CN101238416B

CN101238416B - 曝光装置及被曝光体

Info

Publication number: CN101238416B
Application number: CN2006800288313A
Authority: CN
Inventors: 梶山康一; 渡边由雄
Original assignee: V Technology Co Ltd
Current assignee: V Technology Co Ltd
Priority date: 2005-08-05
Filing date: 2006-07-24
Publication date: 2010-08-18
Anticipated expiration: 2026-07-24
Also published as: TW200707139A; KR101308691B1; WO2007018029A1; KR20080032175A; HK1119784A1; JP4309874B2; JP2007041447A; TWI391796B; CN101238416A

Abstract

本发明提供一种曝光装置及被曝光体，承载在设定于表面的图案区域的一个边缘的规定位置形成有对准标记的彩色滤光基板6，并通过输送装置1，以形成有对准标记的一侧为最前侧，输送该彩色滤光基板6，通过拍摄装置3拍摄对准标记和像素，通过控制装置4，根据拍摄装置3所取得的对准标记的检测输出，计算出彩色滤光基板6上的基准位置和预先设定在曝光光学系统2的光掩模17上的基准位置的偏差，并使拍摄装置3和曝光光学系统2一体地在与彩色滤光基板的承载面平行的面内移动，从而修正该偏差，将从曝光光源12发射的曝光用的光经由光掩模17照射到彩色滤光基板6上。

Description

曝光装置及被曝光体

技术领域

本发明涉及一种曝光装置以及被曝光体，该曝光装置承载着被曝光体进行输送，并通过光掩模进行曝光，详细地讲，涉及这样的曝光装置以及被曝光体：在与承载面平行的面内，修正与输送方向垂直的方向的光掩模和被曝光体的偏差，谋求提高被曝光体上的功能图案和曝光图案的重叠精度并缩短曝光处理的时间。

背景技术

在现有的曝光装置中，根据设置在被曝光体(以下，记载为“彩色滤光基板”)的角落等处的对准标记和设置在光掩模上的对准标记，对彩色滤光基板和光掩模的进行对位之后进行曝光，公知有用大型光掩模对彩色滤光基板的整面一起进行曝光的方式或用少量的次数进行曝光的方式(例如，参照专利文献1)、用小型光掩模将彩色滤光基板分割之后进行曝光的方式(例如，参照专利文献2)。

专利文献1：JP特开平09-127702号公报

专利文献2：JP特开2003-43939号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是，在这种现有的曝光装置中，特别是，在上述专利文献1记载的曝光装置中，虽然有可通过较少的对准彩色滤光基板和光掩模的工序来完成曝光的优点，但同时存在制作高精度的大型光掩模困难，或则因光掩模弯曲导致调整光掩模和彩色滤光基板之间的间隙费功夫的问题。因此，难以提高彩色滤光基板的像素(功能图案)部和曝光图案的重叠精度。

另外，在上述专利文献2里记载的曝光装置中有这样的问题：进行对准的次数随着分割数相应地增加，作为整体来讲，导致花费曝光处理时间，除此之外，由于在彩色滤光基板的像素(功能图案)部分添加对准标记，变得无法使用像素的一部分。

因此，本发明是针对这样的问题而提出的，其目的在于提供一种提高被曝光体上的功能图案和曝光图案之间的重叠精度，并缩短曝光处理时间的曝光装置以及被曝光体。

解决问题的方案

(1)为了达到上述目的，本发明提供一种曝光装置，其特征在于，具有：

输送装置，其承载被曝光体，上述被曝光体在设定于表面上的图案区域形成有多个功能图案，并在该图案区域的一端部侧的规定位置形成有至少一个对准标记，并且该输送装置以形成有上述对准标记的一侧为最前侧输送该曝光体；曝光光学系统，其配设在上述输送装置的上方，而且经由掩模载物台所承载的光掩模，向上述被曝光体照射曝光光源发出的曝光用光；拍摄装置，其在与上述输送装置的被曝光体承载面平行的面内，能够与上述曝光光学系统一体地向与上述被曝光体的输送方向垂直的方向移动，并具有沿着该移动方向排列配设的多个受光元件，该拍摄装置用于拍摄上述被曝光体的功能图案和对准标记；控制装置，其根据上述拍摄装置所取得的上述对准标记的检测输出，计算出上述被曝光体上的基准位置和预先设定在上述光掩模上的基准位置之间的偏差，并移动上述曝光光学系统和拍摄装置来修正该偏差。

通过这种结构，承载在形成多个功能图案的图案区域的一个边缘部的规定位置形成至少一个对准标记的被曝光体，通过输送装置，以上述对准标记的形成侧为最前侧，输送该被曝光体，通过拍摄装置，拍摄上述对准标记和上述功能图案，其中所述拍摄装置被设置在与输送装置的被曝光体的承载面平行的面内，并沿着与上述被曝光体的输送方向垂直的方向，成一条直线地排列着多个受光元件，通过控制装置，根据拍摄装置取得的上述对准标记的检测输出，计算出上述被曝光体上的基准位置和预先设置在光掩模上的基准位置的偏差，其中所述光掩模承载在曝光光学系统的掩模载物台上，将上述拍摄装置和曝光光学系统，在与输送装置的承载面平行的方向上，向与上述被曝光体的输送方向垂直的方向一体地移动，从而修正该偏差，通过曝光光学系统，将从曝光光源发射出的曝光用的光，经由光掩模照射到上述被曝光体上。

(2)而且，上述拍摄装置的上述受光元件排列配设为一条直线状。由此，通过将受光元件排列成一条直线状的拍摄装置，来拍摄被曝光体的对准标记以及图案区域的功能图案。

(3)另外，上述拍摄装置以拍摄到相对于上述曝光光学系统的曝光位置向与上述被曝光体的输送方向相反的方向偏离的位置的方式配设。由此，通过拍摄装置拍摄相对于曝光光学系统的曝光位置向与被曝光体的输送方向相反的方向偏离的位置。

(4)另外，上述曝光光学系统具有投影镜头，该投影镜头设置在上述掩模载物台和上述输送装置之间，并将形成在上述光掩模上的掩模图案投影到上述被曝光体上。由此，用设置在掩模载物台和输送装置之间的投影镜头，将形成在光掩模上的掩模图案投影到被曝光体上。

(5)另外，上述拍摄装置配设于在上述掩模载物台和上述投影镜头之间向与上述曝光光学系统的光路不同的方向偏转的光路上。由此，用拍摄装置拍摄被曝光体的对准标记以及功能图案，所述拍摄装置设置在承载光掩模的掩模载物台和投影镜头之间向与曝光光学系统的光路不同的方向偏转的光路上。

(6)另外，上述控制装置计算出基准受光元件与检测出上述被曝光体的对准标记的受光元件之间的偏差量，并移动上述拍摄装置和上述曝光光学系统，使得所述偏差量变成零，其中，上述基准受光元件预先设定在上述拍摄装置中，而且与上述光掩模的基准位置具有规定的位置关系。由此，用控制装置计算出基准受光元件和检测出被曝光体的对准标记的受光元件之间的偏差量，并将拍摄装置和曝光光学系统一体地移动，使该偏差量变成零，其中所述基准受光元件与光掩模的基准位置具有规定位置关系，并预先设定在上述拍摄装置中。

(7)另外，本发明提供一种被曝光体，向一个方向被输送的同时，经由光掩模被照射曝光用光，从而在规定位置形成规定形状的曝光图案，其特征在于，具有：多个功能图案，形成在设定于表面的图案区域；对准标记，其在上述图案区域的一端部侧的规定位置至少形成一个，用于修正预先设定在上述图案区域的基准位置和预先设定在上述光掩模上的基准位置之间的位置偏差，从而实现对准。

通过这种结构，向一个方向输送的同时，用对准标记修正预先设定在图案区域的基准位置和预先设定在光掩模上的基准位置的位置偏差，进行对准，并且经由光掩模照射曝光用的光，在设定于表面的上述图案区域形成曝光图案，其中所述对准标记为，在形成多个功能图案的图案区域的一个端部侧的规定位置形成的至少一个对准标记。

(8)另外，以与配置在上述图案区域的多个功能图案相同的间隔，在上述对准标记的旁边排列形成对准确认标记，该对准确认标记用于确认对准状态。由此，通过排列在对准标记的旁边并以与多个设置在上述图案区域上的图案相同的间隔形成的对准确认标记来确认对准状态。

并且，以形成上述对准标记一侧为最前侧进行输送。由此首先通过拍摄装置检测出对准标记，从而调整对准。

发明的效果

根据上述(1)所述的发明，通过拍摄装置拍摄对准标记，上述对准标记设置在被曝光体的图案区域的一端部，并处于输送方向最前侧的规定位置，并根据该对准标记的检测输出，修正光掩模的基准位置和被曝光体的基准位置的偏差，因此，在被曝光体的图案区域，即使同一形状的功能图案以规定的间距在与输送方向垂直的方向上形成为一列，也能够不发生间距偏差地进行对位。因此，能够提高曝光图案相对于被曝光体上的功能图案的重叠精度。另外，因为在输送被曝光体的同时进行对位而进行曝光，所以可以缩短曝光处理的时间。

另外，根据上述(2)所述的本发明，因为受光元件配设为排成一条直线状，所以能够确定出一个检测出被曝光体的对准标记的受光元件，从而对准控制变得容易。

另外，根据上述(3)所述的发明，通过拍摄装置拍摄相对于曝光位置向与被曝光体的输送方向相反的方向偏离的位置，所以在通过曝光光学系统进行曝光之前，可以通过拍摄装置拍摄对准标记以及功能图案来进行对位。因此，还可以适用于使光掩模接近被曝光体而进行曝光的装置。

另外，根据上述(4)所述的发明，曝光光学系统中具有投影镜头，所以可以将光掩模和被曝光体分离开来设置。因此，不会因光抗蚀剂附着在光掩模上而导致污损。

另外，根据上述(5)所述的发明，因为拍摄装置设置在向与曝光光学系

统的光路不同的方向偏转的光路上，所以拍摄装置不影响曝光光学系统的光路，而可以将曝光光学系统的曝光位置和拍摄装置的拍摄位置相靠近。因此，可以大致实时地通过拍摄装置进行功能图案的拍摄和曝光光学系统的曝光，从而能够进一步提高曝光图案相对于被曝光体上的功能图案的重叠精度。

而且，根据上述(6)所述的发明，通过控制装置，计算出预先设定在拍摄装置中的基准受光元件和检测出被曝光体的对准标记的受光元件的偏差量，所以，根据拍摄装置的受光元件输出的对准标记的检测输出，可以修正被曝光体上的基准位置和光掩模的基准位置的偏差。因此，可以容易地修正在与输送装置的承载面平行的面内的与被曝光体输送方向垂直的方向上的位置偏差。

另外，根据上述(7)所述的发明，对准标记设置在图案区域的一端部上的输送方向的最前侧，因此，通过拍摄装置拍摄对准标记，并根据该对准标记的检测输出，可以容易地修正上述图案区域的基准位置和光掩模的基准位置的偏差。因此，即使同一形状的功能图案以规定间距在图案区域的与输送方向垂直的方向上排成一列，也能够不发生间距偏差地进行对位。由此，可以提高曝光图案相对于被曝光体上的功能图案的重叠精度。

而且，根据上述(8)所述的发明，将对准确认标记与对准标记上并排设置，因此在用对准标记进行对准之后，可以通过对准确认标记确认其对准状态。另外，通过测定上述对准确认标记的间距，可以确认投影镜头的倍率，或被曝光体的膨胀或伸缩状态。

附图说明

图1是表示本发明的曝光装置的实施方式的概念图。

图2是表示在上述曝光装置中使用的彩色滤光基板的俯视图。

图3是表示在上述实施方式中光掩模的曝光位置和拍摄装置的拍摄位置的关系的说明图

图4是表示使用通常的彩色滤光基板时的曝光位置偏差的说明图。

图5是表示光掩模相对于上述彩色滤光基板的对准调整的说明图

附图标记的说明

1...输送装置

1a...承载面

2...曝光光学系统

3...拍摄装置

4...控制装置

5...载物台

6...彩色滤光基板(被曝光体)

7...图案区域

8...黑色矩阵

9、9a、9b...像素(功能图案)

10...对准标记

11...对准确认标记

12...曝光光源

13...掩模载物台

14...投影镜头

16、16a...掩模图案

17...光掩模

18、18n、18s...受光元件

29...曝光图案

A...输送方向

S1...彩色滤光基板上的基准位置

S2...光掩模的基准位置

具体实施方式

下面，根据附图，详细地说明本发明的实施方式。图1是表示本发明的曝光装置的实施方式的概念图。该曝光装置，将被曝光体向一个方向输送的同时，经由掩模向该被曝光体上照射曝光用的光，并形成规定的曝光图案，并且，该曝光装置由输送装置1、曝光光学系统2、拍摄装置3、控制装置4构成。以下针对被曝光体例如形成黑色矩阵的彩色滤波基板的情况进行说明。

上述输送装置1，将涂敷有彩色抗蚀剂的彩色滤光基板6承载在载物台5上，向图1所示方向按规定的速度输送，并且上述输送装置1具有以下等构件：未图示的例如输送辊，其移动上述载物台5；马达等的输送驱动部，其旋转驱动该输送辊；速度传感器，其检测载物台5的输送速度；位置检测传感器，其检测载物台5的位置。

如图2所示，上述彩色滤光基板6具有黑色矩阵8的多个像素9和一个细长状的对准标记10，上述黑色矩阵8的多个像素9形成在设定于表面的图案区域7，上述对准标记10是为了修正基准位置S1与基准位置S2的位置偏差而形成的，上述基准位置S1预先设置在上述图案区域7，上述基准位置S2预先设置在后述的光掩模17上(参照图3)。并且，上述彩色滤光基板6以形成有对准标记10的一端为最前侧进行输送。另外，在与箭头A垂直的方向，与上述对准标记10并排形成对准确认标记11。该对准确认标记11用于基于上述对准标记10而确认对准状态，其长度比上述对准标记10短，并以与多个配置在上述模式区域7中的黑色矩阵8的像素9相同的间隔，以相同的数量形成在上述对准标记10的左右。

另外，上述对准标记10也可以作为曝光开始标记来使用。即，当用后述的拍摄装置3检测出上述对准标记10时，点亮后述的曝光光学系统2的曝光光源12，开始进行曝光。

在上述输送装置1的载物台5的上方，设置有曝光光学系统2。该曝光光学系统2向彩色滤光基板6上照射曝光用的光，并形成规定的曝光图案，并且该曝光光学系统2具有曝光光源12、掩模载物台13、投影镜头14、分色镜15。

上述曝光光源12发射包含紫外线的曝光用的光，例如为高压水银灯、氙灯或发出紫外线的激光器等。上述掩模载物台13设置在从曝光光源12发射出来的曝光用的光的照射方向的前方，如图3所示，例如能够与输送装置1的彩色滤光基板6的承载面1a平行地承载光掩模17，上述光掩模17形成有可透过光的矩形的掩模图案16掩模图案16，即，在透明玻璃基板上的不透明膜上，在与输送方向(箭头A方向)垂直的方向上以规定间距形成有可透过光的矩形状的掩模图案16。上述投影镜头14设置在上述输送装置1的载物台5和掩模载物台13之间，将形成在上述光掩模17上的掩模图案16投影到上述彩色滤光基板6上。上述分色镜15设置在上述掩模载物台13和投影镜头14之间，而且透过紫外线而反射可见光，从而能够反射来自彩色滤光基板6的可见光，由此使该可见光向与上述曝光光学系统2的光路不同的方向偏转，进而被拍摄装置3接受。

在上述掩模载物台13和投射镜头14之间的光路L2上设置有拍摄装置3，该光路L2在与上述曝光光学系统2的光路L1不同方向上，向与光路L1交叉的方向偏转。该拍摄装置3将与曝光光学系统2的曝光位置接近的位置作为拍摄位置，对如图2所示的彩色滤光基板6的黑色矩阵8的像素9和对准标记10进行拍摄，而且，在与输送装置1的承载面1a平行的面内，沿着与图3中的箭头A所示的输送方向垂直的方向直线状地排列配设有多个受光元件18。而且，对准机构19能够使拍摄装置3与上述曝光光学系统2成为一体，在与输送装置1的承载面1a平行的面内，向与箭头A所示的输送方向垂直的箭头B或箭头C方向移动，并能够以光掩模17的中心为中心轴旋转。而且，图如1所示，配设在输送装置1的载物台5的下方的照射可见光的照明光源20从背面对该彩色滤光基板6进行照明，从而能够鲜明地拍摄形成在该彩色滤光基板6上的黑色矩阵8的像素9。另外，在上述照明光源20的可见光中包含有紫外线成分时，优先在照明光源20的前面设置紫外线截止滤光片，以防止涂敷在彩色滤光基板6上的彩色抗蚀剂曝光。

在上述输送装置1、曝光光源12、拍摄装置3、对准机构19、照明光源20上连接有控制装置4。该控制装置4根据拍摄装置3取得的上述对准标记10的检测输出，计算出上述彩色滤光基板6上的基准位置S1(参照图2)和上述光掩模17的基准位置S2(参照图3)的位置偏差，为了修正该位置偏差而驱动对准机构19，在与输送装置1的承载面1a平行的面内将曝光光学系统2和拍摄装置3向与输送方向垂直的方向移动，以及使曝光光学系统2和拍摄装置3以光掩模17的中心作为中心轴而旋转。具体地讲，如图5(a)所示，计算出基准受光元件18s与受光元件18n之间的偏差量，并驱动对准机构19，一体地移动拍摄装置3和曝光光学系统2的光掩模17，使得该偏差量变成零，其中，上述基准受光元件18s预先设定在上述拍摄装置3的受光元件18中，而且与上述掩码17的基准位置S2具有规定的位置关系，上述受光元件18n是检测出上述彩色滤光基板6的对准标记10的受光元件。并且具有曝光光源驱动部21、对准机构控制器22、图像处理部23、输送装置控制器24、照明光源驱动部25、存储部26、运算部27、控制部28。

这里，上述曝光光源驱动部21点灯驱动曝光光源12。另外，上述对准机构控制器22驱动控制对准机构19。另外，上述图像处理部23，对拍摄装置3所取得的图像进行处理而做成图像数据，并且将该图像数据与保存在存储部26中的检索表(以下，记载为“LUT”)进行比较，从而检测出上述彩色滤光基板6的图案区域7的基准位置S1。另外，上述输送装置控制器24将输送装置1的载物台5以规定速度向规定方向移动。另外，上述照明光源驱动部25点灯驱动照明电源20。另外，上述存储部26例如存储有用于对彩色滤光基板6上的基准位置S1进行检测的LUT和拍摄装置3的基准受光元件18s的单元号等。另外，运算部27用于计算出基准受光元件18s和受光元件18n的偏差量等，其中，上述基准受光元件18s预先设定在拍摄装置3上，而且与光掩模17的基准位置S2具有规定的位置关系，上述受光元件18n是检测出上述彩色滤光基板6的对准标记10的受光元件。而且，控制部28适当地驱动控制上述各部。

下面，说明这样构成的实施方式的曝光装置的动作。

首先，当接通省略图示的启动开关时，控制装置4被启动，照明光源驱动部25点亮照明光源20，拍摄装置3开始拍摄。另外，输送装置1，在载物台5的规定位置上承载涂敷有彩色抗蚀剂的彩色滤光基板6，并进入到待机状态。下面，当接通省略图示的曝光开始开关时，输送装置1的载物台5受输送装置控制器24的控制，以规定速度向箭头A方向开始移动。

这里，图4表示曝光图案相对于没有形成对准标记10的通常的彩色滤光基板6的的曝光偏差。如该图所示，彩色滤光基板6的基准位置S1设置在黑色矩阵8的左端像素9a的左上角部位时，控制装置4通过图像处理部23来对拍摄装置3取得的图像的图像数据和从存储部26读出的LUT进行比较，当两者一致时，判定像素9的左上角部位为基准位置S1。此时，当曝光光学系统2的光掩模17向箭头B方向偏移时，控制装置4例如可能会将左端像素9a的右边相邻的像素9b的左上角部位误认为基准位置S1，并控制对准机构19，使基准受光元件18s与上述像素9b的左上角部位对齐，上述基准受光元件18s预先设定在拍摄装置3中，并且与光掩模17的基准位置S2具有规定的位置关系。因此，如该图所示，可能会在偏离目标位置的位置形成条状的曝光图案29。

另一方面，如图2所示，在本发明的曝光装置中使用的彩色滤光基板6的形成有黑色矩阵8的图案区域7的一端部的规定位置上，形成有向箭头A方向延伸的细长状的一个对准标记10，而且将形成有该对准标记10的一侧作为最前侧进行输送，因此，如图5的(a)所示，首先被拍摄装置3拍摄到上述对准标记10。由此，曝光光源驱动部21被驱动，曝光光源12被点亮，并开始进行曝光。

同时，在控制部28中，对检测到对准标记10的例如左侧边缘部的受光元件18n的单元号与预先存储在存储部26中的基准受光元素18s的单元号进行比较。然后，通过运算部27计算出其偏差量，为了使该偏差量变成零，对准机构控制器22驱动控制对准机构19，使曝光光学系统2的光掩模17和拍摄装置3一体的在与输送装置1的承载面1a平行的面内向图5的(b)所示的箭头C方向移动。由此，当上述对准标记10定位到拍摄装置3的基准受光元件18s时，与上述对准标记10具有规定位置关系的彩色滤光基板6的基准位置S1和与上述基准受光元件18s具有规定位置关系的光掩模17的基准位置S2变成一致，从而如图2的斜线所示那样，能够在目标位置形成条状的曝光图案29。

下面，如图5的(b)所示，通过拍摄装置3拍摄长度比对准标记10短的对准确认标记11，该对准确认标记11设置为与彩色滤光基板6的黑色矩阵8的各像素9相对应。而且，控制装置4，读取各受光元件18的单元号，并用运算部27计算其平均值，将其结果与基准受光元件18s的单元号进行比较，其中，上述各受光元件18是检测出对准标记10和排列在该对准标记10的左右的相同数量的对准确认标记11的受光元件。此时，当两者一致时，判断为正确地进行了对准。并且，从拍摄装置3所取得的图像数据中读取对准确认标记11，并将其与预先存储在存储部26中的设计值进行比较，根据其偏差量，可以确认投影镜头14的倍率的正确性和彩色滤光基板6的膨胀或伸缩。另外，当对准确认标记11的确认中检测出异常时，可以停止曝光动作并警报异常。

然后，根据拍摄装置3所取得的图像数据，控制对准机构的移动，光掩模17的基准位置S2被定位到作为彩色滤光基板6的基准位置的左端像素9a的左上角部位，从而进行曝光。另外，在输送中彩色滤光基板6上出现旋转偏差时，控制上述对准机构19，以光掩模17的中心为中心轴，将曝光光学系统2和拍摄装置3一体地旋转(θ)，从而调整旋转偏差。由此，即使彩色滤光基板6被左右晃动地输送，光掩模17也能追踪其晃动，并如图2所示，在目标位置形成高精度的曝光图案29。

另外，在上述实施方式中，如图2所示，对准标记10以及对准确认标记11形成为在箭头A的方向上延伸为细长状的形状，但并不仅局限于此，只要拍摄装置3的受光元件18能够检测出，则也可以形成为矩形形状或线状，或形成为与黑色矩阵8的像素9的宽度大致相等的宽度。另外，在以上的说明中，只叙述了对准标记10为一个的情况，但并不仅局限于此，也可以在规定间隔内形成多个。

另外，在上述实施方式中，说明了将拍摄装置3配设为对曝光光学系统2的曝光位置附近的位置进行拍摄的情况，但并不仅局限于此，也可以将拍摄装置3配设为对相对于曝光光学系统2的曝光位置向与被曝光体的输送方向相反的方向偏离的位置进行拍摄的状态。

另外，在上述实施方式中，说明了在曝光光学系统2中设置投影镜头14的情况，但并不仅局限于此，也可以适用于没有投影镜头14的近接式曝光的装置上。

而且，在以上的说明中，叙述了被曝光体为彩色滤光基板6的情况，但并不仅局限于此，被曝光体也可以是液晶显示面板的TFT基板或者半导体基板。此时，被曝光体为不透明基板时，优先将照明光源20设置在输送装置1的上方并进行下射式照明(epi-illumination)。

Claims

1.一种曝光装置，其特征在于，具有：

输送装置，其承载被曝光体，上述被曝光体在设定于表面上的图案区域形成有多个功能图案，并在该图案区域的一端部侧的规定位置形成有至少一个对准标记，并且该输送装置以形成有上述对准标记的一侧为最前侧输送该曝光体；

曝光光学系统，其配设在上述输送装置的上方，而且经由掩模载物台所承载的光掩模，向上述被曝光体照射曝光光源发出的曝光用光；

拍摄装置，其在与上述输送装置的被曝光体承载面平行的面内，能够与上述曝光光学系统一体地向与上述被曝光体的输送方向垂直的方向移动，并具有沿着该移动方向排列配设的多个受光元件，该拍摄装置用于拍摄上述被曝光体的功能图案和对准标记；

控制装置，其根据上述拍摄装置所取得的上述对准标记的检测输出，计算出上述被曝光体上的基准位置和预先设定在上述光掩模上的基准位置之间的偏差，并移动上述曝光光学系统和拍摄装置来修正该偏差。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述拍摄装置的上述受光元件排列配设为一条直线状。

3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述拍摄装置以拍摄到相对于上述曝光光学系统的曝光位置向与上述被曝光体的输送方向相反的方向偏离的位置的方式配设。

4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述曝光光学系统具有投影镜头，该投影镜头设置在上述掩模载物台和上述输送装置之间，并将形成在上述光掩模上的掩模图案投影到上述被曝光体上。

5.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，上述拍摄装置配设于在上述掩模载物台和上述投影镜头之间向与上述曝光光学系统的光路不同的方向偏转的光路上。

6.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述控制装置计算出基准受光元件与检测出上述被曝光体的对准标记的受光元件之间的偏差量，并移动上述拍摄装置和上述曝光光学系统，使得所述偏差量变成零，其中，上述基准受光元件预先设定在上述拍摄装置中，而且与上述光掩模的基准位置具有规定的位置关系。

7.一种被曝光体，向一个方向被输送的同时，经由光掩模被照射曝光用光，从而在规定位置形成规定形状的曝光图案，其特征在于，具有：

多个功能图案，形成在设定于表面上的图案区域；

对准标记，其在上述图案区域的一端部侧的规定位置至少形成一个，用于修正预先设定在上述图案区域的基准位置和预先设定在上述光掩模上的基准位置之间的位置偏差，从而实现对准。

8.如权利要求7所述的被曝光体，其特征在于，以与配置在上述图案区域的多个功能图案相同的间隔，在上述对准标记的旁边排列形成对准确认标记，该对准确认标记用于确认对准状态。