CN103065907A - 一种场发射材料的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种场发射阴极材料的制备方法,该场发射阴极材料为纳米碳化硅材料,包括如下步骤:(a)、将碳化硅原料与铝或铁的催化剂混合,将该混合后的原料加热并抽真空至1.0×10-3乇以上,然后通入作为保护气体的惰性气体;(b)、然后将(a)步骤中处理过的原料加热至1500-1800℃,并保温30-90分钟。
Description
技术领域
本发明涉及一种场发射材料的制备方法。
背景技术
随着科技的发展和进步,场发射技术受到了广泛关注,尤其是场发射阴极材料的研制成为热点,而目前可以使用的场发射阴极材料虽然种类繁多,但是各有优缺点,而且大部分场发射阴极材料的制备方法复杂,制备成本较高,不适合工业生产。
因此,寻找一种成本低廉、工艺简单的场发射阴极材料成为亟需解决的问题。
发明内容
本发明提供一种场发射阴极材料的制备方法,该场发射阴极材料为纳米碳化硅材料,包括如下步骤:
(a)、将碳化硅原料与铝或铁的催化剂混合,将该混合后的原料加热并抽真空至1.0×10-3乇以上,然后通入作为保护气体的惰性气体;
(b)、然后将(a)步骤中处理过的原料加热至1500-1800℃,并保温30-90分钟。
有益效果
本发明制备的碳化硅材料经过光谱分析,显示纳米结构有序,而且该方法工艺要求简单,制造成本低。
具体实施方式
下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。应理解,这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外应理解,在阅读了本发明讲授的内容之后,本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。
实施例1
将碳化硅粉末与催化剂铝混合,进行预加热,然后抽真空至1.0×10-3乇,然后通入惰性气体氩作为保护气体,然后开始加热至1500℃,并保温30分钟。
实施例2
将碳化硅粉末与催化剂铁混合,进行预加热,然后抽真空至1.5×10-3乇,然后通入惰性气体氩作为保护气体,然后开始加热至1800℃,并保温90分钟。
实施例3
将碳化硅粉末与催化剂铝混合,进行预加热,然后抽真空至2.0×10-3乇,然后通入惰性气体氩作为保护气体,然后开始加热至1600℃,并保温50分钟。
实施例4
将碳化硅粉末与催化剂铝混合,进行预加热,然后抽真空至3.0×10-3乇,然后通入惰性气体氩作为保护气体,然后开始加热至1700℃,并保温70分钟。
Claims (3)
1.一种场发射材料的制备方法,该场发射阴极材料为纳米碳化硅材料,其包括如下步骤:
(a)、将碳化硅原料与铝或铁的催化剂混合,将该混合后的原料加热并抽真空至1.0×10-3乇以上,然后通入作为保护气体的惰性气体;
(b)、然后将(a)步骤中处理过的原料加热至1500-1800℃,并保温30-90分钟。
2.如权利要求1所述的制备方法,其中,抽真空至2.0×10-3乇,然后通入惰性气体氩作为保护气体,然后开始加热至1600℃,并保温50分钟。
3.如权利要求1所述的制备方法,其中,抽真空至3.0×10-3乇,然后通入惰性气体氩作为保护气体,然后开始加热至1700℃,并保温70分钟。
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CN201210581123XA CN103065907A (zh) | 2012-12-28 | 2012-12-28 | 一种场发射材料的制备方法 |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0766645B1 (en) * | 1994-06-06 | 1998-08-19 | Norton As | Process for producing silicon carbide |
CN1327944A (zh) * | 2001-07-25 | 2001-12-26 | 中山大学 | 一种纳米碳化硅材料的制备方法 |
CN1861521A (zh) * | 2006-05-30 | 2006-11-15 | 浙江理工大学 | 一种针状纳米碳化硅的合成方法 |
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2012
- 2012-12-28 CN CN201210581123XA patent/CN103065907A/zh active Pending
Patent Citations (3)
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