CN103257476A - 一种彩色滤光基板和液晶面板 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种彩色滤光基板及液晶面板，彩色滤光基板包括基板、透明导电薄膜层、黑矩阵以及辅助导电层；所述黑矩阵设置于基板上，所述透明导电薄膜层设置于所述黑矩阵上；所述辅助导电层形成于基板面向所述黑矩阵的表面，并至少部分位于所述基板与黑矩阵之间。通过上述方式，本发明能够在减少液晶面板的亮度干扰的同时，增加辅助导电层的附着力，又避免在增加辅助导电层时对透明导电薄膜层造成破坏。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，特别是涉及一种彩色滤光基板和液晶面板。
背景技术
随着显示技术的发展，具有高品质、低功耗、无辐射等优越性能的液晶显示器已经成为市场的主流。
液晶显示器中主要的组成部份为液晶面板，液晶面板包括阵列基板、彩色滤光基板和填充于阵列基板与彩色滤光基板之间的液晶层，彩色滤光基板设置有透明导电薄膜层，阵列基板设置有像素透明导电薄膜层，彩色滤光基板的透明导电薄膜层和阵列基板的像素透明导电薄膜层共同控制像素的亮暗，但是由于彩色滤光基板上的透明导电薄膜层的阻值很大，容易造成亮度不均衡，进而引起亮度干扰问题。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种彩色滤光基板和液晶面板，在减少液晶面板的亮度干扰的同时，既增加了辅助导电层的附着力，又避免在增加辅助导电层时对透明导电薄膜层造成破坏。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种彩色滤光基板，包括基板、透明导电薄膜层、黑矩阵以及辅助导电层；所述黑矩阵设置于所述基板与所述透明导电薄膜层之间；所述辅助导电层形成于基板面向所述黑矩阵的表面，并至少部分位于所述基板与黑矩阵之间；其中，所述辅助导电层与透明导电薄膜层电连接。
其中，所述黑矩阵设置有通孔，所述透明导电薄膜层设置有突起部，其中，所述突起部穿过所述通孔，并与所述辅助导电层形成欧姆接触。
其中，所述黑矩阵设置有通孔，所述辅助导电层设置有突起部，其中，所述突起部穿过所述通孔，并与所述透明导电薄膜层形成欧姆接触。
其中，所述辅助导电层的材料为金属。
其中，所述金属为铜、铝、钼、锌或银中一种或者其合金。
为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种液晶面板，包括阵列基板、液晶层和彩色滤光基板；所述彩色滤光基板包括基板、透明导电薄膜层、黑矩阵和辅助导电层；所述黑矩阵设置于所述基板与所述透明导电薄膜层之间；所述辅助导电层形成于基板面向所述黑矩阵的表面，并至少部份位于所述基板与黑矩阵之间，其中，所述辅助导电层与所述透明导电薄膜层电连接；所述液晶层设置于所述透明导电薄膜层与所述阵列基板之间。
其中，所述黑矩阵设置有通孔，所述透明导电薄膜层设置有突起部，其中，所述突起部穿过所述通孔，并与所述辅助金属层形成欧姆接触。。
其中，所述黑矩阵设置有通孔，所述辅助导电层设置有突起部，其中，所述突起部穿过所述通孔，并与所述透明导电薄膜层形成欧姆接触。
其中，所述辅助导电层的材料为金属。
其中，所述金属为铜、铝、钼、锌或银中一种或者其合金。
本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，在彩色滤光基板的基板面向黑矩阵的表面形成辅助导电层，避免辅助导电层形成于透明导电薄膜层时，对透明导电薄膜层产生腐蚀作用，而透明导电薄膜层比较薄，在腐蚀作用下容易被破坏。另一方面，由于基板的材料通常为氧化硅，辅助导电层的材材为金属，而金属材料与氧化硅的结合更为牢固，辅助导电层形成于基板，增加辅助导电层的附着力。而辅助导电层与透明导电薄膜层电学连接，使得原有的由透明导电薄膜层构成的公共电极变为由辅助导电层与透明导电薄膜层共同构成的共公电极，有效降低公共电极的电阻，使得显示的亮度更均衡，减少亮度干扰的问题。
附图说明
图1是本发明彩色滤光基板实施方式的结构示意图；
图2是本发明彩色滤光基板实施方式中实现辅助导电层与透明导电薄膜层电连接的结构示意图；
图3是本发明液晶面板实施方式的结构示意图；
图4是本发明液晶面板实施方式中实现辅助导电层与透明导电薄膜层电连接的结构示意图。
具体实施方式
请参阅图1，图1是本发明彩色滤光基板实施方式的结构示意图。如图所示，彩色滤光基板20包括基板201、黑矩阵202、透明导电薄膜层203和辅助导电层204。
黑矩阵202设置于基板201与透明导电薄膜层203之间，辅助导电层204形成于基板201面向黑矩阵202的表面，并至少部分位于基板201与黑矩阵202之间。在本发明实施方式中，辅助导电层204的材料为金属，例如：铜、铝、钼、锌或银中一种或者其合金。将金属溅射到基板201上形成辅助导电层204，由于基板的材料通常为氧化硅，金属与氧化硅结合比较好，相比于辅助导电层204附着黑矩阵202或者透明导电薄膜层203，辅助导电层204附着基板201更牢固，增加辅助导电层204的附着力，使辅助导电层204不容易脱落。另一方面，若将金属溅射到透明导电薄膜层203上形成辅助导电层204，而金属溅射到透明导电薄膜层203形成辅助导电层204时需要附带蚀刻液，蚀刻液具有腐蚀作用，其中，透明导电薄膜层203通常比较薄，容易在蚀刻液的腐蚀下，破坏透明导电薄膜层203，而基板201比较厚，蚀刻液的腐蚀作用对基板201的影响比较小。
辅助导电层204与透明导电薄膜层2031电连接，其中，辅助导电层204导电能力比较强，电阻比较小，使得原来由透明导电薄膜层203单独构成的公共电极变为由辅助导电层204与透明导电薄膜层203共同构成的共公电极，有效降低公共电极的电阻，从而减少亮度干扰，使得显示的亮度更均衡。值得说明的是：辅助导电层204除了位于黑矩阵202垂直投影区域之内，还可以位于黑矩阵202垂直投影区域之外，甚至可以不在黑矩阵202垂直投影区域内，只要辅助导电层204和透明薄膜层203电连接实现降低阻抗等效果即可。
在本发明一种实现中，黑矩阵202设置有通孔2021，透明导电薄膜层203设置有突起部2031，突起部2031穿过通孔2021，并与辅助导电层204形成欧姆接触，从而使得辅助导电层204与透明导电薄膜层203电连接；
在本发明另一种实现中，如图2所示，黑矩阵302设置有通孔3021，辅助导电层304设置有突起部3041，突起部3041穿过通孔3021，并与透明导电薄膜层303形成欧姆接触，从而使得辅助导电层304与透明导电薄膜层303电连接。
在本发明实施方式中，在彩色滤光基板20的基板201面向黑矩阵202的表面形成辅助导电层204，避免辅助导电层204形成于透明导电薄膜层203时，对透明导电薄膜层203产生腐蚀作用，而透明导电薄膜层203比较薄，在腐蚀作用下容易被破坏，从而保护透明导电薄膜层203。另一方面，由于基板201的材料通常为氧化硅，而辅助导电层204与氧化硅的结合较好，相比于辅助导电层204附着黑矩阵202或者透明导电薄膜层203，辅助导电层204附着基板201更牢固，增加辅助导电层204的附着力。辅助导电层204与透明导电薄膜电203连接，使得原有的由透明导电薄膜层203单独构成的公共电极变为由辅助导电层202与透明导电薄膜层203共同构成的共公电极，有效降低公共电极的电阻，使得显示的亮度更均衡，减少亮度干扰的问题。
请参阅图3，图3是本发明液晶面板实施方式的结构示意图。如图所示，液晶面板40包括彩色滤光基板41、液晶层42和阵列基板43。彩色滤光基板41包括基板411、黑矩阵412、透明导电薄膜层413和辅助导电层414。
黑矩阵412设置于基板411与透明导电薄膜层413之间，辅助导电层414形成于基板411面向黑矩阵412的表面，并至少部分位于基板411与黑矩阵412之间。在本发明实施方式中，辅助导电层414的材料为金属，例如：铜、铝、钼、锌或银中一种或者其合金。将金属溅射到基板411上，即可形成辅助导电层414。由于基板411的材料通常为氧化硅，金属与氧化硅结合比较好，相比于辅助导电层414附着黑矩阵412或者透明导电薄膜层413，辅助导电层414附着基板411更牢固，增加辅助导电层414的附着力，使辅助导电层414不容易脱落。另一方面，若将金属溅射到透明导电薄膜层413上形成辅助导电层414，而金属溅射到透明导电薄膜层413形成辅助导电层414时需要附带蚀刻液，蚀刻液具有腐蚀作用，其中，透明导电薄膜层413通常比较薄，在蚀刻液的腐蚀下，容易破坏透明导电薄膜层413，而基板411比较厚，蚀刻液的腐蚀作用对基板411的影响比较小。
辅助导电层414与透明导电薄膜层4131电连接，其中，辅助导电层414导电能力比较强，电阻比较小，使得原来由透明导电薄膜层413单独构成的公共电极变为由辅助导电层414与透明导电薄膜层413共同构成的共公电极，有效降低公共电极的电阻，从而使得显示的亮度更均衡，减少亮度干扰的问题。值得说明的是：辅助导电层414除了位于黑矩阵412垂直投影区域之内，还可以位于黑矩阵412垂直投影区域之外，甚至可以不在黑矩阵412垂直投影区域内，只要辅助导电层414和透明薄膜层413电连接实现降低阻抗等效果即可。
在本发明实现方式中，黑矩阵412设置有通孔4121，透明导电薄膜层413设置有突起部4131，突起部4131穿过通孔4121，并与辅助导电层414形成欧姆接触，从而使得辅助导电层414与透明导电薄膜层413电连接。
在本发明另一种实现中，如图4所示，黑矩阵502设置有通孔5021，辅助导电层504设置突起部5041，突起部5041穿过通孔5021，并与透明导电薄膜层503形成欧姆接触，从而使得辅助导电层504与透明导电薄膜层503电连接。
液晶层42设置于透明导电薄膜层503与阵列基板43之间。
在本发明实施方式中，在液晶面板40中的彩色滤光基板41的基板411面向黑矩阵412的表面形成辅助导电层414，保护透明导电薄膜层413，避免辅助导电层414形成于透明导电薄膜层413时，对透明导电薄膜层413产生腐蚀作用，而透明导电薄膜层413比较薄，在腐蚀作用下容易被破坏。另一方面，由于基板411的材料通常为氧化硅，而辅助导电层414与氧化硅的结合更好，相比于辅助导电层414附着黑矩阵412或者透明导电薄膜层413，辅助导电层414与基板的结合更牢固，增加辅助导电层414的附着力。辅助导电层414与透明导电薄膜层413电连接，使得原有的由透明导电薄膜层413单独构成的公共电极变为由辅助导电层414与透明导电薄膜层413共同构成的共公电极，辅助导电层414的电阻比较小，有效降低公共电极的电阻，使得液晶面板40显示的亮度更均衡，减少亮度干扰的问题。
以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种彩色滤光基板，其特征在于，所述彩色滤光基板包括基板、透明导电薄膜层、黑矩阵以及辅助导电层；
所述黑矩阵设置所述基板与所述透明导电薄膜层之间；
所述辅助导电层形成于基板面向所述黑矩阵的表面，并至少部分位于所述基板与黑矩阵之间；
其中，所述辅助导电层与透明导电薄膜层电连接。
2.根据权利要求1所述的彩色滤光基板，其特征在于，
所述黑矩阵设置有通孔，所述透明导电薄膜层设置有突起部，其中，所述突起部穿过所述通孔，并与所述辅助导电层形成欧姆接触。
3.根据权利要求1所述的彩色滤光基板，其特征在于，
所述黑矩阵设置有通孔，所述辅助导电层设置有突起部，其中，所述突起部穿过所述通孔，并与所述透明导电薄膜层形成欧姆接触。
4.根据权利要求1、2或者3所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述辅助导电层的材料为金属。
5.根据权利要求4所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述金属为铜、铝、钼、锌或银中一种或者其合金。
6.一种液晶面板，其特征在于，包括阵列基板、液晶层和彩色滤光基板；
所述彩色滤光基板包括基板、透明导电薄膜层、黑矩阵和辅助导电层；
所述黑矩阵设置于所述基板与所述透明导电薄膜层之间；
所述辅助导电层形成于基板面向所述黑矩阵的表面，并至少部份位于所述基板与黑矩阵之间，其中，所述辅助导电层与所述透明导电薄膜层电连接；
所述液晶层设置于所述透明导电薄膜层与所述阵列基板之间。
7.根据权利要求6所述的液晶面板，其特征在于，所述黑矩阵设置有通孔，所述透明导电薄膜层设置有突起部，
其中，所述突起部穿过所述通孔，并与所述辅助金属层形成欧姆接触。
8.根据权利要求6所述的液晶面板，其特征在于，所述黑矩阵设置有通孔，所述辅助导电层设置有突起部，
其中，所述突起部穿过所述通孔，并与所述透明导电薄膜层形成欧姆接触。
9.根据权利要求6、7或者8所述的液晶面板，其特征在于，所述辅助导电层的材料为金属。
10.根据权利要求9所述的液晶面板，其特征在于，所述金属为铜、铝、钼、锌或银中一种或者其合金。
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