CN102834780A - 曝光方法及曝光装置 - Google Patents

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Abstract

本发明的曝光方法边使基板沿着一定方向移动，边在所述基板上的图案形成区域经由光掩模而使预先设定的图案依次曝光，其中，执行如下步骤：在所述基板上使所述图案曝光，另一方面，使激光束向与基板移动方向交叉的交叉方向的所述图案形成区域外照射，在所述基板面形成一定形状的伤痕而形成对准标记的步骤；检测所述对准标记相对于在所述基板移动方向后方位置预先设定的基准位置的向与基板移动方向交叉的交叉方向的位置偏移的步骤；使所述基板及所述光掩模相对移动来修正所述位置偏移的步骤；在所述图案的后续位置使下一图案曝光的步骤。由此，在大型的素色的基板上使图案高精度且低成本地曝光。

Description

曝光方法及曝光装置
技术领域
本发明涉及边使素色的基板沿着一定方向移动边使图案依次曝光的曝光方法及曝光装置，详细而言，涉及在大型的素色的基板上使图案高精度且低成本地曝光的曝光方法及曝光装置。
背景技术
以往的这种曝光方法在预先形成了作为曝光位置的基准的基准图案的基准基板上使素色的被曝光体重合而将两者一起搬运，同时利用摄像机构从被曝光体的上下任一侧拍摄上述基准图案而检测预先设定在该基准图案上的基准位置，以该基准位置为基准，进行沿着与基板搬运方向正交的正交方向扫描的光束的照射开始或照射停止的控制，从而在素色的被曝光体上依次形成图案(例如，参照专利文献1)。
【在先技术文献】
【专利文献】
专利文献1：日本特开2005-316167号公报
发明内容
【发明要解决的课题】
然而，在这种以往的曝光方法中，需要准备预先形成有基准图案的基准基板，形成该基准基板比较麻烦，曝光工序的成本可能会升高。
另外，在被曝光体为大型的情况下，对应于该大型的被曝光体而基准基板也大型化，结果是为了在大型的素色的基板上形成基准图案而需要大型的掩模和大型的曝光装置，基准基板可能造价变高。
因此，本发明应对这种问题点，目的在于提供一种在大型的素色的基板上使图案高精度且低成本地曝光的曝光方法及曝光装置。
【用于解决课题的手段】
为了实现上述目的，本发明的曝光方法边使基板沿着一定方向移动，边在所述基板上的图案形成区域经由光掩模而使预先设定的图案依次曝光，其中，执行如下步骤：在所述基板上使所述图案曝光，另一方面，使激光束向与基板移动方向交叉的交叉方向的所述图案形成区域外照射，在所述基板面形成一定形状的伤痕而形成对准标记的步骤；检测所述对准标记相对于在所述基板移动方向后方位置预先设定的基准位置的向与基板移动方向交叉的交叉方向的位置偏移的步骤；使所述基板及所述光掩模相对移动来修正所述位置偏移的步骤；在先曝光的所述图案的后续位置使下一图案曝光的步骤。
根据这种结构，边使基板沿着一定方向移动，边经由光掩模在基板上的图案形成区域使图案曝光，另一方面，使激光束向与基板移动方向交叉的交叉方向的所述图案形成区域外照射，在基板面形成一定形状的伤痕而形成对准标记，检测对准标记相对于在基板移动方向后方位置预先设定的基准位置的向与基板移动方向交叉的交叉方向的位置偏移，使基板及光掩模相对移动来修正该位置偏移，在先曝光的上述图案的后续位置使下一图案曝光。
另外，所述光掩模在与所述基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外形成有开口窗，该开口窗使所述激光束通过而在所述基板上形成所述对准标记，在该开口窗的所述基板移动方向后方位置形成有用于检测所述对准标记的对准用窗。由此，通过在光掩模的与基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外形成的开口窗，将激光束照射到基板上而形成对准标记，并通过在上述开口窗的基板移动方向后方位置形成的对准用窗来检测对准标记。
而且，所述光掩模在与所述基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外且在曝光用激光束的照射区域内形成有开口窗，在该开口窗具备聚光透镜，在利用所述曝光用激光束进行曝光的同时，使该激光束通过所述光掩模的聚光透镜向所述基板照射而形成所述对准标记。由此，在与基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外且在曝光用激光束的照射区域内形成光掩模的开口窗，通过在该开口窗设置的聚光透镜而使曝光用激光束会聚到基板上，从而形成对准标记。
此外，所述光掩模是在与所述基板移动方向交叉的交叉方向上将多个单位掩模以彼此交错的方式排列而成的结构，在所述对准标记的位置偏移修正步骤中，检测形成在所述各单位掩模的相邻端部上的掩模间对准标记，以使各单位掩模的排列间距成为一定值的方式进行各单位掩模的位置调整。由此，检测形成在沿着与基板移动方向交叉的交叉方向彼此交错排列的多个单位掩模的相邻端部上的掩模间对准标记，以各单位掩模的排列间距成为一定值的方式边调整各单位掩模的位置边进行曝光。
另外，本发明的曝光装置边使基板沿着一定方向移动，边在所述基板上的图案形成区域经由光掩模而使预先设定的图案依次曝光，其具备：在所述基板上经由光掩模照射光源光而进行曝光的曝光用光源；向所述基板照射激光束，在与基板移动方向交叉的交叉方向的所述图案形成区域外的基板面上形成一定形状的伤痕而形成对准标记的激光光源；检测所述对准标记相对于在所述基板移动方向后方位置预先设定的基准位置的向与基板移动方向交叉的交叉方向的位置偏移，使所述基板及所述光掩模相对移动来修正该位置偏移，从而修正曝光的位置偏移的对准机构。
根据这种结构，边使基板沿着一定方向移动，边从曝光用光源经由光掩模将光源光照射到该基板上而在上述基板上的图案形成区域使图案曝光，另一方面，从激光光源向基板照射激光束而在与基板移动方向交叉的交叉方向的上述图案形成区域外的基板面上形成一定形状的伤痕而形成对准标记，通过对准机构检测上述对准标记相对于在基板移动方向后方位置预先设定的基准位置的向与基板移动方向交叉的交叉方向的位置偏移，使基板及光掩模相对移动来修正该位置偏移，从而修正曝光的位置偏移，在先曝光的上述图案的后续位置使下一图案曝光。
另外，所述光掩模在与所述基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外形成有开口窗，该开口窗使所述激光束通过而在所述基板上形成所述对准标记，在该开口窗的所述基板移动方向后方位置形成有用于检测所述对准标记的对准用窗。由此，通过在光掩模的与基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外形成的开口窗，将激光束照射到基板上而形成对准标记，并通过在上述开口窗的基板移动方向后方位置形成的对准用窗来检测对准标记。
而且，所述光掩模在与所述基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外且在曝光用激光束的照射区域内形成有开口窗，在该开口窗具备聚光透镜，所述曝光用光源和激光光源是发射相同波长的激光束的一个脉冲激光光源，在利用从所述脉冲激光光源发射的激光束进行曝光的同时，使该激光束通过所述光掩模的聚光透镜向所述基板照射而形成所述对准标记。由此，在与基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外且在曝光用激光束的照射区域内形成光掩模的开口窗，通过在该开口窗设置的聚光透镜而使曝光用激光束会聚到基板上，从而形成对准标记。
并且，所述光掩模是在与所述基板移动方向交叉的交叉方向上将多个单位掩模以彼此交错的方式排列而成的结构，所述曝光装置还具备单位掩模对准机构，该单位掩模对准机构检测形成在所述各单位掩模的相邻端部上的掩模间对准标记，以使各单位掩模的排列间距成为一定值的方式进行各单位掩模的位置调整。由此，通过单位掩模对准机构检测形成在沿着与基板移动方向交叉的交叉方向彼此交错排列的多个单位掩模的相邻端部上的掩模间对准标记，以各单位掩模的排列间距成为一定值的方式调整各单位掩模的位置。
【发明效果】
根据本发明第一或第五方面，经由光掩模进行曝光，另一方面，以形成在与基板移动方向交叉的交叉方向的图案形成区域外的对准标记为基准，进行曝光位置的调整并执行下一曝光，因此即使基板为素色也能够位置精度良好地依次连接曝光图案。而且，无需准备现有技术那样的预先形成有基准图案的基准基板，因此即使为大型的素色的基板也能够高精度且低成本地使图案曝光。
另外，根据本发明第二或第六方面，能够更高精度地进行前一个曝光的曝光图案与光掩模的掩模图案的位置对合，从而能够进一步提高各曝光图案的连接精度。
此外，根据本发明第三或第七方面，通过设置聚光透镜而能够增大照射到基板上的光的能量密度。因此，若使用激光光源作为曝光用光源，则能够使曝光用激光束的一部分会聚到基板上而用于对准标记的形成。由此，能够使光源为一个曝光用激光光源，从而能够简化装置。
并且，根据本发明第四或第八方面，能够使用形状小的多个单位掩模在大型的基板上进行曝光。因此，能够减少光掩模的制造成本。
附图说明
图1是表示本发明的曝光装置的第一实施方式的主视图。
图2是表示在上述第一实施方式中使用的光掩模的俯视图。
图3是表示控制机构的概略结构的框图。
图4是说明本发明的曝光方法的流程图。
图5是表示本发明的曝光方法的曝光的说明图。
图6是表示本发明的曝光装置的第二实施方式的图，是表示了光掩模的一结构例的俯视图。
图7是表示将开口窗及对准用窗设置于掩模台的例子的俯视图，(a)是在曝光用光的照射区域内设有上述开口窗的例子，(b)是在曝光用光的照射区域外设有上述开口窗的例子。
图8是表示使用了图7的掩模台的曝光的说明图。
具体实施方式
以下，基于附图，详细说明本发明的实施方式。图1是表示本发明的曝光装置的第一实施方式的主视图。该曝光装置边使作为素色的基板的膜1沿着一定方向移动边使图案依次曝光，具备供给卷轴2、卷绕卷轴3、激光光源4、光掩模5、对准机构6、控制机构7。
上述供给卷轴2卷绕有例如长条的膜1，且由供给侧旋转轴8保持为能够旋转。而且，在供给侧旋转轴8安装有对旋转进行限制的图示省略的制动器，且作用有背张力以便于向膜1施加一定的张力。
在与上述供给侧旋转轴8沿着水平方向隔开规定距离而平行设置的卷绕侧旋转轴9保持有能够旋转的卷绕卷轴3。该卷绕卷轴3卷绕从供给卷轴2供给的膜1，借助将旋转轴与卷绕侧旋转轴9连结所设置的卷绕电动机10而进行旋转。
另外，在上述供给卷轴2与卷绕卷轴3之间设有一对引导柱11，能够水平地支承膜1。
在水平地挂设在上述一对引导柱11之间的膜1的上方设有激光光源4。该激光光源4是发射波长约355nm的曝光用的激光束L的脉冲激光光源。并且，在激光光源4的激光束L的行进方向下游侧配置有耦合光学构件12，在扩大激光束L的光束径并使强度分布均匀化之后，能够将平行光向后述的光掩模5照射。需要说明的是，也可以取代激光光源4而使用波长为313nm的水银灯或氙气闪光灯，但在以下的说明中叙述的是曝光用光源为激光光源4的情况。
在上述激光光源4的光轴上设置有光掩模5，该光掩模5与水平挂设在一对引导柱11之间的膜1接近对置。如图2所示，该光掩模5是形成在膜1上的曝光图案的原版，在大致中央部具备掩模图案区域13，该掩模图案区域13形成有与曝光图案对应的掩模图案的开口，在图1中的与同箭头X所示的膜1的移动方向(以下称为“X方向”)交叉的交叉方向(以下称为“Y方向”)平行的掩模图案区域13的中心线上，在该掩模图案区域13外且在上述曝光用激光束L的照射区域14内形成有开口窗15，在该开口窗15设置聚光透镜16而使激光束L会聚到膜1上，在膜1上形成一定形状的伤痕从而能够形成对准标记17(参照图5)。而且，在上述开口窗15的X方向后方，从开口窗15的中心隔开距离D而形成有对准用窗18。这种情况下，开口窗15与对准用窗18的间隔D设定为掩模图案区域13的X方向的宽度W以下(D≤W)。由此，能够将曝光图案沿着X方向连续连结而形成。并且，光掩模5由形成为沿着Y方向能够移动的掩模台19保持。
以使上述光掩模5和膜1沿着Y方向能够相对移动的方式设置对准机构6。该对准机构6用于修正曝光的位置偏移，具备摄像机构20、掩模台驱动机构21。需要说明的是，在图1中，符号29是平面反射镜。
上述摄像机构20对形成在膜1上的上述对准标记17进行拍摄，是CCD相机，且配设成使视野中心与光掩模5的对准用窗18的中心一致。而且，上述掩模台驱动机构21使掩模台19沿着Y方向移动，是将步进电动机与齿轮组合而构成的设备、电磁促动器、直线电动机等。
与上述卷绕电动机10、激光光源4、摄像机构20及掩模台驱动机构21电接线而设置控制机构7。该控制机构7算出因膜1的移动误差引起的上述对准标记17的向Y方向的位置偏移量，为了对其进行修正而使上述光掩模5移动，如图3所示，具备图像处理部22、运算部23、存储器24、电动机驱动控制部25、光源驱动部26、掩模台驱动控制部27、控制部28。
上述图像处理部22对由摄像机构20拍摄到的对准标记17的图像进行处理，检测出例如对准标记17的中心位置。而且，上述运算部23运算对准用窗18的中心(基准位置)与对准标记17的中心之间的位置偏移量。而且，上述存储器24存储上述对准标记17的中心位置和上述运算结果等。而且，上述电动机驱动控制部25进行电动机的旋转速度、驱动及停止的控制。另外，上述光源驱动部26进行激光光源4的电源、振荡频率、点亮及熄灭的控制。此外，上述掩模台驱动控制部27控制掩模台驱动机构21的驱动而控制掩模台19的移动方向及移动量。并且，上述控制部28控制上述各要素的驱动以使装置整体适当地驱动。
接下来，参照图4，说明如此构成的曝光装置的动作及使用该曝光装置进行的曝光方法。
首先，从供给卷轴2将表面涂敷有感光材料的膜1拉出而水平地挂设在一对引导柱11上之后，将前端部固定在卷绕卷轴3的轴上。
在该状态下，在步骤S1中，通过电动机驱动控制部25驱动卷绕电动机10而沿着X方向以一定速度卷绕膜1。
接着，在步骤S2中，驱动光源驱动部26而使激光光源4点亮一定时间，向光掩模5照射曝光用激光束L。该曝光用激光束L通过光掩模5的掩模图案的开口而照射到膜1上，在膜1上使与上述掩模图案对应的图案曝光。同时，上述曝光用激光束L的一部分通过了光掩模5的开口窗15之后，经由聚光透镜16而会聚到膜1上，在膜1上形成一定形状的伤痕而形成对准标记17。
在步骤S3中，当膜1移动距离D而形成在膜1上的上述对准标记17到达光掩模5的对准用窗18的正下方时，利用摄像机构20通过该对准用窗18来拍摄上述对准标记17。该摄像图像在图像处理部22中被进行图像处理，从而检测出对准标记17的中心位置。然后，在运算部23中，运算对准标记17的中心相对于对准用窗18的中心(基准位置)的Y方向的位置偏移量。
在步骤S4中，通过掩模台驱动控制部27驱动掩模台驱动机构21而控制掩模台19的移动方向及移动量，使光掩模5沿着Y方向移动而使上述位置偏移量大致成为0。
在步骤S5中，判定对于膜1的全部的曝光是否结束。在此，在“否”判定时，返回步骤S2而执行下一曝光，同时形成对准标记17。并且，在步骤S5中，在成为“是”判定之前执行步骤S2～S5。由此，在膜1上，如图5所示，图案30沿着X方向连续地接连曝光。
需要说明的是，在上述第一实施方式中，说明了边使膜1连续移动边进行曝光的情况，但也可以进行如下的分步曝光：在膜1每移动距离D时，使膜1暂时停止，在该停止状态下进行位置偏移修正及曝光。由此，能够将图案30沿着膜1的移动方向更高精度地连结。
另外，在上述第一实施方式中，说明了将开口窗15、聚光透镜16及对准用窗18设置在光掩模5的两端部的情况，但也可以仅设置在一方的端部侧。而且，开口窗15及聚光透镜16只要是掩模图案区域13的Y方向的外侧部分即可，也可以设置在与Y方向平行的掩模图案区域13的中心线上以外的任何位置。
此外，在上述第一实施方式中，说明了通过1张光掩模5进行曝光的情况，但也可以沿着X方向先后配置多张光掩模5，将排头侧的光掩模5产生的曝光图案之间利用后续的光掩模5进行插补来曝光。
并且，在上述第一实施方式中，说明了使光掩模5沿着Y方向移动而进行曝光的位置偏移修正的情况，但也可以使膜1侧沿着Y方向移动，还可以使两者移动。
接着，说明本发明的曝光装置的第二实施方式。在此，说明与第一实施方式不同的部分。
在该第二实施方式中，光掩模5是在Y方向上将多个单位掩模以沿着X方向观察下的相邻端部重叠的方式彼此交错地以一定间隔排列而成的结构，还具备单位掩模对准机构，该单位掩模对准机构检测形成在上述各单位掩模的相邻端部上的掩模间对准标记，以各单位掩模的排列间距成为一定值的方式进行各单位掩模的位置调整。
具体而言，上述光掩模5如图6所示在最侧端部的单位掩模31s的靠外端部上设置上述开口窗15、聚光透镜16及对准用窗18，在靠中央端部上形成掩模间对准标记32(由该图中△表示)，在编号2以后的偶数编号排列的各单位掩模31e的该图中的上侧端部，将对应于上述掩模间对准标记32而形成了掩模间对准用窗33的窗用构件34定位并接合在预先设定的位置，且在下侧端部形成与上述相同的掩模间对准标记32，在编号3以后的奇数编号排列的各单位掩模31o的该图中的上侧端部，将对应于上述偶数编号的单位掩模31e上形成的掩模间对准标记32而形成了掩模间对准用窗33的窗用构件34定位并接合在预先设定的位置，且在下侧端部形成与上述相同的掩模间对准标记32，以对应的掩模间对准标记32与掩模间对准用窗33上下重叠的方式排列了各单位掩模31s、31e、31o。这种情况下，对应于各单位掩模31s、31e、31o而设置多个激光光源4。
另外，各单位掩模31s、31e、31o分别通过不同的单位掩模台(图示省略)保持为沿着Y方向能够移动。而且，在上述各窗用构件34的上方分别设有拍摄掩模间对准标记32的相机。并且，通过上述单位掩模台和相机构成单位掩模对准机构。
通过如此构成，在上述第二实施方式中，与第一实施方式同样地，使曝光用激光束L通过最侧端部的单位掩模31s上形成的开口窗15及聚光透镜16而会聚到膜1上，在膜1上形成对准标记17，通过对准用窗18而检测了对准标记17的向Y方向的位置偏移量之后，使最侧端部的单位掩模31s沿着Y方向移动而修正上述位置偏移量。此时，通过上述相机进行拍摄，使编号2以后的各单位掩模31e、31o沿着Y方向移动成使掩模间对准标记32的中心与各掩模间对准用窗33的中心一致，从而将各单位掩模31s、31e、31o的排列间距维持成一定值。
如此根据第二实施方式，通过将尺寸小的单位掩模31s、31e、31o沿着Y方向排列多个，即使对于宽幅的素色的膜1，也能够位置精度良好地使图案曝光。
另外，如图6所示，若将2个掩模间对准标记32及掩模间对准用窗33沿着Y方向排列设置，则根据2个掩模间对准标记32的向X方向的位置偏移量之差而能够计测单位掩模31s、31e、31o的相对于X方向的倾角θ，从而能够修正单位掩模31s、31e、31o的倾斜。由此，能够进一步提高曝光图案的位置精度。这种情况下，单位掩模31s的单位掩模台可以不具备倾斜修正的功能。
而且，在预先增大各单位掩模31的相邻端部的重叠量，且能够计测掩模间对准标记32的向Y方向的移动量时，以位于排列的中央的单位掩模31为中心，使各单位掩模31沿着Y方向分别移动一定量，从而能够扩大曝光区域的宽度。
需要说明的是，在上述第一及第二实施方式中，说明了使从曝光用的激光光源4发射的激光束L会聚到膜1上而形成对准标记17的情况，但本发明并不局限于此，也可以另外设置对准标记专用的激光光源。这种情况下，无需在光掩模5的开口窗15上设置聚光透镜16，而且作为曝光用光源，并不局限于激光光源，也可以是水银灯或氙气灯等。而且，曝光用激光光源4与对准标记专用的激光光源所发射的激光束的波长可以不同。
此外，在上述第一及第二实施方式中，说明了在光掩模5上设置对准用窗18并且在单位掩模31s、31e、31o上设置掩模间对准用窗33的情况，但本发明并不局限于此，也可以取代对准用窗而设置对准标记。
另外，在上述第一及第二实施方式中，说明了将开口窗15、聚光透镜16及对准用窗16设置于光掩模5的情况，但本发明并不局限于此，也可以如图7所示设置在对光掩模5进行定位保持的掩模台19侧。这种情况下，开口窗15既可以如该图(a)所示设置在曝光用激光束L的照射区域14内，也可以如该图(b)所示设置在照射区域14外。在将开口窗15设置在曝光用激光束L的照射区域14内时，可以在开口窗15设置聚光透镜16而将曝光用激光光源4兼用作对准标记17的形成(参照该图(a))。而且，在将开口窗15设置在曝光用激光束L的照射区域14外时，可以具备对准标记17形成用的专用的激光光源。这种情况下，可以没有聚光透镜16(参照该图(b))。
使用了图7所示的掩模台19的曝光如图8所示，在膜1上通过光掩模5的掩模图案而使图案30曝光，另一方面，使激光束通过掩模台19的开口窗15而向Y方向的图案形成区域外照射，在膜1的面上形成一定形状的伤痕而形成对准标记17，检测对准标记17相对于在X方向后方位置上预先设定的基准位置(例如对准用窗18的中心位置)的向Y方向的位置偏移，使掩模台19与光掩模5一体地沿着Y方向移动来修正该位置偏移，接着前一个曝光的图案30而使下一个图案30曝光。通过反复执行上述曝光，而能够使图案30位置精度良好地接连曝光。
并且，在以上的说明中，叙述了基板为膜1的情况，但本发明并不局限于此，基板也可以是板状的构件或印制基板等。
【符号说明】
1...膜(基板)
4...激光光源(曝光用光源)
5...光掩模
6...对准机构
13...掩模图案区域
14...曝光用激光束的照射区域
15...开口窗
16...聚光透镜
17...对准标记
18...对准用窗
30...曝光图案
31、31s、31e、31o...单位掩模
32...掩模间对准标记
L...激光束

Claims (8)

1.一种曝光方法，边使基板沿着一定方向移动，边在所述基板上的图案形成区域经由光掩模而使预先设定的图案依次曝光，
所述曝光方法的特征在于，
执行如下步骤：
在所述基板上使所述图案曝光，另一方面，使激光束向与基板移动方向交叉的交叉方向的所述图案形成区域外照射，在所述基板面形成一定形状的伤痕而形成对准标记的步骤；
检测所述对准标记相对于在所述基板移动方向后方位置预先设定的基准位置的向与基板移动方向交叉的交叉方向的位置偏移的步骤；
使所述基板及所述光掩模相对移动来修正所述位置偏移的步骤；
在先曝光的所述图案的后续位置使下一图案曝光的步骤。
2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，
所述光掩模在与所述基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外形成有开口窗，该开口窗使所述激光束通过而在所述基板上形成所述对准标记，在该开口窗的所述基板移动方向后方位置形成有用于检测所述对准标记的对准用窗。
3.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，
所述光掩模在与所述基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外且在曝光用激光束的照射区域内形成有开口窗，在该开口窗具备聚光透镜，
在利用所述曝光用激光束进行曝光的同时，使该激光束通过所述光掩模的聚光透镜向所述基板照射而形成所述对准标记。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的曝光方法，其特征在于，
所述光掩模是在与所述基板移动方向交叉的交叉方向上将多个单位掩模以彼此交错的方式排列而成的结构，
在所述对准标记的位置偏移修正步骤中，检测形成在所述各单位掩模的相邻端部上的掩模间对准标记，以使各单位掩模的排列间距成为一定值的方式进行各单位掩模的位置调整。
5.一种曝光装置，边使基板沿着一定方向移动，边在所述基板上的图案形成区域经由光掩模而使预先设定的图案依次曝光，
所述曝光装置的特征在于，具备：
在所述基板上经由光掩模照射光源光而进行曝光的曝光用光源；
向所述基板照射激光束，在与基板移动方向交叉的交叉方向的所述图案形成区域外的基板面上形成一定形状的伤痕而形成对准标记的激光光源；
检测所述对准标记相对于在所述基板移动方向后方位置预先设定的基准位置的向与基板移动方向交叉的交叉方向的位置偏移，使所述基板及所述光掩模相对移动来修正该位置偏移，从而修正曝光的位置偏移的对准机构。
6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，
所述光掩模在与所述基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外形成有开口窗，该开口窗使所述激光束通过而在所述基板上形成所述对准标记，在该开口窗的所述基板移动方向后方位置形成有用于检测所述对准标记的对准用窗。
7.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，
所述光掩模在与所述基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外且在曝光用激光束的照射区域内形成有开口窗，在该开口窗具备聚光透镜，
所述曝光用光源和激光光源是发射相同波长的激光束的一个脉冲激光光源，
在利用从所述脉冲激光光源发射的激光束进行曝光的同时，使该激光束通过所述光掩模的聚光透镜向所述基板照射而形成所述对准标记。
8.根据权利要求5～7中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
所述光掩模是在与所述基板移动方向交叉的交叉方向上将多个单位掩模以彼此交错的方式排列而成的结构，
所述曝光装置还具备单位掩模对准机构，该单位掩模对准机构检测形成在所述各单位掩模的相邻端部上的掩模间对准标记，以使各单位掩模的排列间距成为一定值的方式进行各单位掩模的位置调整。
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