CN103274699B - 一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法 - Google Patents
一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103274699B CN103274699B CN201310135894.0A CN201310135894A CN103274699B CN 103274699 B CN103274699 B CN 103274699B CN 201310135894 A CN201310135894 A CN 201310135894A CN 103274699 B CN103274699 B CN 103274699B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- pressure
- target material
- tin oxide
- indium tin
- rotary target
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000013077 target material Substances 0.000 title claims abstract description 30
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 23
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims abstract description 30
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 6
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 claims description 22
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 13
- 235000015895 biscuits Nutrition 0.000 claims description 12
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 10
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000005056 compaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 238000004321 preservation Methods 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract 2
- 238000009694 cold isostatic pressing Methods 0.000 abstract 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明涉及一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法，包括以下步骤：将由化学共沉淀法得到氧化铟锡粉末装入管状柔性模具中，以200～400MPa压力进行冷等静压成型，冷等静压结束后，卸压至常压，制得氧化铟锡管状素坯，再将氧化铟锡管状素坯在脱脂炉中进行脱脂，然后将脱脂后的坯体放入压力烧结炉中，按一定的烧结条件在氧气压力下进行压力烧结，得到相对密度在99%以上的氧化铟锡旋转靶材。本发明制备的氧化铟锡管状旋转靶材，其优点在溅射过程中，靶材可绕固定的条状磁铁组件旋转，因而360°靶面可被均匀刻蚀，同时溅射原子可向各个方向飞行，均匀性好，溅射面积大，更换操作方便，生产效率高，靶材利用率高(>80%)。
Description
技术领域
本发明是一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法。
背景技术
ITO薄膜具有透明和导电的双重优点，是众多行业基本材料之一，因此被广泛用于太阳能电池、液晶显示器和等离子显示器等领域，在LCD、防霜、防雾、防红外隔热表层方面是必不可少的材料。近年来，伴随着高档显示器件的快速发展，ITO薄膜的需求量也是急剧增长。目前，工业上广泛采用平面ITO靶材进行镀膜，平面ITO靶材形状有长方体、正方体、圆柱体和不规则形状。长方体、正方体和圆柱体形靶材为实心，溅射过程中，圆环形永磁体在靶材表面建立环形磁场，在轴间等距离的环形表面上形成刻蚀区，其缺点是薄膜沉积厚度均匀性不易控制，靶材的利用率较低，仅为20%～30%，刻蚀靶材均匀性差。ITO旋转靶材的利用率可以达到80%以上，而且目前国内外也鲜有厂家能生产出合格的ITO旋转靶材，大部分都处于研发阶段。ITO旋转靶材核心技术难点在于控制成型过程的开裂和低密度问题，以及烧结过程ITO旋转靶材收缩的均匀性控制。
发明内容
本发明要解决的技术问题是：提供一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法，能够制备相对密度大于99%的氧化铟锡陶瓷旋转靶材，制备的靶材具有组织均匀晶粒细小，高耐热冲击等特点，可实现大功率高速稳定磁控溅射镀膜，从而适用于大面积ITO镀膜生产。
解决上述技术问题的技术方案是：一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法，包括以下步骤：
（1）将由化学共沉淀法得到的氧化铟锡粉末装入管状柔性模具中，在装粉过程中，把模具放置在低频振动工作台上，装粉完毕密封后，以200～400MPa压力进行冷等静压成型，冷等静压结束后，卸压至常压，脱模后获得氧化铟锡管状素坯；
（2）再将氧化铟锡管状素坯放入脱脂炉中进行脱脂；
（3）然后将脱脂后的坯体放入压力烧结炉中，按一定的烧结条件在氧气压力下进行压力烧结，得到相对密度在99%以上的管状氧化铟锡靶材，即氧化铟锡旋转靶材。
本发明的进一步技术方案是：步骤（1）中所述的冷等静压结束后，卸压至常压的过程中采用N级卸压保压，第一级卸压保压的压力为冷等静压压力的0.5～0.85倍，后一级卸压保压的压力为前一级卸压保压压力的0.5～0.85倍，各级的保压时间均为1～10min，第N级卸压保压结束后直接卸压至常压，3≤N≤8。
步骤（2）的具体步骤为：将氧化铟锡管状素坯放入脱脂炉，以0.1～0.5℃/ min的升温速率，升至500℃，保温1～3小时后，以0.3～1℃/min的降温速率降至室温。
步骤（3）中所述的烧结条件是指以0.5～2℃/ min的升温速率升温，至1450～1600℃保温烧结10～15小时，然后按降温速率0.75～1℃/ min降温至1000℃，之后自然降温。
步骤（3）中所述的压力烧结是指在1～5公斤的氧气压力下进行烧结。
步骤（1）中所述的氧化铟锡粉末中氧化锡质量百分含量为0.1～12%，氧化铟锡粉末的纯度为99.99%以上。
步骤（1）中所述的管状柔性模具是由圆柱钢芯、柔性包套和柔性端盖组成的组合模具，柔性端盖套装在圆柱钢芯两端，柔性包套套装在柔性端盖上，柔性包套和圆柱钢芯之间形成用于盛装氧化铟锡粉末的空腔，所述的柔性包套和柔性端盖的材质是聚氨酯、氯丁橡胶、腈橡胶和聚氯酯中的任意一种。
本发明制备得到的氧化铟锡管状旋转靶材，其优点在溅射过程中，靶材可绕固定的条状磁铁组件旋转，因而360°靶面可被均匀刻蚀，同时溅射原子可向各个方向飞行，均匀性好，溅射面积大，更换操作方便，生产效率高，靶材利用率高(> 80%)，并且对零件内壁的沉积具有独特的优越性。
下面，结合附图和实施例对本发明之一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法的技术特征作进一步的说明。
附图说明
图1-图2：本发明所用的管状柔性模具结构示意图。
图1：主视剖视图，图2：图1的A-A剖视图。
图中：1-柔性端盖，2-圆柱钢芯，3-柔性包套，4-氧化铟锡粉末。
具体实施方式
实施例1：
将由化学共沉淀法得到的氧化铟锡粉末（其中氧化锡质量百分含量为10%，氧化铟锡粉末的纯度为99.99%以上）装入管状柔性模具中，密封好以后放入冷等静压设备中，以300MPa压力进行冷等静压成型，冷等静压结束后，进行卸压保压操作，卸压保压时分六级卸压，第一级卸压至250MPa保压1分钟，第二级卸压至200MPa保压1分钟，第三级卸压至150 MPa保压1分钟，第四级卸压至100MPa保压1分钟，第五级卸压至50MPa保压1分钟，第六级卸压至25MPa保压1分钟，最后至常压，并取出成型好的素坯。再将氧化铟锡管状素坯放入脱脂炉中，以0.5℃/ min的升温速率，升至500℃，保温3小时后，以1℃/min的降温速率降至室温。将脱脂后的坯体，在压力烧结炉中，2公斤氧气压力下烧结，烧结条件是以1.5℃/ min的升温速率升温，至1450℃保温烧结15小时，之后按降温速率0.75℃/ min降温至1000℃，之后自然降温。得到相对密度在99%以上的管状氧化铟锡靶材，即氧化铟锡旋转靶材。
实施例2：
将由化学共沉淀法得到的氧化铟锡粉末（其中氧化锡质量百分含量为2%，氧化铟锡粉末的纯度为99.99%以上）装入管状柔性模具中，密封好以后放入冷等静压设备中，以200MPa压力进行冷等静压成型，冷等静压结束后，进行卸压操作，卸压时分四级卸压，第一级卸压至160MPa保压1分钟，第二级卸压至90MPa保压1分钟，第三级卸压至65 MPa保压1分钟，第四级卸压至40MPa保压1分钟，最后至常压，并取出成型好的素坯。再将氧化铟锡管状素坯放入脱脂炉中，以0.2℃/ min的升温速率，升至500℃，保温2小时后，以0.8℃/min的降温速率降至室温。将脱脂后的坯体，在压力烧结炉中，5公斤氧气压力下烧结，烧结条件是以2℃/ min的升温速率升温，至1500℃保温烧结15小时，之后按降温速率1℃/ min降温至1000℃，之后自然降温。得到相对密度在99%以上的管状氧化铟锡靶材，即氧化铟锡旋转靶材。
实施例3：
将由化学共沉淀法得到的氧化铟锡粉末（其中氧化锡质量百分含量为5%，氧化铟锡粉末的纯度为99.99%以上）装入管状柔性模具中，密封好以后放入冷等静压设备中，以250MPa压力进行冷等静压成型，冷等静压结束后，进行卸压保压操作，卸压保压时分五级卸压，第一级卸压至200MPa保压10分钟，第二级卸压至140MPa保压6分钟，第三级卸压至90 MPa保压3分钟，第四级卸压至50MPa保压2分钟，第五级卸压至25 MPa保压1分钟，最后至常压，并取出成型好的素坯。再将氧化铟锡管状素坯放入脱脂炉中，以0.4℃/ min的升温速率，升至500℃，保温1小时后，以0.5℃/min的降温速率降至室温。将脱脂后的坯体，在压力烧结炉中，3公斤氧气压力下烧结，烧结条件是以1.2℃/ min的升温速率升温，至1600℃保温烧结12小时，之后按降温速率0.9℃/ min降温至1000℃，之后自然降温。得到相对密度在99%以上的管状氧化铟锡靶材，即氧化铟锡旋转靶材。
本发明各实施例所述的管状柔性模具（如图1-图2所示）是由圆柱钢芯2、柔性包套3和柔性端盖1组成的组合模具，柔性端盖套装在圆柱钢芯两端，柔性包套套装在柔性端盖上，柔性包套和圆柱钢芯之间形成用于盛装氧化铟锡粉末的空腔，所述的柔性包套和柔性端盖的材质是聚氨酯、氯丁橡胶、腈橡胶和聚氯酯中的任意一种。
作为本发明各实施例的一种变换，所述的冷等静压结束后，卸压至常压的过程中，采用卸压保压的级数N可以根据实际情况增加或减少，一般为3≤N≤8，各级卸压保压的时间可以相同也可以不相同，只要满足各级卸压保压的时间为1～10min即可。
Claims (3)
1.一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
（1）将由化学共沉淀法得到的氧化铟锡粉末装入管状柔性模具中，以200～400MPa压力进行冷等静压成型，冷等静压结束后，卸压至常压，脱模后获得氧化铟锡管状素坯；所述的冷等静压结束后，卸压至常压的过程中采用N级卸压保压，第一级卸压保压的压力为冷等静压压力的0.5～0.85倍，后一级卸压保压的压力为前一级卸压保压压力的0.5～0.85倍，各级的保压时间均为1～10min，第N级卸压保压结束后直接卸压至常压，3≤N≤8；
（2）再将氧化铟锡管状素坯放入脱脂炉中进行脱脂；具体步骤为：将氧化铟锡管状素坯放入脱脂炉，以0.1～0.5℃/ min的升温速率，升至500℃，保温1～3小时后，以0.3～1℃/min的降温速率降至室温；
（3）然后将脱脂后的坯体放入压力烧结炉中，按一定的烧结条件在氧气压力下进行压力烧结，得到相对密度在99%以上的管状氧化铟锡靶材，即氧化铟锡旋转靶材；所述的烧结条件是指以0.5～2℃/ min的升温速率升温，至1450～1600℃保温烧结10～15小时，然后按降温速率0.75～1℃/ min降温至1000℃，之后自然降温；所述的压力烧结是指在1～5公斤的氧气压力下进行烧结。
2.根据权利要求1所述的一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法，其特征在于：步骤（1）中所述的氧化铟锡粉末中氧化锡质量百分含量为0.1～12%，氧化铟锡粉末纯度为99.99%以上。
3.根据权利要求1所述的一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法，其特征在于：步骤（1）中所述的管状柔性模具是由圆柱钢芯、柔性包套和柔性端盖组成的组合模具，柔性端盖套装在圆柱钢芯两端，柔性包套套装在柔性端盖上，柔性包套和圆柱钢芯之间形成用于盛装氧化铟锡粉末的空腔，所述的柔性包套和柔性端盖的材质是聚氨酯、氯丁橡胶、腈橡胶和聚氯酯中的任意一种。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310135894.0A CN103274699B (zh) | 2013-04-18 | 2013-04-18 | 一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310135894.0A CN103274699B (zh) | 2013-04-18 | 2013-04-18 | 一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN103274699A CN103274699A (zh) | 2013-09-04 |
| CN103274699B true CN103274699B (zh) | 2014-09-03 |
Family
ID=49057359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201310135894.0A Active CN103274699B (zh) | 2013-04-18 | 2013-04-18 | 一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN103274699B (zh) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103922703B (zh) * | 2014-04-15 | 2015-04-15 | 广西华锡集团股份有限公司 | 氧化铟锡靶材以及其烧结制备方法 |
| CN106631049B (zh) * | 2016-09-28 | 2019-05-10 | 广西晶联光电材料有限责任公司 | 一种用于触摸屏和太阳能电池领域的ito旋转靶材的常压烧结方法 |
| CN106513684B (zh) * | 2016-11-10 | 2019-04-05 | 洛阳科威钨钼有限公司 | 一种钨钼合金旋转靶材的生产方法 |
| CN106966700A (zh) * | 2017-03-09 | 2017-07-21 | 郑州大学 | 一种氧化铟锡烧结体的短流程制备工艺 |
| CN107459345B (zh) * | 2017-07-31 | 2020-06-09 | 洛阳晶联光电材料有限责任公司 | 一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法 |
| CN108409340A (zh) * | 2018-05-16 | 2018-08-17 | 郑州大学 | 一种管状靶材的内旋转高温烧结方法 |
| CN108623298A (zh) * | 2018-07-04 | 2018-10-09 | 郑州大学 | 一种高密度氧化铟锡管状靶材的脱脂烧结一体化制备方法 |
| CN111116194B (zh) * | 2019-12-19 | 2022-03-25 | 广西晶联光电材料有限责任公司 | 一种超高密度细晶ito靶材的生产方法 |
| CN111440000B (zh) * | 2020-04-24 | 2022-04-29 | 河北恒博新材料科技股份有限公司 | 一种大尺寸旋转陶瓷靶材制备方法 |
| CN112110721B (zh) * | 2020-09-21 | 2022-07-01 | 先导薄膜材料（广东）有限公司 | 氧化铟锡钽靶材的制备方法 |
| CN114523551A (zh) * | 2022-03-07 | 2022-05-24 | 先导薄膜材料（广东）有限公司 | 一种ito旋转靶的冷等静压模具及预制成型方法 |
| CN116375463B (zh) * | 2023-04-17 | 2024-08-27 | 湘潭大学 | 一种氧化铟锡铈靶材及其制备方法和应用 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102731067A (zh) * | 2012-07-04 | 2012-10-17 | 韶关西格玛技术有限公司 | 一种高密度ito蒸镀靶材的制备方法 |
-
2013
- 2013-04-18 CN CN201310135894.0A patent/CN103274699B/zh active Active
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102731067A (zh) * | 2012-07-04 | 2012-10-17 | 韶关西格玛技术有限公司 | 一种高密度ito蒸镀靶材的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN103274699A (zh) | 2013-09-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103274699B (zh) | 一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法 | |
| CN102321871B (zh) | 热等静压生产平板显示器用钼合金溅射靶材的方法 | |
| CN107244911B (zh) | 一种ito管状靶材的制备方法 | |
| CN103572236B (zh) | 一种高性能氧化铌靶材及其制备方法 | |
| CN102942363B (zh) | 一种使用粉浆浇注制备azo靶材的方法 | |
| CN104060160B (zh) | 用于蒸镀掩膜板的金属基复合材料、蒸镀掩膜板及其制备方法 | |
| CN106513684B (zh) | 一种钨钼合金旋转靶材的生产方法 | |
| CN106182342A (zh) | 一种大型高纯氧化铝陶瓷件的成型工艺 | |
| CN111499381B (zh) | 一种磁控溅射用高致密性导电氧化锆陶瓷靶材的制备方法 | |
| CN102423802A (zh) | 高纯钴靶材的制备方法 | |
| CN102826856B (zh) | 一种高纯低密度ito靶材及其制备方法 | |
| CN110438458A (zh) | 一种高钪含量铝钪合金溅射靶材及其制备方法 | |
| CN103060658B (zh) | 烧结1千克～5.5千克钕铁硼永磁材料的制备工艺 | |
| CN102337418B (zh) | 一种溅射靶材用钼铌合金板的制备方法 | |
| CN108328912B (zh) | 一种用于真空玻璃封接的阳极键合方法及装置 | |
| CN102180653A (zh) | 一种高密度氧化铟锡靶材的制备方法 | |
| CN101255537B (zh) | 纤维增强金属基梯度复合材料制备的方法 | |
| CN105294072B (zh) | 一种tft级ito靶材的常压烧结方法 | |
| CN102398035B (zh) | 镍靶坯及靶材的制造方法 | |
| CN102432282B (zh) | 一种凝胶注模成型技术制备ito靶材的方法 | |
| CN106191511A (zh) | 铜铬触头材料的制作方法 | |
| CN108004514B (zh) | 一种具有自适应缓冲层的旋转靶材的制备方法 | |
| CN101654770A (zh) | 一种在柔性基材上制备氧化铟锡导电膜的生产工艺 | |
| CN103668068A (zh) | 一种高致密性氧化铌旋转靶材的制备方法 | |
| CN111116194A (zh) | 一种超高密度细晶ito靶材的生产方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| ASS | Succession or assignment of patent right |
Owner name: SUZHOU CRYSTAL UNION PHOTOELECTRIC MATERIAL CO., L Effective date: 20131220 |
|
| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20131220 Address after: 545036 the Guangxi Zhuang Autonomous Region Liuzhou city and the industrial park and the West Road No. 2 Applicant after: GUANGXI CRYSTAL UNION PHOTOELECTRIC MATERIALS Co.,Ltd. Applicant after: SUZHOU CRYSTAL UNION PHOTOELECTRIC MATERIALS CO.,LTD. Address before: 545036 the Guangxi Zhuang Autonomous Region Liuzhou city and the industrial park and the West Road No. 2 Applicant before: GUANGXI CRYSTAL UNION PHOTOELECTRIC MATERIALS Co.,Ltd. |
|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| ASS | Succession or assignment of patent right |
Free format text: FORMER OWNER: SUZHOU CRYSTAL UNION PHOTOELECTRIC MATERIAL CO., LTD. Effective date: 20150403 |
|
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20150403 Address after: 545036 the Guangxi Zhuang Autonomous Region Liuzhou city and the industrial park and the West Road No. 2 Patentee after: GUANGXI CRYSTAL UNION PHOTOELECTRIC MATERIALS Co.,Ltd. Address before: 545036 the Guangxi Zhuang Autonomous Region Liuzhou city and the industrial park and the West Road No. 2 Patentee before: GUANGXI CRYSTAL UNION PHOTOELECTRIC MATERIALS Co.,Ltd. Patentee before: SUZHOU CRYSTAL UNION PHOTOELECTRIC MATERIALS CO.,LTD. |
|
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20240731 Address after: Room 307, 3rd Floor, Guanya International Star City, No. 100 Guting Avenue, Yanghe Industrial New Area, Liuzhou City, Guangxi Zhuang Autonomous Region, 545000 Patentee after: GUANGXI CRYSTAL UNION PHOTOELECTRIC MATERIALS Co.,Ltd. Country or region after: China Patentee after: Fenglianke Optoelectronics (Luoyang) Co.,Ltd. Address before: 545036 Yanghe Industrial Park, Liuzhou City, Guangxi Zhuang Autonomous Region Patentee before: GUANGXI CRYSTAL UNION PHOTOELECTRIC MATERIALS Co.,Ltd. Country or region before: China |