CN101542605A - 记录介质用玻璃基板的制造方法、记录介质用玻璃基板、记录介质及保持夹具 - Google Patents

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Abstract

本发明提供在化学强化中抑制异物对玻璃基板的附着且高效的玻璃基板的制造方法。因此，在包括在将玻璃基板保持于保持夹具的状态下浸渍于化学强化液而将所述玻璃基板表面的碱金属离子置换为所述化学强化液所含的离子直径比所述碱金属离子大的碱金属离子的化学强化工序的记录介质用玻璃基板的制造方法中，所述保持夹具由以具有碱金属元素的金属为材料的构件构成，或者自最初开始用于所述化学强化工序时起具备覆盖该保持夹具的表面的具有碱金属元素的金属膜。

Description

记录介质用玻璃基板的制造方法、记录介质用玻璃基板、记录介质及保持夹具
技术领域
本发明涉及记录介质用玻璃基板的制造方法、记录介质用玻璃基板、记录介质及保持夹具。
背景技术
目前，作为记录介质用基板，台式电脑和服务器等固定型信息设备中采用铝合金，笔记本电脑和便携式电脑等便携型信息设备中一般采用玻璃基板。铝合金容易变形，且硬度不足，因此研磨后的基板表面的平滑性并不理想。另外，还存在记录用磁头与磁盘机械接触时磁性膜容易从基板剥离的问题。于是，预测变形少、平滑性良好且机械强度大的玻璃基板今后将不仅用于便携型信息设备中，在固定型信息设备和其它电视等家庭用设备中也会逐渐被广泛地采用。
对于如上所述被预测今后会增加的玻璃基板，为了使机械强度提高而使其耐受装入磁盘驱动器使用时的冲击，一直以来广泛地实施化学强化处理。该化学强化处理是如下的处理：通过使玻璃基板浸渍于存积在化学强化处理槽内的化学强化液中，将玻璃基板表面的碱金属离子置换为离子直径比该碱金属离子大的碱金属离子，从而使其产生压缩应变，使机械强度提高。
此外，磁盘高记录密度化的需求增加，目前为了满足该需求而极力地降低记录磁头的飞高(flying height)。因此，现在比以往更加需要玻璃基板的高平坦度，减小表面粗糙度。因此，不仅是高精度的研磨，使异物不附着于研磨后的玻璃基板的表面而产生突起也成为重要的课题。
为了抑制异物对玻璃基板的表面的附着，例如有如下的方法。(1)使作为化学强化盐的硝酸钠和硝酸钾溶解于超纯水，通过液体用滤器除去颗粒(异物)后，制成化学强化液(参照专利文献1)。其中，对于包括氧化铁、SUS的铁的颗粒的除去具有显著的效果。
(2)以在化学强化液的加热温度的高温区域内具有耐蚀性的不锈钢合金构成化学强化槽的至少与化学强化液接触的壁面和/或保持玻璃基板的保持装置(参照专利文献2)。
专利文献1：日本专利特开2000-203888号公报(第8页)
专利文献2：日本专利特开平10-198954号公报
发明的揭示
然而，即使根据专利文献1从加入至化学强化槽的化学强化液中除去颗粒，也会自加入化学强化液的化学强化槽和保持玻璃基板的浸渍于化学强化液的保持夹具产生异物，无法期待预先进行的颗粒除去的效果充分。此外，化学强化液的更换、追加供给等中的采用液体用滤器的颗粒除去是烦杂的操作。此外，根据专利文献2，其中使用不锈钢合金，具体可例举马氏体类或奥氏体类不锈钢合金。马氏体类不锈钢合金是含大量Fe的Cr类的合金，而奥氏体类不锈钢合金是Cr-Ni类合金。因此，由于浸渍于高温的化学强化液中，很多这些不锈钢合金所含的Fe、Cr、Ni主要溶出到化学强化液中而形成异物，化学强化液中的这些异物附着于玻璃基板，完全可以预想到会产生无法高效地获得良好的玻璃基板的问题。
本发明是鉴于上述的问题而完成的发明，其目的在于提供在化学强化中抑制异物对玻璃基板的附着且高效的玻璃基板的制造方法、通过该制造方法制成的记录介质用玻璃基板、采用该记录介质用玻璃基板的记录介质及保持夹具。
上述的课题通过以下的构成得以解决。
1.记录介质用玻璃基板的制造方法，该方法是包括在将玻璃基板保持于保持夹具的状态下浸渍于化学强化液而将所述玻璃基板表面的碱金属离子置换为所述化学强化液所含的离子直径比所述碱金属离子大的碱金属离子的化学强化工序的记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述保持夹具由以具有碱金属元素的金属为材料的构件构成。
2.记录介质用玻璃基板的制造方法，该方法是包括在将玻璃基板保持于保持夹具的状态下浸渍于化学强化液而将所述玻璃基板表面的碱金属离子置换为所述化学强化液所含的离子直径比所述碱金属离子大的碱金属离子的化学强化工序的记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述保持夹具自最初开始用于所述化学强化工序时起具备覆盖该保持夹具的表面的具有碱金属元素的金属膜。
3.如2所述的记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述金属膜是浸渍于化学强化液而形成的金属膜。
4.如2或3所述的记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述金属膜的厚度为0.05μm～10μm。
5.记录介质用玻璃基板，其特征在于，通过1～4中的任一项所述的记录介质用玻璃基板的制造方法制成。
6.记录介质，其特征在于，在5所述的记录介质用玻璃基板的表面具有磁性膜。
7.保持夹具，它是在将玻璃基板浸渍于化学强化液而将所述玻璃基板表面的碱金属离子置换为所述化学强化液所含的离子直径比所述碱金属离子大的碱金属离子的化学强化工序中保持所述玻璃基板的保持夹具，其特征在于，所述保持夹具由以具有碱金属元素的金属为材料的构件构成。
8.保持夹具，它是在将玻璃基板浸渍于化学强化液而将所述玻璃基板表面的碱金属离子置换为所述化学强化液所含的离子直径比所述碱金属离子大的碱金属离子的化学强化工序中保持所述玻璃基板的保持夹具，其特征在于，所述保持夹具自最初开始用于所述化学强化工序时起具备覆盖该保持夹具的表面的具有碱金属元素的金属膜。
9.如8所述的保持夹具，其特征在于，所述金属膜是浸渍于化学强化液而形成的金属膜。
10.如8或9所述的保持夹具，其特征在于，所述金属膜的厚度为0.05μm～10μm。
如果采用本发明，保持夹具由以具有碱金属元素的金属为材料的构件构成，或者自最初开始用于化学强化工序时起具备覆盖该保持夹具的表面的具有碱金属元素的金属膜，因此保持夹具的表面为具有碱金属元素的金属。所以，保持夹具的表面的金属为与化学强化液所含的金属相同的碱金属，形成保持夹具的金属所具有的物质向化学强化液的溶出被抑制，因而化学强化液中的异物的产生被抑制。因此，可以抑制化学强化液的异物导致的污染，抑制化学强化液寿命的下降。此外，同时保持夹具的劣化得到抑制，耐久性提高。
因此，可以提供在化学强化中抑制异物对玻璃基板的附着且高效的玻璃基板的制造方法、通过该制造方法制成的记录介质用玻璃基板、采用该记录介质用玻璃基板的记录介质及保持夹具。
附图的简单说明
图1是表示记录介质用玻璃基板的制造工序的例子的流程图。
图2是表示图1中的化学强化工序的内容的流程图。
图3(a)是收纳并保持玻璃基板的保持夹具的一例的俯视图，图3(b)是收纳并保持玻璃基板的保持夹具的一例的剖视图。
图4是包括磁盘的部分截面的立体图。
符号的说明
1：记录介质用玻璃基板，2：磁性膜，D：磁盘，30：保持夹具，31：玻璃基板，32：支柱，34：V形沟，36：连结构件。
实施发明的最佳方式
基于图示的实施方式对本发明进行说明，但本发明并不局限于该实施方式。
(制造工序)
以下，对记录介质用玻璃基板的制造方法进行说明。图1中以流程图表示记录介质用玻璃基板的制造工序的例子。首先，将玻璃原材料熔融(玻璃熔融工序)，将熔融玻璃倒入下模，通过上模进行冲压成形而获得圆盘状的玻璃基板前体(冲压成形工序)。还有，圆盘状的玻璃基板前体也可以不采用冲压成形，例如可以用砂轮切割通过下引(down draw)法或浮法形成的玻璃片而制成。
对于冲压成形而得的玻璃基板前体，根据需要通过取芯钻等在中心部开孔(取芯工序)。然后，在第一研磨工序中，研磨加工玻璃基板的两表面，预调整玻璃基板的整体形状，即玻璃基板的平行度、平坦度和厚度。
接着，磨削玻璃基板的外周端面和内周端面而倒角，微调玻璃基板的外径尺寸和圆度、孔的内径尺寸以及玻璃基板和孔的同心度后(内·外径加工工序)，研磨玻璃基板的内周端面而除去微细的损伤等(内周端面加工工序)。
接着，再次研磨加工玻璃基板的两表面，微调玻璃基板的平行度、平坦度和厚度(第二研磨工序)。然后，研磨玻璃基板的外周端面而除去微细的损伤等(外周端面加工工序)。
接着，清洗玻璃基板后，将玻璃基板浸渍于后述的化学强化液中而在玻璃基板上形成化学强化层(化学强化工序)。然后，进行对玻璃基板的表面精密地实施精加工的研磨加工(抛光工序)。然后，进行清洗和检查，完成作为制品的记录介质用玻璃基板。还有，虽然在形成化学强化层的化学强化工序后有进行研磨加工的抛光工序，但该研磨加工前后的玻璃基板的强度几乎不变。
上述的化学强化工序的内容示于图2的流程图。清洗后的玻璃基板预先加热(预热步骤)后，浸渍于化学强化液(化学强化液浸渍步骤)。从化学强化液中取出的玻璃基板用水清洗(水浸渍步骤)，干燥(干燥步骤)。
化学强化工序中，实际实施一系列自预热步骤至干燥步骤的各步骤时，例如如下进行。首先，准备保持有数块玻璃基板的保持夹具，将玻璃基板与保持夹具一起依次投入预热炉，浸渍于化学强化液槽，浸渍于清洗槽，投入干燥炉，从而进行化学强化的一系列处理。
保持多块玻璃基板的保持夹具的例子示于图3。图3(a)是从收纳玻璃基板31的一侧观察保持夹具30的图(俯视图)。图3(b)是保持夹具30的剖视图，表示设有V形沟34的支柱32保持玻璃基板31的状态。图3的保持夹具30是将在玻璃基板31的排列方向上等间隔地形成有多个V形沟34的3根支柱32在其两端面以连结构件36连结而构成。该保持夹具30中，在支柱32的延伸方向上排列多块玻璃基板，各玻璃基板通过3根支柱32的位于同一平面内的V形沟34三点支承而保持。
V形沟34的底部较好是具备玻璃基板的端面以面接触的平坦部分。通过玻璃基板的端面与平坦部分接触，在沟部分不易发生卡合导致的崩刃。此外，支柱32的根数不限定于3根，但由于与玻璃基板接触的部分少且可以稳定地保持，较好是采用3根。
保持夹具由以具有碱金属元素的金属为材料的构件构成，或者保持夹具自最初开始用于化学强化工序时起具备覆盖该保持夹具的表面的具有碱金属元素的金属膜，因此保持夹具的表面为具有碱金属元素的金属。如果使用由这样的金属形成的保持夹具进行玻璃基板的化学强化，则可以抑制化学强化液的异物导致的污染，抑制化学强化液寿命的下降。当然，可以不仅是保持夹具的表面，也可以其本身就采用具有碱金属元素的金属。此外，保持夹具的劣化得到抑制，耐久性提高。产生这些效果的理由尚不清楚，但推测如下。将保持有玻璃基板的保持夹具浸渍于化学强化液中时，与不同的物质间相比，由于同为碱金属，化学强化液和形成保持夹具的金属的高温下的化学作用得到抑制。因此，形成保持夹具的金属所具有的物质向化学强化液的溶出被抑制。由于该溶出得到抑制，所以化学强化液中的溶出物质导致的异物的产生被抑制。推测藉此可抑制化学强化液的异物导致的污染，抑制化学强化液寿命的下降，且保持夹具的劣化也得到抑制。
作为具有碱金属元素的金属，可以例举例如Li-Al合金、Li-Al-Ni合金、Li-Al-Mn合金等，可以使用这些材料构成保持夹具。此外，形成保持夹具的构件本身不具有碱金属元素的情况下，可以采用以下的方法。首先，以工具钢、纯铁、纯铝、纯钛、钛合金、镁合金、锆、镍铬铁耐热耐蚀合金HX(耐热特种钢)、镍、SUS304、SUS329、SUS410、SUS430等金属为基材，使用其中的任一种基材加工成构成保持夹具的构件的形状。在选择基材时，较好是考虑金属的热膨胀系数，从而抑制保持夹具的热变形。这些基材中，更好是以本身具有高耐蚀性且耐化学性良好的SUS304为基材。接着，使用上述的基材加工构成保持夹具的各构件，完成组装。
然后，将完成组装的保持夹具充分清洗后，浸渍于实际在玻璃基板的化学强化时浸渍的化学强化液，例如以质量比1∶9的比例配制NaNO3和KNO3而得的加热至例如360℃的化学强化液。由此，使化学强化液和形成构成保持夹具的各构件的金属接触，使碱金属盐附着于构成保持夹具的各构件。然后，将保持夹具浸渍于水中清洗，干燥。
发明人观察构成该保持夹具的金属构件的表面后发现，金属构件的表面并不是容易溶解于水的碱金属盐以结晶状态附着的状态，金属构件的表面呈现碱金属通过某种反应固着于金属构件而形成膜的状态。下面，将在金属构件的表面形成具有碱金属元素的金属膜的处理称为被覆处理。还有，上述中在将保持夹具组装完成后进行被覆处理，但也可以在组装前的构成保持夹具的部件状态下进行被覆处理。此外，进行被覆处理的化学强化液较好是采用实际使用保持夹具的化学强化液，只要是可用于玻璃基板的化学强化的含碱金属离子的化学强化液即可，对其没有特别限定。
被覆处理较好是在比实际在化学强化工序中使用的化学强化液的温度高20℃以上的温度下进行。不足20℃时，化学强化工序中的化学强化液浸渍中发生保持夹具的表面的化学反应，保持夹具表面的品质慢慢发生变化，无法稳定地进行玻璃基板的化学强化。
通过被覆处理形成的金属膜的膜厚较好是0.05μm～10μm。通过采用这样的膜厚，可防止保持夹具引起的异物产生、污染，因此可以提高保持夹具的表面硬度并防止化学强化液浸渍中的劣化。该膜厚不足0.05μm时，表面硬度的提高不充分，无法防止化学强化液浸渍中的劣化。该膜厚超过10μm时，夹具因金属膜自身的应力而发生变形，变得无法使用。
还有，构成保持夹具的各构件本身是具有碱金属元素的金属的情况下，可以不进行上述的在化学强化液中的浸渍，但通过进行浸渍，可更有效地抑制形成保持夹具的金属所具有的物质向化学强化液的溶出。
通过在化学强化工序中使用如上所述准备的保持夹具进行玻璃基板的化学强化，保持夹具可交替地反复进行化学强化液和水的浸渍。发明人观察了反复进行20次化学强化工序后的保持夹具，结果未发现碱金属增厚而从原来的金属表面剥离的状态。由此推测，保持夹具的表面的碱金属在反复进行的化学强化工序中其厚度不会增加，维持适度的厚度。作为达到适度的厚度的理由，推测是由于固着于构成保持夹具的金属构件的碱金属的厚度增加到一定程度后，浸渍于化学强化液时碱金属以盐的结晶状态附着，而结晶状态的碱金属盐在之后的水浸渍工序中被除去。
因此，如果使用由以具有碱金属元素的金属为材料的构件构成或者自最初开始用于化学强化工序时起具备覆盖表面的具有碱金属元素的金属膜的保持夹具来进行玻璃基板的化学强化，则可以抑制污染化学强化液的金属物质从保持夹具溶出，因而异物对玻璃基板的附着得到抑制，可以获得良好的玻璃基板。另外，因为形成保持夹具的金属物质的溶出得到抑制，所以保持夹具的耐久性提高。因此，可以降低保持夹具的更换频率，能够使玻璃基板的制造效率提高。
还有，这里围绕玻璃基板的保持夹具进行了说明，但本发明也可用于构成存积化学强化液的化学强化处理槽内与化学强化液接触的壁面的构件。
(化学强化液浸渍步骤)
化学强化液浸渍步骤中，使玻璃基板浸渍于将化学强化剂熔融而得的化学强化液中，将玻璃基板表层的碱金属离子离子交换为化学强化液的碱金属离子。
作为化学强化剂，可以使用目前公知的化学强化剂，可以例举例如硝酸钾(KNO3)、硝酸钠(NaNO3)、碳酸钾(K2CO3)等，它们可以单独使用或2种以上混合使用。
化学强化剂投入规定量到化学强化处理槽中，通过加热而熔融，形成化学强化液。从离子交换速度和玻璃基板的Tg(玻璃化温度)等角度来看，化学强化液的加热温度较好是在280℃～660℃的范围内，更好是在300℃～450℃的范围内。通过使其高温侧(上限值)在比玻璃化温度Tg低300℃～450℃的范围内，离子交换的反应速度不会过慢，且不会对玻璃基板的形状产生影响。
将玻璃基板浸渍于化学强化液中的时间较好是在0.1小时～数十小时的范围内。此外，如本例所示，较好是在将玻璃基板浸渍于化学强化液前预先加热。如果将玻璃基板预先加热，则浸渍于化学强化液中时，化学强化液的温度不会过低，可以高效地进行化学强化。
作为通过将玻璃基板表层的碱金属离子离子交换为化学强化液的碱金属离子而形成的化学强化层的厚度，从兼顾玻璃基板的强度提高和抛光工序的时间的缩短的角度来看，较好是在5μm～15μm左右的范围内。
(水浸渍步骤)
将玻璃基板浸渍于化学强化液后，紧接着为了均匀地除去玻璃基板表面的化学强化液而浸渍于水中。通过将玻璃基板整体浸渍于水中，化学强化液不会部分存在于玻璃基板上，不会局部地发生化学强化。因此，化学强化均匀，所以可以使玻璃基板具有同样的强度。
浸渍的水的温度越高，就可以在越短的时间内高效地从玻璃基板表面除去化学强化液和形成化学强化液的盐的结晶物。这样的水的温度在大气压下较好是35℃～100℃。此外，将玻璃基板浸渍于水中的时间较好是1秒以上。如果不足1秒，则无法充分除去玻璃基板上的化学强化液，因此化学强化液残留在玻璃基板上，产生强化偏差。浸渍于水中的时间的上限没有特别限定，考虑生产性适当决定即可。
此外，为了缓解水的温度和化学强化液的温度差而使玻璃基板不在水浸渍步骤中因温度差而产生裂缝、破裂，可以在化学强化液浸渍步骤和水浸渍步骤之间设置冷却玻璃基板的冷却步骤。
(玻璃基板)
作为被化学强化的玻璃基板，没有特别限定，可以使用以二氧化硅、氧化钠、氧化钙为主要成分的钠钙玻璃，以二氧化硅、氧化铝、R2O(R＝K、Na、Li)为主要成分的铝硅酸盐玻璃，硼硅酸盐玻璃，氧化锂-二氧化硅类玻璃，氧化锂-氧化铝-二氧化硅类玻璃，R’O-氧化铝-二氧化硅类玻璃(R’＝Mg、Ca、Sr或Ba)；可以是在这些玻璃材料中添加了氧化锆或氧化钛等的材料。
此外，对玻璃基板的尺寸没有限定，本发明的方法也可以用于2.5英寸、1.8英寸、1英寸、0.85英寸或更小的小直径盘，还可以用于其厚度为2mm、1mm、0.63mm或更薄的薄型盘。
对于供于化学强化工序的玻璃基板，对主表面和端面部分的粗糙度没有特别限定，但玻璃基板的主表面的表面粗糙度较好是Rmax(最大高度)在10nm以下，Ra(中心线平均粗糙度)在1.0nm以下。此外，端面的表面粗糙度较好是Rmax在0.01μm～1μm的范围内，Ra在0.001μm～0.8μm的范围内。如果对经表面研磨的玻璃基板进行化学强化，则可以均匀地形成强化层。
(记录介质)
下面，对采用以上说明的记录介质用玻璃基板的记录介质进行说明。如果使用该记录介质用玻璃基板，则可实现耐久性和高记录密度。以下，基于附图对记录介质进行说明。
图4是磁盘的立体图。该磁盘D在圆形的记录介质用玻璃基板1的表面直接形成有磁性膜2。作为磁性膜2的形成方法，可以使用目前公知的方法，可以例举例如将分散有磁性粒子的热固性树脂旋涂于基板上而形成的方法、通过溅射或无电解镀覆形成的方法等。采用旋涂法的膜厚为约0.3μm～1.2μm左右，采用溅射法的膜厚为0.04μm～0.08μm左右，采用无电解镀覆法的膜厚为0.05μm～0.1μm左右，从薄膜化和高密度化的角度来看，较好是采用溅射法和无电解镀覆法的膜形成。
作为用于磁性膜的磁性材料，没有特别限定，可以使用目前公知的材料，较好是为了获得高顽磁力而以结晶各向异性高的Co为基础且为了调整剩余磁通密度而添加有Ni或Cr的Co类合金等。具体来说，可以例举以Co为主要成分的CoPt、CoCr、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCr、CoNiPt、CoNiCrPt、CoNiCrTa、CoCrPtTa、CoCrPtB、CoCrPtSiO等。磁性膜可以采用以非磁性膜(例如Cr、CrMo、CrV等)分隔的实现了噪音的降低的多层结构(例如CoPtCr/CrMo/CoPtCr、CoCrPtTa/CrMo/CoCrPtTa等)。除了上述的磁性材料之外，还可以是铁氧体类、铁-稀土类或者在由SiO2、BN等形成的非磁性膜中分散有Fe、Co、FeCo、CoNiPt等的磁性粒子的结构的颗粒等。此外，磁性膜可以是纵向型和垂直型中的任一种记录形式。
此外，为了使磁头的滑动良好，可以在磁性膜的表面涂敷薄层的润滑剂。作为润滑剂，可以例举例如将作为液体润滑剂的全氟聚醚(PFPE)用氟利昂类等的溶剂稀释而得的材料。
还可以根据需要设置基底层和保护层。磁盘中的基底层可以根据磁性膜进行选择。作为基底层的材料，可以例举例如选自Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al、Ni等非磁性金属的至少一种以上的材料。采用以Co为主要成分的磁性膜的情况下，从磁特性提高等角度来看，较好是Cr单质或Cr合金。此外，基底层并不局限于单层，可以采用层叠同种或不同种的层而得的多层结构。例如，可以采用Cr/Cr、Cr/CrMo、Cr/CrV、NiAl/Cr、NiAl/CrMo、NiAl/CrV等多层基底层。
作为防止磁性膜的磨损和腐蚀的保护层，可以例举例如Cr层、Cr合金层、碳层、氢化碳层、氧化锆层、二氧化硅层等。这些保护层可以与基底层、磁性膜等一起通过串联型溅射装置连续地形成。此外，这些保护层可以是单层，或者可以采用由同种或不同种的层构成的多层结构。还有，可以在上述保护层上形成其它保护层，或者形成其它保护层来替代上述保护层。例如，可以替代上述保护层，用醇类溶剂稀释四烷氧基硅烷并在其中分散胶态二氧化硅，将其涂布于Cr层上，再烧成而形成二氧化硅(SiO2)层。
以上，作为记录介质的一种实施方式对磁盘进行了说明，但记录介质并不局限于此，本发明的玻璃基板也可以用于光磁盘或光盘等。
实施例
(实施例1)
基材使用SUS304，制成构成图3所示的保持玻璃基板的保持夹具30的部件。使用这些部件组装保持夹具30。接着，使用超声波清洗器依次用金属部件用清洁剂和纯水充分清洗组装得到的保持夹具30。然后，在将以质量比1∶9的比例含有NaNO3和KNO3的化学强化剂投入化学强化槽并加热至360℃得到的化学强化液中浸渍1小时。然后，浸渍于水中清洗，干燥。
接着，作为进行化学强化的玻璃基板，准备按照图1的制造工序制造到外周端面加工后为止而得的外径φ1＝65mm、内径φ2＝20mm、板厚d＝0.635mm的铝硅酸盐玻璃基板。将25块该玻璃基板收纳于保持夹具，按照图2进行化学强化。
将收纳于保持夹具30的25块玻璃基板预先加热至350℃后，在化学强化液中浸渍15分钟。化学强化液采用将以质量比1∶9的比例含有NaNO3和KNO3的化学强化剂投入化学强化槽并加热至330℃得到的化学强化液。
在化学强化液中浸渍后，将玻璃基板与保持夹具一起在60℃的水中浸渍5分钟后干燥。然后，从保持夹具中取出玻璃基板，用显微镜观察玻璃基板表面有无异物。
(实施例2)
基材采用Al-Li合金，制成构成图3所示的保持玻璃基板的保持夹具30的部件。其后，与实施例1同样地进行操作，将25块该玻璃基板收纳于保持夹具，进行化学强化，用显微镜观察玻璃基板表面有无异物。
(实施例3)
基材采用Al-Li合金，制成构成图3所示的保持玻璃基板的保持夹具30的部件。使用这些部件组装保持夹具30。接着，使用超声波清洗器依次用金属部件用清洁剂和纯水充分清洗组装得到的保持夹具30。然后，不进行实施例1中实施的在化学强化液中的浸渍。
其后，与实施例1同样地进行操作，将25块该玻璃基板收纳于保持夹具30，进行化学强化，用显微镜观察玻璃基板表面有无异物。
(比较例1)
作为比较例，除了不进行保持夹具30的组装后的化学强化液浸渍以外，与实施例1同样地进行操作，将25块该玻璃基板收纳于保持夹具，进行化学强化，用显微镜观察玻璃基板表面有无异物。
(结论)
关于实施例1、实施例2和实施例3的进行了化学强化的玻璃基板和比较例的玻璃基板的异物量，所有的玻璃基板中比较例1的异物量明显较多。此外，对于实施例1～3，比较了附着于玻璃基板的异物量，实施例2的情况最少，实施例1和实施例3为同等程度。

Claims (10)

1.记录介质用玻璃基板的制造方法，该方法是包括在将玻璃基板保持于保持夹具的状态下浸渍于化学强化液而将所述玻璃基板表面的碱金属离子置换为所述化学强化液所含的离子直径比所述碱金属离子大的碱金属离子的化学强化工序的记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述保持夹具由以具有碱金属元素的金属为材料的构件构成。
2.记录介质用玻璃基板的制造方法，该方法是包括在将玻璃基板保持于保持夹具的状态下浸渍于化学强化液而将所述玻璃基板表面的碱金属离子置换为所述化学强化液所含的离子直径比所述碱金属离子大的碱金属离子的化学强化工序的记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述保持夹具自最初开始用于所述化学强化工序时起具备覆盖所述保持夹具的表面的具有碱金属元素的金属膜。
3.如权利要求2所述的记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述金属膜是浸渍于化学强化液而形成的金属膜。
4.如权利要求2或3所述的记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述金属膜的厚度为0.05μm～10μm。
5.记录介质用玻璃基板，其特征在于，通过权利要求1～4中的任一项所述的记录介质用玻璃基板的制造方法制成。
6.记录介质，其特征在于，在权利要求5所述的记录介质用玻璃基板的表面具有磁性膜。
7.保持夹具，它是在将玻璃基板浸渍于化学强化液而将所述玻璃基板表面的碱金属离子置换为所述化学强化液所含的离子直径比所述碱金属离子大的碱金属离子的化学强化工序中保持所述玻璃基板的保持夹具，其特征在于，
所述保持夹具由以具有碱金属元素的金属为材料的构件构成。
8.保持夹具，它是在将玻璃基板浸渍于化学强化液而将所述玻璃基板表面的碱金属离子置换为所述化学强化液所含的离子直径比所述碱金属离子大的碱金属离子的化学强化工序中保持所述玻璃基板的保持夹具，其特征在于，
所述保持夹具自最初开始用于所述化学强化工序时起具备覆盖所述保持夹具的表面的具有碱金属元素的金属膜。
9.如权利要求8所述的保持夹具，其特征在于，所述金属膜是浸渍于化学强化液而形成的金属膜。
10.如权利要求8或9所述的保持夹具，其特征在于，所述金属膜的厚度为0.05μm～10μm。
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