
6.根据权利要求1所述的超薄玻璃的制造方法,其特征在于,对所述蚀刻液进行雾化的方法为超音速雾化、加压式雾化或涡流式雾化。
7.根据权利要求1所述的超薄玻璃的制造方法,其特征在于,所述蚀刻液至少包含氢氟酸。
8.一种超薄玻璃的制造方法,其特征在于,包括: 提供至少一玻璃; 将所述玻璃固定为垂直站立状态; 对一蚀刻液进行雾化以得到一雾化的蚀刻液; 将至少一喷嘴设置于一导液管表面且平行于所述导液管的轴心的一条线上,并且与所述导液管的内部相通;以及 通过所述导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述喷嘴,经由所述喷嘴喷洒所述雾化的蚀刻液于所述玻璃表面。
9.根据权利要求8所述的超薄玻璃的制造方法,其特征在于,在通过所述导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述喷嘴的步骤中,进一步包括:控制所述雾化的蚀刻液的一喷洒范围、一喷洒压力以及一喷洒均匀性中至少一项。
10.根据权利要求9所述的超薄玻璃的制造方法,其特征在于,在控制所述雾化的蚀刻液的步骤中,进一步包括:使所述导液管的内部具有一渐变的管径,用以控制所述喷洒范围、所述喷洒压力以及所述喷洒均匀性中至少一项。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW101124655A TW201402492A (zh) | 2012-07-09 | 2012-07-09 | 超薄玻璃之製造方法 |
TW101124655 | 2012-07-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103539363A true CN103539363A (zh) | 2014-01-29 |
Family
ID=49963281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201210497757.7A Pending CN103539363A (zh) | 2012-07-09 | 2012-11-29 | 超薄玻璃的制造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20140007252A (zh) |
CN (1) | CN103539363A (zh) |
TW (1) | TW201402492A (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107946482A (zh) * | 2017-11-09 | 2018-04-20 | 信利半导体有限公司 | 一种柔性显示器的制作方法 |
CN108978424A (zh) * | 2018-09-12 | 2018-12-11 | 四川泓毅通建设工程有限公司 | 彩色绿道logo地面立体标识施工工艺 |
WO2021170016A1 (zh) * | 2020-02-25 | 2021-09-02 | 成都拓米双都光电有限公司 | 高精度超薄玻璃的旋转蚀刻装置及旋转蚀刻方法 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9321677B2 (en) | 2014-01-29 | 2016-04-26 | Corning Incorporated | Bendable glass stack assemblies, articles and methods of making the same |
JP7126825B2 (ja) | 2014-08-19 | 2022-08-29 | コーニング インコーポレイテッド | 屈曲可能なガラススタックアセンブリおよびその製造方法 |
EP3224209B1 (en) | 2014-11-26 | 2021-12-15 | Corning Incorporated | Thin glass sheet and system and method for forming the same |
CN108351547B (zh) | 2015-10-13 | 2021-07-13 | 康宁股份有限公司 | 可弯曲电子器件模块、制品及其制造方法 |
JP6968086B2 (ja) | 2016-03-17 | 2021-11-17 | コーニング インコーポレイテッド | 曲げられる電子デバイスモジュールおよび物品、並びにそれを製造するための結合方法 |
WO2019074932A1 (en) | 2017-10-11 | 2019-04-18 | Corning Incorporated | FOLDABLE ELECTRONIC DEVICE MODULES HAVING SHOCK RESISTANCE AND FLEXIBILITY |
WO2020041032A1 (en) | 2018-08-24 | 2020-02-27 | Corning Incorporated | Article comprising puncture resistant laminate with ultra-thin glass layer |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002362945A (ja) * | 2001-06-11 | 2002-12-18 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 基板処理装置 |
CN101051604A (zh) * | 2006-04-07 | 2007-10-10 | 悦城科技股份有限公司 | 面板蚀刻制程的方法及其装置 |
KR20090070792A (ko) * | 2007-12-27 | 2009-07-01 | 주식회사 디에스티 | 유리기판의 식각장치 |
-
2012
- 2012-07-09 TW TW101124655A patent/TW201402492A/zh unknown
- 2012-11-29 CN CN201210497757.7A patent/CN103539363A/zh active Pending
-
2013
- 2013-02-18 KR KR1020130016926A patent/KR20140007252A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002362945A (ja) * | 2001-06-11 | 2002-12-18 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 基板処理装置 |
CN101051604A (zh) * | 2006-04-07 | 2007-10-10 | 悦城科技股份有限公司 | 面板蚀刻制程的方法及其装置 |
KR20090070792A (ko) * | 2007-12-27 | 2009-07-01 | 주식회사 디에스티 | 유리기판의 식각장치 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107946482A (zh) * | 2017-11-09 | 2018-04-20 | 信利半导体有限公司 | 一种柔性显示器的制作方法 |
CN108978424A (zh) * | 2018-09-12 | 2018-12-11 | 四川泓毅通建设工程有限公司 | 彩色绿道logo地面立体标识施工工艺 |
WO2021170016A1 (zh) * | 2020-02-25 | 2021-09-02 | 成都拓米双都光电有限公司 | 高精度超薄玻璃的旋转蚀刻装置及旋转蚀刻方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201402492A (zh) | 2014-01-16 |
KR20140007252A (ko) | 2014-01-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103539363A (zh) | 超薄玻璃的制造方法 | |
CN107414683B (zh) | 一种部分面积磨砂的玻璃表面的制备方法 | |
CN102317168B (zh) | 玻璃容器的内表面处理方法及玻璃容器 | |
CN101209902B (zh) | 玻璃减薄方法 | |
CN101011814A (zh) | 用干冰微粒喷射技术处理透明导电玻璃表面的方法及装置 | |
CN107235641A (zh) | 一种玻璃减薄蚀刻液及其制备方法 | |
MXPA02010634A (es) | Pastas mordientes para superficies inorganicas. | |
JP5565673B2 (ja) | ミストエッチング装置及びミストエッチング方法 | |
CN106048502B (zh) | 纳米yag涂层、其制备方法及应用 | |
CN105189396B (zh) | 玻璃板及玻璃板的制造方法 | |
CN103008216B (zh) | 铝合金压力气瓶的内壁处理工艺及处理装置 | |
CN110498617A (zh) | 化学强化玻璃的制造方法和化学强化玻璃 | |
WO2014061615A1 (ja) | 反射防止性を有するガラスの製造方法および反射防止性を有するガラス | |
CN113444409A (zh) | 一种钛合金表面PTFE-SiO2超疏水涂层的制备方法 | |
TW201739717A (zh) | 用於薄化玻璃的方法 | |
CN107500563A (zh) | 一种用于触摸屏的耐磨损防指纹镀膜玻璃及其制备方法 | |
CN108059356A (zh) | 超薄玻璃的制造方法 | |
CN102874822A (zh) | 一种二氧化硅溶胶、其制法和应用 | |
CN110590174A (zh) | 一种黑板玻璃的制备方法及黑板玻璃 | |
Kirchner et al. | Anisotropic etching of pyramidal silica reliefs with metal masks and hydrofluoric acid | |
CN103539362A (zh) | 超薄玻璃的制造系统 | |
TW201728540A (zh) | 減少顆粒黏著的玻璃製造方法 | |
CN103951281A (zh) | 一种防眩光玻璃加工方法及防眩光玻璃 | |
CN103819079B (zh) | 一种低成本铝硅酸盐玻璃在线增强方法 | |
CN110148555B (zh) | 一种用于势垒前的氢氟酸雾清洗工艺 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140129 |