WO2013001798A1 - Ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法、ｈｄｄ用ガラス基板、及びｈｄｄ用磁気記録媒体 - Google Patents

Ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法、ｈｄｄ用ガラス基板、及びｈｄｄ用磁気記録媒体 Download PDF

Info

Publication number
WO2013001798A1
WO2013001798A1 PCT/JP2012/004141 JP2012004141W WO2013001798A1 WO 2013001798 A1 WO2013001798 A1 WO 2013001798A1 JP 2012004141 W JP2012004141 W JP 2012004141W WO 2013001798 A1 WO2013001798 A1 WO 2013001798A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
glass substrate
hdd
cleaning
cleaning liquid
holding
Prior art date
Application number
PCT/JP2012/004141
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
典子 島津
直之 福本
Original Assignee
コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 filed Critical コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社
Priority to CN201280042049.2A priority Critical patent/CN103988257A/zh
Priority to JP2013522434A priority patent/JP6131187B2/ja
Publication of WO2013001798A1 publication Critical patent/WO2013001798A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/007—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by thermal treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67057—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67313—Horizontal boat type carrier whereby the substrates are vertically supported, e.g. comprising rod-shaped elements

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate for HDD, a glass substrate for HDD, and a magnetic recording medium for HDD.
  • the flying height of the magnetic head has become increasingly smaller, and even a deposit of several hundred nm has a head crash. And thermal asperity.
  • the flying height of the head is as small as several nanometers, and the cleanliness of HDD magnetic recording media is strongly demanded. As the recording area is enlarged, the recording area is extended to the outer peripheral edge of the recording medium. Therefore, high cleanliness is required up to the outermost periphery of the recording medium.
  • the glass substrate for HDD used for the substrate of the magnetic recording medium for HDD is cleaned with a cleaning liquid before the inspection process in the manufacturing process.
  • the glass substrate is placed in a cleaning tank in a state of being accommodated in a dedicated container called a cleaning carrier, for example, and the cleaning liquid is poured in the cleaning tank to be cleaned.
  • the cleaning carrier has a structure in which a plurality of holding rods are installed in parallel with each other at a predetermined interval between a pair of opposing walls.
  • a concave groove is formed in the circumferential direction on the peripheral surface of each holding rod.
  • the glass substrate is held at its both end portions and lower end portions by three holding rods, fits into the groove, and is housed in the cleaning carrier in a standing state. After the cleaning, the glass substrate is dried while being accommodated in the cleaning carrier.
  • an object of the present invention is to provide a method for producing a glass substrate for HDD in which no defects remain on the outer peripheral edge of the glass substrate after cleaning and drying, a glass substrate for HDD produced by the production method, and the glass substrate for HDD. It is providing the magnetic recording medium for HDDs using this.
  • one aspect of the present invention is a method for manufacturing a glass substrate for HDD including a cleaning step of cleaning a glass substrate with a cleaning liquid.
  • the cleaning liquid is parallel to the main surface of the glass substrate with respect to the glass substrate.
  • Another aspect of the present invention is a glass substrate for HDD manufactured by the method for manufacturing a glass substrate for HDD.
  • Still another aspect of the present invention is an HDD magnetic recording medium manufactured by providing a recording layer on a main surface of the HDD glass substrate.
  • FIG. 1 is a perspective view of a glass substrate for HDD according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a manufacturing process diagram of the glass substrate for HDD according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a schematic side view showing the configuration of the main part of a double-side polishing machine used in the secondary polishing process.
  • FIG. 4 is a drawing-substituting photograph showing an example of defects found at the outer peripheral edge of the glass substrate after the final cleaning step.
  • FIG. 5 is a perspective view of a cleaning carrier used in the final cleaning step.
  • FIG. 6 is a side view of the cleaning carrier.
  • FIG. 7 is a front view of the cleaning carrier.
  • FIG. 8 is an explanatory diagram showing an example of the direction in which the cleaning liquid is passed through the glass substrate in the final cleaning step.
  • FIG. 9 is an explanatory view showing another example of the direction in which the cleaning liquid flows through the glass substrate in the final cleaning step.
  • the present invention was completed by finding that a cleaning residue was generated in this portion, and that this cleaning residue was left as a defect at the outer peripheral edge of the glass substrate.
  • the main surface of the glass substrate is in the direction of gravity unless otherwise specified. This refers to the main surface when the glass substrate is erected so as to be in parallel.
  • the HDD glass substrate 50 includes a disk processing step, a lapping step, a primary polishing (rough polishing) step, a secondary polishing (precision polishing) step, a chemical strengthening step, a final cleaning step, an inspection step, and the like. It is manufactured after.
  • Glass material used for the glass substrate 50 is composed of a glass composition whose main component is silicon dioxide (SiO 2).
  • the glass composition may or may not contain magnesium, calcium and / or cerium.
  • Typical glass compositions include, for example, SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, MgO, CaO, BaO, SrO, ZnO and the like. is there.
  • a molten glass material is poured into a mold and press-molded to produce a disk-shaped glass substrate (referred to as a blank).
  • the outer diameter is 2.5 inches, 1.8 inches, 1.0 inches, 0.8 inches, etc.
  • the plate thickness is 2 mm, 1 mm, 0.8 mm, 0 .63 mm or the like.
  • a circular hole is formed in the center part of the obtained glass substrate, for example using a diamond core drill etc., and it is set as a cyclic
  • the lapping process includes a first lapping process and a second lapping process.
  • first lapping step both the front and back surfaces of the glass substrate are ground, and the overall shape of the glass substrate, that is, the parallelism, flatness, thickness and the like of the glass substrate are preliminarily adjusted.
  • second lapping step following the first lapping step, both the front and back surfaces of the glass substrate are ground again to further finely adjust the overall shape of the glass substrate, that is, the parallelism, flatness, thickness and the like of the glass substrate.
  • a double-side grinding machine including an upper and lower surface plate on which diamond pellets are attached is used.
  • both the front and back surfaces of the glass substrate are roughly polished so that the surface roughness finally obtained in the next secondary polishing step can be efficiently obtained.
  • a double-side polishing machine having a pair of upper and lower surface plates with a foamed urethane pad attached as a polishing pad is used, and a slurry-like polishing liquid containing, for example, cerium oxide as abrasive grains as the polishing liquid Is used.
  • a slurry-like polishing liquid containing, for example, cerium oxide as abrasive grains as the polishing liquid Is used.
  • both the front and back surfaces of the glass substrate are precisely polished so that the finally obtained surface roughness can be obtained.
  • a double-side polishing machine 10 capable of simultaneously polishing both the front and back surfaces of the glass substrate 50 is used.
  • the double-side polishing machine 10 includes a disk-shaped upper surface plate 11 and a lower surface plate 12 which are arranged at intervals in the vertical direction so as to be parallel to each other and are rotatable in opposite directions.
  • a polishing pad (a polyurethane suede pad in this embodiment) P for polishing the front and back surfaces of the glass substrate 50 is attached to the opposing surfaces of the pair of upper and lower surface plates 11 and 12.
  • a plurality of rotatable carriers 13 are arranged between the surface plates 11 and 12, and a plurality of glass substrates 50 are fitted and set in each carrier 13. The carrier 13 revolves around the rotation center of the surface plates 11 and 12 while rotating while holding the glass substrate 50.
  • a slurry-like polishing liquid containing abrasive grains (colloidal silica in the present embodiment) is applied to the upper and lower surface plates 11 and 12 and the carrier 13 that are operating in this manner. 50, and between the polishing pad P of the lower surface plate 12 and the glass substrate 50, respectively, thereby performing precise polishing on both the front and back surfaces of the glass substrate 50.
  • reference numeral 14 denotes a polishing liquid recovery device
  • reference numeral 15 denotes a polishing liquid storage tank
  • reference numeral 16 denotes a polishing liquid supply pipe
  • reference numeral 17 denotes a lubricating liquid storage tank
  • reference numeral 18 denotes a lubricating liquid supply pipe.
  • a chemical strengthening layer is formed on the surface of the glass substrate.
  • a chemical strengthening treatment solution containing sodium ions or potassium ions
  • lithium ions existing on the surface layer of the glass substrate are replaced with sodium ions in the chemical strengthening treatment solution, or sodium ions are potassium.
  • the surface layer of the glass substrate becomes a chemically strengthened layer.
  • a compressive stress is applied to the chemically strengthened layer.
  • foreign substances adhering to the glass substrate include, for example, filtered pure water, ion-exchanged water, ultrapure water, acidic detergent, neutral detergent, alkaline detergent, organic solvent, surfactant and the like. Wash and remove using various cleaning solutions. Thereafter, the glass substrate is dried.
  • the glass substrate 50 is cleaned by flowing a cleaning liquid in a direction parallel to the main surface of the glass substrate 50 in a plurality of directions different from each other.
  • a plurality of (five in the illustrated example) holding rods 23 are installed in parallel with each other at a predetermined interval between a pair of front and rear opposing walls 21 and 22. It is a structure.
  • a concave groove is formed in the circumferential direction on the peripheral surface of each holding rod 23.
  • the glass substrate 50 is held at its both ends and lower ends by three holding rods 23, fits into the groove, and is housed in the cleaning carrier 20 in a standing state.
  • the cleaning carrier 20 can accommodate many glass substrates 50 at a time.
  • the glass substrate 50 is held and cleaned by a plurality of holding rods 23, and after cleaning, the glass substrate 50 is held in that state, that is, held by the plurality of holding rods 23. Dry as it is.
  • the three holding rods 23 that hold the glass substrate 50 are separated from each other by about 90 ° with respect to the center of the glass substrate 50 to be held.
  • the glass substrate 50 is dried in a state where the holding rods 23 are separated from each other by 90 °, so that the cleaning liquid remains between the holding rod 23 that holds the outer peripheral edge of the glass substrate 50 and the glass substrate 50.
  • the glass substrate 50 is placed in the washing tank 30 while being accommodated in the washing carrier 20, and the glass substrate 50 is washed by flowing a washing solution 31 in the washing tank 30. At this time, the glass substrate 50 is disposed in the cleaning tank 30 so that the main surface thereof is parallel to the flow direction of the cleaning liquid 31.
  • cleaning liquid supply / discharge devices referred to as apparatuses for supplying or discharging the cleaning liquid 31 to or from the cleaning tank 30
  • apparatuses for supplying or discharging the cleaning liquid 31 to or from the cleaning tank 30 32 and 33 above and below the cleaning tank 30, and the cleaning liquid 31 is disposed inside the cleaning tank 30.
  • the cleaning liquid 31 is sequentially switched with respect to the glass substrate 50 in one direction from the bottom to the top in the vertical direction (referred to as jet) and one direction from the top to the bottom (referred to as flowing). It can flow (up and down 2 directions). Either the jet flow or the hanging flow may be performed first, and the jet flow and the flowing flow may be repeated any number of times.
  • FIG. 9 shows a case where cleaning liquid supply / discharge devices 34 and 35 are provided on the left and right of the cleaning tank 30, and the cleaning liquid 31 flows in the left and right directions with respect to the main surface of the glass substrate 50 in the cleaning tank 30.
  • the cleaning liquid 31 is divided into one direction from left to right (referred to as a left laminar flow) and one direction from right to left (referred to as a right laminar flow) in the left and right lateral directions.
  • the flow can be switched in order (two left and right directions). Either the left laminar flow or the right laminar flow may be performed first, and the left laminar flow and the right laminar flow may be repeated any number of times.
  • the glass substrate 50 may be transferred to a cleaning tank dedicated to the left laminar flow and a cleaning tank dedicated to the right laminar flow.
  • cleaning liquid supply / discharge devices 32 to 35 are provided on the top, bottom, left, and right of the cleaning tank 30, so that the cleaning liquid 31 can be sprayed from the bottom to the top or the top to the bottom with respect to the glass substrate 50. It may be possible to flow in a left laminar flow from left to right or a right laminar flow from right to left. Then, two or more of these directions can be arbitrarily combined and sequentially switched to allow the cleaning liquid 31 to flow over the glass substrate 50.
  • the cleaning liquid 31 flows in a direction parallel to the main surface of the glass substrate 50 and in a plurality of different directions in order with respect to the glass substrate 50, so that the cleaning liquid 31 flows in a certain direction. Even if it becomes a portion hidden behind the holding rod 23, that portion is not a portion hidden behind the holding rod 23 with respect to the flow of the cleaning liquid 31 in another direction. Therefore, the cleaning residue at the outer peripheral edge of the glass substrate 50 is eliminated, and it is suppressed that defects remain at the outer peripheral edge of the glass substrate 50 after cleaning and drying.
  • the glass substrate 50 is cleaned by holding the glass substrate 50 at three points on both sides and the lower end. That is, one of the three holding rods 23 holds the left end of the glass substrate 50, one holds the right end, and one holds the lower end. Thereby, the glass substrate 50 can be stably held during cleaning. Further, since the three holding portions are separated by 90 ° with respect to the center of the glass substrate 50, the cleaning liquid 31 remains between the holding rod 23 and the glass substrate 50 and adheres to the outer peripheral end portion of the glass substrate 50. That will be reduced.
  • the glass substrate 50 and the holding rod 23 are in contact with each other at all the holding portions of the glass substrate 50. Thereby, it is possible to prevent the adhesion of particles to the glass substrate 50 and the generation of the dry stain of the cleaning liquid 31 when the glass substrate 50 is dried. That is, since each of the three holding rods 23 is always in contact with the glass substrate 50, it is possible to avoid the cleaning liquid 31 from being accumulated between the glass substrate 50 and the holding rod 23. If the glass substrate 50 and the holding rod 23 are separated, the cleaning liquid 31 accumulates between the glass substrate 50 and the holding rod 23 due to surface tension, and particles contained in the accumulated cleaning liquid 31 during drying.
  • the cleaning liquid 31 itself moves to the glass substrate 50 side and remains on the glass substrate 50 as a dry stain.
  • the adhesion of these particles and the dry stain of the cleaning liquid 31 also become defects.
  • the glass substrate 50 and the holding rod 23 are always in contact with each other in all the holding portions of the glass substrate 50 and are not separated from each other, the above-described problems are suppressed. That is, the film of the cleaning liquid 31 between the outer peripheral end of the glass substrate 50 and the holding rod 23 that can be generated when the outer peripheral end of the glass substrate 50 and the holding rod 23 are separated can be avoided. After the substrate 50 is dried, it is possible to prevent defects such as deposits resulting from the drying of the film of the cleaning liquid 31 from remaining on the outer peripheral edge of the glass substrate 50.
  • the cleaning liquid 31 in the vertical direction and the horizontal direction with respect to the main surface of the glass substrate 50.
  • the cleaning liquid 31 does not remain in the holding portion during drying, and the cleaning liquid 31 on the glass substrate 50 is removed. Dry stains and particle adhesion can be prevented.
  • the portion hidden behind the holding rod 23 is surely lost, and it is reliably suppressed that a defect remains in the outer peripheral end of the glass substrate 50 after cleaning and drying.
  • the cleaning liquid 31 is flowed in two opposite directions (jet flow and flowing) in the vertical direction with respect to the main surface of the glass substrate 50 and in two opposite directions (left laminar flow and right laminar flow) in the lateral direction. It is preferable. That is, the cleaning liquid 31 is sequentially switched in the four directions of up, down, left, and right. Thereby, in particular, when the glass substrate 50 is held and cleaned at three points on both side ends and the lower end thereof, the remaining liquid of the cleaning liquid 31 on the holding portion is surely eliminated during drying, and the cleaning liquid for the glass substrate 50 is removed. Thus, it is possible to reliably prevent the 31 dry stain and particles from adhering. Further, the portion hidden behind the holding rod 23 is more reliably eliminated, and it is further reliably suppressed that a defect remains on the outer peripheral end of the glass substrate 50 after cleaning and drying.
  • the flow rate (L / min) or flow rate (m / min) of the cleaning liquid 31 supplied to the cleaning tank 30 and discharged from the cleaning tank 30 (that is, passing through the cleaning tank 30) is the same as that of the cleaning liquid 31 in the cleaning tank 30. It is necessary to study from the viewpoint of increasing the substitution rate and the like, and from the viewpoint of the stability of holding the glass substrate 50 by the holding rod 23.
  • the glass substrate for HDD manufactured as described above will be described.
  • the HDD glass substrate 50 according to the present embodiment suppresses remaining defects at the outer peripheral edge because the cleaning residue at the outer peripheral edge is eliminated in the cleaning process in the manufacturing process. This is a high-quality glass substrate for HDD.
  • the HDD magnetic recording medium according to this embodiment is manufactured by providing a magnetic film as a recording layer on the main surface of the HDD glass substrate 50.
  • the magnetic film may be formed directly or indirectly on the main surface.
  • the magnetic film may be formed on one side or both sides of the glass substrate 50.
  • a method for forming the magnetic film a conventionally known method can be used. For example, a method in which a thermosetting resin in which magnetic particles are dispersed is spin-coated on the glass substrate 50, or a method in which sputtering or electroless plating is used. And the like.
  • the film thickness by spin coating is about 0.3 ⁇ m to 1.2 ⁇ m
  • the film thickness by sputtering is about 0.01 ⁇ m to 0.08 ⁇ m
  • the film thickness by electroless plating is 0.01 ⁇ m to 0.1 ⁇ m. From the viewpoint of thinning and high density, film formation by sputtering or electroless plating is preferable.
  • the magnetic material used for the magnetic film is not particularly limited, and conventionally known materials can be used. Among them, a Co-based alloy or the like containing Ni and Cr as the basic material for adjusting the residual magnetic flux density is preferable in order to obtain high coercive force. Specifically, CoPt, CoCr, CoNi, CoNiCr, CoCrTa, CoPtCr, CoNiPt, CoNiCrPt, CoNiCrTa, CoCrPtTa, CoCrPtB, CoCrPtSiO, and the like whose main component is Co are preferable.
  • the magnetic film may be divided into a non-magnetic film (for example, Cr, CrMo, CrV, etc.) and may have a multilayer structure (for example, CoPtCr / CrMo / CoPtCr, CoCrPtTa / CrMo / CoCrPtTa, etc.) designed to reduce noise.
  • a non-magnetic film for example, Cr, CrMo, CrV, etc.
  • a multilayer structure for example, CoPtCr / CrMo / CoPtCr, CoCrPtTa / CrMo / CoCrPtTa, etc.
  • a ferrite type or iron-rare earth type a granular material having a structure in which magnetic particles such as Fe, Co, FeCo, and CoNiPt are dispersed in a nonmagnetic film made of SiO 2 , BN, etc. Good.
  • the magnetic film may be either an internal type or a vertical type recording format.
  • a lubricant may be thinly coated on the surface of the magnetic film.
  • the lubricant include those obtained by diluting perfluoropolyether (PFPE), which is a liquid lubricant, with a freon-based solvent.
  • an underlayer or a protective layer may be provided in addition to the magnetic film as the recording layer.
  • the underlayer in the HDD magnetic recording medium is selected according to the magnetic film.
  • the material for the underlayer include at least one material selected from the group consisting of nonmagnetic metals such as Cr, Mo, Ta, Ti, W, V, B, Al, and Ni.
  • Cr nonmagnetic metals
  • the underlayer is not limited to a single layer, and may have a multi-layer structure in which the same or different layers are stacked.
  • a multilayer underlayer such as Cr / Cr, Cr / CrMo, Cr / CrV, NiAl / Cr, NiAl / CrMo, or NiAl / CrV can be used.
  • the protective layer is provided to prevent wear and corrosion of the magnetic film.
  • the protective layer include a Cr layer, a Cr alloy layer, a carbon layer, a hydrogenated carbon layer, a zirconia layer, and a silica layer.
  • These protective layers can be continuously formed by an in-line sputtering apparatus together with the underlayer and the magnetic film. Further, these protective layers may be a single layer, or may have a multilayer structure composed of the same or different layers.
  • Another protective layer may be formed on the protective layer or instead of the protective layer.
  • colloidal silica fine particles are dispersed and applied in a tetraalkoxysilane diluted with an alcohol solvent on the Cr layer, and further baked to obtain silicon dioxide (SiO 2 ).
  • a layer may be formed.
  • the operation of the magnetic head at the time of high-speed rotation of the HDD can be stabilized. Can do.
  • the HDD magnetic recording medium according to the present embodiment uses the HDD glass substrate 50 in which defects are suppressed from remaining at the outer peripheral end, the high-quality HDD having high cleanliness up to the outermost peripheral portion. Magnetic recording medium. For this reason, even if the recording area extends to the outer peripheral edge of the recording medium, it is possible to prevent the recording area from being damaged.
  • the polishing process is performed in two steps.
  • the polishing process is not limited to this and may be performed only once.
  • the chemical strengthening process was performed after the polishing process, it may be performed before the polishing process depending on the situation. Further, the chemical strengthening step can be omitted depending on the situation.
  • the outer peripheral end face and the inner peripheral end face other than the main surface of the glass substrate may be strengthened, or the glass substrate is subjected to HF immersion treatment as an edge mitigation treatment for scratches generated on the glass substrate. Also good.
  • the glass substrate for HDD according to the present embodiment is not limited to the use for manufacturing the magnetic recording medium for HDD, and can be used for the manufacture of, for example, a magneto-optical disk or an optical disk.
  • the method for manufacturing a glass substrate for HDD is a method for manufacturing a glass substrate for HDD including a cleaning step of cleaning the glass substrate 50 with the cleaning liquid 31, and the cleaning liquid 31 is applied to the glass substrate 50 in the cleaning step.
  • the substrate is washed by flowing it in a plurality of directions that are parallel to the main surface of the glass substrate 50 and different from each other.
  • the cleaning liquid 31 flows in a direction parallel to the main surface of the glass substrate 50 and in a plurality of different directions in order with respect to the glass substrate 50, so that the cleaning liquid 31 flows in a certain direction.
  • the portion is hidden behind the holding rod 23, the portion is not hidden behind the holding rod 23 with respect to the flow of the cleaning liquid 31 in another direction. Therefore, the cleaning residue at the outer peripheral edge of the glass substrate 50 is eliminated, and it is suppressed that defects remain at the outer peripheral edge of the glass substrate 50 after cleaning and drying.
  • the glass substrate 50 in the cleaning step, is cleaned by holding the glass substrate 50 at three points on both side ends and the lower end, and after cleaning, the glass substrate 50 is dried as it is, and the holding unit is made of glass.
  • the center of the substrate 50 is separated by 90 °.
  • the glass substrate 50 can be stably held during cleaning. Further, since the three holding portions are separated by 90 ° with respect to the center of the glass substrate 50, the cleaning liquid 31 remains between the holding rod 23 and the glass substrate 50 and adheres to the outer peripheral end portion of the glass substrate 50. That will be reduced.
  • the glass substrate 50 in the cleaning process, the glass substrate 50 is held and cleaned by the plurality of holding rods 23, and after the cleaning, the glass substrate 50 is dried as it is, and is held in all the holding portions of the glass substrate 50.
  • the glass substrate 50 and the holding rod 23 are always in contact with each other.
  • the cleaning liquid 31 is flowed in the vertical direction and the horizontal direction with respect to the main surface of the glass substrate 50.
  • the glass substrate 50 when the glass substrate 50 is cleaned while being held at the three ends of the both side ends and the lower end thereof, the liquid remaining of the cleaning liquid 31 on the holding portion is eliminated during drying, and the glass substrate 50 is thus removed.
  • the dry stain of the cleaning liquid 31 and the adhesion of particles can be prevented.
  • the portion hidden behind the holding rod 23 is surely lost, and it is reliably suppressed that a defect remains in the outer peripheral end of the glass substrate 50 after cleaning and drying.
  • the cleaning liquid 31 is caused to flow in two opposite directions in the vertical direction and two opposite directions in the horizontal direction with respect to the main surface of the glass substrate 50.
  • the liquid residue of the cleaning liquid 31 on the holding portion is surely eliminated during drying, and the glass substrate
  • the portion hidden behind the holding rod 23 is more reliably eliminated, and it is further reliably suppressed that a defect remains on the outer peripheral end of the glass substrate 50 after cleaning and drying.
  • the glass substrate 50 for HDD according to this embodiment is manufactured by the method for manufacturing the glass substrate for HDD.
  • the cleaning residue in the manufacturing process eliminates the remaining cleaning at the outer peripheral edge, so that a high-quality HDD glass substrate 50 for HDD with suppressed defects remaining at the outer peripheral edge is obtained. It is done.
  • the HDD magnetic recording medium according to the present embodiment is manufactured by providing a recording layer on the main surface of the HDD glass substrate 50.
  • the HDD glass substrate 50 in which defects are suppressed from remaining at the outer peripheral end portion is used, a high-quality HDD magnetic recording medium with high cleanliness up to the outermost peripheral portion can be obtained. . For this reason, even if the recording area extends to the outer peripheral edge of the recording medium, it is possible to prevent the recording area from being damaged.
  • the present embodiment it is possible to prevent defects from remaining on the outer peripheral edge of the HDD glass substrate 50 after cleaning and drying. It can cope with miniaturization of flying height.
  • the outer diameter is about 65 mm (2.5 inches)
  • the inner diameter is about 20 mm
  • the plate thickness is 1 mm.
  • a ring-shaped aluminosilicate glass substrate was prepared.
  • SiO 2 50 to 70%
  • Al 2 O 3 0.1 to 20%
  • B 2 O 3 0 to 5%
  • SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 60 to 85%
  • Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0.1 to 20%
  • MgO + CaO + BaO + SrO + ZnO 2 to 20%.
  • Example 1 In the final cleaning step, as shown in Table 1, in Example 1, the flow direction of the cleaning liquid was set to two directions (up and down), and the flow of the cleaning liquid was changed in the order of jet flow and flowing. The direction is set to two directions (left and right laminar flows are sequentially switched), and in Example 3, the flow direction of the cleaning liquid is four directions (up and down, left and right) (jet flow, entrainment, left laminar flow, and right layer) In Example 4, the flow direction of the cleaning liquid was set to one direction in the vertical direction and one direction in the left and right direction (the jet flow or the flowing flow and the left laminar flow or the right laminar flow were switched in order). . In Comparative Example 1, the flow direction of the cleaning liquid is only in one vertical direction (only jet or flowing), and in Example 2, the flow direction of the cleaning liquid is only in one horizontal direction (only the left laminar flow or right laminar flow). ).
  • a magnetic film (recording layer) was provided on the main surface of the obtained glass substrate to obtain a magnetic recording medium. That is, from the glass substrate side, an underlayer made of Ni—Al (thickness about 100 nm), a recording layer made of Co—Cr—Pt (thickness 20 nm), and a protective film (thickness 5 nm) made of DLC (Diamond Like Carbon) Laminated.
  • Example 3 in which the cleaning liquid was switched in the cleaning tank in four directions, up, down, left, and right, the number of glass substrate defects was particularly zero.
  • the present invention has wide industrial applicability in the technical fields of a method for manufacturing a glass substrate for HDD, a glass substrate for HDD, and a magnetic recording medium for HDD.

Abstract

ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、洗浄、乾燥後のガラス基板の外周端部に欠陥が残らないようにする。ガラス基板５０を洗浄液３１で洗浄する洗浄工程を含むＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、洗浄工程では、ガラス基板５０に対して洗浄液３１をガラス基板５０の主表面に平行な方向であって相互に異なる複数の方向に順に流して洗浄する。洗浄槽３０の上下に洗浄液給排装置３２，３３を備えて、洗浄槽３０内で、ガラス基板５０に対して、洗浄液３１を、上下方向のうちの下から上への１方向と、上から下への１方向とに、順に切り替えて流す。

Description

ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法、ＨＤＤ用ガラス基板、及びＨＤＤ用磁気記録媒体
　本発明は、ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法、ＨＤＤ用ガラス基板、及びＨＤＤ用磁気記録媒体に関する。
　近年、ＨＤＤ（hard　disk　drive）用磁気記録媒体に格納される情報の高密度化に伴い、磁気ヘッドの浮上高さが益々小さくなっており、数百ｎｍの付着物でもヘッドクラッシュ（head crash）やサーマルアスペリティ（thermal asperity）を引き起こすほどである。特に、ＤＦＨ（dynamic flying height）機構を搭載したヘッドの場合、ヘッドの浮上高さが数ｎｍにまで微小なものとなり、ＨＤＤ用磁気記録媒体の清浄性が強く求められている。また、記録領域の拡大に伴い、記録領域が記録媒体の外周端部にまで広がっている。そのため、記録媒体の最外周部まで高い清浄性が求められている。
　ＨＤＤ用磁気記録媒体の基板に用いられるＨＤＤ用ガラス基板は、その製造過程において、検査工程の前に洗浄液で洗浄される。この洗浄工程では、ガラス基板は、例えば洗浄キャリア等と称される専用容器に収容された状態で、洗浄槽に入れられ、洗浄槽内で洗浄液が流されて洗浄される。
　特許文献１に記載されるように、洗浄キャリアは、一対の対向壁間に複数の保持用ロッドが所定の間隔で相互に平行に架設された構造である。各保持用ロッドの周面には周方向に凹溝が形成されている。ガラス基板は、その両側端部と下端部とが３本の保持用ロッドで保持され、凹溝に嵌り込み、立った状態で洗浄キャリアに収容される。洗浄後、ガラス基板は、洗浄キャリアに収容された状態のまま乾燥される。
特開２００９－８７４７２号公報
　ところで、洗浄、乾燥後のガラス基板の外周端部に欠陥（defect）が残ると、ガラス基板の主表面の上に記録層を形成して磁気記録媒体としたときに記録領域に障害が出るという問題がある。
　そこで、本発明の目的は、洗浄、乾燥後のガラス基板の外周端部に欠陥が残らないＨＤＤ用ガラス基板の製造方法、その製造方法により製造されたＨＤＤ用ガラス基板、及びそのＨＤＤ用ガラス基板を用いたＨＤＤ用磁気記録媒体を提供することである。
　すなわち、本発明の一局面は、ガラス基板を洗浄液で洗浄する洗浄工程を含むＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、洗浄工程では、ガラス基板に対して洗浄液をガラス基板の主表面に平行な方向であって相互に異なる複数の方向に順に流して洗浄することを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法である。
　本発明の他の一局面は、前記ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法により製造されたことを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板である。
　本発明のさらに他の一局面は、前記ＨＤＤ用ガラス基板の主表面の上に記録層が設けられたことにより製造されたことを特徴とするＨＤＤ用磁気記録媒体である。
　前記並びにその他の本発明の目的、特徴及び利点は、以下の詳細な記載と添付図面とから明らかになるであろう。
図１は、本発明の実施形態に係るＨＤＤ用ガラス基板の斜視図である。 図２は、本発明の実施形態に係るＨＤＤ用ガラス基板の製造工程図である。 図３は、２次研磨工程で用いられる両面研磨機の主要部の構成を示す概略側面図である。 図４は、最終洗浄工程後にガラス基板の外周端部に発見される欠陥の１例を示す図面代用写真である。 図５は、最終洗浄工程で用いられる洗浄キャリアの斜視図である。 図６は、前記洗浄キャリアの側面図である。 図７は、前記洗浄キャリアの正面図である。 図８は、最終洗浄工程でガラス基板に対して洗浄液を流す方向の１例を示す説明図である。 図９は、最終洗浄工程でガラス基板に対して洗浄液を流す方向の他の例を示す説明図である。
　以下、図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。ただし、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
　従来、洗浄、乾燥後のガラス基板の外周端部に欠陥が残り、そのため、ガラス基板の主表面の上に記録層を形成して磁気記録媒体としたときに記録領域に障害が出るという問題があった。
　本発明者等は、従来、洗浄槽内で洗浄液を１方向にのみ流していたので、ガラス基板の外周端部において保持用ロッドの裏（洗浄液の流れに対して裏）に隠れる部分が生じ、この部分で洗浄残りが生じ、この洗浄残りがガラス基板の外周端部に欠陥となって残っていたことを見出して本発明を完成した。
　なお、本実施形態において、ガラス基板の洗浄工程等で、上、下、左、右、前、後、横等と方向をいうときは、特に断りがない限り、ガラス基板の主表面が重力方向と平行になるように前記ガラス基板を立てたときの前記主表面に関していう。
　＜ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法＞
　図１に示すガラス基板５０及び図２に示す製造工程図を参照して、ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を説明する。
　本実施形態においては、ＨＤＤ用ガラス基板５０は、円盤加工工程、ラップ工程、１次研磨（粗研磨）工程、２次研磨（精密研磨）工程、化学強化工程、最終洗浄工程、検査工程等を経て製造される。
　ガラス基板５０に用いられるガラス素材は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を主成分とするガラス組成物で構成される。ガラス組成物は、マグネシウム、カルシウム及び／又はセリウムを含んでも含まなくてもよい。代表的なガラス組成物は、例えば、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＺｎＯ等を含んだものである。
　［円盤加工工程］
　円盤加工工程では、溶融したガラス素材を金型に流し込んでプレス成形することにより円盤状のガラス基板（これをblankという）を作製する。このときのガラス基板の大きさとしては、例えば、外径が２．５インチ、１．８インチ、１．０インチ、０．８インチ等、板厚が、２ｍｍ、１ｍｍ、０．８ｍｍ、０．６３ｍｍ等である。得られたガラス基板の中心部に、例えばダイヤモンドコアドリル等を用いて円孔を形成し、環状のガラス基板とする。
　［ラップ工程］
　ラップ工程は、第１ラップ工程と第２ラップ工程とを含む。第１ラップ工程では、ガラス基板の表裏両面を研削し、ガラス基板の全体形状、すなわちガラス基板の平行度、平坦度及び厚み等を予備調整する。第２ラップ工程では、第１ラップ工程に続いて、ガラス基板の表裏両面を再び研削し、ガラス基板の全体形状、すなわちガラス基板の平行度、平坦度及び厚み等をさらに微調整する。ラップ工程では、例えばダイヤモンドペレットが貼り付けられた上下定盤を備える両面研削機が用いられる。
　［１次研磨工程］
　１次研磨工程では、次の２次研磨工程で最終的に求められる表面粗さが効率よく得られるように、ガラス基板の表裏両面を粗研磨する。この１次研磨工程では、例えば研磨パッドとして発泡ウレタンパッドが貼り付けられた上下一対の定盤を備える両面研磨機が用いられ、研磨液として例えば酸化セリウムを研磨砥粒として含むスラリー状の研磨液が用いられる。ただし、これに限定されるものではない。
　［２次研磨工程］
　２次研磨工程では、１次研磨工程に続いて、最終的に求められる表面粗さが得られるように、ガラス基板の表裏両面を精密研磨する。この２次研磨工程では、図３に示すように、ガラス基板５０の表裏両面を同時研磨することが可能な両面研磨機１０が用いられる。
　両面研磨機１０は、相互に平行になるように上下に間隔をおいて配置され、相互に逆方向に回転可能な円盤状の上定盤１１と下定盤１２とを備えている。この上下一対の定盤１１，１２の各対向面にガラス基板５０の表裏両面を研磨するための研磨パッド（本実施形態ではポリウレタン製のスウェードパッド）Ｐが貼り付けられている。定盤１１，１２の間には、回転可能な複数のキャリア１３が配置され、各キャリア１３には、複数のガラス基板５０が嵌め込まれてセットされている。キャリア１３は、ガラス基板５０を保持した状態で、自転しながら定盤１１，１２の回転中心に対して公転する。このような動作をしている上下定盤１１，１２及びキャリア１３に対して、砥粒（本実施形態ではコロイダルシリカ）を含むスラリー状の研磨液が上定盤１１の研磨パッドＰとガラス基板５０との間、及び、下定盤１２の研磨パッドＰとガラス基板５０との間にそれぞれ供給され、これにより、ガラス基板５０の表裏両面の精密研磨が実行される。
　なお、図３において、符号１４は研磨液回収装置、符号１５は研磨液貯留タンク、符号１６は研磨液供給管、符号１７は潤滑液貯留タンク、符号１８は潤滑液供給管である。
　［化学強化工程］
　化学強化工程では、ガラス基板の表面に化学強化層を形成する。例えば、ガラス基板をナトリウムイオンやカリウムイオンの存在する化学強化処理液に浸漬することにより、ガラス基板の表層に存在するリチウムイオンが化学強化処理液中のナトリウムイオンと置換されたりあるいはナトリウムイオンがカリウムイオンと置換されて、ガラス基板の表層が化学強化層となる。化学強化層には圧縮応力がかかっている。このような化学強化層を形成することにより、最終的に得られるガラス基板５０の耐衝撃性、耐振動性及び耐熱性等が向上する。
　［最終洗浄工程］
　（総論）
　最終洗浄工程では、ガラス基板に付着している異物を、例えば、フィルタリングした純水、イオン交換水、超純水、酸性洗剤、中性洗剤、アルカリ性洗剤、有機溶剤、界面活性剤等を含んだ各種洗浄液を用いて、洗浄し、除去する。その後、ガラス基板を乾燥する。
　（従来の最終洗浄工程）
　従来、ガラス基板を洗浄キャリアに収容し、この状態で洗浄槽に入れ、洗浄槽内でガラス基板に対して洗浄液を流すことにより洗浄を行っていた。このとき、洗浄槽内で洗浄液を１方向（例えば上下方向のうちの下から上への１方向）にのみ流していたので、ガラス基板の外周端部において、洗浄キャリアの保持用ロッドの裏（洗浄液の流れに対して裏）に隠れる部分が生じ、この部分で洗浄残りが生じ、この洗浄残りが、図４に例示するように、ガラス基板５０の外周端部に欠陥（defect）となって残るという問題があった。
　（本実施形態の最終洗浄工程）
　本実施形態においては、ガラス基板５０に対して洗浄液をガラス基板５０の主表面に平行な方向であって相互に異なる複数の方向に順に流してガラス基板５０を洗浄する。
　図５～図７に示すように、洗浄キャリア２０は、前後一対の対向壁２１，２２間に複数（図例では５つ）の保持用ロッド２３が所定の間隔で相互に平行に架設された構造である。各保持用ロッド２３の周面には周方向に凹溝が形成されている。ガラス基板５０は、その両側端部と下端部とが３本の保持用ロッド２３で保持され、凹溝に嵌り込み、立った状態で洗浄キャリア２０に収容される。洗浄キャリア２０は一度に多数のガラス基板５０を収容できる。
　本実施形態においては、この最終洗浄工程では、ガラス基板５０を複数の保持用ロッド２３で保持して洗浄し、洗浄後、ガラス基板５０をその状態のまま、つまり複数の保持用ロッド２３で保持した状態のまま乾燥する。ガラス基板５０を保持する３本の保持用ロッド２３は、保持するガラス基板５０の中心に関して、略相互に９０°ずつ離間している。保持用ロッド２３が略相互に９０°ずつ離間した状態でガラス基板５０を乾燥することにより、ガラス基板５０の外周端部を保持する保持用ロッド２３とガラス基板５０との間に洗浄液が残留してガラス基板５０の外周端部に付着することを低減できる。
　図８、図９に示すように、ガラス基板５０を洗浄キャリア２０に収容した状態で洗浄槽３０に入れ、洗浄槽３０内で洗浄液３１を流すことによりガラス基板５０を洗浄する。このとき、ガラス基板５０は、その主表面が洗浄液３１の流れ方向と平行になるように洗浄槽３０内に配置される。
　図８は、洗浄槽３０の上下に洗浄液給排装置（洗浄液３１を洗浄槽３０に供給し又は洗浄槽３０から排出する装置をいう）３２，３３が備えられ、洗浄槽３０内を洗浄液３１がガラス基板５０の主表面に関して上下２方向に流れる場合を示している。その結果、ガラス基板５０に対して、洗浄液３１を、上下方向のうちの下から上への１方向（噴流という）と、上から下への１方向（掛流しという）とに、順に切り替えて流すことができる（上下２方向）。噴流と掛流しのいずれを先に行ってもよいし、噴流と掛流しとを何回繰り返してもよい。また、ガラス基板５０を噴流専用の洗浄槽と掛流し専用の洗浄槽とに移し替えてもよい。
　図９は、洗浄槽３０の左右に洗浄液給排装置３４，３５が備えられ、洗浄槽３０内を洗浄液３１がガラス基板５０の主表面に関して左右２方向に流れる場合を示している。その結果、ガラス基板５０に対して、洗浄液３１を、左右の横方向のうちの左から右への１方向（左層流という）と、右から左への１方向（右層流という）とに、順に切り替えて流すことができる（左右２方向）。左層流と右層流のいずれを先に行ってもよいし、左層流と右層流とを何回繰り返してもよい。また、ガラス基板５０を左層流専用の洗浄槽と右層流専用の洗浄槽とに移し替えてもよい。
　図示しないが、洗浄槽３０の上下左右に洗浄液給排装置３２～３５を備え、ガラス基板５０に対して、洗浄液３１を、下から上への噴流にも、上から下へ掛流しにも、左から右への左層流にも、右から左への右層流にも流すことができるようにしてもよい。そして、これらの方向のうちの２種以上を任意に組み合わせて順に切り替えてガラス基板５０に対して洗浄液３１を流すことができる。
　（本実施形態の作用）
　本実施形態においては、ガラス基板５０に対して洗浄液３１がガラス基板５０の主表面に平行な方向であって相互に異なる複数の方向に順に切り替わって流れるので、ある方向の洗浄液３１の流れに対しては保持用ロッド２３の裏に隠れる部分となっても、その部分は、別の方向の洗浄液３１の流れに対しては保持用ロッド２３の裏に隠れる部分ではなくなる。そのため、ガラス基板５０の外周端部の洗浄残りが解消されて、洗浄、乾燥後のガラス基板５０の外周端部に欠陥が残ることが抑制される。
　本実施形態においては、ガラス基板５０をその両側端部及び下端部の３点で保持して洗浄する。つまり、３つの保持用ロッド２３のうちの１つがガラス基板５０の左側端部を保持し、１つが右側端部を保持し、１つが下端部を保持するのである。これにより、ガラス基板５０を洗浄中安定して保持することができる。また、３つの保持部がガラス基板５０の中心に関して９０°ずつ離間しているから、保持用ロッド２３とガラス基板５０との間に洗浄液３１が残留してガラス基板５０の外周端部に付着することが低減する。
　本実施形態においては、ガラス基板５０の全ての保持部で、ガラス基板５０と保持用ロッド２３とが必ず接している。これにより、ガラス基板５０の乾燥時にガラス基板５０へのパーティクルの付着や洗浄液３１の乾燥染みの発生を防ぐことができる。つまり、３つの保持用ロッド２３のそれぞれがガラス基板５０と必ず接しているので、ガラス基板５０と保持用ロッド２３との間に洗浄液３１が溜まることが避けられる。仮に、ガラス基板５０と保持用ロッド２３とが離間していると、ガラス基板５０と保持用ロッド２３との間に洗浄液３１が表面張力で溜まり、乾燥時に、その溜まった洗浄液３１に含まれるパーティクルがガラス基板５０側に移動してガラス基板５０に付着して残ったり、洗浄液３１そのものがガラス基板５０側に移動してガラス基板５０に乾燥染みとなって残ってしまう。これらのパーティクルの付着や洗浄液３１の乾燥染みもまた欠陥（defect）となる。これに対し、本実施形態では、ガラス基板５０の全ての保持部で、ガラス基板５０と保持用ロッド２３とが必ず接しており、離間していないので、前記のような不具合が抑制される。すなわち、ガラス基板５０の外周端部と保持用ロッド２３とが離間している場合に生じ得る、ガラス基板５０の外周端部と保持用ロッド２３との間の洗浄液３１の膜が回避でき、ガラス基板５０の乾燥後に、洗浄液３１の膜が乾燥することに起因する付着物等の欠陥がガラス基板５０の外周端部に残ることが抑制される。
　本実施形態においては、洗浄液３１をガラス基板５０の主表面に関して上下方向及び横方向に流すことが好ましい。これにより、特に、ガラス基板５０をその両側端部及び下端部の３点で保持して洗浄する場合に、乾燥時に保持部への洗浄液３１の液残りがなくなり、ガラス基板５０への洗浄液３１の乾燥染みやパーティクルの付着を防止できる。また、確実に保持用ロッド２３の裏に隠れる部分がなくなって、洗浄、乾燥後のガラス基板５０の外周端部に欠陥が残ることが確実に抑制される。
　本実施形態においては、洗浄液３１をガラス基板５０の主表面に関して上下方向の相対向する２方向（噴流と掛流し）及び横方向の相対向する２方向（左層流と右層流）に流すことが好ましい。つまり、洗浄液３１を上下左右４方向に順に切り替えて流すのである。これにより、特に、ガラス基板５０をその両側端部及び下端部の３点で保持して洗浄する場合に、乾燥時に保持部への洗浄液３１の液残りが確実になくなり、ガラス基板５０への洗浄液３１の乾燥染みやパーティクルの付着を確実に防止できる。また、より一層確実に保持用ロッド２３の裏に隠れる部分がなくなって、洗浄、乾燥後のガラス基板５０の外周端部に欠陥が残ることがより一層確実に抑制される。
　なお、洗浄槽３０に供給され洗浄槽３０から排出される（すなわち洗浄槽３０を通過する）洗浄液３１の流量（Ｌ／分）又は流速（ｍ／分）は、洗浄槽３０内の洗浄液３１の置換率増大等の観点と、保持用ロッド２３によるガラス基板５０の保持の安定性等の観点とから、検討する必要がある。
　［検査工程］
　検査工程では、ガラス基板の平坦度や厚み、あるいは表面粗さや欠陥の有無等を検査する。そして、検査に合格したガラス基板のみが、異物等が表面に付着しないように、清浄な環境の中で、専用収納カセットに収納され、真空パックされた後、ＨＤＤ用ガラス基板として出荷される。
　＜ＨＤＤ用ガラス基板＞
　次に、前記のようにして製造されたＨＤＤ用ガラス基板について説明する。図１に示すように、本実施形態に係るＨＤＤ用ガラス基板５０は、その製造過程における洗浄工程で、外周端部の洗浄残りが解消されているから、外周端部に欠陥が残ることが抑制された高品質のＨＤＤ用ガラス基板である。
　＜ＨＤＤ用磁気記録媒体＞
　次に、前記ＨＤＤ用ガラス基板５０を用いて製造されたＨＤＤ用磁気記録媒体について説明する。本実施形態に係るＨＤＤ用磁気記録媒体は、前記ＨＤＤ用ガラス基板５０の主表面の上に記録層としての磁性膜が設けられたことにより製造されたものである。磁性膜は主表面の上に直接に又は間接に形成されてよい。磁性膜はガラス基板５０の片面に又は両面に形成されてよい。
　磁性膜の形成方法としては従来公知の方法を用いることができ、例えば磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂をガラス基板５０上にスピンコートして形成する方法や、スパッタリングや無電解めっきにより形成する方法等が挙げられる。スピンコート法での膜厚は約０．３μｍ～１．２μｍ程度、スパッタリング法での膜厚は０．０１μｍ～０．０８μｍ程度、無電解めっき法での膜厚は０．０１μｍ～０．１μｍ程度であり、薄膜化及び高密度化の観点からは、スパッタリング法や無電解めっき法による膜形成が好ましい。
　磁性膜に用いる磁性材料としては特に限定はなく、従来公知のものが使用できる。なかでも、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本材料とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金等が好適である。具体的には、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯ等が好ましい。
　磁性膜は、非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶ等）で分割し、ノイズの低減を図った多層構成（例えば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒＰｔＴａ／ＣｒＭｏ／ＣｏＣｒＰｔＴａ等）としてもよい。
　前記磁性材料の他、フェライト系や鉄－希土類系のものや、ＳｉＯ２、ＢＮ等からなる非磁性膜中に、Ｆｅ、Ｃｏ、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子を分散させた構造のグラニュラー等でもよい。
　磁性膜は、内面型及び垂直型のいずれの記録形式であってもよい。
　磁気ヘッドの滑りをよくするために磁性膜の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、例えば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系等の溶媒で希釈したもの等が挙げられる。
　本実施形態では、必要に応じて、記録層としての磁性膜の他に、下地層や保護層を設けてもよい。ＨＤＤ用磁気記録媒体における下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉ等の非磁性金属からなる群より選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。Ｃｏを主成分とする磁性膜の場合は、磁気特性の向上等の観点から、Ｃｒ単体やＣｒ合金であることが好ましい。下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造としても構わない。例えば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等の多層下地層とすることができる。
　保護層は、磁性膜の摩耗や腐食を防止するために設けられる。保護層としては、例えば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層等が挙げられる。これらの保護層は、下地層や磁性膜等と共に、インライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、これらの保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一又は異種の層からなる多層構造としてもよい。
　前記保護層上に、あるいは前記保護層に代えて、他の保護層を形成してもよい。例えば、前記保護層に代えて、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成することにより、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を形成してもよい。
　以上のように、基板として本実施形態に係るＨＤＤ用ガラス基板５０を用いて製造されたＨＤＤ用磁気記録媒体をＨＤＤに用いることで、ＨＤＤの高速回転時の磁気ヘッドの動作を安定にすることができる。
　また、本実施形態に係るＨＤＤ用磁気記録媒体は、外周端部に欠陥が残ることが抑制されたＨＤＤ用ガラス基板５０が用いられているから、最外周部まで清浄性が高い高品質のＨＤＤ用磁気記録媒体である。そのため、たとえ記録領域が記録媒体の外周端部にまで広がっていても、記録領域に障害が出ることが抑制される。
　なお、本実施形態では、研磨工程は、２回に分けて行ったが、これに限らず、１回のみ行ってもよい。また、化学強化工程を研磨工程の後に行ったが、状況に応じて研磨工程の前に行ってもよい。また、状況に応じて化学強化工程を省略することもできる。
　さらに、落下強度対策として、ガラス基板の主表面以外の外周端面や内周端面の強化を行ってもよいし、ガラス基板に生じたキズのエッジ緩和処理として、ガラス基板をＨＦ浸漬処理に供してもよい。
　本実施形態に係るＨＤＤ用ガラス基板は、ＨＤＤ用磁気記録媒体の製造用途に限定されるものではなく、例えば、光磁気ディスクや光ディスク等の製造用途にも用いることができる。
　本実施形態の技術的特徴をまとめると下記のようになる。
　本実施形態に係るＨＤＤ用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板５０を洗浄液３１で洗浄する洗浄工程を含むＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、洗浄工程では、ガラス基板５０に対して洗浄液３１をガラス基板５０の主表面に平行な方向であって相互に異なる複数の方向に順に流して洗浄することを特徴とする。
　本実施形態によれば、ガラス基板５０に対して洗浄液３１がガラス基板５０の主表面に平行な方向であって相互に異なる複数の方向に順に切り替わって流れるので、ある方向の洗浄液３１の流れに対しては保持用ロッド２３の裏に隠れる部分となっても、その部分は、別の方向の洗浄液３１の流れに対しては保持用ロッド２３の裏に隠れる部分ではなくなる。そのため、ガラス基板５０の外周端部の洗浄残りが解消されて、洗浄、乾燥後のガラス基板５０の外周端部に欠陥が残ることが抑制される。
　本実施形態においては、洗浄工程では、ガラス基板５０をその両側端部及び下端部の３点で保持して洗浄し、洗浄後、ガラス基板５０をその状態のまま乾燥し、前記保持部がガラス基板５０の中心に関して９０°ずつ離間している。
　本実施形態によれば、ガラス基板５０を洗浄中安定して保持することができる。また、３つの保持部がガラス基板５０の中心に関して９０°ずつ離間しているから、保持用ロッド２３とガラス基板５０との間に洗浄液３１が残留してガラス基板５０の外周端部に付着することが低減する。
　本実施形態においては、洗浄工程では、ガラス基板５０を複数の保持用ロッド２３で保持して洗浄し、洗浄後、ガラス基板５０をその状態のまま乾燥し、ガラス基板５０の全ての保持部で、ガラス基板５０と保持用ロッド２３とが必ず接している。
　本実施形態によれば、ガラス基板５０の外周端部と保持用ロッド２３とが離間している場合に生じ得る、ガラス基板５０の外周端部と保持用ロッド２３との間の洗浄液３１の膜が回避でき、ガラス基板５０の乾燥後に、洗浄液３１の膜が乾燥することに起因する付着物等の欠陥がガラス基板５０の外周端部に残ることが抑制される。
　本実施形態においては、洗浄液３１をガラス基板５０の主表面に関して上下方向及び横方向に流す。
　本実施形態によれば、特に、ガラス基板５０をその両側端部及び下端部の３点で保持して洗浄する場合に、乾燥時に保持部への洗浄液３１の液残りがなくなり、ガラス基板５０への洗浄液３１の乾燥染みやパーティクルの付着を防止できる。また、確実に保持用ロッド２３の裏に隠れる部分がなくなって、洗浄、乾燥後のガラス基板５０の外周端部に欠陥が残ることが確実に抑制される。
　本実施形態においては、洗浄液３１をガラス基板５０の主表面に関して上下方向の相対向する２方向及び横方向の相対向する２方向に流す。
　本実施形態によれば、特に、ガラス基板５０をその両側端部及び下端部の３点で保持して洗浄する場合に、乾燥時に保持部への洗浄液３１の液残りが確実になくなり、ガラス基板５０への洗浄液３１の乾燥染みやパーティクルの付着を確実に防止できる。また、より一層確実に保持用ロッド２３の裏に隠れる部分がなくなって、洗浄、乾燥後のガラス基板５０の外周端部に欠陥が残ることがより一層確実に抑制される。
　本実施形態に係るＨＤＤ用ガラス基板５０は、前記ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法により製造されたことを特徴とする。
　本実施形態によれば、その製造過程における洗浄工程で、外周端部の洗浄残りが解消されているから、外周端部に欠陥が残ることが抑制された高品質のＨＤＤ用ガラス基板５０が得られる。
　本実施形態に係るＨＤＤ用磁気記録媒体は、前記ＨＤＤ用ガラス基板５０の主表面の上に記録層が設けられたことにより製造されたことを特徴とする。
　本実施形態によれば、外周端部に欠陥が残ることが抑制されたＨＤＤ用ガラス基板５０が用いられているから、最外周部まで清浄性が高い高品質のＨＤＤ用磁気記録媒体が得られる。そのため、たとえ記録領域が記録媒体の外周端部にまで広がっていても、記録領域に障害が出ることが抑制される。
　本実施形態によれば、洗浄、乾燥後のＨＤＤ用ガラス基板５０の外周端部に欠陥が残らないようにすることができるから、近年の磁気記録媒体の情報の高密度化、ひいては磁気ヘッドの浮上高さの微小化に十分対応できる。
　以下、実施例及び比較例を通して、本発明をさらに詳しく説明する。ただし、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
　＜ＨＤＤ用ガラス基板の製造＞
　図２に示した製造工程に従い、下記の組成（質量％）のガラス素材を用いて、外径が約６５ｍｍ（２．５インチ）、内径（円孔の径）が約２０ｍｍ、板厚が１ｍｍの環状のアルミノシリケート製ガラス基板を作製した。
　（ガラス素材の組成）
・ＳｉＯ２：５０～７０％
・Ａｌ２Ｏ３：０．１～２０％
・Ｂ２Ｏ３：０～５％
　ただし、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３＝６０～８５％であり、また、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ＝０．１～２０％であり、また、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＺｎＯ＝２～２０％である。
　なお、最終洗浄工程では、表１に示すように、実施例１は、洗浄液の流れ方向を上下２方向とし（噴流と掛流しとを順に切り替えて流した）、実施例２は、洗浄液の流れ方向を左右２方向とし（左層流と右層流とを順に切り替えて流した）、実施例３は、洗浄液の流れ方向を上下左右４方向とし（噴流と掛流しと左層流と右層流とを順に切り替えて流した）、実施例４は、洗浄液の流れ方向を上下１方向と左右１方向とした（噴流又は掛流しと左層流又は右層流とを順に切り替えて流した）。また、比較例１は、洗浄液の流れ方向を上下１方向のみとし（噴流又は掛流しのみ）、実施例２は、洗浄液の流れ方向を左右１方向のみとした（左層流又は右層流のみ）。
　実施例１～４及び比較例１、２において、洗浄キャリア、洗浄キャリアのガラス基板収容枚数、洗浄槽の大きさ、洗浄液の種類、洗浄液の流量又は流速、その他の洗浄条件は全て同じに揃えた。
　＜ＨＤＤ用ガラス基板の評価＞
　［欠陥の有無］
　得られたガラス基板の外周端部に、図４に例示したような欠陥があるか否かを、日本機販社から商業的に入手し得る、欠陥可視化・外観検査装置「Ｍｉｃｒｏ－ＭＡＸ」を用いて検査した。サンプル数は、実施例１～４及び比較例１、２において、それぞれ１００枚とした。結果を表１に示す。
　＜ＨＤＤ用磁気記録媒体の製造＞
　得られたガラス基板の主表面の上に磁性膜（記録層）を設けて磁気記録媒体とした。すなわち、ガラス基板側から、Ｎｉ－Ａｌからなる下地層（厚み約１００ｎｍ）、Ｃｏ－Ｃｒ－Ｐｔからなる記録層（厚み２０ｎｍ）、ＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ　Ｌｉｋｅ　Ｃａｒｂｏｎ）からなる保護膜（厚み５ｎｍ）を順次積層した。
　＜ＨＤＤ用磁気記録媒体の評価＞
　［リードライト試験］
　得られた磁気記録媒体について、ＤＦＨ機構を搭載した磁気ヘッドで、リードライト試験を行い、エラーの発生枚数を記録した。サンプル数は、実施例１～４及び比較例１、２において、それぞれ５０枚とした。結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　＜結果の考察＞
　洗浄槽内で洗浄液を１方向にのみ流した比較例１、２に比べて、洗浄槽内で洗浄液を複数方向に切り替えて流した実施例１～４は、ガラス基板の欠陥枚数及び磁気記録媒体のリードライトエラー枚数共に評価結果に優れていた。
　実施例１～４のうちでも、洗浄槽内で洗浄液を上下左右４方向に切り替えて流した実施例３は、特にガラス基板の欠陥枚数が零枚であった。
　この出願は、２０１１年６月３０日に出願された日本国特許出願特願２０１１－１４６２３０を基礎とするものであり、その内容は、本願に含まれるものである。
　本発明を表現するために、前述において図面を参照しながら実施形態を通して本発明を適切かつ十分に説明したが、当業者であれば前述の実施形態を変更及び／又は改良することは容易になし得ることであると認識すべきである。したがって、当業者が実施する変更形態又は改良形態が、請求の範囲に記載された請求項の権利範囲を離脱するレベルのものでない限り、当該変更形態又は当該改良形態は、当該請求項の権利範囲に包括されると解釈される。
　本発明は、ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法、ＨＤＤ用ガラス基板、及びＨＤＤ用磁気記録媒体の技術分野において、広範な産業上の利用可能性を有する。

Claims (7)

  1. 　ガラス基板を洗浄液で洗浄する洗浄工程を含むＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、
    　洗浄工程では、ガラス基板に対して洗浄液をガラス基板の主表面に平行な方向であって相互に異なる複数の方向に順に流して洗浄することを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
  2. 　洗浄液をガラス基板の主表面に関して上下方向及び横方向に流すことを特徴とする請求項１に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
  3. 　洗浄液をガラス基板の主表面に関して上下方向の相対向する２方向及び横方向の相対向する２方向に流すことを特徴とする請求項２に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
  4. 　洗浄工程では、ガラス基板をその両側端部及び下端部の３点で保持して洗浄し、洗浄後、ガラス基板をその状態のまま乾燥し、前記保持部がガラス基板の中心に関して９０°ずつ離間していることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
  5. 　洗浄工程では、ガラス基板を複数の保持用ロッドで保持して洗浄し、洗浄後、ガラス基板をその状態のまま乾燥し、ガラス基板の全ての保持部で、ガラス基板と保持用ロッドとが必ず接していることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
  6. 　請求項１から５のいずれか１項に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法により製造されたことを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板。
  7. 　請求項６に記載のＨＤＤ用ガラス基板の主表面の上に記録層が設けられたことにより製造されたことを特徴とするＨＤＤ用磁気記録媒体。
PCT/JP2012/004141 2011-06-30 2012-06-27 Ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法、ｈｄｄ用ガラス基板、及びｈｄｄ用磁気記録媒体 WO2013001798A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201280042049.2A CN103988257A (zh) 2011-06-30 2012-06-27 Hdd用玻璃基板的制造方法、hdd用玻璃基板以及hdd用磁记录介质
JP2013522434A JP6131187B2 (ja) 2011-06-30 2012-06-27 Ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011-146230 2011-06-30
JP2011146230 2011-06-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013001798A1 true WO2013001798A1 (ja) 2013-01-03

Family

ID=47423718

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/004141 WO2013001798A1 (ja) 2011-06-30 2012-06-27 Ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法、ｈｄｄ用ガラス基板、及びｈｄｄ用磁気記録媒体

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6131187B2 (ja)
CN (1) CN103988257A (ja)
WO (1) WO2013001798A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106540910A (zh) * 2016-12-09 2017-03-29 苏州爱彼光电材料有限公司 游星轮片清洗架

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001274133A (ja) * 2000-03-27 2001-10-05 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置および基板処理方法
JP2003151125A (ja) * 2001-11-09 2003-05-23 Nippon Sheet Glass Co Ltd 情報記録媒体用ガラス基板の洗浄用ホルダー
JP2006186310A (ja) * 2004-11-30 2006-07-13 Ses Co Ltd 基板処理装置及び基板処理方法
JP2008105932A (ja) * 2006-09-29 2008-05-08 Hoya Corp 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、および、ガラス基板ホルダ
WO2008068997A1 (ja) * 2006-12-04 2008-06-12 Konica Minolta Opto, Inc. 記録媒体用ガラス基板の製造方法、記録媒体用ガラス基板、記録媒体及び保持治具
JP2010267340A (ja) * 2009-05-15 2010-11-25 Showa Denko Kk 流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4397299B2 (ja) * 2004-07-30 2010-01-13 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP4586660B2 (ja) * 2005-07-19 2010-11-24 旭硝子株式会社 円盤状ガラス基板の洗浄方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001274133A (ja) * 2000-03-27 2001-10-05 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置および基板処理方法
JP2003151125A (ja) * 2001-11-09 2003-05-23 Nippon Sheet Glass Co Ltd 情報記録媒体用ガラス基板の洗浄用ホルダー
JP2006186310A (ja) * 2004-11-30 2006-07-13 Ses Co Ltd 基板処理装置及び基板処理方法
JP2008105932A (ja) * 2006-09-29 2008-05-08 Hoya Corp 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、および、ガラス基板ホルダ
WO2008068997A1 (ja) * 2006-12-04 2008-06-12 Konica Minolta Opto, Inc. 記録媒体用ガラス基板の製造方法、記録媒体用ガラス基板、記録媒体及び保持治具
JP2010267340A (ja) * 2009-05-15 2010-11-25 Showa Denko Kk 流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP6131187B2 (ja) 2017-05-17
JPWO2013001798A1 (ja) 2015-02-23
CN103988257A (zh) 2014-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5386036B2 (ja) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
JP2009193608A (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体
JP5635078B2 (ja) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
JP5536481B2 (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法
JP6131187B2 (ja) Ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法
JP2008217918A (ja) 磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体
WO2013046575A1 (ja) ガラス基板、該ガラス基板を用いた情報記録媒体および当該ガラス基板の製造方法
JP5755955B2 (ja) Ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法
JP5781845B2 (ja) Ｈｄｄ用ガラス基板、ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法、及びｈｄｄ用磁気記録媒体
JP6131188B2 (ja) Ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法、及びｈｄｄ用ガラス基板の製造方法に用いる洗浄キャリア
JP2012203937A (ja) 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP2008204499A (ja) 情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体
JP5859757B2 (ja) Ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法
JP5706250B2 (ja) Ｈｄｄ用ガラス基板
JP5869241B2 (ja) Ｈｄｄ用ガラス基板、ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法、及びｈｄｄ用磁気記録媒体
JP6328052B2 (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法および研磨パッド
JP5897959B2 (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP5360331B2 (ja) Ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法
JP3511002B2 (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法
JP2013012282A (ja) Ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法
JP4993047B1 (ja) 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP6021911B2 (ja) 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP2013211075A (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP2012079370A (ja) 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
WO2012131814A1 (ja) 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気情報記録媒体用ガラス基板

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12804257

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2013522434

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 12804257

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1