JP2001077076A - ウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置及びウェハ乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液相のイソプロピルアルコールが空間内に落
下してしまうことがないウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装
置及びウェハ乾燥装置を提供する 【解決手段】 窒素ガス供給通路３０４と液相ＩＰＡ供
給通路３０６とが形成されかつ液相ＩＰＡ供給通路から
液相のＩＰＡが入り込んだのち窒素ガスと液相のＩＰＡ
とが混合されてミスト状のＩＰＡを噴霧させる多孔質材
料から構成される噴霧部３０１とを備えて、ウェハの温
度より高い温度のミスト状のＩＰＡを噴霧させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、純水中に浸漬され
ているウェハを純水中から取り出すとき、酸素に触れさ
せることなくウェハ表面を乾燥させるウェハ乾燥装置用
ミスト噴霧装置及びウェハ乾燥装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、特公平６−１０３６８６号公報に
開示されるような乾燥装置では、窒素ガスをキャリアと
してＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を蒸気として、
エチッング処理液で処理されたのち純水で洗浄されてい
るウェハ処理槽内の上部空間内に供給するようにしてい
る。そして、処理槽の純水を排水することにより、処理
槽内でウェハを露出させ、処理槽の上部空間に供給され
たＩＰＡ蒸気が露出したウェハの表面に付着した水滴と
置換して、ウェハ表面が酸素に触れて自然酸化すること
なく、乾燥させるようにしている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
造のものでは、通常、常温であるウェハの温度と同じ温
度すなわち常温のＩＰＡ蒸気を処理槽内に供給して置換
させるため、常温のＩＰＡがウェハの表面から蒸発して
ウェハの表面が乾燥するまでの乾燥時間が長くなり、乾
燥効率が悪いといった問題があった。

【０００４】そこで、本出願人の一人は、ウェハの温度
よりも高い温度でかつミスト状のＩＰＡを乾燥室内の純
水の液面上の空間内に噴射させて、乾燥室の上記純水を
排出するか又は上記ウェハを上記乾燥室内で上昇させる
ことにより、上記乾燥室内で上記純水から上記ウェハが
液面より上方に露出するとき、上記ウェハの表裏両面に
付着した純水が上記ミスト状の上記イソプロピルアルコ
ールにより置換され、その後、上記ウェハの表裏両面か
ら上記イソプロピルアルコールが蒸発することにより乾
燥されるようにしたものを既に出願している（特願平１
０−３３２５４５号）。

【０００５】しかしながら、上記ミスト状のＩＰＡを噴
射させるミスト噴霧装置では、窒素ガスを噴射させると
同時に液相のイソプロピルアルコールを上記ウェハの温
度より高い温度でかつ上記窒素ガスの噴射開口近傍で噴
射させて、ミスト状のイソプロピルアルコールを形成し
て上記空間内に噴霧させるようにしているため、液相の
イソプロピルアルコールと窒素ガスとの混合状態によっ
てはイソプロピルアルコールが液相のまま上記空間内に
落下してしまうといった問題があった。

【０００６】従って、本発明の目的は、上記問題を解決
することにあって、液相のイソプロピルアルコールが空
間内に落下してしまうことがないウェハ乾燥装置用ミス
ト噴霧装置及びウェハ乾燥装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は以下のように構成する。

【０００８】本発明の第１５態様によれば、純水内にウ
ェハを浸漬可能な乾燥室内の上記純水の液面上の空間内
に、窒素ガスと液相のイソプロピルアルコールとが混合
されて形成されかつ上記ウェハの温度より高い温度のミ
スト状のイソプロピルアルコールを噴霧させるミスト噴
霧装置であって、上記窒素ガスが供給される窒素ガス供
給通路と、上記液相のイソプロピルアルコールが供給さ
れる液相ＩＰＡ供給通路と、上記窒素ガス供給通路と上
記液相ＩＰＡ供給通路とが形成され、かつ、上記液相Ｉ
ＰＡ供給通路から上記液相のイソプロピルアルコールが
入り込んだのち上記窒素ガスと上記液相のイソプロピル
アルコールとが混合されて上記ミスト状のイソプロピル
アルコールを噴霧させる多孔質材料から構成される噴霧
部とを備えることを特徴とするウェハ乾燥装置用ミスト
噴霧装置を提供する。

【０００９】本発明の第２態様によれば、上記噴霧部
は、多孔質材料から構成されかつウェハ側の噴霧面以外
の部分を被覆して流体の噴出不可とする噴霧部本体を備
え、上記噴霧部本体は、上記噴霧面の近傍に配置された
上記液相ＩＰＡ供給通路と、上記液相ＩＰＡ供給通路の
上記噴霧面とは反対側に配置された上記窒素ガス供給通
路とを備えて、上記窒素ガス供給通路から上記噴霧部本
体内に入り込む上記窒素ガスが、上記液相ＩＰＡ供給通
路から上記噴霧部本体内に入り込んだ上記液相のイソプ
ロピルアルコールと混合されて、上記ミスト状のイソプ
ロピルアルコールを上記噴霧面から上記空間内に噴霧さ
せるようにした請求項１に記載のウェハ乾燥装置用ミス
ト噴霧装置を提供する。

【００１０】本発明の第３態様によれば、上記液相ＩＰ
Ａ供給通路は、上記噴霧部本体内に形成された供給管配
置空間内に配置されたＩＰＡ供給管内に形成され、か
つ、上記ＩＰＡ供給管は、上記液相ＩＰＡ供給通路から
上記液相のイソプロピルアルコールを上記噴霧部本体内
に入り込ませる噴射孔を有するようにした第２態様に記
載のウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置を提供する。

【００１１】本発明の第４態様によれば、上記噴霧部
は、上記多孔質材料から構成されかつウェハ側の噴霧面
以外の部分を被覆して流体の噴射不可とする噴霧部本体
を備え、上記噴霧部本体は、上記窒素ガス供給通路、上
記液相ＩＰＡ供給通路の順に上記噴霧面から遠ざかるよ
うに配置して、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記噴霧部
本体内に入り込んだ上記液相のイソプロピルアルコール
と、上記窒素ガス供給通路から上記噴霧部本体内に入り
込んだ上記窒素ガスとが混合されて、上記ミスト状のイ
ソプロピルアルコールを上記噴霧面から上記空間内に噴
霧させるようにした第１態様に記載のウェハ乾燥装置用
ミスト噴霧装置を提供する。

【００１２】本発明の第５態様によれば、上記噴霧部
は、上記多孔質材料の大略直方体状に構成されかつウェ
ハ側の面のみが被覆されて流体の噴出不可とする一方、
両側面が噴霧面として機能する噴霧部本体を備え、上記
噴霧部本体は、上記液相ＩＰＡ供給通路、上記窒素ガス
供給通路の順に上記被覆された面から遠ざかるように配
置されて、上記窒素ガス供給通路から上記噴霧部本体内
に入り込む上記窒素ガスが、上記液相ＩＰＡ供給通路か
ら上記噴霧部本体内に入り込んだ上記液相のイソプロピ
ルアルコールと混合されて、上記ミスト状のイソプロピ
ルアルコールを上記噴霧面から上記空間内に噴霧させる
ようにした第１態様に記載のウェハ乾燥装置用ミスト噴
霧装置を提供する。

【００１３】本発明の第６態様によれば、上記噴霧部
は、上記多孔質材料の大略直方体状に構成されかつウェ
ハ側の噴霧面以外の部分を被覆して流体の噴射不可とす
る噴霧部本体を備え、上記噴霧部本体は、上記液相ＩＰ
Ａ供給通路を有するとともに、上記液相ＩＰＡ供給通路
内に、上記窒素ガス供給通路を内部に有するとともに噴
射孔を有する窒素ガス供給管を配置して、上記窒素ガス
供給管内の上記窒素ガス供給通路から上記窒素ガス供給
管の上記噴射孔を通って上記液相ＩＰＡ供給通路内に上
記窒素ガスが入り込み上記液相のイソプロピルアルコー
ルとが混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコー
ルとなり、その上記ミスト状のイソプロピルアルコール
が上記液相ＩＰＡ供給通路から上記噴霧部本体内に入り
込んで上記噴霧面から上記空間内に噴霧させるようにし
た第１態様に記載のウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置を
提供する。

【００１４】本発明の第７態様によれば、上記噴霧部
は、上記多孔質材料の大略直方体状に構成されかつウェ
ハ側の噴霧面以外の部分を被覆して流体の噴射不可とす
る噴霧部本体を備え、上記噴霧部本体は、一端から上記
窒素ガスが供給されるとともに他端から上記液相のイソ
プロピルアルコールが供給される１つの液相ＩＰＡ兼窒
素ガス用通路を有して、上記液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通
路が上記液相ＩＰＡ供給通路と上記窒素ガス供給通路と
の両方の機能を有して、上記液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通
路の上記一端から上記窒素ガスが供給されるとともに上
記他端から上記液相のイソプロピルアルコールが供給さ
れることにより、上記液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路内で
上記窒素ガスと上記液相のイソプロピルアルコールとが
混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールとな
り、その上記ミスト状のイソプロピルアルコールが上記
液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路から上記噴霧部本体内に入
り込んで上記噴霧面から上記空間内に噴霧させるように
した第１態様に記載のウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置
を提供する。

【００１５】本発明の第８態様によれば、上記噴霧部
は、上記窒素ガス供給通路を有しかつ噴射孔を有する窒
素ガス通路用の窒素ガス供給体と、上記窒素ガス供給体
の下方に配置され、上記液相ＩＰＡ供給通路を有し、上
記多孔質材料から直方体状に構成され、かつウェハ側の
噴霧面以外の部分を被覆して流体の噴射不可とする液相
のＩＰＡ用通路用のＩＰＡ供給体とで構成して、上記窒
素ガス供給体の上記窒素ガス供給通路から供給された窒
素ガスが上記噴射孔から上記ＩＰＡ供給体の両側面に沿
って噴射され、上記液相ＩＰＡ用通路に供給された上記
液相のイソプロピルアルコールが上記ＩＰＡ供給体の上
記両側面から噴出することにより、上記窒素ガスと上記
液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミス
ト状のイソプロピルアルコールを上記空間内に噴霧させ
るようにした第１態様に記載のウェハ乾燥装置用ミスト
噴霧装置を提供する。

【００１６】本発明の第９態様によれば、純水内にウェ
ハを浸漬可能な乾燥室と、上記乾燥室内の上記純水の液
面上の空間内に、窒素ガスと液相のイソプロピルアルコ
ールとを混合させたミスト状態のイソプロピルアルコー
ルのＩＰＡミストを上記ウェハの温度より高い温度で噴
霧させる第１〜９のいずれかの態様に記載のミスト噴霧
装置とを備えて、上記乾燥室の上記純水を排出するか又
は上記ウェハを上記乾燥室内で上昇させることにより、
上記乾燥室内で上記純水から上記ウェハが液面より上方
に露出するとき、上記ウェハの表裏両面に付着した純水
が上記ミスト状の上記イソプロピルアルコールにより置
換され、その後、上記ウェハの表裏両面から上記イソプ
ロピルアルコールが蒸発することにより乾燥されるよう
にしたことを特徴とするウェハ乾燥装置を提供する。

【００１７】本発明の第１０態様によれば、上記乾燥室
は、上記ウェハを収容する収容部と、該収容部に供給さ
れた上記純水がオーバーフローして流れ込むオーバーフ
ロー部とを有するとともに、上記乾燥室を収容し、か
つ、上記乾燥室の上記収容部の上方に第１閉鎖空間を形
成可能とし、上記オーバーフロー部の純水が流れ込み、
かつ、上記オーバーフロー部の上記純水内に入り込み上
記第１閉鎖空間と隔離された第２閉鎖空間を形成する仕
切り壁を有する処理室とを備えるようにした第９態様に
記載のウェハ乾燥装置を提供する。

【００１８】本発明の第１１態様によれば、上記液相の
イソプロピルアルコールを上記ウェハの温度より少なく
とも５℃以上高い温度でかつ上記窒素ガスの噴射開口近
傍で噴射させてミスト状のイソプロピルアルコールを上
記空間内に噴霧させる第９又は１０態様に記載のウェハ
乾燥装置を提供する。

【００１９】本発明の第１２態様によれば、上記ウェハ
は常温であり、上記ミストは大略３０℃以上である第１
０又は１１態様に記載のウェハ乾燥装置を提供する。

【００２０】本発明の第１３態様によれば、上記ミスト
状の上記イソプロピルアルコールは、上記イソプロピル
アルコール自体が単体で上記窒素ガス中を浮遊している
状態である第１０から１２のいずれかの態様に記載のウ
ェハ乾燥装置を提供する。

【００２１】本発明の第１４態様によれば、上記ウェハ
の温度より５℃から６０℃高い温度で上記イソプロピル
アルコールをミスト状に噴霧させるようにした第１０か
ら１３のいずれかの態様に記載のウェハ乾燥装置を提供
する。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下に、本発明にかかる実施の形
態を図面に基づいて詳細に説明する。

【００２３】本発明の第１実施形態にかかるウェハ乾燥
装置は、図１〜図５に示すように、公知の図示しないキ
ャリアで支持されたウェハ２，…，２を洗浄する純水４
０内にウェハ２，…，２を浸漬して洗浄後に乾燥可能な
乾燥室１と、上記乾燥室１内の上記純水４０の液面上の
第１閉鎖空間４内に、窒素ガスと液相のイソプロピルア
ルコール（以下、単にＩＰＡと記す。）とが混合された
ミスト状のＩＰＡ（ＩＰＡミスト）を、上記ウェハ２の
温度（例えば常温）より高い、好ましくは上記ウェハ２
の温度より少なくとも５℃以上高い、より好ましくは上
記ウェハ２の温度より５℃から６０℃高い、温度で噴射
させるミスト噴霧装置３，３とを備えて、上記乾燥室１
の上記純水４０を排出するか又は上記ウェハ２，…，２
を上記乾燥室１内で上昇させることにより、上記乾燥室
１内で上記純水４０の液面から上記ウェハ２，…，２が
上方に露出するとき、ミスト噴霧装置３，３から上記各
ウェハ２の表裏両面にＩＰＡをミスト状態、すなわち、
窒素をキャリアとするのではなく、ＩＰＡ自体が単体で
窒素ガス中を浮遊している状態で噴霧させ続けて、上記
各ウェハ２の表裏両面に付着した純水４０が上記ミスト
状の上記ＩＰＡ（ＩＰＡミスト）により置換されるよう
にしている。通常、上記ウェハ２は常温であり、上記Ｉ
ＰＡミストは大略３０℃以上である。

【００２４】上記乾燥室１は、大略矩形の箱体状のウェ
ハ収容部１ｂと、該収容部１ｂの上端の外側の周囲に形
成された矩形溝状のオーバーフロー部１ａとより大略構
成されている。このオーバーフロー部１ａには、乾燥室
１の収容部１ｂ内からオーバーフローした純水が流入す
るようになっている。

【００２５】また、乾燥室１は、全体が処理室の一例と
しての機能する処理シンク５０内に収納されるととも
に、乾燥室１の上方の処理シンク５０の上端開口は、外
部から蓋５２により密閉できるように配置されている。
乾燥室１の矩形溝状のオーバーフロー部１ａの中央部分
には、処理シンク５０の上端においてＵ字状に屈曲され
た仕切り壁５１の先端が入り込み、オーバーフロー部１
ａ内に純水があるときには、その純水内に仕切り壁５１
の先端が入り込んでいることにより、乾燥室１の収容部
１ｂの上方でかつ処理シンク５０の上部と蓋５２とで閉
塞された第１閉鎖空間４と、乾燥室１の収容部１ｂの外
側の側方及び下方でかつ処理シンク５０により閉塞され
た第２閉鎖空間２９とが分離されるようになっている。

【００２６】なお、オーバーフロー部１ａ内の純水は、
図３に示すように、定期的なメインテナンスなどのため
に、制御装置４１の制御動作に基く第１エアーオペレー
トバルブ５４の開動作により、処理シンク５０内に排出
可能となっている。第１エアーオペレートバルブ５４は
常時は閉じられている。

【００２７】また、処理シンク５０の仕切り壁５１に
は、第１閉鎖空間４と第２閉鎖空間２９との圧力バラン
スを自動調整するための第１０エアーオペレートバルブ
５３が設けられており、上記乾燥室１内の上記純水４０
の液面上の第１閉鎖空間４の圧力が第２閉鎖空間２９よ
り所定圧力を超えて高くなりすぎると、制御装置４１の
制御動作に基き第１０エアーオペレートバルブ５３が開
動作されて、第１閉鎖空間４と第２閉鎖空間２９との圧
力バランスを自動調整するようにしている。なお、第１
閉鎖空間４の圧力は、第２閉鎖空間２９より陽圧、すな
わち、第２閉鎖空間２９より上記所定圧力だけ常時高く
なるように保持されており、第２閉鎖空間２９から第１
閉鎖空間４側への流体の移動が生じてウェハ２，…，２
が汚染されないようにしている。

【００２８】また、処理シンク５０の第２閉鎖空間２９
内の圧力が異常に高まらないようにするため、処理シン
ク５０に排出通路４４を設けて、排出通路４４に、第２
閉鎖空間２９内の気体の排出流量を手動で調整するため
の手動弁８と、制御装置４１の制御に基き排出通路４４
での気体の排出又は停止を行う第２エアーオペレートバ
ルブ９とを設けている。なお、第２閉鎖空間２９内に圧
力センサを配置して、圧力センサで検出された第２閉鎖
空間２９内の圧力に応じて第２エアーオペレートバルブ
９を自動的に開閉することもできる。

【００２９】なお、上記第１実施形態では、第２エアー
オペレートバルブ９は、制御装置４１の制御により、排
出通路４４の開閉動作を単に行うものとして説明した
が、手動弁８の機能をも取り込んで手動弁８を省略し、
制御装置４１の制御動作により、ミスト噴霧装置３，３
から第１閉鎖空間４内に供給されるＩＰＡミストの供給
量及び後述するように乾燥室１の収容部１ｂから排出通
路４５を経て排出される純水の排出量に基き、排出通路
４４から排出される流体の流量を適切に自動的に調整す
る流量自動調整弁として機能させるようにしてもよい。

【００３０】また、図３において、乾燥室１の底部に
は、多数の供給孔を有する棒状の純水供給部５５が配置
され、純水供給部５５は、第３エアーオペレートバルブ
５６、流量計５９、手動弁６０を備えた純水供給通路５
８と連結されて、純水供給通路５８を通して処理シンク
５０の外部から純水を乾燥室１の収容部１ｂ内に供給す
るようにしている。第３エアーオペレートバルブ５６
は、制御装置４１の制御により、純水供給通路５８の開
閉動作を行うものである。手動弁６０は、流量計５９に
より検出された純水供給通路５８の純水の流量に基き、
所定流量が供給されるように手動で調整するバルブであ
る。５７は手動弁であり、第３エアーオペレートバルブ
５６により純水供給通路５８が閉じられたときに純水を
処理シンク５０内に若干量だけ流すものである。

【００３１】なお、上記第１実施形態では、第３エアー
オペレートバルブ５６は、制御装置４１の制御により、
純水供給通路５８の開閉動作を単に行うものとして説明
したが、手動弁６０の機能をも取り込んで手動弁６０を
省略し、制御装置４１の制御動作により、流量計５９に
より検出された純水供給通路５８の純水の流量に基き、
所定流量が供給されるように調整する流量自動調整弁と
して機能させるようにしてもよい。

【００３２】さらに、乾燥室１の底部には、純水４０及
び窒素ガスなどを処理シンク５０内に排出するための排
出通路４５を設け、該排出通路４５に、当該通路４５を
制御装置４１の制御に基いて開閉動作並びに流量調整動
作する第４エアーオペレートバルブ７を設けて、排出通
路４５の開閉及び純水及び窒素ガスなどの排出流量を調
整するようにしている。

【００３３】また、処理シンク５０の底部には、純水４
０などを常時排出可能とするため、逆流防止用トラップ
６１ａ付きの排出通路６１を設けている。

【００３４】一方、上記各ミスト噴霧装置３の一例とし
てのミスト噴霧部３０１を、図４及び図５に示す。

【００３５】上記噴霧部３０１の多孔質のフッ素樹脂製
の直方体状の噴霧部本体３０２の上部には、長手方向沿
いに延びた２本の窒素ガス用通路３０４，３０４を配置
するとともに、２本の窒素ガス用通路３０４，３０４間
の中間の下方の噴霧部本体３０２の下部に、１本のＩＰ
Ａ用通路３０６を配置している。上記噴霧部３０１に
は、２本のＩＰＡ用供給管３３，３３と２本の窒素ガス
供給管３２，３２とがそれぞれ連結されて、２本のＩＰ
Ａ用供給管３３，３３から１本のＩＰＡ用通路３０６に
液相のＩＰＡが供給されるとともに、２本の窒素ガス供
給管３２，３２それぞれから２本の窒素ガス用通路３０
４，３０４にそれぞれ窒素ガスが供給されるようになっ
ている。そして、上記直方体状の噴霧部本体３０２のウ
ェハ２に対向する面すなわち下面を除く面すなわち上面
と両側面とを多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被覆
体３０３で被覆することにより、被覆体３０３で被覆さ
れた面から窒素ガス及びＩＰＡが出ないようにする。Ｉ
ＰＡ用通路３０６は、噴霧部本体３０２の下部に形成さ
れた断面円形の長尺な供給管配置空間３０５内に配置さ
れたＩＰＡ供給管３０８内に形成されている。ＩＰＡ供
給管３０８は、所定間隔毎に、言い換えれば、各ウェハ
２に大略向けて、すなわち、詳細には隣接するウェハ
２，２間の空間に向けて配置された多数の噴射孔３０
７，…，３０７を有している。噴霧部本体３０２の供給
管配置空間３０５内に液相のＩＰＡを直接供給するので
はなく、ＩＰＡ供給管３０８を配置してその管３０８の
小さな噴射孔３０７，…，３０７を介して供給するの
は、噴射孔３０７，…，３０７から一旦噴射された液相
のＩＰＡはＩＰＡ供給管３０８内に戻ることができない
結果、液相のＩＰＡの逆流を防止することができ、より
安定して所定量の液相のＩＰＡを供給できるためであ
る。

【００３６】従って、２本の窒素ガス用通路３０４，３
０４に窒素ガスが供給されると同時に、１本のＩＰＡ用
通路３０６にも液相のＩＰＡが供給されると、２本の窒
素ガス用通路３０４，３０４から供給された窒素ガス
が、多孔質である直方体状の噴霧部本体３０２内に入り
込み、上記直方体状の噴霧部本体３０２の上面と両側面
とが多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被覆体３０３
で被覆されているため、被覆されていないウェハ２に対
向する面すなわち下面（噴霧面３０２ａ）側に導かれ、
この噴霧面３０２ａから噴出しようとする。このとき、
ＩＰＡ用通路３０６から供給管配置空間３０５を介して
噴霧部本体３０２内に入り込んだ液相のＩＰＡも同様に
噴霧面３０２ａから噴出しようとする。この結果、窒素
ガスと液相のＩＰＡとが同時に噴出しようとして、ＩＰ
Ａミストが噴霧面３０２ａから噴霧させることができ
る。

【００３７】なお、上記第１実施形態では、左右のミス
ト噴霧装置３，３のミスト噴霧部３０１，３０１のそれ
ぞれに窒素ガス及びＩＰＡ液体を供給するとき、両端部
での圧力損失をできるだけ少なくするため、一方の窒素
ガス用通路３０４では、各ミスト噴霧部３０１の一端側
から他端閉塞部に向けて窒素ガスを供給する一方、他方
の窒素ガス用通路３０４では、逆に、各ミスト噴霧部３
０１の他端側から一端閉塞部に向けて窒素ガスを供給す
るとともに、ＩＰＡ液体は各ミスト噴霧部３０１の一端
側と他端側にの両方から中間部に向けて供給するように
して、噴霧面３０２ａからより均一なＩＰＡミストを噴
霧させるようにしている。

【００３８】なお、ＩＰＡ用供給管３３のＩＰＡ用通路
３０６から液相のＩＰＡの供給を停止させれば、後述す
るように、窒素ガス供給管３２の窒素ガス用通路３０
４，３０４から窒素ガスのみを供給して、窒素ガスによ
るブロー乾燥動作などを行うこともできる。

【００３９】一方、窒素ガス供給管３２の窒素ガス通路
３０４から供給される窒素ガスは、常温より高い、好ま
しくは少なくとも５℃以上高い、より好ましくは５℃か
ら６０℃高い温度で供給されるものであって、図３に示
されるように、圧力計７７付きの減圧弁１７、上記窒素
ガス通路３０４，３０４への窒素ガスの供給を一度に遮
断可能な手動弁１８までが１つの通路であり、手動弁１
８以降は２つの通路に分岐されて、流量計１９，１９、
手動弁７５，７６、第５，６エアーオペレートバルブ２
０，２１、供給する窒素ガス中のゴミなどを除去するフ
ィルタ７４，７４、供給する窒素ガスを所定温度まで加
熱するヒータ７３，７３を介して、図１の左右に配置し
たミスト噴霧装置３，３にそれぞれ供給される。第５，
６エアーオペレートバルブ２０，２１は、制御装置４１
の制御に基きそれぞれの通路の開閉動作を行うものであ
る。手動弁７５，７６は、左右それぞれのミスト噴霧装
置３，３用の通路に配置され、それぞれの流量計１９，
１９で検出されたそれぞれの通路での窒素ガスの流量に
基づき、窒素ガスの流量をそれぞれ手動で調整すること
により、左右のミスト噴霧装置３，３から上記乾燥室１
内の上記純水４０の液面上の第１閉鎖空間４内にミスト
を噴霧するとき、左右のミスト噴霧状態のバランスを調
整できるようにしている。この結果、ＩＰＡミストの温
度は、常温より高い、好ましくは少なくとも５℃以上高
い、より好ましくは５℃から６０℃高い温度で噴霧され
る。

【００４０】なお、上記第１実施形態では、第５，６エ
アーオペレートバルブ２０，２１は、制御装置４１の制
御動作により、それぞれの通路の開閉動作を単に行うも
のとして説明したが、手動弁７５，７６の機能をも取り
込んで手動弁７５，７６を省略し、制御装置４１の制御
動作により、流量計１９，１９により検出されたそれぞ
れの通路の窒素ガスの流量に基き、所定流量が供給され
るようにそれぞれ調整する流量自動調整弁として機能さ
せるようにしてもよい。

【００４１】また、ＩＰＡ用供給管３３のＩＰＡ用通路
３０６から供給される液相のＩＰＡは、以下のようにし
て供給される。すなわち、図３に示されるように、圧力
計７８付きの減圧弁１０、上記ＩＰＡ用通路３０６，３
０６への液相のＩＰＡの供給を生じさせる窒素ガスを一
度に遮断可能な第７エアーオペレートバルブ１１を介し
てＩＰＡ圧送タンク５内に上記とは別に窒素ガスを圧送
し、窒素ガスの圧力によりＩＰＡ圧送タンク５内のＩＰ
Ａの液体６が、上記ＩＰＡ用通路３０６，３０６への液
相のＩＰＡの供給を一度に遮断可能な手動弁１３を配置
した１つの通路を経て、手動弁１３以降は２つの通路に
分岐されて、流量計１４，１４、手動弁１５，１６、第
８，９エアーオペレートバルブ７１，７２、供給するＩ
ＰＡ中のゴミなどを除去するフィルタ７０，７０を介し
て、図１の左右に配置したミスト噴霧装置３，３にそれ
ぞれ供給される。なお、１２はＩＰＡ圧送タンク用リリ
ーフ弁である。第８，９エアーオペレートバルブ７１，
７２は、制御装置４１の制御に基きそれぞれの通路の開
閉動作を行うものである。手動弁１５，１６は、左右そ
れぞれのミスト噴霧装置３，３用の通路に配置され、そ
れぞれの流量計１４，１４で検出されたそれぞれの通路
でのＩＰＡの液体の流量に基づき、ＩＰＡの液体の流量
をそれぞれ手動で調整することにより、左右のミスト噴
霧装置３，３から上記乾燥室１内の上記純水４０の液面
上の第１閉鎖空間４内にミストを噴霧するとき、左右の
ミスト噴霧状態のバランスを調整できるようにしてい
る。

【００４２】なお、上記第１実施形態では、第８，９エ
アーオペレートバルブ７１，７２は、制御装置４１の制
御により、それぞれの通路の開閉動作を単に行うものと
して説明したが、手動弁１５，１６の機能をも取り込ん
で手動弁１５，１６を省略し、制御装置４１の制御動作
により、流量計１４，１４により検出されたそれぞれの
通路のＩＰＡの液体の流量に基き、所定流量が供給され
るようにそれぞれ調整する流量自動調整弁として機能さ
せるようにしてもよい。

【００４３】上記第１エアーオペレートバルブ５４、第
２エアーオペレートバルブ９、第３エアーオペレートバ
ルブ５６、第４エアーオペレートバルブ７、第５エアー
オペレートバルブ２０、第６エアーオペレートバルブ２
１、第７エアーオペレートバルブ１１、第８エアーオペ
レートバルブ７１、第９エアーオペレートバルブ７２、
第１０エアーオペレートバルブ５３は、それぞれ、制御
装置４１に接続されており、制御装置４１の制御によ
り、所定のプログラムなどに基づいて、自動的に、オー
バーフロー部１ａからの純水の排出、第２閉鎖空間２９
からの気体の排出、乾燥室１の収容部１ｂへの純水の供
給及び排出、第１閉鎖空間４への窒素ガス及びＩＰＡの
液体のそれぞれの供給、従って、ＩＰＡミストの噴霧状
態、乾燥室１内の第１閉鎖空間４内からの排気量、純水
４０の排出量、第１閉鎖空間４と第２閉鎖空間２９との
圧力バランスの自動調整などを動作制御できるようにし
ている。

【００４４】上記構成によれば、制御装置４１の制御動
作に基き、以下のようにしてウェハの乾燥動作が行われ
る。

【００４５】図６において、まず、キャリアで支持され
たウェハ２，…，２を乾燥室１の収容部１ｂ内に配置す
る。このとき、乾燥室１の上方の第１閉鎖空間４には窒
素ガス供給管３２，３２の窒素ガス用通路３０４，３０
４から窒素ガスのみを上記各ミスト噴霧装置３に供給し
て上記各ミスト噴霧装置３から窒素ガスを噴出させて窒
素ガス雰囲気に維持されているとともに、乾燥室１の収
容部１ｂ内には純水が純水供給部５５から供給され続け
ており、収容部１ｂ内からオーバーフローした純水はオ
ーバーフロー部１ａに流れ込み、さらに、オーバーフロ
ー部１ａからオーバーフローした純水は処理シンク５０
内に流れ落ちている。このようにして、収容部１ｂ内に
は純水が満杯になつた状態に維持されており、このよう
な収容部１ｂ内に、キャリアで支持されたウェハ２，
…，２を浸漬するようにする。浸漬時に収容部１ｂ内か
らオーバーフローした純水はオーバーフロー部１ａを経
て処理シンク５０内に流れ込む。上記したように、純水
供給部５５から純水が、ウェハ２，…，２が収容されて
いる乾燥室１の収容部１ｂ内に供給され続けることによ
り、純水４０によりウェハ２，…，２が洗浄され、洗浄
された純水は収容部１ｂからオーバーフロー部１ａを介
して処理シンク５０内に流れ落ちる。処理シンク５０内
に溜まった純水は、逆流防止用トラップ６１ａ付きの排
出通路６１から常時排出される。また、このとき、オー
バーフロー部１ａ内の純水内に仕切り壁５１の先端が入
り込んでいることから、乾燥室１の上方でかつ処理シン
ク５０の上部と蓋５２とで閉塞された第１閉鎖空間４
と、乾燥室１の側方及び下方で処理シンク５０により閉
塞された第２閉鎖空間２９とが、オーバーフロー部１ａ
内の純水と仕切り壁５１とにより、分離独立される。な
お、このとき、排気通路４４は第２エアーオペレートバ
ルブ９により閉じられている。

【００４６】次いで、純水によるウェハ２，…，２の洗
浄が充分に行われたのち、図７に示すように、制御装置
４１の制御に基き、乾燥室１への純水の供給が停止さ
れ、ミスト噴霧装置３，３に窒素ガスと液相のＩＰＡと
が供給されてＩＰＡミストがミスト噴霧装置３，３から
上記乾燥室１内の上記純水４０の液面上の第１閉鎖空間
４内に噴射される。ＩＰＡミストは、例えば、１台のミ
スト噴霧装置３あたり約２〜３ｃｃ／ｍｉｎの噴射速度
で上記第１閉鎖空間４内に噴霧させる。ＩＰＡミストを
噴霧させる方向、すなわち、各噴霧面２０３ａの当該面
と直交する軸方向は、若干下向きとして純水４０内のウ
ェハ２に大略向かう方向（詳細には隣接するウェハ２，
２間の空間でかつウェハ２の中心に相当する位置に向か
う方向）として、純水４０の液面上に均一にＩＰＡミス
トが保持されるようにするのが好ましい。このとき、乾
燥室１の第１閉鎖空間４内の圧力が第２閉鎖空間２９内
の圧力と比較して所定圧力以上に高くなったときには、
制御装置４１の制御により第１０エアーオペレートバル
ブ５３を開いて第２閉鎖空間２９内にＩＡＰミストを排
出して、第１閉鎖空間４内の圧力を低下させて、上記所
定圧力を維持するようにする。

【００４７】次いで、所定時間経過後、第１閉鎖空間４
内にＩＰＡミストが充満したのち、制御装置４１の制御
に基き、第２エアーオペレートバルブ９により排気通路
４４を開き、手動弁８で調整された流量の気体が第２閉
鎖空間２９から排出可能とし、かつ、図８に示すよう
に、乾燥室１の収容部１ｂの底部から第４エアーオペレ
ートバルブ７の開操作により排出通路４５から純水が、
処理シンク５０内すなわち第２閉鎖空間２９内に徐々に
排出開始されて、乾燥室１内の上記純水４０の液面が低
下させる。すなわち、このように上記第１閉鎖空間４の
純水４０の液面付近がＩＰＡミストで覆われた状態が保
持できるようにＩＰＡミストを噴霧し続けている状態
で、制御装置４１の制御により、第４エアーオペレート
バルブ７を開けて、純水４０を乾燥室１の収容部１ｂ内
から徐々に排出を開始する。排出速度の例としては、Ｉ
ＰＡミストを例えば、１台のミスト噴霧装置３あたり約
２〜３ｃｃ／ｍｉｎの噴射速度で噴出させて噴霧させる
とき、純水４０の液面が１秒間に２ｍｍ程度低下するよ
うな速度とする。

【００４８】その結果、各ウェハ２の上部が純水４０か
ら露出することになるが、各ウェハ表面が酸素に触れて
自然酸化することなく、上記純水４０の液面に均一に噴
霧され続けているＩＰＡミストが各ウェハ２の表裏両面
に付着した純水とすぐに置換される。また、ＩＰＡミス
トの温度は、各ウェハ２の温度すなわち常温よりも高
い、好ましくは少なくとも５℃以上高い、より好ましく
は５℃から６０℃高くなっているため、迅速に乾燥す
る。その後、上記各ウェハ２の表裏両面から上記ＩＰＡ
が自然に蒸発することにより、上記各ウェハ２の表裏両
面が乾燥される。

【００４９】次いで、図９に示すように、上記各ウェハ
２が純水４０から完全に露出して、ＩＰＡミストが各ウ
ェハ２の表裏両面に付着した純水とすぐに置換され、上
記各ウェハ２の表裏両面から上記ＩＰＡが自然に蒸発す
ることにより、上記各ウェハ２の表裏両面が完全に乾燥
される。その後、制御装置４１の制御に基き、液相のＩ
ＰＡのミスト噴霧装置３，３への供給のみを停止し、窒
素ガスのみをミスト噴霧装置３，３を供給して、ミスト
噴霧装置３，３から窒素ガスを各ウェハ２の表裏両面に
供給して、ブロー乾燥したのち、キャリアで支持された
ウェハ２，…，２を乾燥室１の収容部１ｂ内から取り出
す。このとき、純水は、純水供給部５５から少量だけ収
容部１ｂ内に供給し、収容部１ｂ内に溜まらずにすぐに
排出通路４５から排出されるようにしている。このと
き、窒素ガスも純水とともに排出通路４５から排出され
ることにより、ブロー乾燥において、第１閉鎖空間４内
の圧力が異常に高まるのを防止している。

【００５０】その後、ウェハ２，…，２を乾燥室１の収
容部１ｂ内から完全に取り出されたのち、次のウェハ
２，…，２の乾燥に備えて、排出通路４５を閉じて純水
を収容部１ｂ内に溜めて、収容部１ｂ内から再びオーバ
ーフロー部１ａにオーバーフローさせる。

【００５１】以上の動作を繰り返すことにより、連続的
にウェハ２，…，２の乾燥を行うことができる。

【００５２】従って、多数の噴射孔を形成しているミス
ト噴霧装置では所定間隔毎に形成された噴射孔からしか
ミストを噴霧することができなかったが、上記第１実施
形態によれば、ウェハ２に対向する噴霧面３０２ａの大
略全面からミストをウェハ２に向けて均一に噴霧するこ
とができる。

【００５３】なお、本発明は上記実施形態に限定される
ものではなく、その他種々の態様で実施できる。

【００５４】例えば、本発明の第２実施形態にかかるウ
ェハ乾燥装置のミスト噴霧装置３の第２の例としてのミ
スト噴霧部３２１を図１０に示す。第２実施形態が第１
実施形態と異なる点は、窒素ガス用通路３２４を１本と
し、かつ、窒素ガス用通路３２４と１本のＩＰＡ用通路
３２６との配置を図１０において上下逆にしたことであ
る。すなわち、上記噴霧部３２１の多孔質のフッ素樹脂
製の直方体状の噴霧部本体３２２の上部には長手方向沿
いに延びた１本のＩＰＡ用通路３２６を配置するととも
に、噴霧部本体３２２の下部にはＩＰＡ用通路３２６よ
り小径でかつ長手方向沿いに延びた１本の窒素ガス用通
路３２４を配置している。上記噴霧部３２１には、２本
のＩＰＡ用供給管３３，３３と２本の窒素ガス供給管３
２，３２とがそれぞれ連結されて、２本のＩＰＡ用供給
管３３，３３から１本のＩＰＡ用通路３２６に液相のＩ
ＰＡが供給されるとともに、２本の窒素ガス供給管３
２，３２から１本の窒素ガス用通路３２４に窒素ガスが
供給されるようになっている。そして、上記直方体状の
噴霧部本体３２２のウェハ２に対向する面すなわち下面
を除く面すなわち上面と両側面とを多孔質ではない通常
のフッ素樹脂製の被覆体３２３で被覆することにより、
被覆体３２３で被覆された面から窒素ガス及びＩＰＡが
出ないようにする。

【００５５】従って、窒素ガス用通路３２４に窒素ガス
が供給されると同時に、ＩＰＡ用通路３２６にも液相の
ＩＰＡが供給されると、窒素ガス用通路３２４から窒素
ガスが、多孔質である直方体状の噴霧部本体３２２内に
入り込み、上記直方体状の噴霧部本体３２２の上面と両
側面とが多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被覆体３
２３で被覆されているため、被覆されていないウェハ２
に対向する面すなわち下面（噴霧面３２２ａ）側に導か
れ、この噴霧面３２２ａから噴出しようとする。このと
き、ＩＰＡ用通路３２６から噴霧部本体３２２内に入り
込んだ液相のＩＰＡも同様に噴霧面３２２ａから噴出し
ようとする。この結果、窒素ガスと液相のＩＰＡとが同
時に噴出しようとして、ＩＰＡミストを噴霧面３２２ａ
から噴霧させることができる。

【００５６】上記第２実施形態によれば、第１実施形態
と比較して、通路の数を少なくすることができて、より
コンパクトなものとすることができる。

【００５７】また、本発明の第３実施形態にかかるウェ
ハ乾燥装置のミスト噴霧装置３の第３の例としてのミス
ト噴霧部３１１を図１１及び図１２に示す。第３実施形
態が第１実施形態と異なる点は、窒素ガス用通路３１４
を１本とする代わりにＩＰＡ用通路３１６，３１６を２
本配置し、かつ、窒素ガス用通路３１４と２本のＩＰＡ
用通路３１６，３１６との配置を図１２において上下逆
にし、さらに、被覆体３１３の被覆位置を変更したこと
である。すなわち、上記噴霧部３１１の多孔質のフッ素
樹脂製の直方体状の噴霧部本体３１２の上部には長手方
向沿いに延びた１本の窒素ガス用通路３１４を配置する
とともに、噴霧部本体３１２の下部には窒素ガス用通路
３１４より小径でかつ長手方向沿いに延びた２本のＩＰ
Ａ用通路３１６，３１６を、窒素ガス用通路３１４の中
心軸に対して対称に配置している。上記噴霧部３１１に
は、２本のＩＰＡ用供給管３３，３３と２本の窒素ガス
供給管３１，３１とがそれぞれ連結されて、２本のＩＰ
Ａ用供給管３３，３３から２本のＩＰＡ用通路３１６に
液相のＩＰＡがそれぞれ供給されるとともに、２本の窒
素ガス供給管３１，３１から１本の窒素ガス用通路３１
４に窒素ガスが供給されるようになっている。そして、
上記直方体状の噴霧部本体３１２のウェハ２に対向する
面すなわち下面のみを多孔質ではない通常のフッ素樹脂
製の被覆体３１３で被覆することにより、被覆体３１３
で被覆された面から窒素ガス及びＩＰＡが出ないように
する。

【００５８】従って、窒素ガス用通路３１４に窒素ガス
が供給されると同時に、ＩＰＡ用通路３１６，３１６に
も液相のＩＰＡが供給されると、窒素ガス用通路３１４
からの供給された窒素ガスが、多孔質である直方体状の
噴霧部本体３１２内に入り込み、上記直方体状の噴霧部
本体３１２の下面が多孔質ではない通常のフッ素樹脂製
の被覆体３１３で被覆されているため、被覆されていな
い噴霧部本体３１２の両側面（噴霧面３１２ａ，３１２
ａ）側に導かれ、この噴霧面３１２ａ，３１２ａから噴
出しようとする。このとき、ＩＰＡ用通路３１６，３１
６から噴霧部本体３１２内に入り込んだ液相のＩＰＡも
同様に噴霧面３１２ａ，３１２ａから噴出しようとす
る。この結果、窒素ガスと液相のＩＰＡとが同時に噴出
しようとして、ＩＰＡミストを噴霧面３１２ａ，３１２
ａから噴霧させることができる。

【００５９】上記第３実施形態によれば、第１実施形態
と比較して、噴霧部本体３１２の下面からのみ噴霧する
のではなく、両側面である噴霧面３１２ａ，３１２ａか
らＩＰＡミストを噴霧させることができる。

【００６０】また、本発明の第４実施形態にかかるウェ
ハ乾燥装置のミスト噴霧装置３の第４の例としてのミス
ト噴霧部３３１を図１３及び図１４に示す。第４実施形
態が第１実施形態と異なる点は、液相のＩＰＡ用通路３
３６内に窒素ガス供給管３３８を配置したことである。
すなわち、上記噴霧部３３１の多孔質のフッ素樹脂製の
直方体状の噴霧部本体３３２の中央部には、長手方向沿
いに延びた１本の液相のＩＰＡ用通路３３６を形成する
とともに、該ＩＰＡ用通路３３６の中央部に、長手方向
沿いに延びた１本の窒素ガス用通路３３４を内部に形成
する窒素ガス供給管３３８を配置している。上記噴霧部
３３１には、２本のＩＰＡ用供給管３３，３３と２本の
窒素ガス供給管３２，３２とがそれぞれ連結されて、２
本のＩＰＡ用供給管３３，３３から１本のＩＰＡ用通路
３３６に液相のＩＰＡが供給されるとともに、２本の窒
素ガス供給管３２，３２から１本の窒素ガス用通路３３
４にそれぞれ窒素ガスが供給されるようになっている。
そして、上記直方体状の噴霧部本体３３２のウェハ２に
対向する面すなわち下面を除く面すなわち上面と両側面
とを多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被覆体３３３
で被覆することにより、被覆体３３３で被覆された面か
ら窒素ガス及びＩＰＡが出ないようにする。窒素ガス供
給管３３８は、所定間隔毎に、言い換えれば、各ウェハ
２に、すなわち、詳細には隣接するウェハ２，２間の空
間に対応して多数の噴射孔３３７，…，３３７を有して
いる。

【００６１】従って、窒素ガス用通路３３４に窒素ガス
が供給されると同時に、ＩＰＡ用通路３３６にも液相の
ＩＰＡが供給されると、窒素ガス用通路３３４から供給
された窒素ガスがＩＰＡ用通路３３６内に入り込んで液
相のＩＰＡと混合されて上記ＩＰＡミストとなり、その
ＩＰＡミストが多孔質である直方体状の噴霧部本体３３
２内に入り込み、上記直方体状の噴霧部本体３３２の上
面と両側面とが多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被
覆体３３３で被覆されているため、被覆されていないウ
ェハ２に対向する面すなわち下面（噴霧面３３２ａ）側
に導かれ、この噴霧面３３２ａから噴出して、ＩＰＡミ
ストを噴霧面３３２ａから噴霧させることができる。

【００６２】上記第４実施形態によれば、窒素ガス用通
路３３４から供給された窒素ガスがＩＰＡ用通路３３６
内に入り込んだのち多孔質である直方体状の噴霧部本体
３３２内に入り込むため、窒素ガスと液相のＩＰＡとが
混合してＩＰＡミストを形成しやすくなり、より均一に
ＩＰＡミストを噴霧することができる。

【００６３】また、本発明の第５実施形態にかかるウェ
ハ乾燥装置のミスト噴霧装置３の第５の例としてのミス
ト噴霧部３４１を図１５及び図１６に示す。第５実施形
態が第４実施形態と異なる点は、液相のＩＰＡ用通路と
窒素ガス通路とを共通の１つの通路で構成したことであ
る。すなわち、上記噴霧部３４１の多孔質のフッ素樹脂
製の直方体状の噴霧部本体３４２の中央部には、長手方
向沿いに延びた１本の液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路３４
９を形成している。上記噴霧部３４１には、１本のＩＰ
Ａ用供給管３４と１本の窒素ガス供給管３２とがそれぞ
れ連結されて、１本のＩＰＡ用供給管３４により液相Ｉ
ＰＡ兼窒素ガス用通路３４９の一端側から液相のＩＰＡ
が供給されるとともに、１本の窒素ガス供給管３２によ
り液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路３４９の他端側から窒素
ガスが供給されるようになっている。そして、上記直方
体状の噴霧部本体３４２のウェハ２に対向する面すなわ
ち下面（噴霧面３４２ａ）を除く面すなわち上面と両側
面とを多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被覆体３４
３で被覆することにより、被覆体３４３で被覆された面
から窒素ガス及びＩＰＡが出ないようにする。

【００６４】従って、液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路３４
９の一端に液相のＩＰＡが供給されると同時に液相ＩＰ
Ａ兼窒素ガス用通路３４９の他端に窒素ガスが供給され
ると、液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路３４９に供給された
液相のＩＰＡと窒素ガスとが液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通
路３４９内で混合されてＩＰＡミストが形成され、その
ＩＰＡミストが多孔質である直方体状の噴霧部本体３４
２内に入り込み、上記直方体状の噴霧部本体３４２の上
面と両側面とが多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被
覆体３４３で被覆されているため、被覆されていないウ
ェハ２に対向する面すなわち下面（噴霧面３４２ａ）側
に導かれ、この噴霧面３４２ａからＩＰＡミストを噴霧
させることができる。

【００６５】上記第５実施形態によれば、液相ＩＰＡ兼
窒素ガス用通路３４９に供給された液相ＩＰＡと窒素ガ
スとが液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路３４９内で混合され
て多孔質である直方体状の噴霧部本体３４２内に入り込
むため、窒素ガスと液相のＩＰＡとによりＩＰＡミスト
を形成しやすくなり、より均一にＩＰＡミストを噴霧す
ることができる。

【００６６】また、本発明の第６実施形態にかかるウェ
ハ乾燥装置のミスト噴霧装置３の第６の例としてのミス
ト噴霧部３５１を図１７及び図１８に示す。第６実施形
態が他の実施形態と異なる点は、上記噴霧部３５１を、
窒素ガス通路用の窒素ガス供給体３５３と、窒素ガス供
給体３５３の下方に配置した液相のＩＰＡ用通路用のＩ
ＰＡ供給体３５２との２つで構成したことである。すな
わち、ＩＰＡ供給体３５２は多孔質のフッ素樹脂製の直
方体状に形成され、その中央部には、長手方向沿いに延
びた１本の液相ＩＰＡ用通路３５６を形成している。Ｉ
ＰＡ供給体３５２には１本のＩＰＡ用供給管３４が連結
されて、ＩＰＡ用供給管３４により液相ＩＰＡ用通路３
５６の一端側から他端閉塞部に向けて液相のＩＰＡが供
給される。また、窒素ガス供給体３５３は、多孔質では
ないフッ素樹脂製の直方体状に形成され、その中央部に
は、窒素ガス通路３５４を長手方向に延在させ、窒素ガ
ス供給体３５３の下面でかつＩＰＡ供給体３５２の両側
面に対応する位置にそれぞれ多数の噴射孔３５４ａ，
…，３５４ａの列を配置し、噴射孔３５４ａ，…，３５
４ａと上記窒素ガス通路３５４とを連結する屈曲したＬ
字状の屈曲通路３５４ｂ，…，３５４ｂを形成してい
る。上記窒素ガス供給体３５３には１本の窒素ガス供給
管３２が連結されて、窒素ガス供給管３２により窒素ガ
ス用通路３５４の他端側から一端閉塞部に向けて窒素ガ
スが供給されるようになっている。

【００６７】従って、窒素ガス用通路３５４に窒素ガス
が供給されると同時に液相ＩＰＡ用通路３５６に液相の
ＩＰＡが供給されると、窒素ガス用通路３５４に供給さ
れた窒素ガスが、屈曲通路３５４ｂ，…，３５４ｂを介
して噴射孔３５４ａ，…，３５４ａから図１８において
下向きに、すなわち、ＩＰＡ供給体３５２の両側面に沿
って噴射される。すると、液相ＩＰＡ用通路３５６に供
給された液相のＩＰＡがＩＰＡ供給体３５２の両側面か
ら噴出することにより、窒素ガスと液相のＩＰＡとが混
合されてＩＰＡミストを形成して、ＩＰＡミストを噴霧
させることができる。

【００６８】なお、各実施形態において、上記乾燥室１
から上記純水４０を排出させる代わりに、上記ウェハ２
を上記乾燥室１内で上昇させて、上記乾燥室１内で上記
純水４０から上記ウェハ２が液面より上方に露出するよ
うにしてもよい。

【００６９】

【発明の効果】本発明によれば、液相のイソプロピルア
ルコールが多孔質材料から構成される噴霧部に入り込ん
だのちに窒素ガスと混合されて上記ミスト状のイソプロ
ピルアルコールを噴霧させるようにしたので、液相のイ
ソプロピルアルコールが液相のまま噴出することがなく
なる。

【００７０】また、多孔質材料から構成される噴霧部か
ら液相のイソプロピルアルコールが噴出して窒素ガスと
混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールとな
って噴霧されるため、噴射孔から噴射される場合と比較
して、上記ミスト状のイソプロピルアルコールをより均
一に噴霧させることができる。

【００７１】すなわち、上記窒素ガス供給通路から上記
噴霧部本体内に入り込む上記窒素ガスが、上記液相ＩＰ
Ａ供給通路から上記噴霧部本体内に入り込んだ上記液相
のイソプロピルアルコールと混合されて、上記ミスト状
のイソプロピルアルコールを上記噴霧面から上記空間内
に噴霧させるようにしたので、多数の噴射孔を形成して
いるミスト噴霧装置では所定間隔毎に形成された噴射孔
からしかミストを噴霧することができなかったが、ウェ
ハに対向する噴霧面の例えば大略全面からミストをウェ
ハに向けて均一に噴霧することができる。

【００７２】また、窒素ガス用通路から供給された窒素
ガスがＩＰＡ用通路内に入り込んだのち多孔質である直
方体状の噴霧部本体内に入り込むため、窒素ガスと液相
のＩＰＡとが混合してＩＰＡミストを形成しやすくな
り、より均一にＩＰＡミストを噴霧することができる。

【００７３】また、液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路に供給
された液相ＩＰＡと窒素ガスとが液相ＩＰＡ兼窒素ガス
用通路内で混合されて多孔質である直方体状の噴霧部本
体内に入り込むため、窒素ガスと液相のＩＰＡとにより
ＩＰＡミストを形成しやすくなり、より均一にＩＰＡミ
ストを噴霧することができる。

【００７４】また、ウェハが浸漬された純水の液面上に
ＩＰＡのミスト、すなわち、窒素をキャリアとするので
はなく、ＩＰＡ自体が単体で窒素ガス中を浮遊している
状態が常時保持されるようにしているので、ウェハの上
部が純水から露出することになるが、ウェハ表面が酸素
に触れて自然酸化することなく、上記純水の液面に均一
に供給されているＩＰＡのミストがウェハの表裏両面に
付着した純水とすぐに置換される。また、ＩＰＡのミス
トの温度は、ウェハの温度すなわち常温よりも高い、好
ましくは少なくとも５℃以上高い、より好ましくは５℃
から６０℃高くなっているため、ＩＰＡがウェハの表裏
両面に凝着しやすくなり、ウェハの表裏両面に付着した
純水とすぐに置換されやすくなる上に、ウェハの表裏両
面が迅速に乾燥する。

【００７５】よって、常温のウェハの表面の純水と常温
のＩＰＡとを置換させたのち、常温のＩＰＡを乾燥させ
る従来の場合よりも乾燥時間が早くなり、乾燥効率を高
めることができる。また、ミスト状態で純水の液面に噴
霧させるため、ＩＰＡを蒸気で供給する従来の場合と比
較して、ＩＰＡの消費量を大幅に減少させることができ
る。また、ＩＰＡを蒸気で供給する場合には蒸気状態を
保持するため配管の外側を断熱材で覆うなどする必要が
あるが、本発明の上記ウェハ乾燥装置によれば、単に例
えば常温の液相のＩＰＡをミスト噴霧装置にそれぞれに
供給すればよいので、配管を断熱材で覆う必要はなく、
装置が簡単なものとなる。また、ＩＰＡを蒸気化すると
きには加熱するためのエネルギーが必要であるが、本発
明では、窒素ガスとＩＰＡとを噴射させるだけのエネル
ギーがあれば十分であり、安価でかつ簡単な装置構成で
もってＩＰＡのミストを形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１実施形態にかかるウェハ乾燥装
置の一部断面の概略平明図である。

【図２】 図１のウェハ乾燥装置の一部断面の概略側面
図である。

【図３】 図１のウェハ乾燥装置において各流体の供給
方法を含めたウェハ乾燥装置の概略図である。

【図４】 上記ウェハ乾燥装置のミスト噴霧装置の平面
図である。

【図５】 図４の上記ミスト噴霧装置の断面正面図であ
る。

【図６】 図１のウェハ乾燥装置のオーバーフローリン
ス状態での概略図である。

【図７】 図１のウェハ乾燥装置のＩＰＡ及び窒素ガス
供給状態での概略図である。

【図８】 図１のウェハ乾燥装置の排水及び窒素ガスブ
ロー状態での概略図である。

【図９】 図１のウェハ乾燥装置の蓋開及びウェハ取り
出し状態での概略図である。

【図１０】 本発明の第２実施形態にかかるウェハ乾燥
装置のミスト噴霧装置の断面正面図である。

【図１１】 本発明の第３実施形態にかかるウェハ乾燥
装置のミスト噴霧装置の平面図である。

【図１２】 図１１の上記ミスト噴霧装置の断面正面図
である。

【図１３】 本発明の第４実施形態にかかるウェハ乾燥
装置のミスト噴霧装置の平面図である。

【図１４】 図１３の上記ミスト噴霧装置の断面正面図
である。

【図１５】 本発明の第５実施形態にかかるウェハ乾燥
装置のミスト噴霧装置の平面図である。

【図１６】 図１５の上記ミスト噴霧装置の断面正面図
である。

【図１７】 本発明の第６実施形態にかかるウェハ乾燥
装置のミスト噴霧装置の底面図である。

【図１８】 図１７の上記ミスト噴霧装置の断面正面図
である。

【符号の説明】

１…乾燥室、１a…オーバーフロー部、２…ウェハ、３
…ミスト噴霧装置、４…第１閉鎖空間、５…ＩＰＡ圧送
タンク、６…液体、７…第４エアーオペレートバルブ、
８…手動弁、９…第２エアーオペレートバルブ、１０…
減圧弁、１１…第７エアーオペレートバルブ、１２…Ｉ
ＰＡ圧送タンク用リリーフ弁、１３…手動弁、１４…流
量計、１５，１６…手動弁、１７…減圧弁、１８…手動
弁、１９…流量計、２０，２１…第５，６エアーオペレ
ートバルブ、２３…ミスト噴霧装置、２３a…窒素ガス
用通路、２３ｃ…ＩＰＡ用通路、２３ｅ…噴出面、２４
…多孔質のフッ素樹脂製の直方体状の本体、２９…第２
閉鎖空間、３２…窒素ガス供給管、３３…ＩＰＡ用供給
管、４０…純水、４１…制御装置、４４…排出通路、４
５…排出通路、５０…処理シンク、５１…仕切り壁、５
２…蓋、５３…第１０エアーオペレートバルブ、５４…
第１エアーオペレートバルブ、５５…純水供給部、５６
…第３エアーオペレートバルブ、５７…手動弁、５８…
純水供給通路、５９…流量計、６０…手動弁、６１…排
出通路、６１ａ…トラップ、７０…フィルタ、７１…第
８エアーオペレートバルブ、７２…第９エアーオペレー
トバルブ、７３…ヒータ、７４…フィルタ、７５，７６
…手動弁、７７，７８…圧力計、９３ｃ…ＩＰＡ用供給
通路、９３ｄ…噴射孔、１０３…第２のＩＰＡミスト噴
霧部、１０３ｃ…窒素ガス兼ＩＰＡ用通路、１０３ｇ…
貫通孔、１３１…第１のＩＰＡ噴霧部、１３５…供給管
配置部、１３６…ＩＰＡミスト供給管、１４０…噴霧本
体、２３６…窒素ガス兼ＩＰＡ用供給管、３０１，３１
１，３２１，３３１，３４１，３５１…ミスト噴霧部、
３０２，３１２，３２２，３３２，３４２…噴霧部本
体、３０２ａ，３１２ａ，３２２ａ，３３２ａ，３４２
ａ…噴霧面、３０３．３１３，３２３，３３３，３４３
…被覆体、３０４，３１４，３２４，３３４，３５４…
窒素ガス用通路、３０５…供給管配置空間、３０６，３
１６，３２６，３３６，３５６…ＩＰＡ用通路、３０
７，３３７…噴射孔、３０８…ＩＰＡ供給管、３３８…
窒素ガス供給管、３４９…液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通
路、３５２…ＩＰＡ供給体、３５３…窒素ガス供給体。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川西 孝則 奈良県大和郡山市今国府町６番２号 東邦 化成株式会社内 (72)発明者 前田 徳雄 奈良県大和郡山市今国府町６番２号 東邦 化成株式会社内 (72)発明者 粟飯原 大 大阪府堺市金岡町1304番地 ダイキン工業 株式会社堺製作所金岡工場内 (72)発明者 大野 正雄 大阪府堺市金岡町1304番地 ダイキン工業 株式会社堺製作所金岡工場内 (72)発明者 泉谷 直昭 大阪府堺市金岡町1304番地 ダイキン工業 株式会社堺製作所金岡工場内 Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB01 BB04 BB13 BB82 BB93 CB01 CC11 CC12 3L113 AA01 AB02 AC08 AC28 AC45 AC46 AC48 AC67 AC75 AC83 AC90 BA34 CA10 CA11 DA06 DA10 DA11 DA13 4F033 QB02Y QB03X QB13Y QB17 QC07 QD02 QD24 QF15X

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 純水（４０）内にウェハ（２）を浸漬可
   能な乾燥室（１）内の上記純水の液面上の空間（４）内
   に、窒素ガスと液相のイソプロピルアルコールとが混合
   されて形成されかつ上記ウェハの温度より高い温度のミ
   スト状のイソプロピルアルコールを噴霧させるミスト噴
   霧装置（３）であって、 上記窒素ガスが供給される窒素ガス供給通路（３０４，
   ３１４，３２４，３３４，３５４）と、 上記液相のイソプロピルアルコールが供給される液相Ｉ
   ＰＡ供給通路（３０６，３１６，３２６，３３６，３５
   ６）と、 上記窒素ガス供給通路と上記液相ＩＰＡ供給通路とが形
   成され、かつ、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記液相の
   イソプロピルアルコールが入り込んだのち上記窒素ガス
   と上記液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上
   記ミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させる多孔
   質材料から構成される噴霧部（３０１，３１１，３２
   １，３３１，３４１，３５１）とを備えることを特徴と
   するウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置。
2. 【請求項２】 上記噴霧部（３０１）は、多孔質材料か
   ら構成されかつウェハ側の噴霧面（３０２ａ）以外の部
   分を被覆して流体の噴出不可とする噴霧部本体（３０
   ２）を備え、 上記噴霧部本体は、上記噴霧面の近傍に配置された上記
   液相ＩＰＡ供給通路（３０６）と、上記液相ＩＰＡ供給
   通路の上記噴霧面とは反対側に配置された上記窒素ガス
   供給通路（３０４）とを備えて、上記窒素ガス供給通路
   から上記噴霧部本体内に入り込む上記窒素ガスが、上記
   液相ＩＰＡ供給通路から上記噴霧部本体内に入り込んだ
   上記液相のイソプロピルアルコールと混合されて、上記
   ミスト状のイソプロピルアルコールを上記噴霧面から上
   記空間内に噴霧させるようにした請求項１に記載のウェ
   ハ乾燥装置用ミスト噴霧装置。
3. 【請求項３】 上記液相ＩＰＡ供給通路は、上記噴霧部
   本体内に形成された供給管配置空間（３０５）内に配置
   されたＩＰＡ供給管（３０８）内に形成され、かつ、上
   記ＩＰＡ供給管は、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記液
   相のイソプロピルアルコールを上記噴霧部本体内に入り
   込ませる噴射孔（３０７）を有するようにした請求項２
   に記載のウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置。
4. 【請求項４】 上記噴霧部（３２１）は、上記多孔質材
   料から構成されかつウェハ側の噴霧面（３２２ａ）以外
   の部分を被覆して流体の噴射不可とする噴霧部本体（３
   ２２）を備え、上記噴霧部本体は、上記窒素ガス供給通
   路（３２４）、上記液相ＩＰＡ供給通路（３２６）の順
   に上記噴霧面から遠ざかるように配置して、上記液相Ｉ
   ＰＡ供給通路から上記噴霧部本体内に入り込んだ上記液
   相のイソプロピルアルコールと、上記窒素ガス供給通路
   から上記噴霧部本体内に入り込んだ上記窒素ガスとが混
   合されて、上記ミスト状のイソプロピルアルコールを上
   記噴霧面から上記空間内に噴霧させるようにした請求項
   １に記載のウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置。
5. 【請求項５】 上記噴霧部（３１１）は、上記多孔質材
   料の大略直方体状に構成されかつウェハ側の面のみが被
   覆されて流体の噴出不可とする一方、両側面が噴霧面
   （３１２ａ）として機能する噴霧部本体（３１２）を備
   え、 上記噴霧部本体は、上記液相ＩＰＡ供給通路（３１
   ６）、上記窒素ガス供給通路（３１４）の順に上記被覆
   された面から遠ざかるように配置されて、上記窒素ガス
   供給通路から上記噴霧部本体内に入り込む上記窒素ガス
   が、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記噴霧部本体内に入
   り込んだ上記液相のイソプロピルアルコールと混合され
   て、上記ミスト状のイソプロピルアルコールを上記噴霧
   面から上記空間内に噴霧させるようにした請求項１に記
   載のウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置。
6. 【請求項６】 上記噴霧部（３３１）は、上記多孔質材
   料の大略直方体状に構成されかつウェハ側の噴霧面（３
   ３２ａ）以外の部分を被覆して流体の噴射不可とする噴
   霧部本体（３３２）を備え、 上記噴霧部本体は、上記液相ＩＰＡ供給通路（３３６）
   を有するとともに、上記液相ＩＰＡ供給通路内に、上記
   窒素ガス供給通路（３３４）を内部に有するとともに噴
   射孔（３３７）を有する窒素ガス供給管（３３８）を配
   置して、上記窒素ガス供給管内の上記窒素ガス供給通路
   から上記窒素ガス供給管の上記噴射孔を通って上記液相
   ＩＰＡ供給通路内に上記窒素ガスが入り込み上記液相の
   イソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト状の
   イソプロピルアルコールとなり、その上記ミスト状のイ
   ソプロピルアルコールが上記液相ＩＰＡ供給通路から上
   記噴霧部本体内に入り込んで上記噴霧面から上記空間内
   に噴霧させるようにした請求項１に記載のウェハ乾燥装
   置用ミスト噴霧装置。
7. 【請求項７】 上記噴霧部（３４１）は、上記多孔質材
   料の大略直方体状に構成されかつウェハ側の噴霧面（３
   ４２ａ）以外の部分を被覆して流体の噴射不可とする噴
   霧部本体（３４２）を備え、 上記噴霧部本体は、一端から上記窒素ガスが供給される
   とともに他端から上記液相のイソプロピルアルコールが
   供給される１つの液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路（３４
   ９）を有して、上記液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路が上記
   液相ＩＰＡ供給通路と上記窒素ガス供給通路との両方の
   機能を有して、上記液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路の上記
   一端から上記窒素ガスが供給されるとともに上記他端か
   ら上記液相のイソプロピルアルコールが供給されること
   により、上記液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路内で上記窒素
   ガスと上記液相のイソプロピルアルコールとが混合され
   て上記ミスト状のイソプロピルアルコールとなり、その
   上記ミスト状のイソプロピルアルコールが上記液相ＩＰ
   Ａ兼窒素ガス用通路から上記噴霧部本体内に入り込んで
   上記噴霧面から上記空間内に噴霧させるようにした請求
   項１に記載のウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置。
8. 【請求項８】 上記噴霧部（３５１）は、上記窒素ガス
   供給通路（３５４）を有しかつ噴射孔（３５４ａ）を有
   する窒素ガス通路用の窒素ガス供給体（３５３）と、上
   記窒素ガス供給体の下方に配置され、上記液相ＩＰＡ供
   給通路（３５６）を有し、上記多孔質材料から直方体状
   に構成され、かつウェハ側の噴霧面（３５２ａ）以外の
   部分を被覆して流体の噴射不可とする液相のＩＰＡ用通
   路用のＩＰＡ供給体（３５２）とで構成して、上記窒素
   ガス供給体の上記窒素ガス供給通路から供給された窒素
   ガスが上記噴射孔から上記ＩＰＡ供給体の両側面に沿っ
   て噴射され、上記液相ＩＰＡ用通路に供給された上記液
   相のイソプロピルアルコールが上記ＩＰＡ供給体の上記
   両側面から噴出することにより、上記窒素ガスと上記液
   相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト
   状のイソプロピルアルコールを上記空間内に噴霧させる
   ようにした請求項１に記載のウェハ乾燥装置用ミスト噴
   霧装置。
9. 【請求項９】 純水（４０）内にウェハ（２）を浸漬可
   能な乾燥室（１）と、 上記乾燥室内の上記純水の液面上の空間（４）内に、窒
   素ガスと液相のイソプロピルアルコールとを混合させた
   ミスト状態のイソプロピルアルコールのＩＰＡミストを
   上記ウェハの温度より高い温度で噴霧させる請求項１〜
   ９のいずれかに記載のミスト噴霧装置（３）とを備え
   て、 上記乾燥室の上記純水を排出するか又は上記ウェハを上
   記乾燥室内で上昇させることにより、上記乾燥室内で上
   記純水から上記ウェハが液面より上方に露出するとき、
   上記ウェハの表裏両面に付着した純水が上記ミスト状の
   上記イソプロピルアルコールにより置換され、その後、
   上記ウェハの表裏両面から上記イソプロピルアルコール
   が蒸発することにより乾燥されるようにしたことを特徴
   とするウェハ乾燥装置。
10. 【請求項１０】 上記乾燥室は、上記ウェハを収容する
    収容部（１ｂ）と、該収容部に供給された上記純水がオ
    ーバーフローして流れ込むオーバーフロー部（１ａ）と
    を有するとともに、 上記乾燥室を収容し、かつ、上記乾燥室の上記収容部の
    上方に第１閉鎖空間（４）を形成可能とし、上記オーバ
    ーフロー部の純水が流れ込み、かつ、上記オーバーフロ
    ー部の上記純水内に入り込み上記第１閉鎖空間と隔離さ
    れた第２閉鎖空間（２９）を形成する仕切り壁（５１）
    を有する処理室（５０）とを備えるようにした請求項９
    に記載のウェハ乾燥装置。
11. 【請求項１１】 上記液相のイソプロピルアルコールを
    上記ウェハの温度より少なくとも５℃以上高い温度でか
    つ上記窒素ガスの噴射開口近傍で噴射させてミスト状の
    イソプロピルアルコールを上記空間内に噴霧させる請求
    項９又は１０に記載のウェハ乾燥装置。
12. 【請求項１２】 上記ウェハは常温であり、上記ミスト
    は大略３０℃以上である請求項１０又は１１に記載のウ
    ェハ乾燥装置。
13. 【請求項１３】 上記ミスト状の上記イソプロピルアル
    コールは、上記イソプロピルアルコール自体が単体で上
    記窒素ガス中を浮遊している状態である請求項１０から
    １２のいずれかに記載のウェハ乾燥装置。
14. 【請求項１４】 上記ウェハの温度より５℃から６０℃
    高い温度で上記イソプロピルアルコールをミスト状に噴
    霧させるようにした請求項１０から１３のいずれかに記
    載のウェハ乾燥装置。