CN103293727A - 液晶显示装置的阵列基板 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种用于液晶显示装置的阵列基板，所述阵列基板中央为显示区域，所述显示区域四周为非显示区域；所述非显示区域设置有栅极驱动电路和引线；所述栅极驱动电路所在的区域形成有栅极驱动电路膜层；所述引线所在的区域形成有引线膜层，所述引线膜层包括：绝缘层，位于所述阵列基板的所述非显示区域上方；钝化层，位于所述绝缘层上方；多条沿同一方向延伸的引线，位于所述绝缘层的上方和/或下方；所述引线膜层还包括一个或多个垫高片，所述垫高片、绝缘层、钝化层和引线层叠。本发明所提供的液晶显示装置的阵列基板在引线膜层内增设垫高片，减小或消除了阵列基板四周非显示区域的高度差异，使得液晶显示器的显示画面品质提高。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示领域，特别是涉及一种用于液晶显示装置的阵列基板。
背景技术
平面显示器是目前主流的显示器，其中液晶平面显示器因为具有外型轻薄、省电以及无辐射等优点而被广泛地应用于电脑屏幕、移动电话、个人数字助理、平面电视等电子产品上。
液晶平面显示器中包括有液晶面板，通常液晶面板由阵列基板、彩膜基板以及封装于两基板之间的液晶组成。
先前阵列基板上通常外接有硅片制作的驱动芯片，但是现如今，直接将栅极驱动电路（gate driver IC）集成制作在阵列基板的栅极线引线区域上的技术已经产生。其中一种技术是将非晶硅栅极驱动电路(Amorphous Silicon Gatedriver,ASG)与有源矩阵显示集成，即直接将栅极驱动电路（gate driver IC）集成制作在阵列基板的栅极线引线区域上，代替由外接硅片制作的驱动芯片。ASG的应用可以有效地使显示屏变轻，且可以增加显示器的可靠性，减少生产工艺程序，降低产品工艺成本，提高液晶显示面板的集成度。另外，也可以采用多晶硅栅极驱动电路集成制作在阵列基板的栅极线引线区域上，达到代替由外接硅片制作的驱动芯片的目的。但是无论哪种技术，当阵列基板上制作有栅极驱动电路时，阵列基板四周非显示区域上的膜层高度差异较大，发明人研究发现，上述高度差异是影响显示画面品质的本质原因之一。
发明内容
为解决上述阵列基板因四周非显示区域上的膜层具有较大高度差异而导致显示画面品质受影响的问题，本发明提供了以下技术方案。
本发明提供了一种用于液晶显示装置的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板中央为显示区域，所述显示区域四周为非显示区域；
所述非显示区域设置有栅极驱动电路和引线；
所述栅极驱动电路所在的区域形成有栅极驱动电路膜层；
所述引线所在的区域形成有引线膜层，所述引线膜层包括：
绝缘层，位于所述阵列基板的所述非显示区域上方；
钝化层，位于所述绝缘层上方；
多条沿同一方向延伸的引线，全部所述引线位于所述绝缘层的上方或者下方，或者一部分所述引线位于所述绝缘层上方，另一部分所述引线位于所述绝缘层下方；
所述引线膜层还包括一个或多个垫高片；
所述垫高片、绝缘层、钝化层和引线层叠。
优选的，所述垫高片、绝缘层、钝化层和引线层叠的厚度小于或等于所述栅极驱动电路膜层的最大厚度。
优选的，至少一条所述引线所在的区域设置一个或多个垫高片。
优选的，所述引线膜层包括第一垫高片、第二垫高片和第三垫高片中的至少一种垫高片，所述第一垫高片和所述第二垫高片位于所述绝缘层上面，所述第三垫高片位于所述绝缘层下面。
优选的，所述非显示区域包括栅极驱动电路区域、数据线引线区域和公共电极线引线区域；
位于所述数据线引线区域上的所述引线为数据线引线，位于所述公共电极线引线区域上的所述引线为公共电极线引线；
所述数据线引线区域上的所述引线膜层为数据线引线膜层，所述公共电极线引线区域上的所述引线膜层为公共电极线引线膜层；
所述数据线引线膜层和/或所述公共电极线引线膜层包括有第一垫高片、第二垫高片或者第三垫高片中的至少一种垫高片。
优选的，所述数据线引线位于所述绝缘层下面，每一条或者间隔至少一条所述数据线引线上方的所述绝缘层上面有至少一个所述第一垫高片，所述第一垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述数据线引线、所述绝缘层、所述第一垫高片和所述钝化层。
优选的，所述数据线引线位于所述绝缘层上方，每一条或者间隔至少一条所述数据线引线下方的所述绝缘层上面有至少一个所述第二垫高片，所述第二垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述绝缘层、所述第二垫高片、所述数据线引线和所述钝化层。
优选的，所述数据线引线位于所述绝缘层上方，每一条或者间隔至少一条所述数据线引线下方的所述绝缘层下面有至少一个所述第三垫高片，所述第三垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述数据线引线和所述钝化层。
优选的，所述数据线引线位于所述绝缘层上方，每一条或者间隔至少一条所述数据线引线下方的所述绝缘层上面和下面分别有至少一个所述第二垫高片和至少一个所述第三垫高片，所述第二垫高片和所述第三垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述第二垫高片、所述数据线引线和所述钝化层。
优选的，设置于每一条或者间隔至少一条所述数据线引线上方的所述第一垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
优选的，设置于每一条或者间隔至少一条所述数据线引线下方的所述第二垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
优选的，设置于每一条或者间隔至少一条所述数据线引线下方的所述第三垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
优选的，所述数据线引线分为位于所述绝缘层下面的多条第一数据线引线和位于所述绝缘层上方的多条第二数据线引线；每条或者间隔至少一条所述第一数据线引线上方的所述绝缘层上面有至少一个所述第一垫高片，所述第一垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第一数据线引线、所述绝缘层、所述第一垫高片和所述钝化层。
优选的，所述数据线引线分为位于所述绝缘层下面的多条第一数据线引线和位于所述绝缘层上方的多条第二数据线引线；每条或者间隔至少一条所述第二数据线引线下方的所述绝缘层上面有至少一个所述第二垫高片，所述第二垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述绝缘层、所述第二垫高片、所述第二数据线引线和所述钝化层。
优选的，所述数据线引线分为位于所述绝缘层下面的多条第一数据线引线和位于所述绝缘层上方的多条第二数据线引线；每条或者间隔至少一条所述第二数据线引线下方的所述绝缘层下面有至少一个所述第三垫高片，所述第三垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述第二数据线引线和所述钝化层。
优选的，所述数据线引线分为位于所述绝缘层下面的多条第一数据线引线和位于所述绝缘层上方的多条第二数据线引线；每条或者间隔至少一条所述第二数据线引线下方的所述绝缘层上面和下面分别有至少一个所述第二垫高片和至少一个所述第三垫高片，所述第二垫高片和所述第三垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述第二垫高片、所述第二数据线引线和所述钝化层。
优选的，所述数据线引线分为位于所述绝缘层下面的多条第一数据线引线和位于所述绝缘层上方的多条第二数据线引线；每条或者间隔至少一条所述第一数据线引线上方的所述绝缘层上面有至少一个所述第一垫高片，所述第一垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第一数据线引线、所述绝缘层、所述第一垫高片和所述钝化层；每条或者间隔至少一条所述第二数据线引线下方的所述绝缘层上面和下面分别有至少一个所述第二垫高片和至少一个所述第三垫高片，所述第二垫高片和所述第三垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述第二垫高片、所述第二数据线引线和所述钝化层。
优选的，设置于每一条或者间隔至少一条所述第一数据线引线上方的所述第一垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
优选的，设置于每一条或者间隔至少一条所述第二数据线引线下方的所述第二垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
优选的，设置于每一条或者间隔至少一条所述第二数据线引线下方的所述第三垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
优选的，所述公共电极线引线位于所述绝缘层下面，每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线上方的所述绝缘层上面有至少一个所述第一垫高片，所述第一垫高片所在位置的所述公共电极线引线膜层从下到上为所述公共电极线引线、所述绝缘层、所述第一垫高片和所述钝化层。
优选的，所述公共电极线引线位于所述绝缘层上方，每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线下方的所述绝缘层上面有至少一个所述第二垫高片，所述第二垫高片所在位置的所述公共电极线引线膜层从下到上为所述绝缘层、所述第二垫高片、所述公共电极线引线和所述钝化层。
优选的，所述公共电极线引线位于所述绝缘层上方，每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线下方的所述绝缘层下面有至少一个所述第三垫高片，所述第三垫高片所在位置的所述公共电极线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述公共电极线引线和所述钝化层。
优选的，所述公共电极线引线位于所述绝缘层上方，每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线下方的所述绝缘层上面和下面分别有至少一个所述第二垫高片和至少一个所述第三垫高片，所述第二垫高片和所述第三垫高片所在位置的所述公共电极线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述第二垫高片、所述公共电极线引线和所述钝化层。
优选的，设置于每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线上方的所述第一垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
优选的，设置于每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线下方的所述第二垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
优选的，设置于每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线下方的所述第三垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
优选的，所述垫高片由金属材料、半导体材料、绝缘材料或者它们的组合物制成。
优选的，所述第一垫高片包括第一金属片和/或半导体片；所述第二垫高片包括半导体片；所述第三垫高片包括第二金属片。
优选的，所述第一金属片包括数据线金属片；所述第二金属片包括栅极线金属片，所述半导体片包括非晶硅或者多晶硅半导体片。
优选的，所述垫高片的形状为长方型、正方形、圆形、椭圆形或者它们的组合。
优选的，所述垫高片的宽度小于或者等于所述引线的宽度。
优选的，在所述垫高片的位置上方设置有封框胶。
优选的，所述绝缘层和/或所述钝化层为氮化硅材料或者氧化硅材料。
优选的，所述栅极驱动电路区域、数据线引线区域和公共电极线引线区域同时在所述钝化层上设置有平坦层，实现表面平坦化。
与现有技术相比，本发明具有以下优点：
本发明所提供的液晶显示装置的阵列基板在引线膜层内增设垫高片，减小或消除了阵列基板四周非显示区域的高度差异，进而减少或消除了阵列基板与彩膜基板相互之间的距离差异，保证了阵列基板上的透明电极层与彩膜基板上的透明电极层之间形成均匀稳定的电场，以平稳驱动液晶层，使得液晶显示器的显示画面品质提高。
附图说明
图1为阵列基板100的基本结构示意图；
图2为栅极驱动电路膜层110最高处的结构示意图；
图3为数据线引线121的一种布线示意图；
图4为图3所对应的数据线引线膜层120的示意图；
图5为公共电极线引线131的一种布线示意图；
图6为图5所对应的公共电极线引线膜层130的示意图；
图7为现有的液晶显示面板基本结构示意图；
图8为本发明第一实施例数据线引线121的示意图；
图9为本发明第一实施例数据线引线膜层120的示意图；
图10为本发明第二实施例数据线引线膜层120的示意图；
图11为本发明第三实施例数据线引线膜层120的示意图；
图12为本发明第五实施例数据线引线121的示意图；
图13为本发明第五实施例数据线引线膜层120的示意图；
图14为本发明第六实施例数据线引线膜层120的示意图；
图15为本发明第七实施例数据线引线膜层120的示意图；
图16为本发明第十实施例数据线引线膜层120的示意图。
具体实施方式
本说明书中提到的上面和下面是指直接接触的上下位置关系，而上方和下方则既包括直接接触的上下位置关系，又包括不直接接触的上下位置关系。
请参考图1，图1为制作有栅极驱动电路的阵列基板100的结构示意图。阵列基板100中央为显示区域100V，显示区域100V各侧被非显示区域100N环绕。非显示区域100N上形成有栅极驱动电路膜层110(栅极驱动电路区域上的层叠结构定义为栅极驱动电路膜层)，数据线引线膜层120(数据线引线区域上的层叠结构定义为数据线引线膜层)和公共电极线引线膜层130(公共电极线引线区域上的层叠结构定义为公共电极线引线膜层)。
请参考图2，图2为栅极驱动电路膜层110最高处的层叠结构。由于栅极线引线区域制作有栅极驱动电路，栅极驱动电路膜层110中有50%的部分具有如图2所示的最高层叠结构，此最高层叠结构从下到上依次是栅极线引线111，绝缘层100I，栅极驱动电路层112和保护层100P，其中栅极驱动电路层112包括半导体层112a和金属层112b。需要说明的是，阵列基板100上的非显示区域被绝缘层100I和保护层100P所覆盖。
请参考图3，图3为现有数据线引线膜层中数据线引线的一种布线方式，其中数据线引线121包括多条第一数据线引线121a和多条第二数据线引线121b，第一数据线引线121a和第二数据线引线121b相互间隔排列。
请参考图4，图4为图3中沿Ⅰ-Ⅰ线切开数据线引线膜层120得到的剖示图。由图4可知，第一数据线引线121a位于绝缘层100I下面，第二数据线引线121b位于绝缘层100I上面。
从图4中可以看出，数据线引线膜层120最高处的层叠结构有两种，此两种层叠结构从下到上分别为：第一数据线引线121a、绝缘层100I和保护层100P；绝缘层100I、第二数据线引线121b和保护层100P。
需要说明的是，除了图4所显示的布线方式以外，数据线引线还可以有其它的布线方式，例如数据线引线121全部位于绝缘层100I的上面或者下面。但是图4中所显示的布线方式能够使得相临两条数据线引线的距离较大，防止数据线引线之间发生短路，是一种优选的布线方式。
请参考图5，图5为现有公共电极线引线膜层中公共电极线引线的一种布线方式，其中多条公共电极线引线131间隔相同一段距离平行排布。
请参考图6，图6为图5中沿Ⅱ-Ⅱ线切开公共电极线引线膜层130得到的剖示图。由图6可知，公共电极线引线膜层130最高处的层叠结构从下到上为公共电极线引线131、绝缘层100I和保护层100P。
需要说明的是，公共电极线引线除了图6中所示的布线方式外，还可以有其它的布线方式，例如公共电极线引线131全部位于绝缘层100I的上面。
综合以上所述可知，在集成有栅极驱动电路的阵列基板中，栅极驱动电路膜层110的最高处层叠结构比数据线引线膜层120和公共电极线引线膜层130的最高处层叠结构多了一半导体层和一金属层，因而栅极驱动电路膜层110的高度大于数据线引线膜层120和公共电极线引线膜层130的高度。
请参考图7，图7为现有液晶显示面板的基本结构示意图，包括阵列基板100和彩膜基板200，阵列基板100和彩膜基板200周边通过框胶300密封贴合在一起，阵列基板100和彩膜基板200之间封装有液晶层400，在阵列基板100和彩膜基板200之间还分布有间隔支撑物500。阵列基板100上有透明电极层（图7中未示出），该透明电极层与彩膜基板200上带有的透明电极层（图7中未示出）相互配合形成电场，该电场用于驱动上述两透明电极层之间的液晶层400。为了获得高质量的显示图像，阵列基板100和彩膜基板200之间的距离应当在各个位置相等或比较接近，以保证两透明电极层之间的距离相等。如果阵列基板100和彩膜基板200之间的距离在各个位置相差较大，两透明电极层之间形成的电场就不均匀，就会导致不能正常驱动液晶分子，进而降低了液晶显示面板的显示画面品质。
请继续参考图7，由于在阵列基板100的栅极线引线区域上集成有栅极驱动电路，从上面的分析可知，阵列基板100上的栅极驱动电路膜层110的高度H1大于数据线引线膜层120的高度H2，如图7中所示，H1>H2。由于各间隔支撑物500的高度相同，因而，对两透明电极层而言，它们在临近栅极驱动电路膜层110处的距离H3大于在它们在临近数据线引线膜层120处的距离H4，即H3>H4。两透明电极层之间的距离不相等，因而它们之间不能形成均匀的电场，导致它们无法对液晶层400进行正常稳定的驱动，进而导致液晶显示面板显示画面的品质降低。
为解决上述问题，本发明提供了一种液晶显示装置的阵列基板。该阵列基板中央为显示区域，显示区域四周为非显示区域。非显示区域包括各引线区域。同样的，本发明所提供的液晶显示装置的阵列基板在栅极线引线区域上形成有栅极驱动电路，使得栅极线引线区域变成栅极驱动电路区域，并且该栅极驱动电路区域上形成有栅极驱动电路膜层。其它各引线区域上形成有引线膜层，引线膜层包括绝缘层和位于绝缘层上方的钝化层，以及多条沿同一方向延伸的引线。其中引线位于绝缘层的上方或者下方，或者同时位于绝缘层的上下方。引线膜层还包括一个或多个垫高片，垫高片位于绝缘层、钝化层和引线之间并与它们形成从下到上的层叠结构，但垫高片在层叠结构的具体位置根据具体设计要求做调整，下面的实施例中将做进一步公开。
本发明所提供的液晶显示装置的阵列基板在引线膜层内增设垫高片，减小或消除了阵列基板四周非显示区域的高度差异，进而减少或消除了阵列基板与彩膜基板相互之间的距离差异，保证了阵列基板上的透明电极层与彩膜基板上的透明电极层之间形成均匀稳定的电场，以平稳驱动液晶层，使得液晶显示器的显示画面品质提高。
本发明优选的，引线膜层内增设垫高片之后，垫高片、绝缘层、钝化层和引线层叠的厚度小于或等于栅极驱动电路膜层的最大厚度，以防止增设垫高片后发生过犹不及的情况。需要说明的是，本发明中，至少一条引线所在区域上设置有一个或多个垫高片。
本发明优选的，包括第一垫高片、第二垫高片和第三垫高片这三种垫高片中的至少一种垫高片。其中，第一垫高片和第二垫高片位于绝缘层上面，第三垫高片位于绝缘层下面。
在上面已经提到，非显示区域包括栅极驱动电路区域和各引线区域。其中各引线区域包括有数据线引线区域和公共电极线引线区域。位于数据线引线区域上的引线为数据线引线，位于所述公共电极线引线区域上的所述引线为公共电极线引线。数据线引线区域和/或公共电极线引线区域上的引线膜层包括有上述第一垫高片、第二垫高片或者第三垫高片中的至少一种垫高片。
在以下描述中阐述了具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以多种不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广。因此本发明不受下面公开的具体实施方式的限制。
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
第一实施例
请参考图8，本发明所提供的液晶显示装置的阵列基板中包括沿同一方向排列的多条数据线引线121，相邻两条数据线引线121之间的距离相等。如图8中所示，在每一条数据线引线121的上方各增设有两个第一垫高片122。
请参考图9，图9为图8中沿Ⅲ-Ⅲ切开的数据线引线膜层120的剖面示意图。从图9中可以看到，数据线引线121全部位于绝缘层100I的下面，在数据线引线121上方增设第一垫高片122，此时，第一垫高片122所在位置的数据线引线膜层120从下到上为数据线引线121、绝缘层100I、第一垫高片122和钝化层100P。
增设垫高片，可使数据线引线膜层120的高度增加，达到与栅极驱动电路膜层110相近或者相等的最大高度。同时，通过设计调节，可使得数据线引线膜层120最大高度所占区域与栅极驱动电路膜层110最大高度所占区域相近或者相等，从而减少或者消除栅极驱动电路膜层110与数据线引线膜层120的高度差异，最终能够达到提高液晶显示面板的显示画面品质的目的。
需要说明的是，从图9中可以看出，第一垫高片122可以包括第一材料片122a和第二材料片122b，但是第一垫高片122也可以由第一材料片122a或者第二材料片122b单独组成。
第二实施例
请参考图10，数据线引线121的另一种布线方式中，全部数据线引线121位于绝缘层100I上方。此时，在数据线引线121下方的绝缘层100I上面设置第二垫高片123，即第二垫高片123位于绝缘层100I与数据线引线121中间。此时，第二垫高片123所在位置的数据线引线膜层120从下到上为绝缘层100I、第二垫高片123、数据线引线121和钝化层100P。
第三实施例
请参考图11，数据线引线121仍然全部位于绝缘层100I上方，数据线引线121下方的绝缘层100I下面设置第三垫高片124，此时，第三垫高片124所在位置的数据线引线膜层120从下到上为所述第三垫高片124、绝缘层100I、数据线引线121和钝化层100P。
第四实施例
请结合参考图10和图11，当数据线引线121全部位于绝缘层100I上方时，数据线引线121下方的绝缘层100I的上面和下面可以同时设置第二垫高片123和第三垫高片124，此时，第二垫高片123和第三垫高片124所在位置的数据线引线膜层120从下到上为第三垫高片124、绝缘层100I、第二垫高片123、数据线引线121和钝化层100P。
需要说明的是，在数据线引线121上方或者下方增设的垫高片并不限定为两片，也可以是一片或者三片以上。并且，也不限定每一条数据线引线121的上方或者下方都设置垫高片，可以是相隔一条或者多条的数据线引线121的上方或者下方设置垫高片。
需要说明的是，本发明优选的，设置于每条或者相隔至少一条数据线引线121上方的至少一个第一垫高片122的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
需要说明的是，本发明优选的，设置于每条或者相隔至少一条数据线引线121下方的至少一个第二垫高片123的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
需要说明的是，本发明优选的，设置于每条或者相隔至少一条数据线引线121下方的至少一个第三垫高片124的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
在上面的叙述中可知，本发明的优选方案中，各垫高片在各数据线引线上方或者下方的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同，这样能够保证各垫高片具有一致性和协调性，并且这种整齐一致的结构既方便制作，又使得增加垫高片之后引线膜层保持整齐有序，使得引线膜层的高度得到整体调整，并使得阵列基板的整体结构保持均衡。
本发明所提供的液晶显示装置阵列基板中，数据线引线121的布线方式除上述的全部位于绝缘层100I的上方或者下方之外，还可以是部分位于绝缘层100I上方。
第五实施例
请参考图12，数据线引线121由多条第一数据线引线121a与多条第二数据线引线121b组成，并且第一数据线引线121a和第二数据线引线121b在水平方向上依次间隔重复排列。如图8中所示，在每一条第一数据线引线121a的上方各增设有两个第一垫高片122。
请参考图13，图13为图12中沿Ⅳ-Ⅳ切开的数据线引线膜层120的剖面示意图。从图13中可以看到，数据线引线121分为位于绝缘层100I下面的多条第一数据线引线121a和位于绝缘层100I上方的多条第二数据线引线121b。第一垫高片122设置于第一数据线引线121a上方，其中第一垫高片122包括第一材料片122a和第二材料片122b。从图13中可以看出，第一垫高片122所在位置的数据线引线膜层120从下到上为第一数据线引线121a、绝缘层100I、第一垫高片122和钝化层100P。
第六实施例
请参考图14，数据线引线121分为位于绝缘层100I下面的多条第一数据线引线121a和位于绝缘层100I上方的多条第二数据线引线121b。每条第二数据线引线121b下方的绝缘层100I的上面有第二垫高片123，第二垫高片123所在位置的数据线引线膜层120从下到上为绝缘层100I、第二垫高片123、第二数据线引线121b和钝化层100P。
第七实施例
请参考图15，数据线引线121分为位于绝缘层100I下面的多条第一数据线引线121a和位于绝缘层100I上方的多条第二数据线引线121b。每条第二数据线引线121b下方的所述绝缘层100I下面有至少一个第三垫高片124。从图15中可以看出，第三垫高片124所在位置的数据线引线膜层120从下到上为第三垫高片124、绝缘层100I、第二数据线引线121b和钝化层100P。
第八实施例
请结合参考图13和图14，当数据线引线121分为位于绝缘层100I下面的多条第一数据线引线121a和位于绝缘层100I上方的多条第二数据线引线121b时，在第一数据线引线121a上方设有第一垫高片122(由第一材料片122a和第二材料片122b组成)，同时，在第二数据线引线121b下方设置第二垫高片123。此时，在第一垫高片122所在位置的数据线引线膜层120从下到上为第一数据线引线121a、绝缘层100I、第一垫高片122和钝化层100P，在第二垫高片123所在位置的数据线引线膜层120从下到上为绝缘层100I、第二垫高片123、第二数据线引线121b和钝化层100P。
与图9相似的，从图13和图16中可以看出，第一垫高片122进一步包括第一材料片122a和第二材料片122b，但是第一垫高片122也可以由第一材料片122a或者第二材料片122b单独组成。
第九实施例
请结合参考图14和图15，当数据线引线121分为位于绝缘层100I下面的多条第一数据线引线121a和位于绝缘层100I上方的多条第二数据线引线121b时，在第二数据线引线121b下方的所述绝缘层100I上面和下面同时设置第二垫高片123和第三垫高片124，此时第二垫高片123和第三垫高片124所在位置的数据线引线膜层120从下到上为第三垫高片124、绝缘层100I、第二垫高片123、第二数据线引线121b和钝化层100P。
第十实施例
请参考图16，当数据线引线121分为位于绝缘层100I下面的多条第一数据线引线121a和位于绝缘层100I上方的多条第二数据线引线121b时，在第一数据线引线121a上方的绝缘层100I上面设置第一垫高片122，同时在第二数据线引线121b下方的所述绝缘层100I上面和下面分别有第二垫高片123和第三垫高片124。此时，第一垫高片122所在位置的数据线引线膜层120从下到上为第一数据线引线121a、绝缘层100I、第一垫高片122和钝化层100P，同时，第二垫高片123和第三垫高片124所在位置的数据线引线膜层120从下到上为第三垫高片124、绝缘层100I、第二垫高片123、第二数据线引线121b和钝化层100P。
需要说明的是，本发明所提供的阵列基板中，并不限定在每条数据线引线所在的引线膜层内都设置垫高片，可以是间隔一条或者多条的第一数据线引线121a的上方设置垫高片，这些方案仍属于本发明所保护的范围，还可以是间隔一条或多条的第二数据线引线121b下方设置垫高片，这些方案也属于本发明所保护的范围。并且第一数据线引线121a上方和第二数据线引线121b下方垫高片的设置可以各自独立设计，形成各种组合方案，这些都属于本发明所保护的范围。
需要于说明的是，本发明所提供的液晶显示装置的阵列基板中，优选的，设置于每一条或者间隔至少一条第一数据线引线121a上方的第一垫高片122的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
需要于说明的是，本发明所提供的液晶显示装置的阵列基板中，优选的，设置于每一条或者间隔至少一条所述第二数据线引线121b下方的第二垫高片123的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
需要于说明的是，本发明所提供的液晶显示装置的阵列基板中，优选的，设置于每一条或者间隔至少一条所述第二数据线引线121b下方的第三垫高片124的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
在上面的叙述中可知，本发明的优选方案中，各垫高片在各数据线引线上方或者下方的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同，这样能够保证各垫高片具有一致性和协调性，并且这种整齐一致的结构既方便制作，又使得增加垫高片之后引线膜层保持整齐有序，使得引线膜层的高度得到整体调整，并使得阵列基板的整体结构保持均衡。
本发明所提供的液晶显示阵列基板除了可以在数据线引线的上方或者下方设置垫高片，也可以在公共电极线引线的上方或者下方设置垫高片，当然，还可以同时在数据线引线和公共电极线引线的上方或者下方设置垫高片。
由于公共电极线引线的布线方式通常为两种，即全部公共电极线引线都位于绝缘层上方或者全部公共电极线引线都位于绝缘层下方，因而，在公共电极线引线的上方或者下方设置垫高片的方式与前面所述的当数据线引线全部位于绝缘层的上方或者下方时设置垫高片的方式类似，因而其示意图可以参照图8至图11。
当公共电极线引线位于绝缘层下面，每一条或者间隔至少一条公共电极线引线上方的绝缘层上面设置至少一个第一垫高片，第一垫高片所在位置的公共电极线引线膜层从下到上为公共电极线引线、绝缘层、第一垫高片和钝化层，类似于图9。
当公共电极线引线位于绝缘层上方，每一条或者间隔至少一条公共电极线引线下方的绝缘层上面设置至少一个第二垫高片，第二垫高片所在位置的公共电极线引线膜层从下到上为绝缘层、第二垫高片、公共电极线引线和钝化层,类似于图10。
当公共电极线引线位于绝缘层上方，每一条或者间隔至少一条公共电极线引线下方的绝缘层下面有至少一个第三垫高片，第三垫高片所在位置的公共电极线引线膜层从下到上为第三垫高片、绝缘层、公共电极线引线和钝化层，类似于图11。
当公共电极线引线位于绝缘层上方，每一条或者间隔至少一条公共电极线引线下方的绝缘层上面和下面分别有至少一个第二垫高片和至少一个第三垫高片，第二垫高片和第三垫高片所在位置的公共电极线引线膜层从下到上为第三垫高片、绝缘层、第二垫高片、公共电极线引线和钝化层。
本发明优选的，设置于每一条或者间隔至少一条公共电极线引线上方的第一垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
本发明优选的，设置于每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线下方的所述第二垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
本发明优选的，设置于每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线下方的所述第三垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
本发明中，垫高片可以由金属材料、半导体材料、绝缘材料或者它们的组合物通过相应工艺来制作完成。
如图9、图13和图16中所示，第一垫高片122包括第一材料片122a和第二材料片122b，优选的，第一材料片122a为半导体片，第二材料片122b为金属片。进一步的优选方案中，第一材料片122a为非晶硅半导体片或者多晶硅半导体片，第二材料片122b为数据线金属片。并且，第一材料片122a可以在制作栅极驱动电路过程中形成非晶硅半导体结构或者多晶硅半导体结构时同时形成的，第二材料片122b可以在制作形成数据线时同时制作形成的。这样，既不用增加任何工艺，又不用增加任何材料，就可在阵列基板制作过程中同时完成第一垫高片122的制作，不增加任何成本，也不浪费材料。
如图10、图14和图16中所示，第二垫高片123位于绝缘层100I上面，优选的，第二垫高片123为半导体片，并且，第二垫高片123可以在制作栅极驱动电路过程形成非晶硅半导体结构或者多晶硅半导体结构时同时制作形成的，同样的，在阵列基板制作过程中，不必增加任何工艺和材料就能够完成第二垫高片123的制作。
如图11、图15和图16中所示，第三垫高片124位于绝缘层100I下面，优选的，第三垫高片124为金属片，第三垫高片124为栅极线金属片，并且，第三垫高片124可以在制作栅极线过程中同时制作形成，同样的，在阵列基板制作过程中，不必增加任何工艺和材料就能够完成第三垫高片124的制作。
本发明实施例中，优选的，垫高片可以为长方型、正方形、圆形、椭圆形或者它们的组合。同时，优选的，垫高片的宽度小于或者等于数据线引线或者公共电极线引线的宽度。因为当垫高片具有导电性时，一旦垫高片的宽度大于引线的宽度，就很可能发现垫高片与相临的引线发生短路的现象。例如图9中，第二材料片122b为金属片时，它的宽度最好小于或者等于第一数据线引线121a的宽度，以防止因第二材料片122b与第二数据线引线121b靠得太近而发生短路。
本发明实施例中，优选的，垫高片的位置上方设置有封框胶，液晶面板通常是由封框胶来封装的，因而垫高片所在位置的上方通常设置有封框胶。
本发明实施例中，优选的，绝缘层和钝化层至少有一层是由氮化硅材料或者氧化硅材料制成，氮化硅材料和氧化硅材料都是良好的绝缘保护材料，可应用于本发明所提供的液晶显示装置的阵列基板中。
本发明实施例中，优选的，还包括有一平坦层，该平坦层设置在栅极驱动电路区域、数据线引线区域和公共电极线区域的钝化层上方，实现保护和使整个膜层表面平坦化的功能。
以上所述仅为本发明的具体实施例，目的是为了使本领域技术人员更好的理解本发明的精神，然而本发明的保护范围并不以该具体实施例的具体描述为限定范围，任何本领域的技术人员在不脱离本发明精神的范围内，可以对本发明的具体实施例做修改，而不脱离本发明的保护范围。
Claims (35)
1.一种用于液晶显示装置的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板中央为显示区域，所述显示区域四周为非显示区域；
所述非显示区域设置有栅极驱动电路和引线；
所述栅极驱动电路所在的区域形成有栅极驱动电路膜层；
所述引线所在的区域形成有引线膜层，所述引线膜层包括：
绝缘层，位于所述阵列基板的所述非显示区域上方；
钝化层，位于所述绝缘层上方；
多条沿同一方向延伸的引线，全部所述引线位于所述绝缘层的上方或者下方，或者一部分所述引线位于所述绝缘层上方，另一部分所述引线位于所述绝缘层下方；
所述引线膜层还包括一个或多个垫高片；
所述垫高片、绝缘层、钝化层和引线层叠。
2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述垫高片、绝缘层、钝化层和引线层叠的厚度小于或等于所述栅极驱动电路膜层的最大厚度。
3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，至少一条所述引线所在的区域设置一个或多个垫高片。
4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述引线膜层包括第一垫高片、第二垫高片和第三垫高片中的至少一种垫高片，所述第一垫高片和所述第二垫高片位于所述绝缘层上面，所述第三垫高片位于所述绝缘层下面。
5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述非显示区域包括栅极驱动电路区域、数据线引线区域和公共电极线引线区域；
位于所述数据线引线区域上的所述引线为数据线引线，位于所述公共电极线引线区域上的所述引线为公共电极线引线；
所述数据线引线区域上的所述引线膜层为数据线引线膜层，所述公共电极线引线区域上的所述引线膜层为公共电极线引线膜层；
所述数据线引线膜层和/或所述公共电极线引线膜层包括有第一垫高片、第二垫高片或者第三垫高片中的至少一种垫高片。
6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述数据线引线位于所述绝缘层下面，每一条或者间隔至少一条所述数据线引线上方的所述绝缘层上面有至少一个所述第一垫高片，所述第一垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述数据线引线、所述绝缘层、所述第一垫高片和所述钝化层。
7.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述数据线引线位于所述绝缘层上方，每一条或者间隔至少一条所述数据线引线下方的所述绝缘层上面有至少一个所述第二垫高片，所述第二垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述绝缘层、所述第二垫高片、所述数据线引线和所述钝化层。
8.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述数据线引线位于所述绝缘层上方，每一条或者间隔至少一条所述数据线引线下方的所述绝缘层下面有至少一个所述第三垫高片，所述第三垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述数据线引线和所述钝化层。
9.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述数据线引线位于所述绝缘层上方，每一条或者间隔至少一条所述数据线引线下方的所述绝缘层上面和下面分别有至少一个所述第二垫高片和至少一个所述第三垫高片，所述第二垫高片和所述第三垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述第二垫高片、所述数据线引线和所述钝化层。
10.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，设置于每一条或者间隔至少一条所述数据线引线上方的所述第一垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
11.如权利要求7或9所述的阵列基板，其特征在于，设置于每一条或者间隔至少一条所述数据线引线下方的所述第二垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
12.如权利要求8或9所述的阵列基板，其特征在于，设置于每一条或者间隔至少一条所述数据线引线下方的所述第三垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
13.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述数据线引线分为位于所述绝缘层下面的多条第一数据线引线和位于所述绝缘层上方的多条第二数据线引线；每条或者间隔至少一条所述第一数据线引线上方的所述绝缘层上面有至少一个所述第一垫高片，所述第一垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第一数据线引线、所述绝缘层、所述第一垫高片和所述钝化层。
14.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述数据线引线分为位于所述绝缘层下面的多条第一数据线引线和位于所述绝缘层上方的多条第二数据线引线；每条或者间隔至少一条所述第二数据线引线下方的所述绝缘层上面有至少一个所述第二垫高片，所述第二垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述绝缘层、所述第二垫高片、所述第二数据线引线和所述钝化层。
15.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述数据线引线分为位于所述绝缘层下面的多条第一数据线引线和位于所述绝缘层上方的多条第二数据线引线；每条或者间隔至少一条所述第二数据线引线下方的所述绝缘层下面有至少一个所述第三垫高片，所述第三垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述第二数据线引线和所述钝化层。
16.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述数据线引线分为位于所述绝缘层下面的多条第一数据线引线和位于所述绝缘层上方的多条第二数据线引线；每条或者间隔至少一条所述第二数据线引线下方的所述绝缘层上面和下面分别有至少一个所述第二垫高片和至少一个所述第三垫高片，所述第二垫高片和所述第三垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述第二垫高片、所述第二数据线引线和所述钝化层。
17.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述数据线引线分为位于所述绝缘层下面的多条第一数据线引线和位于所述绝缘层上方的多条第二数据线引线；每条或者间隔至少一条所述第一数据线引线上方的所述绝缘层上面有至少一个所述第一垫高片，所述第一垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第一数据线引线、所述绝缘层、所述第一垫高片和所述钝化层；每条或者间隔至少一条所述第二数据线引线下方的所述绝缘层上面和下面分别有至少一个所述第二垫高片和至少一个所述第三垫高片，所述第二垫高片和所述第三垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述第二垫高片、所述第二数据线引线和所述钝化层。
18.如权利要求13或17所述的阵列基板，其特征在于，设置于每一条或者间隔至少一条所述第一数据线引线上方的所述第一垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
19.如权利要求14、16或17所述的阵列基板，其特征在于，设置于每一条或者间隔至少一条所述第二数据线引线下方的所述第二垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
20.如权利要求15、16或17所述的阵列基板，其特征在于，设置于每一条或者间隔至少一条所述第二数据线引线下方的所述第三垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
21.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极线引线位于所述绝缘层下面，每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线上方的所述绝缘层上面有至少一个所述第一垫高片，所述第一垫高片所在位置的所述公共电极线引线膜层从下到上为所述公共电极线引线、所述绝缘层、所述第一垫高片和所述钝化层。
22.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极线引线位于所述绝缘层上方，每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线下方的所述绝缘层上面有至少一个所述第二垫高片，所述第二垫高片所在位置的所述公共电极线引线膜层从下到上为所述绝缘层、所述第二垫高片、所述公共电极线引线和所述钝化层。
23.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极线引线位于所述绝缘层上方，每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线下方的所述绝缘层下面有至少一个所述第三垫高片，所述第三垫高片所在位置的所述公共电极线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述公共电极线引线和所述钝化层。
24.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极线引线位于所述绝缘层上方，每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线下方的所述绝缘层上面和下面分别有至少一个所述第二垫高片和至少一个所述第三垫高片，所述第二垫高片和所述第三垫高片所在位置的所述公共电极线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述第二垫高片、所述公共电极线引线和所述钝化层。
25.如权利要求21所述的阵列基板，其特征在于，设置于每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线上方的所述第一垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
26.如权利要求22或24所述的阵列基板，其特征在于，设置于每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线下方的所述第二垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
27.如权利要求23或24所述的阵列基板，其特征在于，设置于每一条或者间隔至少一条所述公共电极线引线下方的所述第三垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。
28.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述垫高片由金属材料、半导体材料、绝缘材料或者它们的组合物制成。
29.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第一垫高片包括第一金属片和/或半导体片；所述第二垫高片包括半导体片；所述第三垫高片包括第二金属片。
30.如权利要求29所述的阵列基板，其特征在于，所述第一金属片包括数据线金属片；所述第二金属片包括栅极线金属片，所述半导体片包括非晶硅或者多晶硅半导体片。
31.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述垫高片的形状为长方型、正方形、圆形、椭圆形或者它们的组合。
32.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述垫高片的宽度小于或者等于所述引线的宽度。
33.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，在所述垫高片的位置上方设置有封框胶。
34.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述绝缘层和/或所述钝化层为氮化硅材料或者氧化硅材料。
35.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述栅极驱动电路区域、数据线引线区域和公共电极线引线区域同时在所述钝化层上设置有平坦层。
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