CN102861627A - 大米加工方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种大米加工方法，包括清除稻谷杂质以获得净谷的清理工段、对净谷进行去壳并分离出稻壳和谷糙的砻谷工段以及对砻谷工段获得的糙米进行碾制和抛光处理的碾米工段，在所述的碾米工段，采用多台碾米机对所述的糙米进行碾制，所述的多台碾米机至少包括进行第一道碾米作业的砂辊碾米机和进行末道碾米作业的铁辊筒喷风碾米机，另外，在抛光处理前按大米粒度进行分级，在抛光处理后对大米进行色选，去除杂色不良米。经该方法生产的大米表面更光洁、粒度更均匀、颜色更洁净，提高了大米的品质。
Description
技术领域
本发明涉及粮食加工技术领域，特别是涉及一种大米加工方法。
背景技术
现有的大米加工方法一般包括清除稻谷杂质以获得净谷的清理工段、对净谷进行去壳并分离出稻壳和谷糙的砻谷工段以及对砻谷工段获得的糙米进行碾制和抛光处理的碾米工段。在碾米工段中，一般是通过胶皮辊来碾米，然后对碾制后的大米进行抛光处理。这种方法生产出的大米光泽度差、粒度不均，而且会掺杂黄、黑、褐等杂色不良米粒，影响了大米的品质。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种使碾制的白米表面更光洁的大米加工方法。
本发明的另一个目的是提供一种大米粒度均匀、无杂色米的大米加工方法。
为此，本发明的技术方案如下：
一种大米加工方法，包括清除稻谷杂质以获得净谷的清理工段、对净谷进行去壳并分离出稻壳和谷糙的砻谷工段以及对砻谷工段获得的糙米进行碾制和抛光处理的碾米工段，在所述的碾米工段，采用多台碾米机对所述的糙米进行碾制，所述的多台碾米机至少包括进行第一道碾米作业的砂辊碾米机和进行末道碾米作业的铁辊筒喷风碾米机。
在所述的碾米工段，还包括在抛光处理前，按大米的颗粒大小进行分级的步骤和在抛光处理后，对大米进行色选、去除杂色不良米的步骤。
上述方法中，对大米进行分级采用的设备是平转筛或滚筒精选机；对大米进行色选采用的设备是色选机。
本发明的大米加工方法中，在碾米工段，先利用砂辊碾米机的锋利砂粒破坏糙米的光滑表面，起到“开糙”作用，增加擦离、碾削效果，再利用铁辊筒喷风碾米机进一步去除黄嘴胚芽，从而使碾制的白米表面更光洁；另外经过分级和色选，使大米粒度更均匀、颜色更洁净，从而提高了大米的品质。
具体实施方式
本发明的大米加工方法包括以下工段：
1、清理工段，包括以下步骤：
1)选米：选择品质、品种优良的优质稻谷，按照国家收购标准进行收购、入库存放；
2)初清：初清使用的设备为振动筛、圆筒初清筛等，用于清除原粮中易于清理的大、小、轻杂质，并加强风选以清除大部分灰尘；
3)去石：采用吸式比重去石机分离并肩石等比重比稻谷大的杂志。
4)磁选：采用永磁滚筒清除稻谷中的磁性杂质，在清理工段之后稻谷进入净谷仓，进入砻谷工段；
2、砻谷工段，包括以下步骤：
1)砻谷：使用胶辊砻谷机脱去稻谷颖壳；
2)稻壳分离：使用胶辊砻谷机的底座进行稻壳分离；
3)谷糙分离：使用糙平转筛和重力谷糙分离机进行谷糙分离，采用离心沉降和重力沉降两种方法收集稻壳。
3、碾米工段，包括以下步骤：
1)碾米：采用多机碾白，头道米机应配置砂辊碾米机，利用金刚砂辊筒的锋利砂粒破坏糙米的光滑表面，即油皮，起到“开糙”作用，增加擦离、碾削效果；末道米机应选用铁辊筒喷风碾米机，充分利用擦离碾白与喷风碾米的优点，使碾制的白米表面更光洁、晶亮；
2)凉米：米流通过风选器或流化槽降低温度；
3)白米分级：利用白米分级平转筛和滚筒精选机，按白米粒度大小进行白米分级；
4)白米抛光：经过白米分级筛提碎后的稻米进入抛光机后，对白米进行去除油糠处理，给大米表面一个很洁净、晶亮的外观。
5)色选：米流通过色选机去除黄、黑、褐等杂色不良米粒；
6)包装：按照不同规格进行分装计量包装，包装可以采用小包装、真空包装或大包装。
Claims (4)
1.一种大米加工方法，包括清除稻谷杂质以获得净谷的清理工段、对净谷进行去壳并分离出稻壳和谷糙的砻谷工段以及对砻谷工段获得的糙米进行碾制和抛光处理的碾米工段，其特征在于：在所述的碾米工段，采用多台碾米机对所述的糙米进行碾制，所述的多台碾米机至少包括进行第一道碾米作业的砂辊碾米机和进行末道碾米作业的铁辊筒喷风碾米机。
2.根据权利要求1所述的大米加工方法，其特征在于：在所述的碾米工段，还包括在抛光处理前，按大米的颗粒大小进行分级的步骤和在抛光处理后，对大米进行色选、去除杂色不良米的步骤。
3.根据权利要求2所述的大米加工方法，其特征在于：对大米进行分级采用的设备是平转筛或滚筒精选机。
4.根据权利要求2所述的大米加工方法，其特征在于：对大米进行色选采用的设备是色选机。
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| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130109 |