CN103111436A - 雾化异丙醇基片干燥设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种雾化异丙醇基片干燥设备,由电气控制,包括外壳、干燥槽体、异丙醇存放罐、雾化装置和氮气加热器,基片花篮放在密闭的干燥槽体内干燥,其中,所述的雾化装置由喷雾盖、和分别连接喷雾盖和异丙醇存放罐的雾化管道构成,一去静电装置安装在喷雾盖上;所述的干燥槽体内设有顶升支架,上口四面有溢流道,四周板不垂直向内有斜度,槽底有倾斜的孔板,且底部带有纯水进水的注水管和带有可调速排放阀的排水管。本发明的优越性在于:不但可常温雾化干燥基片,而且可去静电,防止基片发生碎片。
Description
技术领域
本发明涉及一种基片干燥工艺设备,尤其是雾化异丙醇基片干燥设备,该设备可以满足半导体、太阳能和LED/LCD等行业的基片干燥要求,克服基片碎片率较高的缺陷。
背景技术
目前,用于基片干燥主要采用热烘干、旋转干燥和异丙醇蒸汽干燥这三种方式。热烘干和旋转干燥由于易产生水迹,并且旋转导致碎片率较高,因此这两种方式相对落后,一般半导体厂已经很少出现此类设备。异丙醇蒸汽干燥可以有效解决水迹和碎片的问题,但是由于采用较高浓度的异丙醇蒸汽,在安全性上必须非常小心,并且处理后的基片表面会带有很强的静电,更加容易吸附小颗粒,往往会使基片产生二次污染。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种雾化异丙醇基片干燥设备,不但可常温雾化,而且可去静电,防止二次污染。
本发明通过下述技术方案解决所述的技术问题:一种雾化异丙醇基片干燥设备,由电气控制,包括外壳、干燥槽体、异丙醇存放罐、雾化装置和氮气加热器,放入基片花篮在密闭的干燥槽体内干燥,其中,所述的雾化装置由喷雾盖、和分别连接喷雾盖和异丙醇存放罐的雾化管道构成,一去静电装置安装在喷雾盖上;所述的干燥槽体内设有顶升支架,上口四面有溢流道,四周板不垂直向内有斜度,槽底有倾斜的孔板,且底部带有纯水进水的注水管和带有可调速排放阀的排水管。
所述的顶升支架倾斜,底部横杆带有一定的倾斜角,两侧带导向,基片花篮放入后,基片被底部横杆顶起,并相应的倾斜。
所述的喷雾盖可由气缸驱动,与氮气加热器连接,其内集成了雾化喷头和去静电装置。
所述的雾化管道由316EP不锈钢,氟塑料制成。
本发明的工作原理是:先对干燥槽体的槽体经纯水清洗并放空;然后,放入基片花篮,定位于顶升支架上;关闭槽盖并从底部注水至浸没基片;再从槽体顶部引入通过雾化产生的异丙醇;可控的缓慢向下排水,直至液面脱离基片底部;引入加热氮气对基片进行热吹扫,并消除基片表面静电;打开喷雾盖,完成基片干燥。
本发明的优越性在于:不但可常温雾化干燥基片,而且可去静电,防止基片二次污染,并且整个过程基片没有发生运动,可以最大程度的预付碎片。
附图说明
附图1本发明结构示意图;
图中标号说明:
1——干燥槽体; 11——溢流道; 12——注水管; 13——排水管;
2——顶升支架;
3——喷雾盖;
4——去静电装置;
5——雾化管道;
6——氮气加热器;
7——异丙醇存放罐;
8——孔板;
9——基片花篮。
具体实施方式
请参阅附图1本发明结构示意图:一种雾化异丙醇基片干燥设备,由电气控制,包括干燥槽体1、异丙醇存放罐7、雾化装置和氮气加热器6,基片花篮9放在密闭的干燥槽体1内干燥,其中,
所述的雾化装置由喷雾盖3、和分别连接喷雾盖3和异丙醇存放罐7的雾化管道5构成,一去静电装置4安装在喷雾盖3;
所述的干燥槽体1内设有倾斜的顶升支架2,上口四面有溢流道11,四周板不垂直向内有斜度,槽底设有倾斜的孔板8,且底部带有大流量进水口的纯水注水管12和带有可调速排放阀的排水管13。干燥槽体1和倾斜的顶升支架2均由兼容异丙醇且不会产生沾污的材料制成。
进水后通过槽体底部的孔板8可有效的减少液面波动。采用雾化常温的异丙醇,通过密闭干燥槽体1对基片进行干燥,并且在处理过程中加入了去静电技术,以消除二次污染。且由于不需旋转基片,消除了基片的碎片率。
所述的顶升支架的底部横杆21带有一定的倾斜角,两侧带导向,基片花篮9放入后,基片被底部横杆21顶起,并相应的倾斜。这样的设计能够使基片的底部与花篮接触的位置不积水,更有利于干燥。
所述的喷雾盖3由气缸驱动,并与氮气加热器6连接,其内集成了雾化喷头31和去静电装置4。干燥过程中,异丙醇、氮气可分别经过管道从喷头中喷出,并经去静电装置可消除基片表面静电。
所述的雾化管道5由316EP不锈钢,氟塑料制成。
在上述方案基础上,所述的底部横杆带有一定的倾斜角,两侧带导向,基片花篮放入后,基片会被底部横杆顶起,并相应的倾斜一定的角度。这样的设计能够使基片的底部与花篮接触的位置不积水,更有利于干燥。
所述的喷雾盖3由气缸驱动,该内集成了雾化喷头31、氮气喷头32及去静电装置4。干燥过程中,异丙醇、氮气可分别经过管道从喷头中喷出,并经去静电装置可消除基片表面静电。
雾化管道5由兼容异丙醇且不会产生沾污的材料制成,如316EP不锈钢,氟塑料(PFA)。
本发明的工作原理是:先对干燥槽体1的槽体经纯水清洗并放空;然后,放入基片花篮,定位于顶升支架2上;关闭槽盖11并从底部注水至浸没基片;再从槽体顶部引入通过雾化产生的异丙醇;可控的缓慢向下排水,直至液面脱离基片底部;引入加热氮气对基片进行热吹扫,并消除基片表面静电;打开喷雾盖,完成基片干燥。
Claims (4)
1.一种雾化异丙醇基片干燥设备,由电气控制,包括外壳、干燥槽体(1)、异丙醇存放罐、雾化装置和氮气加热器(6),基片花篮(9)放在密闭的干燥槽体(1)内干燥,其特征在于,所述的雾化装置由喷雾盖(3)、和分别连接喷雾盖(3)和异丙醇存放罐(7)的雾化管道(5)构成,一去静电装置(4)安装在喷雾盖(3)上;所述的干燥槽体(1)内设有顶升支架(2),上口四面有溢流道(11),四周板不垂直向内有斜度,槽底有倾斜的孔板(8),且底部带有纯水进水的注水管(12)和带有可调速排放阀的排水管(13)。
2.根据权利要求1所述的雾化异丙醇基片干燥设备,其特征在于,所述的顶升支架(2)倾斜,底部横杆(21)带有一定的倾斜角,两侧带导向,基片花篮放入后,基片被底部横杆(21)顶起,并相应的倾斜。
3.根据权利要求1所述的雾化异丙醇基片干燥设备,其特征在于,所述的喷雾盖(3)由气缸驱动与氮气加热器(6)连接,其内集成了雾化喷头(31)和去静电装置(4)。
4.根据权利要求1所述的雾化异丙醇基片干燥设备,其特征在于,所述的雾化管道(5)由316EP不锈钢,氟塑料制成。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107398454A (zh) * | 2017-08-11 | 2017-11-28 | 中山市美科美五金电器有限公司 | 一种预防发热管电气击穿的清洗工艺 |
CN107477992A (zh) * | 2017-08-01 | 2017-12-15 | 赣州清亦华科科技有限公司 | 一种用于氯化稀土的方便清洗型干燥装置 |
CN108831848A (zh) * | 2018-06-25 | 2018-11-16 | 扬州思普尔科技有限公司 | 一种半导体晶圆清洗干燥设备 |
CN109216244A (zh) * | 2018-09-19 | 2019-01-15 | 安徽宏实自动化装备有限公司 | 一种湿式机台槽内载具及其工作方式 |
CN109719071A (zh) * | 2019-01-22 | 2019-05-07 | 上海提牛机电设备有限公司 | 一种晶片清洗干燥机 |
CN112122200A (zh) * | 2020-08-17 | 2020-12-25 | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 | 一种清洁沾有有机溶液的手臂的外挂式腔体及清洁方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1220193A (zh) * | 1997-12-19 | 1999-06-23 | 南亚科技股份有限公司 | 无水印产生的方法及其装置 |
JP2000223466A (ja) * | 1998-11-24 | 2000-08-11 | Toho Kasei Kk | ウェハ乾燥装置及び方法 |
JP2001077076A (ja) * | 1999-09-06 | 2001-03-23 | Toho Kasei Kk | ウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置及びウェハ乾燥装置 |
US20020061647A1 (en) * | 1996-12-20 | 2002-05-23 | Tomokazu Kawamoto | Method for manufacturing a semiconductor device including treatment of substrate and apparatus for treatment of substrate |
JP2003257926A (ja) * | 2002-03-05 | 2003-09-12 | Kaijo Corp | 洗浄物の乾燥装置及び乾燥方法 |
US6729040B2 (en) * | 1999-05-27 | 2004-05-04 | Oliver Design, Inc. | Apparatus and method for drying a substrate using hydrophobic and polar organic compounds |
CN201371142Y (zh) * | 2009-03-23 | 2009-12-30 | 昆山西钛微电子科技有限公司 | 异丙醇蒸汽清洗干燥装置 |
CN203155611U (zh) * | 2013-03-25 | 2013-08-28 | 上海旭熠电子技术有限公司 | 雾化异丙醇基片干燥设备 |
-
2013
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020061647A1 (en) * | 1996-12-20 | 2002-05-23 | Tomokazu Kawamoto | Method for manufacturing a semiconductor device including treatment of substrate and apparatus for treatment of substrate |
CN1220193A (zh) * | 1997-12-19 | 1999-06-23 | 南亚科技股份有限公司 | 无水印产生的方法及其装置 |
JP2000223466A (ja) * | 1998-11-24 | 2000-08-11 | Toho Kasei Kk | ウェハ乾燥装置及び方法 |
US6729040B2 (en) * | 1999-05-27 | 2004-05-04 | Oliver Design, Inc. | Apparatus and method for drying a substrate using hydrophobic and polar organic compounds |
JP2001077076A (ja) * | 1999-09-06 | 2001-03-23 | Toho Kasei Kk | ウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置及びウェハ乾燥装置 |
JP2003257926A (ja) * | 2002-03-05 | 2003-09-12 | Kaijo Corp | 洗浄物の乾燥装置及び乾燥方法 |
CN201371142Y (zh) * | 2009-03-23 | 2009-12-30 | 昆山西钛微电子科技有限公司 | 异丙醇蒸汽清洗干燥装置 |
CN203155611U (zh) * | 2013-03-25 | 2013-08-28 | 上海旭熠电子技术有限公司 | 雾化异丙醇基片干燥设备 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107477992A (zh) * | 2017-08-01 | 2017-12-15 | 赣州清亦华科科技有限公司 | 一种用于氯化稀土的方便清洗型干燥装置 |
CN107477992B (zh) * | 2017-08-01 | 2019-06-25 | 永修县赣宇有色金属再生有限公司 | 一种用于氯化稀土的方便清洗型干燥装置 |
CN107398454A (zh) * | 2017-08-11 | 2017-11-28 | 中山市美科美五金电器有限公司 | 一种预防发热管电气击穿的清洗工艺 |
CN108831848A (zh) * | 2018-06-25 | 2018-11-16 | 扬州思普尔科技有限公司 | 一种半导体晶圆清洗干燥设备 |
CN109216244A (zh) * | 2018-09-19 | 2019-01-15 | 安徽宏实自动化装备有限公司 | 一种湿式机台槽内载具及其工作方式 |
CN109216244B (zh) * | 2018-09-19 | 2023-11-17 | 国网浙江省电力有限公司台州供电公司 | 一种湿式机台槽内载具及其工作方式 |
CN109719071A (zh) * | 2019-01-22 | 2019-05-07 | 上海提牛机电设备有限公司 | 一种晶片清洗干燥机 |
CN112122200A (zh) * | 2020-08-17 | 2020-12-25 | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 | 一种清洁沾有有机溶液的手臂的外挂式腔体及清洁方法 |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130522 |