CN107065282A - 彩色滤光层基板及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本申请关于一种彩色滤光层基板及其制造方法，所述制造方法，包括：提供一第一基板；设置一导电层于所述第一基板上；设置一遮光层于所述导电层上；图案化所述遮光层，使其暴露出部分导电层，并形成多个具有不同厚度的内凹部分的遮光层于所述导电层上；刻蚀所述导电层和所述遮光层，使所述导电层涵盖于所述遮光层内，并于所述遮光层上形成多个过孔，所述导电层和所述遮光层定义出多个像素显示区；设置一彩色滤光层于所述像素显示区上；设置一透明电极层于所述遮光层和所述彩色滤光层上；其中，所述透明电极层覆盖所述过孔，并与所述导电层相联通，其可以降低透明电极层的电阻值，提高透明电极层电压的稳定性，从而提高显示品质。

Description

彩色滤光层基板及其制造方法
技术领域
本申请涉及一种彩色滤光层基板及其制造方法，特别是涉及一种可降低透明电极层电阻值的彩色滤光层基板及其制造方法。
背景技术
随着科技进步，具有省电、无幅射、体积小、低耗电量、平面直角、高分辨率、画质稳定等多项优势的液晶显示器，尤其是现今各式信息产品如：手机、笔记本电脑、数字相机、PDA、液晶屏幕等产品越来越普及，亦使得液晶显示器(LCD)的需求量大大提升。因此如何满足日益要求高分辨率的像素设计，且具有高画质、空间利用效率佳、低消耗功率、无辐射等优越特性的薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)已逐渐成为市场的主流。其中，薄膜晶体管基板为组立液晶显示器的重要构件之一。
TFT-LCD为背光型液晶显示器，其是由液晶显示面板及背光模块(BacklightModule)所组成，液晶显示面板包括：第一基板-薄膜晶体管(TFT，Thin Film Transistor)基板、第二基板-彩色滤光层(CF，Color Filter)基板、夹于彩色滤光层基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LC，Liquid Crystal)。其中，彩色滤光层基板的透明电极层(ITO)的电阻值较大，使得彩色滤光层基板的透明电极层信号不稳定，在TFT-LCD显示时，透明电极层信号易受到数据线信号和扫描线信号的串扰等不良影响，从而影响TFT-LCD的显示品质。
发明内容
为了解决上述技术问题，本申请的目的在于，提供一种彩色滤光层基板及其制造方法，特别是涉及一种可降低透明电极层电阻值的彩色滤光层基板及其制造方法。可以降低透明电极层的电阻值，提高透明电极层电压的稳定性，从而提高显示品质。
本申请的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本申请提出的一种彩色滤光层基板的制造方法，包括：提供一第一基板；设置一导电层于所述第一基板上；设置一遮光层于所述导电层上；图案化所述遮光层，使其暴露出部分导电层，并形成多个具有不同厚度的内凹部分的遮光层于所述导电层上；刻蚀所述导电层和所述遮光层，使所述导电层涵盖于所述遮光层内，并于所述遮光层上形成多个过孔，所述导电层和所述遮光层定义出多个像素显示区；设置一彩色滤光层于所述像素显示区上；设置一透明电极层于所述遮光层和所述彩色滤光层上；其中，所述透明电极层覆盖所述过孔，并与所述导电层相联通。
在本申请的一实施例中，通过一湿法刻蚀，刻蚀所述导电层，使刻蚀后的所述导电层涵盖于所述遮光层内。
在本申请的一实施例中，通过一干法刻蚀，刻蚀所述遮光层的内凹部分，形成所述过孔，并暴露出所述导电层。
在本申请的一实施例中，阵列设置多个第一光阻、第二光阻及第三光阻于所述像素显示区上，其为所述彩色滤光层。
本申请的另一目的为一种彩色滤光层基板，包括：一第一基板；一导电层，设置于所述第一基板上；一遮光层，设置于所述导电层上，并涵盖所述导电层，其中所述遮光层上具有多个过孔，所述过孔暴露出所述导电层，所述导电层和所述遮光层定义出多个像素显示区；一彩色滤光层，包括多个第一光阻、第二光阻及第三光阻，阵列设置于所述像素显示区上；一透明电极层，设置于所述遮光层和所述彩色滤光层上；其中，所述透明电极层覆盖所述过孔，并与所述导电层相联通。
在本申请的一实施例中，所述导电层为一金属层。
在本申请的一实施例中，所述导电层与所述彩色滤光层相邻配置，并包围所述第一光阻、所述第二光阻及所述第三光阻。
在本申请的一实施例中，所述过孔位于相同色系的光阻之间。
在本申请的一实施例中，所述过孔位于相异色系的光阻之间。
本申请的又一目的为提供一种显示面板，包括一主动开关阵列基板，还包括所述的彩色滤光层基板。
本申请通过透明电极层与导电层相联通，可以降低透明电极层的电阻值，提高透明电极层电压的稳定性，从而提高显示品质。
附图说明
图1至图4为本申请一实施例的彩色滤光层基板制造方法的示意图。
图5为本申请一实施例的彩色滤光层基板的俯视图。
图6为本申请另一实施例的彩色滤光层基板的俯视图。
图7为本申请又一实施例的彩色滤光层基板的俯视图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。
附图和说明被认为在本质上是示出性的，而不是限制性的。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。另外，为了理解和便于描述，附图中示出的每个组件的尺寸和厚度是任意示出的，但是本申请不限于此。
在附图中，为了清晰起见，夸大了层、膜、面板、区域等的厚度。在附图中，为了理解和便于描述，夸大了一些层和区域的厚度。将理解的是，当例如层、膜、区域或基底的组件被称作“在”另一组件“上”时，所述组件可以直接在所述另一组件上，或者也可以存在中间组件。
另外，在说明书中，除非明确地描述为相反的，否则词语“包括”将被理解为意指包括所述组件，但是不排除任何其它组件。此外，在说明书中，“在......上”意指位于目标组件上方或者下方，而不意指必须位于基于重力方向的顶部上。
为更进一步阐述本申请为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本申请提出的一种彩色滤光层基板及其制造方法，其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
在一实施例中，本申请的液晶显示面板可为曲面型显示面板。
图1至图4为本申请一实施例的彩色滤光层基板制造方法的示意图，请同时参考图1至图4，一种彩色滤光层基板的制造方法，包括：
提供一第一基板100；设置一导电层110于所述第一基板100上，设置一遮光层120于所述导电层110上(其如图1所示)。
通过一光罩200，进行曝光显影等工序，图案化所述遮光层120，使其暴露出部分导电层110，并形成多个具有不同厚度的内凹部分的遮光层120于所述导电层110上，其中，所述遮光层至少包括一第一厚度的凸起部分121，以及一第二厚度的内凹部分122(其如图2所示)。
刻蚀所述导电层110和所述遮光层120，使所述导电层110涵盖于所述遮光层120内，并于所述遮光层120上形成多个过孔123，所述导电层110和所述遮光层120定义出多个像素显示区(其如图3a和图3b所示)。
设置一彩色滤光层于所述像素显示区上；设置一透明电极层140于所述遮光层110和所述彩色滤光层上；其中，所述透明电极层140覆盖所述过孔123，并与所述导电层120相联通(其如图4所示)。
在本申请的一实施例中，所述刻蚀方法，包括一湿法刻蚀和一干法刻蚀。通过所述湿法刻蚀，刻蚀所述导电层110，使刻蚀后的所述导电层110涵盖于所述遮光层120内(其如图3a所示)；通过所述干法刻蚀，刻蚀所述遮光层120，并通过其凸起部分121和内凹部分122的结构设计，在所述导电层110上形成所述过孔123，并暴露出所述导电层110(其如图3b所示)。
在本申请的一实施例中，阵列设置多个第一光阻131、第二光阻132及第三光阻(图未示)于所述像素显示区上，其为所述彩色滤光层。
在本申请的一实施例中，所述光罩200可例如为半色调光罩，其具有至少一透光区210，一遮光区220及一半透光区230。通过所述光罩200，形成多个具有不同厚度的内凹部分的遮光层120于所述导电层110，以方便后续面板制程的进行。
图5为本申请一实施例的彩色滤光层基板的俯视图，请参考图4和图5，一种彩色滤光层基板10，包括：一第一基板100；一导电层110，设置于所述第一基板100上；一遮光层120，设置于所述导电层110上，并涵盖所述导电层120，其中所述遮光层120上具有多个过孔123，所述过孔123暴露出所述导电层110，所述导电层110和所述遮光层120定义出多个像素显示区；一彩色滤光层，包括多个第一光阻131、第二光阻132及第三光阻133，阵列设置于所述像素显示区上；一透明电极层140，设置于所述遮光层120和所述彩色滤光层上；其中，所述透明电极层140覆盖所述过孔123，并与所述导电层110相联通。
在本申请的一实施例中，所述导电层110可例如为一具有低电阻率的金属层。
在本申请的一实施例中，所述遮光层120可例如为一黑色矩阵层。
在本申请的一实施例中，所述导电层110与所述彩色滤光层相邻配置，并包围所述第一光阻131、所述第二光阻132及所述第三光阻133。
在本申请的一实施例中，所述第一光阻131可例如为红色光阻，所述第二光阻132可例如为绿色光阻，所述第三光阻133可例如为蓝色光阻。
在本申请的一实施例中，所述多个过孔123为等宽配置、局部等宽配置或不等宽配置。
在本申请的一实施例中，所述过孔123位于相异色系的光阻之间。具体而言，所述过孔123位于所述第一光阻131与所述第二光阻132之间；所述过孔123位于所述第二光阻132与所述第三光阻133之间；所述过孔123位于所述第三光阻133与所述第一光阻131之间。
图6为本申请另一实施例的彩色滤光层基板的俯视图，请参考图4和图6，一种彩色滤光层基板20，包括：一第一基板100；一导电层110，设置于所述第一基板100上；一遮光层120，设置于所述导电层110上，并涵盖所述导电层120，其中所述遮光层120上具有多个过孔123，所述过孔123暴露出所述导电层110，所述导电层110和所述遮光层120定义出多个像素显示区；一彩色滤光层，包括多个第一光阻131、第二光阻132及第三光阻133，阵列设置于所述像素显示区上；一透明电极层140，设置于所述遮光层120和所述彩色滤光层上；其中，所述透明电极层140覆盖所述过孔123，并与所述导电层110相联通。
在本申请的一实施例中，所述导电层110可例如为一具有低电阻率的金属层。
在本申请的一实施例中，所述遮光层120可例如为一黑色矩阵层。
在本申请的一实施例中，所述导电层110与所述彩色滤光层相邻配置，并包围所述第一光阻131、所述第二光阻132及所述第三光阻133。
在本申请的一实施例中，所述第一光阻131可例如为红色光阻，所述第二光阻132可例如为绿色光阻，所述第三光阻133可例如为蓝色光阻。
在本申请的一实施例中，所述多个过孔123为等宽配置、局部等宽配置或不等宽配置。
在本申请的一实施例中，所述过孔123位于相同色系的光阻之间。具体而言，所述过孔123位于相邻的所述第一光阻131之间；所述过孔123位于相邻的所述第二光阻132之间；所述过孔123位于相邻的所述第三光阻133之间。
图7为本申请又一实施例的彩色滤光层基板的俯视图，请参考图4和图7，一种彩色滤光层基板30，包括：一第一基板100；一导电层110，设置于所述第一基板100上；一遮光层120，设置于所述导电层110上，并涵盖所述导电层120，其中所述遮光层120上具有多个过孔123，所述过孔123暴露出所述导电层110，所述导电层110和所述遮光层120定义出多个像素显示区；一彩色滤光层，包括多个第一光阻131、第二光阻132及第三光阻133，阵列设置于所述像素显示区上；一透明电极层140，设置于所述遮光层120和所述彩色滤光层上；其中，所述透明电极层140覆盖所述过孔123，并与所述导电层110相联通。
在本申请的一实施例中，所述导电层110可例如为一具有低电阻率的金属层。
在本申请的一实施例中，所述遮光层120可例如为一黑色矩阵层。
在本申请的一实施例中，所述导电层110与所述彩色滤光层相邻配置，并包围所述第一光阻131、所述第二光阻132及所述第三光阻133。
在本申请的一实施例中，所述第一光阻131可例如为红色光阻，所述第二光阻132可例如为绿色光阻，所述第三光阻133可例如为蓝色光阻。
在本申请的一实施例中，所述多个过孔123为等宽配置、局部等宽配置或不等宽配置。
在本申请的一实施例中，所述过孔123位于相邻光阻的交汇处。具体而言，所述过孔123位于所述多个像素显示区的交汇处，即不同走向的遮光层120的交叉位置处。
在本申请的一实施例中，所述过孔设计亦可应用于四色系光阻层的彩色滤光层基板，所述四色系光阻层包括：第一光阻、第二光阻、第三光阻以及第四光阻。其中，所述第一光阻可例如为红色光阻，所述第二光阻可例如为绿色光阻，所述第三光阻可例如为蓝色光阻，所述第四光阻可例如为白色光阻，其依据设计人员的需求，亦可改成红色子光阻、绿色子光阻以及蓝色子光阻的混合发光光阻，亦或是藉由其他材料替代所述白色光阻等等，本文例举相应的可能组织结构，而非对其加以限制。
请同时参考图5至图7，一种显示面板，包括一主动开关阵列基板，还包括所述的彩色滤光层基板10、20、30。
本申请通过透明电极层与导电层相联通，原理上可等效于电阻的并联连接，可以降低透明电极层的电阻值，提高透明电极层电压的稳定性，从而提高显示品质。
“在一些实施例中”及“在各种实施例中”等用语被重复地使用。所述用语通常不是指相同的实施例；但它也可以是指相同的实施例。“包含”、“具有”及“包括”等用词是同义词，除非其前后文意显示出其它意思。
以上所述，仅是本申请的较佳实施例而已，并非对本申请作任何形式上的限制，虽然本申请已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本申请，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本申请技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本申请技术方案的内容，依据本申请的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本申请技术方案的范围内。

Claims (10)

1.一种彩色滤光层基板的制造方法，其特征在于，包括：
提供一第一基板；
设置一导电层于所述第一基板上；
设置一遮光层于所述导电层上；
图案化所述遮光层，使其暴露出部分导电层，并形成多个具有不同厚度的内凹部分的遮光层于所述导电层上；
刻蚀所述导电层和所述遮光层，使所述导电层涵盖于所述遮光层内，并于所述遮光层上形成多个过孔，所述导电层和所述遮光层定义出多个像素显示区；
设置一彩色滤光层于所述像素显示区上；
设置一透明电极层于所述遮光层和所述彩色滤光层上；
其中，所述透明电极层覆盖所述过孔，并与所述导电层相联通。
2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，通过一湿法刻蚀，刻蚀所述导电层，使刻蚀后的所述导电层涵盖于所述遮光层内。
3.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，通过一干法刻蚀，刻蚀所述遮光层的内凹部分，形成所述过孔，并暴露出所述导电层。
4.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，阵列设置多个第一光阻、第二光阻及第三光阻于所述像素显示区上，其为所述彩色滤光层。
5.一种彩色滤光层基板，其特征在于，包括：
一第一基板；
一导电层，设置于所述第一基板上；
一遮光层，设置于所述导电层上，并涵盖所述导电层，其中所述遮光层上具有多个过孔，所述过孔暴露出所述导电层，所述导电层和所述遮光层定义出多个像素显示区；
一彩色滤光层，包括多个第一光阻、第二光阻及第三光阻，阵列设置于所述像素显示区上；
一透明电极层，设置于所述遮光层和所述彩色滤光层上；
其中，所述透明电极层覆盖所述过孔，并与所述导电层相联通。
6.如权利要求5所述的彩色滤光层基板，其特征在于，所述导电层为一金属层。
7.如权利要求5所述的彩色滤光层基板，其特征在于，所述导电层与所述彩色滤光层相邻配置，并包围所述第一光阻、所述第二光阻及所述第三光阻。
8.如权利要求5所述的彩色滤光层基板，其特征在于，所述过孔位于相同色系的光阻之间。
9.如权利要求5所述的彩色滤光层基板，其特征在于，所述过孔位于相异色系的光阻之间。
10.一种显示面板，包括主动开关阵列基板，其特征在于，还包括权利要求5至9中任一所述的彩色滤光层基板。
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