CN102902155B - 光掩模及曝光装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种光掩模及曝光装置。光掩模(9)在同一掩模基板(10)上将掩模图案不同的多种图案区域(11)按照其中心轴相互平行的方式排列设置，并具备：在与各所述图案区域(11)的所述中心轴交叉的方向上，在与各中心轴偏离一定距离的位置处，分别按照纵长中心轴与所述中心轴平行的方式设置的细长状的多个开口部(12)；和在各所述开口部(12)内分别为了辨别所述掩模图案而设置的、与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记(13)，将各所述开口部(12)内的辨别用标记(13)分别设置在各所述开口部(12)的纵长中心轴上的不同位置。

Description

光掩模及曝光装置

技术领域

本发明涉及在掩模基板上形成有掩模图案的光掩模，尤其涉及要防止与目标不同的图案被曝光的情形的光掩模及曝光装置。

背景技术

以往的这种光掩模，在同一掩模基板上排列设置有掩模图案不同的多种图案区域，在基板上曝光不同种类的图案时，通过快门的开闭动作而从多种图案区域中选择被曝光的图案的图案区域来进行曝光(例如参照日本特开2008-310217号公报)。

但是，这种以往的光掩模通过受曝光装置中具备的控制单元的程序所控制的快门的开闭动作，从上述多种图案区域中选择被曝光的图案的图案区域，并未具备确认图案区域是否被正确选择的单元。因此，在因人为错误而错误地输入并设定了上述多种图案区域的选择信息、或者设置了与要曝光的光掩模不同的光掩模的情况下，可能无法检测出上述错误，导致会曝光与正规图案不同的图案。

发明内容

因此，本发明是针对上述问题点而提出的，其目的在于提供一种要防止与目标不同的图案被曝光的情形的光掩模及曝光装置。

为了达成上述目的，第1发明涉及一种光掩模，具有在掩模基板上将多个掩模图案至少排成一列而形成的图案区域，所述光掩模具备：在与所述多个掩模图案的排列方向交叉的方向上，在与所述图案区域的中心轴偏离一定距离的位置处，按照纵长中心轴与所述中心轴平行的方式设置的细长状的开口部；和在所述开口部内为了将所述掩模图案与其他掩模基板上形成的不同种类的掩模图案辨别开而设置的、与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记，将所述辨别用标记设置在所述开口部的纵长中心轴上的与所述不同种类的掩模图案的辨别用标记不同的位置。

通过采样这种构成，根据在与形成了掩模图案的图案区域的中心轴偏离一定距离的位置处设置的细长状的开口部内、与其纵长中心轴交叉的方式设置的至少一条细线状的辨别用标记的位置，与形成于其他掩模基板的不同种类的掩模图案辨别开。

另外，第2发明涉及一种光掩模，在同一掩模基板上将掩模图案不同的多种图案区域按照其中心轴相互平行的方式排列设置，所述光掩模具备：在与各所述图案区域的所述中心轴交叉的方向上，在与各中心轴偏离一定距离的位置处，分别按照纵长中心轴与所述中心轴平行的方式设置的细长状的多个开口部；和在各所述开口部内分别为了辨别所述掩模图案而设置的、与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记，将各所述开口部内的辨别用标记分别设置在各所述开口部的纵长中心轴上的不同位置。

通过采样这种构成，根据与在同一掩模基板上排列设置且掩模图案不同的多种图案区域的中心轴偏离一定距离的位置处分别以纵长中心轴平行于所述中心轴的方式设置的细长状的多个开口部内的、与上述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记的位置，辨别各图案区域的掩模图案。

优选各所述开口部内的辨别用标记，按照沿着各所述图案区域的中心轴排列的各所述掩模图案的排列间距的整数倍的间距而分别形成有多条。

进而优选各所述开口部内的辨别用标记在所述纵长中心轴方向上的宽度各不相同。

另外，第3发明涉及一种曝光装置，具备：掩模台，其与被曝光体对置设置，对光掩模进行保持，能够沿着多种图案区域的排列方向移动，所述光掩模在同一掩模基板上将掩模图案不同的所述多种图案区域按照其中心轴相互平行的方式排列设置，在与各所述图案区域的所述中心轴交叉的方向上，在与各中心轴偏离一定距离的位置处分别形成纵长中心轴平行于所述中心轴的细长状的多个开口部，在该各开口部内分别将用于辨别所述掩模图案的与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记设置在所述纵长中心轴上的不同位置；曝光光学系统，其向所述光掩模的多种图案区域之中被选择出的一个图案区域照射光源光，将该被选择出的图案区域的掩模图案转印到所述被曝光体上；检测单元，其使细长状的受光部的纵长中心轴与所述被选择出的一个图案区域所对应的所述开口部的纵长中心轴一致地进行配置，用于检测所述辨别用标记的位置；和控制单元，其控制所述掩模台的移动，使得从所述多种图案区域中选择一个图案区域，所述控制单元比较从预先设定并保存的曝光信息中读取的掩模图案信息、和对应于各所述辨别用标记的位置而预先保存的掩模图案信息之中由所述检测单元检测出的所述辨别用标记的位置所对应的掩模图案信息，来判定所述被选择出的图案区域的正确与否。

通过采用这种构成，利用与被曝光体对置设置的掩模台对光掩模进行保持，所述光掩模在同一掩模基板上将掩模图案不同的多种图案区域按照其中心轴相互平行的方式排列设置，在与各图案区域的中心轴交叉的方向上，在与各中心轴偏离一定距离的位置处分别形成纵长中心轴平行于上述中心轴的细长状的多个开口部，在该各开口部内分别将用于辨别上述掩模图案的与上述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记设置于上述纵长中心轴上的不同位置，由控制单元控制上述掩模台的移动，使光掩模沿着上述多种图案区域的排列方向移动，从该多种图案区域中选择一个图案区域，利用曝光光学系统向该被选择出的图案区域照射光源光来将该图案区域的掩模图案转印到被曝光体上。此时，利用使细长状的受光部的纵长中心轴与被选择出的一个图案区域所对应的开口部的纵长中心轴一致地进行配置的检测单元，检测上述辨别用标记在上述纵长中心轴上的位置，利用控制单元比较从预先设定并保存的曝光信息中读取的掩模图案信息、和对应于各上述辨别用标记的位置而预先保存的掩模图案信息之中由上述检测单元检测出的上述辨别用标记的位置所对应的掩模图案信息，来判定被选择出的上述图案区域的正确与否。

附图说明

图1是表示本发明的曝光装置的实施方式的概略构成的主视图。

图2是放大表示本发明的曝光装置的主要部分的俯视图。

图3是表示本发明的光掩模的一构成例的俯视图。

图4是表示设于上述光掩模的开口部内的辨别用标记的一构成例的俯视图。

图5是表示上述辨别用标记的另一构成例的俯视图。

图6是表示本发明的曝光装置中使用的控制单元的构成的框图。

图7是说明本发明的曝光装置的动作的流程图。

图8是说明本发明的曝光装置的另一动作的流程图。

具体实施方式

以下，基于附图来详细说明本发明的实施方式。图1是表示本发明的曝光装置的实施方式的概略构成的主视图。该曝光装置是使用在同一掩模基板上排列设置了掩模图案不同的多种图案区域的光掩模，将从上述多种图案区域中选择出的图案区域的掩模图案转印到被曝光体上来进行曝光的曝光装置，该曝光装置构成为具备：输送单元1、掩模台2、曝光光学单元3、检测单元4、照明单元5以及控制单元6(参照图6)。此外，在以下的说明中，描述被曝光体例如为液晶显示用基板7的情况。

上述输送单元1是利用省略图示的输送机构来保持涂敷了感光材料的液晶显示用基板7的两端缘部，并沿着图1所示的箭头A方向进行输送的输送单元，例如在液晶显示用基板7的输送方向(以下称为“X方向”)上以一定间隔排列的多个台8的上表面具备多个喷气口和进气口，使从该喷气口喷出的空气的压力和从进气口吸入的空气的压力平衡，并以使液晶显示用基板7在台8上浮起一定量的状态进行输送。另外，具备对液晶显示用基板7的移动距离进行测量的省略图示的位置传感器、以及对液晶显示用基板7的输送速度进行检测的省略图示的速度传感器。

与上述输送单元1的上表面对置地设置掩模台2。该掩模台2是吸附并保持光掩模9的缘部，并利用省略图示的台移动机构沿着X方向进行步进移动的掩模台，采用使第1掩模台2A和第2掩模台2B在X方向上相距一定距离的方式配备的构成，其中，第1掩模台2A和第2掩模台2B如图2所示，在与台8的上表面平行的面内，在与X方向大致正交的方向(以下称为“Y方向”)上保持多个光掩模9。并且，上述第1及第2掩模台2A、2B设置成：所保持的多个光掩模9在Y方向上以一定的排列间距交替地排列。而且，第1及第2掩模台2A、2B还具备省略图示的掩模校准机构，用于使所保持的各光掩模9个别地沿着X、Y方向微动且在XY面内旋转，以使各光掩模9置于预先确定的规定位置处。

在此，上述光掩模9是如图3所示那样在同一掩模基板10上使掩模图案不同的多种(例如4种)图案区域11以其纵长中心轴相互平行的方式排列设置而成的光掩模，在与各图案区域11的纵长中心轴交叉的方向上，在与各纵长中心轴偏离一定距离的位置处，分别形成纵长中心轴与图案区域的纵长中心轴平行的细长状的多个开口部12，在该各开口部12内，在该纵长中心轴上的不同位置分别设置用于辨别掩模图案的、与开口部12的纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记13，从而成为本发明的光掩模。并且，按照上述多种图案区域11的排列方向与X方向一致的方式被保持于上述掩模台2。另外，将各图案区域11设在其间，在各图案区域11的纵长中心轴上，在距离光掩模9的与X方向平行的中心轴等距离的位置处设有一对掩模用校准标记14，用于使光掩模9相对于在后述的曝光光学单元3上预先设定的基准位置成为一定的位置关系的方式进行定位。此外，与置于曝光光学单元3的照射区域IA内的图案区域11的掩模用校准标记14对置地，在输送单元1的相邻的台8的间隙设有用于拍摄上述掩模用校准标记14的省略图示的1对二维照相机。

上述各开口部12内的辨别用标记13的一构成例如图4所示那样，以与沿着各图案区域11的纵长中心轴排列的各掩模图案的排列间距P1、P2相等的间距，分别使例如3条辨别用标记13形成在纵长中心轴上的不同的位置处。或者，也可如图5所示那样，以各掩模图案的排列间距P1、P2的2倍的间距，使多条辨别用标记13分别在纵长中心轴方向上偏离一定尺寸而设置于整个开口部12内。另外，上述各开口部12内的辨别用标记13在纵长中心轴方向的宽度可以分别不同。此外，各开口部12内的辨别用标记13的位置信息包括各图案区域11a～11d的掩模图案的图案信息，例如40英寸面板的滤色器用掩模图案(图案区域11a)、40英寸面板的TFT用掩模图案(图案区域11b)、50英寸面板的滤色器用掩模图案(图案区域11c)、或50英寸面板的TFT用掩模图案(图案区域11d)等的掩模图案信息。这种情况下，预先设定并保存于后述的存储器24中的上述辨别用标记13的位置信息例如如图4所示那样，是从多条辨别用标记13的左侧起第2个辨别用标记13与光掩模9的平行于X方向的中心轴Mc之间的距离Ya、Yb、Yc、Yd，是设计值。

在上述掩模台2的上方设有曝光光学单元3。该曝光光学单元3用于向从保持在掩模台2上的各光掩模9的多种图案区域11中选出的1个图案区域11照射光源光，将该选出的图案区域11的掩模图案转印到液晶显示用基板7上，该曝光光学单元构成为包括：放射含有紫外线的光源光的光源15、将光源光引导至上述光掩模9且使光源光的亮度分布均匀化并成为平行光之后向上述光掩模9照射的耦合光学系统16、以及对光源光的光路进行打开关闭的快门17，并且由对应于各光掩模9设置的多个单位曝光光学单元构成。

在上述掩模台2的上方，按照使细长状的受光部的纵长中心轴与上述选出的一个图案区域11所对应的开口部12的纵长中心轴一致的方式，配设检测单元4。该检测单元4是具有在Y方向上排成一条直线的多个受光元件的线阵照相机，拍摄透过上述开口部12并通过光掩模9的下侧的液晶显示用基板7的像素，并且拍摄设于开口部12内的多个辨别用标记13。

与上述检测单元4的摄影区域对置地，在输送单元1的相邻的台8的间隙设有照明单元5。该照明单元5用于从液晶显示用基板7的下侧透过基板来对检测单元4的摄影区域进行照明，是照射可见光的例如卤素灯等。并且，在灯的光射出侧设置紫外线滤色片，防止由于照明光中含有的紫外线使得液晶显示用基板7的感光材料被曝光的情形。

与上述输送单元1、掩模台2、光源15、快门17以及检测单元4电连接地设有控制单元6。该控制单元6控制掩模台2的移动而从多种图案区域11中选择一个图案区域11，并通过比较从预先设定并保存的曝光信息中读出的掩模图案信息(例如图案序号)、和对应于上述各辨别用标记13的位置而预先保存的掩模图案信息(例如图案序号)之中由上述检测单元4检测出的辨别用标记13的位置所对应的掩模图案信息，来判定所选择的图案区域11正确与否。并且，如图6所示，构成为具备输送单元驱动控制器18、掩模台驱动控制器19、光源驱动控制器20、快门驱动控制器21、图像处理部22、运算部23、存储器24、数据输入部25以及控制部26。

在此，输送单元驱动控制器18控制输送单元1的移动机构，使液晶显示用基板7沿着箭头A方向以预先确定的速度进行移动。另外，掩模台驱动控制器19控制台移动机构的驱动，使光掩模9沿着X方向移动规定量，从而使从光掩模9的多种图案区域11中选择出的一个图案区域11位于曝光光学单元3的照射区域IA(参照图2)内，并且控制设于掩模台2的省略图示的校准机构的驱动，使光掩模9沿着X、Y方向以及旋转(θ)方向进行微动，从而按照使光掩模9相对于曝光光学单元3的基准位置Hs成为一定的位置关系的方式进行对位。而且，光源驱动控制器20控制光源15的点亮及熄灭。另外，快门驱动控制器21控制快门17的开闭。并且，图像处理部22输入由各检测单元4取得的3条辨别用标记13的图像来进行图像处理，并根据Y方向的亮度变化来检测各辨别用标记13的Y方向的位置。另外，运算部23基于由图像处理部22检测出的3条辨别用标记13的位置，运算辨别用标记13的排列间距、以及例如从左侧起第2个辨别用标记13与检测单元4的中心位置Cc之间的距离，并且运算该辨别用标记13与在液晶显示用基板7上预先设定的基准位置之间的距离，运算该距离与预先设定并保存的目标值之间的偏离量。而且，存储器24是暂时保存上述运算部23中的运算结果，并且保存由后述的数据输入部25输入的数据的存储器，该存储器包括记录了曝光方式(recipe)的记录介质。此外，数据输入部25是为了输入用于从光掩模9的多种掩模图案(图案区域11)中选择一个掩模图案(图案区域11)的选择信息、例如图案区域11的X方向的位置信息的输入部，例如是键盘或数字键等。并且，控制部26综合地控制整体，使上述各构成要素适当地驱动。

下面，利用图7的流程图来说明采用上述构成的曝光装置的动作。在此，说明如图4所示在各开口部12内设置了Y方向的位置不同的3条辨别用标记13的情况。

首先，在步骤S1中，在第1及第2掩模台2A、2B上分别设置光掩模9，使得相对于开口部12所对应的图案区域11而位于箭头A所示的基板输送方向的跟前侧，进而将曝光方式记录到控制单元6的存储器24、例如HDD等记录介质，并且通过操作数据输入部25而输入从第1及第2掩模台2A、2B上设置的光掩模9的例如4种图像区域11中选出的图案区域11的选择信息、例如X方向的位置信息xa、xb、xc、xd，并保存至存储器24中，由此进行曝光开始的准备。

此外，上述曝光方式包含下述信息：液晶显示用基板7的尺寸或单元尺寸等面板信息、曝光中的液晶显示用基板7的输送速度或曝光开始位置信息及曝光结束位置信息或曝光能量等曝光信息、作为掩模图案信息的所使用的掩模图案的Y方向的排列间距P1或P2、及上述掩模图案所对应的辨别用标记13的位置信息。这种情况下，作为在曝光方式中记录的掩模图案信息的辨别用标记位置信息，例如是图4所示的检测单元4的中心Cc与从左侧起第2个辨别用标记13之间的距离ya、yb、yc或yd，基于光掩模9的Y方向的中心Mc与上述第2个辨别用标记13之间的距离Ya、Yb、Yc或Yd、对曝光光学系统3预先设定的基准位置Hs与光掩模9的中心Mc之间的距离My、上述基准位置Hs与检测单元4的中心Cc之间的距离Cy的各设计值而预先算出并保存在存储器24中。此外，在以下说明中，描述要选择的图案区域11例如为图案区域11b的情况。

在步骤S2中，在将液晶显示用基板7定位于输送单元1的台8上并进行载置之后，若按下了省略图示的曝光开始按钮，则根据输入并设定的所使用的掩模图案的图案区域11b所对应的位置信息xb，使光掩模9沿着X方向进行步进移动，从而图案区域11b置于曝光光学单元3的照射区域IA内。

在步骤S3中执行光掩模9的校准。关于该校准的具体顺序，首先利用省略图示的1对二维照相机，拍摄置于曝光光学单元3的照射区域IA内的图案区域11b所对应的图3所示的一对掩模用校准标记14，例如以各掩模用校准标记14的中心分别与各二维照相机的视野中心一致的方式驱动掩模校准机构，来进行光掩模9的校准。由此，光掩模9的中心Mc如图4所示那样置于与曝光光学单元3上预先设定的基准位置Hs偏离一定距离My的位置处。

在步骤S4中，利用检测单元4来拍摄上述选择出的图案区域11b所对应的3条辨别用标记13，由图像处理部22对其进行图像处理来检测各辨别用标记13的Y方向的位置，由运算部23算出相邻的辨别用标记13之间的间隔P1。进而，基于3条辨别用标记13之中的例如从左侧起第2个辨别用标记13的位置，来运算该辨别用标记3与检测单元4的中心Cc之间的距离yb，并将其作为辨别用标记位置信息而获取。

在步骤S5中，在控制部26中比较上述算出的辨别用标记13的间隔P1与已保存于存储器24的曝光方式的掩模图案的排列间距P1，来判定两者是否一致。进而，比较基于曝光方式中记录的设计值算出并保存于存储器24的辨别用标记位置信息(Yb+My-Cy)与由检测单元4拍摄取得到的辨别用标记位置信息yb，来判定两者是否一致。由此，判定所选择出的掩模图案(图案区域11)作为曝光使用的掩模图案是否正确。在此，在由检测单元4取得的辨别用标记的间隔以及辨别用标记位置信息都与已保存于存储器24的掩模图案的排列间距以及辨别用标记位置信息一致时，步骤S5成为“是”判定而进入步骤S6，从而边移动液晶显示用基板7边实施曝光。

另一方面，在只要辨别用标记的间隔以及辨别用标记位置信息中的其中一个与已保存于存储器24的掩模图案的排列间距以及辨别用标记位置信息不一致时，步骤S5成为“否”判定而进入步骤S7，利用警告灯点亮或警报音等来通知错误，并中止曝光。

由此，能够防止由于人为的设定错误而使得不同的图案被曝光的情形。例如，在要曝光与图案区域11b对应的40英寸面板的TFT图案时，由于数据输入部25的操作错误，在作为图案区域11b的位置信息应该输入xb但错误地输入了xa的情况下，与图案区域11a对应的40英寸面板的滤色器图案被选择。这种情况下，由于40英寸面板的TFT图案与滤色器图案的各图案的排列间距P1相同，所以仅根据3条辨别用标记13的间隔无法判断选出的图案区域11的正确与否。

然而，根据本发明，因为仅在辨别用标记的间隔以及辨别用标记位置信息都与已保存于存储器24的掩模图案的排列间距以及辨别用标记位置信息一致时，才判定为所选择出的图案区域11正确，所以在这种情况下由检测单元4取得的辨别用标记位置信息如图4所示那样成为ya，与基于曝光方式的设计值所算出的辨别用标记位置信息(Yb+My-Cy)不一致，判定为所选择出的掩模图案(图案区域11a)不正确。这样，根据本发明，即便在因为人为错误而错误地输入并设定了上述多种图案区域11的选择信息、或者设置了与要曝光的光掩模不同的光掩模的情况下，也能够检测该人为错误而防止与目标不同的图案被曝光的情形，并且能够防止发生大量的不良情况。

图8是对本发明的曝光装置的另一掩模图案选择动作进行说明的流程图。图8所示的掩模图案选择动作为：使光掩模沿着X方向进行步进移动，每次都算出辨别用标记的间隔并且取得辨别用标记位置信息，与已保存于存储器24的掩模图案的排列间距以及辨别用标记位置信息进行比较，边判定所选择出的掩模图案(图案区域11)是否正确边搜索所使用的掩模图案。

首先，在步骤S11中与上述步骤S1同样地进行曝光开始的准备。

在步骤S12中，将最初的曝光区域10a置于曝光光学系统3的照射区域IA内之后，与上述步骤S2同样地，使用与该曝光区域10a对应的掩模用校准标记14来执行掩模校准。

在步骤S13中，利用检测单元4来拍摄上述选择出的图案区域11a所对应的3条辨别用标记13，由图像处理部22对其进行图像处理来检测各辨别用标记13的Y方向的位置，由运算部23算出相邻的辨别用标记13的间隔。进而，基于3条辨别用标记13之中的例如从左侧起第2个辨别用标记13的位置来运算该辨别用标记3与检测单元4的中心Cc之间的距离，并将其作为辨别用标记位置信息来获取。

在步骤S14中，在控制部26中比较上述算出的辨别用标记13的间隔与已保存于存储器24的掩模图案的排列间距，判定两者是否一致。进而，比较保存于存储器24的辨别用标记位置信息与由检测单元4取得的辨别用标记位置信息，来判定两者是否一致。由此，判定所选择出的掩模图案(图案区域11)作为曝光使用的掩模图案是否正确。在此，在由检测单元4取得的辨别用标记的间隔以及辨别用标记位置信息都与已保存于存储器24的掩模图案的排列间距以及辨别用标记位置信息一致时，步骤S14成为“是”判定而进入步骤S15，从而边移动液晶显示用基板7边实施曝光。

另一方面，在只要辨别用标记的间隔以及辨别用标记位置信息中的其中一个与已保存于存储器24的掩模图案的排列间距以及辨别用标记位置信息不一致时，步骤S14成为“否”判定而进入步骤S16。

在步骤S16中，判定光掩模9的移动是否达到了移动界限。在此，在光掩模9的移动仍在移动界限内之时，步骤S16成为“否”判定而进入步骤S17。

在步骤S17中，步进移动光掩模9并选择下一图案区域11b。之后，返回到步骤S12，在使用接下来选出的图案区域11b所对应的掩模用校准标记14来进行了掩模校准之后，在步骤S13中算出与下一图案区域11b对应的辨别用标记13的间隔，并且取得辨别用标记13的位置信息。由此，直至在步骤S16中判定为“是”为止，反复执行步骤S12～步骤S17。

这种情况下，即便反复执行步骤S12～步骤S17而步骤S14也未成为“是”判定、且在步骤S16中光掩模的移动达到了界限之时，意味着由于人为的错误而设置了不同的光掩模，步骤S16成为“是”判定而进入步骤S18，利用警告灯点亮或警报音等来通知错误，并中止曝光。

在这里，曝光是基于在曝光方式中记录的曝光信息而进行的。例如，直至液晶显示用基板7到达曝光开始位置为止，液晶显示用基板7被以高速度进行输送。之后，若液晶显示用基板7到达曝光开始位置、曝光区域的开头区域达到曝光光学单元3的曝光位置，则基板的输送速度成为为了进行曝光而适当设定的速度。同时，快门17打开，光源光照射到光掩模9的被选择的图案区域11，从而该图案区域11的掩模图案被转印到液晶显示用基板7的曝光区域。这样，边使液晶显示用基板7以一定速度进行输送边执行对曝光区域的曝光。

之后，若液晶显示用基板7到达曝光结束位置、曝光区域的末尾区域达到曝光光学单元3的曝光位置，则快门17关闭，同时使基板的输送速度变为高速来搬出液晶显示用基板7。

在上述曝光动作中，由检测单元4透过光掩模9的开口部12检测在液晶显示用基板7上形成的图案上预先设定的基准位置(例如与TFT基板的平行于X方向的中心线接近且在相同方向上延伸的布线的缘部)，按照使该基准位置与检测单元4的中心Cc之间的距离和预先设定并保存于存储器24的目标值一致的方式，来驱动掩模台2的掩模校准机构，使光掩模9沿着Y方向微动，使光掩模9对位于移动中的液晶显示用基板7。由此，能够使光掩模9跟踪一边沿着Y方向振动一边被输送的液晶显示用基板7，从而能够提高曝光位置精度。

此外，在上述实施方式中，说明了使用在同一掩模基板10上形成有多种图案区域11的光掩模9来进行曝光的情况，但是本发明并不限定于此，也可以在光掩模9中形成一个图案区域11。这种情况下，能够根据辨别用标记13的位置的差异而与另一种类的光掩模9辨别开。

另外，在上述实施方式中，说明了被曝光体是液晶显示用基板7的情况，但是本发明并不限定于此，被曝光体也可以是等离子显示器显示用基板、有机EL显示用基板等任何基板。

Claims (5)

1.一种光掩模，具有在掩模基板上将多个掩模图案至少排成一列而形成的一个图案区域，所述光掩模的特征在于，具备：

在与所述多个掩模图案的排列方向交叉的方向上，在与所述图案区域的中心轴偏离一定距离的位置处，按照纵长中心轴与所述中心轴平行的方式设置的细长状的开口部；和

在所述开口部内为了将所述掩模图案与其他光掩模上形成的不同种类的掩模图案辨别开而设置的、与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记，

将所述辨别用标记设置在所述开口部的纵长中心轴上的与所述其他光掩模的辨别用标记不同的位置。

2.一种光掩模，在同一掩模基板上将掩模图案不同的多种图案区域按照其中心轴相互平行的方式排列设置，所述光掩模的特征在于，具备：

在与各所述图案区域的所述中心轴交叉的方向上，在与各中心轴偏离一定距离的位置处，分别按照纵长中心轴与所述中心轴平行的方式设置的细长状的多个开口部；和

在各所述开口部内分别为了辨别所述掩模图案而设置的、与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记，

将各所述开口部内的辨别用标记分别设置在各所述开口部的纵长中心轴上的不同位置。

3.根据权利要求2所述的光掩模，其特征在于，

各所述开口部内的辨别用标记，按照沿着各所述图案区域的中心轴排列的各所述掩模图案的排列间距的整数倍的间距而分别形成有多条。

4.根据权利要求2或3所述的光掩模，其特征在于，

各所述开口部内的辨别用标记在所述纵长中心轴方向上的宽度各不相同。

5.一种曝光装置，其特征在于，具备：

掩模台，其与被曝光体对置设置，对光掩模进行保持，能够沿着多种图案区域的排列方向移动，所述光掩模在同一掩模基板上将掩模图案不同的所述多种图案区域按照其中心轴相互平行的方式排列设置，在与各所述图案区域的所述中心轴交叉的方向上，在与各中心轴偏离一定距离的位置处分别形成纵长中心轴平行于所述中心轴的细长状的多个开口部，在该各开口部内分别将用于辨别所述掩模图案的与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记设置在所述纵长中心轴上的不同位置；

曝光光学系统，其向所述光掩模的多种图案区域之中被选择出的一个图案区域照射光源光，将该被选择出的图案区域的掩模图案转印到所述被曝光体上；

检测单元，其使细长状的受光部的纵长中心轴与所述被选择出的一个图案区域所对应的所述开口部的纵长中心轴一致地进行配置，用于检测所述辨别用标记的位置；和

控制单元，其控制所述掩模台的移动，使得从所述多种图案区域中选择一个图案区域，

所述控制单元比较从预先设定并保存的曝光信息中读取的掩模图案信息、和对应于各所述辨别用标记的位置而预先保存的掩模图案信息之中由所述检测单元检测出的所述辨别用标记的位置所对应的掩模图案信息，来判定所述被选择出的图案区域的正确与否。