CN102825534A - 支撑夹具和制造磁性记录介质用玻璃基板的方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及支撑夹具和制造磁性记录介质用玻璃基板的方法。支撑夹具用于支撑多个磁性记录介质用圆盘形状的玻璃基板，圆盘形状的玻璃基板的中心处具有圆形孔，其中支撑夹具包括支撑轴，支撑轴插入圆形孔内以将所述多个磁性记录介质用玻璃基板的径向方向的位置对齐；并且支撑轴具有150GPa或更大的杨氏模量。

Description

支撑夹具和制造磁性记录介质用玻璃基板的方法

技术领域

本发明涉及用于支撑玻璃基板的支撑夹具及利用支撑夹具制造磁性记录介质用玻璃基板的方法。

背景技术

近年来，随着磁性记录介质的记录密度的增加，对玻璃记录介质所要求的特性变得越来越严格。尤其是，在对中心处具有圆形孔的磁性记录介质用玻璃基板的圆盘形状的玻璃基板的边缘进行抛光的情况下，对玻璃基板的边缘形状和尺寸的质量要求的特性变高。

磁性记录介质用玻璃基板在其制造过程中经受周表面抛光，以便去除在玻璃基板的外周和/或内周侧表面部分和倒角部分上的刮痕和粗糙部并将这些部分精加工成平坦的且光滑的镜面。通过将玻璃基板的侧表面部分和倒角部分精加工成平坦的且光滑的镜面来提高玻璃基板的机械强度。此外，由侧表面部分和倒角部分上的粗糙部所捕捉的异物的数目被减少且由侧表面部分和边缘部分上的粗糙部刮擦盒式磁带的树脂构件而产生的颗粒被减少。

例如通过将支撑夹具插入由将玻璃基板进行叠层而获得的玻璃基板叠层体的圆形孔内、将叠层体安装在周表面抛光机器上并且用抛光刷抛光外周表面来进行玻璃基板的外周表面抛光。在该情形中，专利文献1公开了配备抛光浆料温度控制装置的周表面抛光机器。通过在借助抛光浆料温度控制装置控制抛光浆料温度的同时进行抛光，可以稳定抛光速率且可延长旋转刷的寿命。

[专利文献1]JP-A-2007-98484

发明内容

然而，专利文献1中公开的方法具有如下问题，即在将抛光刷压向玻璃基板叠层体的外周表面的过程中玻璃基板叠层体的支撑夹具翘曲并且在玻璃基板叠层体批次中尺寸精度和内外周同心度不同。

鉴于上述内容，本发明的目的是提供即使将抛光刷压向玻璃基板叠层体的外周表面也不翘曲并且使均匀对玻璃基板叠层体的外周表面进行抛光成为可能的支撑夹具。

根据本发明，提供了一种支撑夹具，用于支撑多个磁性记录介质用圆盘形状的玻璃基板，在圆盘形状的玻璃基板的中心具有圆形孔，其中所述支撑夹具包括支撑轴，所述支撑轴插入所述圆形孔内以将所述多个磁性记录介质用玻璃基板的径向方向的位置对齐；并且所述支撑轴具有150GPa或更大的杨氏模量。

根据本发明，展现出以下效果。

可提供即使将抛光刷压向玻璃基板叠层体的外周表面也不翘曲并且使得均匀地对玻璃基板叠层体的外周表面进行抛光成为可能的支撑夹具。

附图说明

图1是根据本发明的制造玻璃基板的方法、用于解释玻璃基板的构造的透视横截面视图。

图2(a)和2(b)是示出本发明的支撑夹具的一个示例的示意图。

图3(a)和3(b)是用于解释使用图2的支撑夹具保持玻璃基板的状态的示意图。

附图标记说明

1：玻璃基板

2：主表面

3：圆形孔

4：外周表面

5：外周侧表面部分

6：外周倒角部分

7：内周表面

8：内周侧表面部分

9：内周倒角部分

10：支撑夹具

11：支撑轴

12：保持部分

13：固定部分

14：间隔件

15：隔板

具体实施方式

下面参考附图描述根据本发明的实施方式。

描述了由本发明的支撑夹具支撑并经受抛光的磁性记录介质用玻璃基板的构造。图1示出了用于解释玻璃基板的构造的透视横截面视图的示例。在图1中，玻璃基板1具有环形形状，在主表面2的中心处具有圆形孔3。玻璃基板1的外周侧处的侧表面为外周表面4，且圆形孔3的侧表面为内周表面7。外周表面4包括与主表面2成90°角的外周侧表面部分5以及与主表面2和外周侧表面部分5接触的外周倒角部分6。内周表面7包括与主表面2成90°角的内周侧表面部分8以及与主表面2和内周侧表面部分8接触的内周倒角部分9。

[支撑夹具]

下面参考附图详细描述本发明的支撑夹具的构造以及利用支撑夹具对玻璃基板的外周表面进行抛光的方法。

图2(a)和图2(b)示出了根据本发明的支撑夹具10的一个示例的示意图。支撑夹具10包括圆形杆形支撑轴11、在支撑轴11的至少一端处通过螺钉等可移除的保持部分12以及在支撑轴11的另一端处的固定部分13。固定部分13可具有通过螺钉等可移除的结构，与保持部分12类似。图2示出如下结构，在该结构中，在支撑轴11中形成阴螺纹且在保持部分12上形成阳螺纹，但支撑轴11可具有阳螺纹且保持部分12可具有阴螺纹。

关于在支撑夹具10上形成固定部分13的方法，可以通过车床加工等将圆形杆加工成具有固定部分13的支撑轴11。除此之外，首先制备支撑轴11和固定部分13，并且可通过焊接等将支撑轴11和固定部分13结合。

支撑轴11的与保持部分12和固定部分13相反的端部(即，支撑夹具10的两端)通常可具有凸形部以便将支撑夹具10装配在外周表面抛光机器中。

图3(a)和3(b)示出了解释分别使用图2(a)和图2(b)的支撑夹具保持玻璃基板的状态的示意图。而且，图3示出间隔件14已经插入玻璃基板之间的示例，下文将详细描述间隔件14。当使用本发明的支撑夹具10对玻璃基板的外周表面进行抛光时，将支撑轴11插入玻璃基板叠层体的圆形孔内，并且由保持部分12固定(保持)玻璃基板叠层体。在该情形中，隔板15(有时称为垫圈或金属垫圈)比如树脂片优选地被插入保持部分12和玻璃基板叠层体之间。通过插入隔板15可防止对玻璃基板的刮擦。优选地通过叠放具有低摩擦阻力的多种材料来获得隔板使得保持部分12的旋转力不传递到玻璃基板。而且，隔板15可被插入固定部分13和玻璃基板叠层体之间。该插入可防止在玻璃基板的主表面上的刮擦并可改进玻璃基板的保持性能。

可在保持部分12上形成用于使保持部分12旋转的凹槽和突出部。

固定部分13和保持部分12的尺寸不受特别限制。然而，固定部分13和保持部分12的外径优选地与玻璃基板的外径相同或者略小于玻璃基板的外径。在固定部分13和保持部分12的外径大于玻璃基板的外径的情形中，当对外周表面进行抛光时，周表面抛光刷可与固定部分13或保持部分12干涉。

圆形杆形支撑轴11由具有150GPa或更大杨氏模量的材料构成。当圆形杆形支撑轴11的杨氏模量为150GPa或更大时，支撑轴11即使在对玻璃基板的外周表面进行抛光时也不翘曲，并且同一批次中玻璃基板叠层体的全部玻璃基板可得到均匀地抛光。圆形杆形支撑轴11的杨氏模量优选地为170GPa或更大，进一步优选地为180GPa或更大，且特别优选地为190GPa或更大。

使用外加载荷P(N)、支撑轴11在轴方向上的长度L(mm)、支撑轴11的半径r(mm)(横截面半径)和构成材料的杨氏模量E(GPa)通过以下公式(1)来定义柱形支撑轴11在轴方向上在中心处的最大弯曲值δ(μm)。

δ=PL³/(12πr⁴E)         (1)

下面描述关于测量公式(1)的最大弯曲值的方法的一个示例，但是本发明不限于此。在支撑轴11的轴方向上两个边缘内10mm的区域被支撑，通过推拉规等将98N的载荷施加到支撑轴11的轴方向上的中心，并且通过千分表测量中心的移动距离(即，最大弯曲值)。

在本发明的支撑夹具10中，在对支撑轴11施加98N的载荷的情形中弯曲值优选为260μm或更小，更优选为200μm或更小，且进一步优选为150μm或更小。当在对支撑轴11施加98N载荷的情形中使用具有260μm或更小的弯曲值的支撑夹具10时，支撑轴11在对玻璃基板的外周表面进行抛光时不会翘曲，并且同一批次中玻璃基板叠层体中所有的玻璃基板可被均匀地抛光。例如，在同一玻璃基板叠层体批次中的抛光变化可为7μm或更小，由此实现了外周倒角部分和外周侧表面部分的均匀且稳定抛光。

支撑轴11的底部的半径r不受特别限制，只要支撑轴11的杨氏模量为150GPa或更大且支撑轴11的弯曲值δ满足基于公式(1)的上述条件。通常，玻璃基板的圆形孔的直径和支撑轴11的直径之间的差异为5μm至15μm，优选地为5μm至40μm，且进一步优选地为5μm至30μm。

[外周表面的抛光方法]

在对磁性记录介质用玻璃基板的外周表面进行抛光的情形中，多个圆盘形状的玻璃基板通常被叠放，将圆形孔的位置(径向方向)对准，由此形成玻璃基板叠层体。

在该情形中，例如，可将间隔件14插入相邻的圆盘形状的玻璃基板1之间。当插入间隔件14时，刷丝和抛光浆料容易触到主表面2和外周倒角部分6之间的边界，并且因此可进一步均匀地对外周表面4进行抛光。此外，可防止玻璃基板的主表面上的刮擦。通常，在玻璃基板叠层体中，间隔件14的圆形孔的中心和玻璃基板的圆形孔的中心具有相同的中心轴线，并且该中心轴线在与玻璃基板1的主表面2垂直的方向上延伸。

间隔件14的外径优选地略小于由玻璃基板1的主表面2和外周倒角部分6之间的边界形成的直径。当间隔件14的外径略小于由玻璃基板1的主表面2和外周倒角部分6之间的边界形成的直径时，外周倒角部分6的整个表面可被均匀地抛光。

间隔件14的圆形孔的内径优选地与由玻璃基板1的内周侧表面8形成的直径相同。

间隔件14具有优选为0.2mm至0.5mm的厚度。在间隔件14的厚度小于0.2mm的情形中，可能难以均匀地对外周倒角部分6的整个表面进行抛光。另一方面，在间隔件14的厚度超过0.5mm的情形中，玻璃基板叠层体的尺寸增加，这不是优选的。间隔件14的材料不受特别限制，并且例如可使用橡胶、塑料、铝合金、不锈钢等。

包括多个玻璃基板的玻璃基板叠层体由本发明的支撑夹具10保持，并且被布置在常规周表面抛光机器的保持部分中。此后，常规周表面抛光刷的刷丝与玻璃基板的外周侧表面部分5和外周倒角部分6接触。包含研磨料的抛光浆料被供应到玻璃基板的外周侧表面部分5和外周倒角部分6。然后在该状态下使玻璃基板叠层体和周表面抛光刷在相反方向上旋转以进行抛光。

在该情形中，周表面抛光刷可向玻璃基板叠层体按压约1至8mm。而且，周表面抛光刷可在刷插入方向上往复运动以进行抛光。在使周表面抛光刷往复运动的情形中往复运动距离不受特别限制，但是通常为在玻璃基板叠层体的叠层方向上的长度的15%或更多。

在形成玻璃基板叠层体的情形中被叠放的圆盘形状的玻璃基板的数目不受特别限制。被叠放的多个圆盘形状的玻璃基板的数目不受特别限制，且例如100、200或300件玻璃基板可被叠放以形成玻璃基板叠层体。通常，当被叠放的玻璃基板的数目增加时，许多玻璃基板可同时被抛光，且这在经济和效率方面是优选的。

[抛光浆料]

在使用本发明的周表面抛光刷对玻璃基板叠层体进行抛光中抛光浆料不受特别限制。例如，通过将下面描述的研磨料分散在水或水溶性有机溶剂中来获得抛光浆料。根据需要，可向抛光浆料中添加分散剂、pH调节剂、粘度调节剂、螯合剂等。

抛光浆料中包含的研磨料不受特别限制，并且例如，可采用包含研磨料比如稀土氧化物如氧化铈；氧化锆、氧化铝、氧化镁、氧化硅、碳化硅、氧化锰、氧化铁、金刚石、氮化硼和锆石等的抛光浆料。在上述研磨料中，包含氧化铈、氧化锆和氧化铝的研磨料被优选地采用。这些研磨料能够以一种类型单独地使用或可作为两种或更多种的混合物来使用。

研磨料的平均颗粒直径(D50)不受特别限制且通常为0.5μm至5μm，优选地为0.5μm至2μm，更优选地为0.7μm至1.5μm。

[制造磁性记录介质用玻璃基板的方法]

下面描述本发明的制造磁性记录介质用玻璃基板的方法。

本发明的制造磁性记录介质用玻璃基板的方法在于，只要使用本发明的支撑夹具对外周表面进行抛光，其他步骤不受特别限制。

例如，通过以下方法来制造磁性记录介质用玻璃基板，包括：

(1)将玻璃板加工成在玻璃板的中心处具有圆形孔的圆盘形状，之后对内周侧表面和外周侧表面进行倒角以制备玻璃基板(成形步骤)；

(2)对玻璃基板的外周表面进行抛光(外周表面抛光步骤)；

(3)对玻璃基板的内周表面进行抛光(内周表面抛光步骤)；

(4)对玻璃基板的两个(上和下)主表面进行抛光(主表面抛光步骤)；以及

(5)精确地清洁玻璃基板，之后干燥以获得磁性记录介质用玻璃基板(清洁步骤)。

本发明不限于上述方法，而是通过使用本发明的支撑夹具对玻璃基板的外周表面进行抛光来执行(2)外周表面抛光步骤。

可在内周表面抛光步骤(3)之前执行外周表面抛光步骤(2)也可在内周表面抛光步骤(3)之后执行外周表面抛光步骤(2)。而且，可在周表面抛光步骤(2)和(3)之前和之后中至少一个步骤中执行玻璃基板的研磨(例如，主表面的游离研磨料研磨或固定研磨料研磨)，并且可在各个步骤之间执行玻璃基板的清洁(过程中清洁)和玻璃基板表面的蚀刻(过程中蚀刻)。在宽泛的术语意思中，此处使用的“主表面的研磨”指主表面的抛光。

抛光步骤可仅进行一次抛光，可进行一次抛光和二次抛光两者，并且可在二次抛光之后进行三次抛光。

在本发明中，磁性记录介质用玻璃基板可为非晶玻璃，可为晶化玻璃，且可为在玻璃基板的表面层上具有强化层的强化玻璃(例如，化学强化玻璃)。作为一个示例，在其中在磁性记录介质用玻璃基板中需要高的机械强度的情形中，执行在玻璃基板的表面层上形成强化层的强化步骤(例如，化学强化步骤)。可在第一抛光步骤之前、在最后抛光步骤之后或在各个抛光步骤之间执行强化步骤。通过诸如浮动处理、熔融处理、重拉拔处理或压制形成处理的方法来制备本发明的玻璃基板用玻璃板，但是本发明在这方面不受限制。

作为一个示例，下面描述内周侧表面抛光步骤(3)、主表面抛光步骤(4)和清洁步骤(5)，但是本发明不限于此。

通常使用具有固定至其的金刚石研磨料的磨石来进行内周(和外周)侧表面倒角(1)。在该情形中，在侧表面部分和倒角部分上产生了损坏层(刮擦等)。为此，在内周表面抛光步骤(3)中，在玻璃基板的内周侧表面和内周倒角部分上的损坏层被去除并处理以便形成镜面。在内周表面抛光步骤(3)中去除量不足的情形中，损坏层不被完全去除，且保留在内周侧表面部分和内周倒角部分上。保留在内周侧表面部分和内周倒角部分上的损坏层导致诸如玻璃基板机械强度减小和玻璃基板主表面上杂质缺陷增加的问题，并且当形成磁盘时产生劣势。为此，必须确保进行内周侧表面部分和内周倒角部分的抛光以确保去除损坏层。

可使用例如抛光刷和包含研磨料的抛光浆料来执行抛光内周表面抛光步骤(3)。抛光浆料中包含的研磨料不受特别限制。可采用包含研磨料比如稀土氧化物如氧化铈；氧化锆、氧化铝、氧化镁、氧化硅、碳化硅、氧化锰、氧化铁、金刚石、氮化硼和锆石的抛光浆料。在上述研磨料中，包含氧化铈、氧化锆、氧化铝和锆石的研磨料被优选地采用。这些研磨料能够以一种类型单独地使用或可作为两种或更多种的混合物来使用。

研磨料的平均颗粒直径(D50)不受特别限制且通常为0.5μm至5μm，优选地为0.5μm至2μm，更优选地为0.7μm至1.5μm。在内周表面抛光步骤之后，通过清洁来去除氧化铈且使玻璃基板经受下一步骤。

主表面抛光步骤可由双面抛光机器使用例如硬质聚氨酯垫作为抛光工具和包含氧化铈研磨料的抛光浆料来执行对上主表面和下主表面的抛光。而且，可由双面抛光机器使用例如软质聚氨酯垫作为抛光工具和包含氧化铈研磨料的抛光浆料(可采用具有比上述氧化铈研磨料的平均颗粒直径小的平均颗粒直径的氧化铈研磨料)来执行对上主表面和下主表面的抛光。此外，通过由双面抛光机器使用软质聚氨酯作为抛光工具和包含具有约20至约30nm主颗粒直径的平均颗粒直径的硅胶作为主要成分的抛光浆料组分来执行对上主表面和下主表面的最终抛光。

在清洁步骤(5)中，在最终抛光之后玻璃基板接着经受使用洗涤剂的擦洗清洁，在将玻璃基板浸入洗涤剂溶液中的状态下的超声清洁，以及在将玻璃基板浸入纯水中的状态下的超声清洁，以及随后通过异丙醇等的蒸汽来干燥。

将底层、磁性层、保护层、润滑层等的层叠层在由上述方法获得的磁性记录介质用玻璃基板上，由此可产生磁盘。每层的叠层方法等可适当地使用常规方法。磁盘的尺寸不受特别限制。可制造具有各种尺寸的磁盘，例如，0.85英寸的磁盘(内径：6mm，外径：21.6mm和板厚度：0.381mm)，1.0英寸磁盘(内径：7mm，外径：27.4mm和板厚度：0.381mm)，1.8英寸磁盘(内径：12mm，外径：48mm和板厚度：0.508mm)和2.5英寸磁盘(内径：20mm，外径：65mm和板厚度：0.635mm和0.8mm)。

实施例

(实施例1)

参考实施例和比较例在下面进一步描述本发明，但是本发明不限于此。

在实施例和比较例中在外周表面抛光中使用的支撑轴的最大弯曲值为通过支撑在支撑轴的轴方向上在两个边缘内支撑10mm的区域、通过推拉规对支撑轴的中心施加98N载荷并且通过千分表测量支撑轴的中心的移动距离而获得的值。

包含具有1.4μm平均颗粒尺寸的氧化铈研磨料作为主成分并且具有调整到1.3的比重的抛光浆料被用作该抛光浆料。下面描述详细的抛光程序。

通过浮动处理形成的包含SiO₂作为主要成分的玻璃板被加工成圆盘形状以便获得具有65mm外径、20mm内径和0.635mm板厚度的磁性记录介质用玻璃基板。

对在其中心具有圆形孔的圆盘形状的玻璃基板的内周侧表面和外周侧表面进行倒角使得当磁性记录介质用玻璃基板已经被形成为最终产品时倒角宽度为0.15mm且倒角角度为45°。此后，使用氧化铝研磨料(平均颗粒尺寸：7至7.5μm)来磨光(研磨)玻璃基板的上主表面和下主表面，并且随后通过清洁来去除研磨料。

使用支撑夹具对玻璃基板进行叠层以形成玻璃基板叠层体。在该情形中，在玻璃基板之间插入具有0.4mm厚的树脂间隔件。总共200件玻璃板被叠放以形成玻璃基板叠层体。

所用支撑夹具的支撑轴的杨氏模量为206GPa且支撑轴的最大弯曲值为130μm。而且，所用支撑轴具有470mm的长度。

所获得的玻璃基板叠层体被插入用于外周表面抛光的夹具并通过从玻璃基板叠层体的上方向和下方向紧固来固定所获得的玻璃基板叠层体。将玻璃基板叠层体放置在外周表面抛光机器的待抛光材料的保持部分中。使周表面抛光刷与玻璃基板叠层体的外周侧表面部分和外倒角部分接触，并且将周表面抛光刷进一步压向玻璃基板叠层体的外周侧表面部分和外倒角部分给定的量。

将上面获得的抛光浆料供应到玻璃基板叠层体的外周表面部分，且使抛光刷和玻璃基板叠层体在相反方向上旋转，并且在进一步使周表面抛光刷在玻璃基板叠层体的叠层方向上振荡的同时进行抛光。

在本实施例中，抛光浆料被设定为10至15L/min，抛光刷的旋转速度被设定为300rpm，抛光刷在支撑轴方向上的振荡速率被设定为3至5rpm(每1分钟往复3至5次)，玻璃基板叠层体的旋转速度被设定为75至90rpm，且抛光被进行直到外周侧表面部分的去除量达到40μm。

在外周表面抛光之后，从外周表面抛光机器去除玻璃基板叠层体，并且将玻璃基板从玻璃基板叠层体分成每个玻璃基板。所分离的玻璃基板被清洁以去除研磨料，且随后经受以下的评估方法。

(实施例2)

以与实施例1相同的步骤进行抛光，除使用具有199GPa的支撑轴杨氏模量和140μm的支撑轴最大弯曲值的支撑夹具之外。

(实施例3)

以与实施例1相同的步骤进行抛光，除使用具有199GPa的支撑轴杨氏模量和60μm的支撑轴最大弯曲值的支撑夹具以及350mm的支撑轴长度，叠放100件玻璃基板以形成玻璃基板并且抛光刷旋转速度为800rpm之外。

(比较例1)

以与实施例1相同的步骤进行抛光，除使用具有101GPa的支撑轴杨氏模量和270μm的支撑轴最大弯曲值的支撑夹具之外。

(比较例2)

以与实施例1相同的步骤进行抛光，除使用具有69GPa的支撑轴杨氏模量和390μm的支撑轴最大弯曲值的支撑夹具之外。

[评估]

(去除量差异)

对周表面抛光之前的玻璃基板和周表面抛光之后获得的玻璃基板进行清洁和干燥，并且使用高精度二维尺寸测量仪器(由Keyence制造，产品名：VM8040)测量去除量。具体地，周表面抛光之前和之后的玻璃基板之间的外径差异被定义为去除量。

同一批次中玻璃基板叠层体被大致分类为上部分、中间部分和下部分，从所分类的每个部分中随机抽取三个玻璃基板，测量去除量，并且将最大值和最小值之间的差异定义为同一批次中去除量的差异。

(凹坑缺陷数目)

使用包含氢氟酸和硝酸的酸性蚀刻溶液使抛光之后的玻璃基板的外周表面在玻璃基板深度方向上经受5μm蚀刻。蚀刻可将损坏层(刮擦等)转变成容易观察的凹坑缺陷。此后，进行清洁和干燥。最后，将玻璃基板切割成可容易评估凹坑缺陷数目的尺寸。因此，制备了用于观察包括外周侧表面部分5和外周倒角部分6的凹坑缺陷数目的样品。

使用光学显微镜(由奥林巴斯公司制造的，明场反射光金相显微镜BX60M)对凹坑缺陷数目进行计数并对凹坑缺陷数目进行评估。每个观察样品被固定到样品台并固定成使得外周侧表面部分5和外周倒角部分6的面平行于光学显微镜的物镜的透镜表面。使用具有20放大倍数的物镜的光学显微镜，观察视野为480μm×328μm，且统计具有10μm或更大直径的圆形或椭圆形凹坑数目。计算通过由测量的凹坑缺陷数目除以观察面积而获得的数值。

将同一批次中玻璃基板叠层体大致分类为上部分、中间部分和下部分，从每个所分类的部分中随机抽取三个玻璃基板，通过上述方法测量凹坑缺陷，并且将数值平均值作为凹坑缺陷数目。通常，在所测量的所有玻璃基板中，其中凹坑缺陷值小于5缺陷/mm²的抛光方法是优选的，并且包括具有5缺陷/mm²或更大凹坑缺陷值的玻璃基板的抛光方法不是优选的。

[表1]

本发明的支撑夹具具有150GPa或更大的杨氏模量，且因此可以均匀地且稳定地对同一批次中玻璃基板叠层体的所有玻璃基板中的外周倒角部分和外周侧表面部分进行抛光。

尽管已经参考本发明的具体实施方式详细描述了本发明，但是本领域技术人员将明白，在不偏离本发明的精神和范围的情况下可在其中做出各种改变和修改。

附带地，本申请基于2011年6月13日提交的日本专利申请JP2011-130993且内容通过引用并入此处。

而且，本文引用的所有文献整体并入。

Claims (4)

1.一种支撑夹具，用于支撑多个磁性记录介质用圆盘形状的玻璃基板，在所述磁性记录介质用圆盘形状的玻璃基板的中心处具有圆形孔，

其中所述支撑夹具包括支撑轴，所述支撑轴插入所述圆形孔内，以将所述多个磁性记录介质用玻璃基板在径向方向上的位置对齐；并且

所述支撑轴具有150GPa或更大的杨氏模量。

2.根据权利要求1所述的支撑夹具，其中当对所述支撑轴施加98N的载荷时，所述支撑轴具有260μm或更小的最大弯曲值。

3.一种制造磁性记录介质用玻璃基板的方法，所述方法包括：

形成圆盘形状的玻璃基板的成形步骤，所述圆盘形状的玻璃基板具有内周侧表面、外周侧表面和主表面，并且在所述圆盘形状的玻璃基板的中心处具有圆形孔；

在所述玻璃基板的所述外周侧表面和所述主表面的交叉处形成外周倒角部分的外周倒角步骤；

对所述外周侧表面和所述外周倒角部分进行抛光的外周表面抛光步骤；以及

对所述玻璃基板的所述主表面进行抛光的主表面抛光步骤，

其中所述外周表面抛光步骤包括：

将具有杨氏模量为150Gpa以上的支撑轴的支撑夹具的所述支撑轴插入多个所述玻璃基板的所述圆形孔内，将所述玻璃基板的径向方向上的位置对齐，由此在所述支撑夹具上形成玻璃基板叠层体；以及

在将包含游离研磨料的抛光浆料供应到所述玻璃基板叠层体的所述外周侧表面和所述外周倒角部分的同时通过在使抛光刷旋转的状态下使所述抛光刷与所述外周侧表面部分及所述外周倒角部分接触来对所述外周侧表面和所述外周倒角部分进行抛光的步骤。

4.根据权利要求3所述的制造磁性记录介质用玻璃基板的方法，其中当对所述支撑轴施加98N的载荷时，所述支撑轴具有260μm或更小的最大弯曲值。

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