CN102629476A - 光记录再现方法及装置、光记录介质及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

提供光记录再现方法及装置、光记录介质及其制造方法。光记录介质包括：预先层叠而成或事后形成且不具有循轨控制用凹凸的记录再现层、形成有循轨控制用凹凸或沟槽的伺服层，而且一边利用该伺服层来进行循轨，一边对记录再现层进行信息记录。

Description

光记录再现方法及装置、光记录介质及其制造方法
技术领域
本发明涉及具有多层记录再现层的光记录介质、对该光记录介质进行信息记录的光记录再现方法及装置、该光记录介质的制造方法。
背景技术
迄今为止，为了视听数码视频内容(digital video contents)或记录数字数据，已广泛应用CD-DA、CD-ROM、CD-R、CD-RW、DVD-ROM、DVD-R、DVD+/-RW、DVD-RAM、Blu-ray Disc(BD：蓝光盘)等光记录介质。其中，就作为次世代型DVD标准之一的BD而言，用于记录再现的激光的波长为405nm的短波长，物镜的数字孔径为0.85。在与BD标准相对应的光记录介质上，以0.32μm的间隔形成有轨道(track)。这样，针对光记录介质上的一层记录再现层，能够实现25GB以上的记录再现。
然而，数码视频及数据的容量，预计今后会变得越来越大。于是，正探讨研究通过将光记录介质中的记录再现层形成为多层来使光记录介质的容量增大的方法。关于BD标准的光记录介质，也有关于通过设置6～8层记录再现层来实现200GB的超大容量的技术的报道(参照非专利文献1、2)。
另一方面，在光记录介质中将记录再现层形成为多层的情况下，若想要在各记录再现层上形成凹槽/岸台等循轨控制(tracking control)用凹凸，则可能会使介质结构变得复杂、偏心调整等作业变得困难。还有，每设置一层记录再现层都需要用于形成凸凹的成为母盘的压模，所以层数越多，则需使用该压模的次数就越多，这会使制造成本增大。
于是，关于光记录介质，近年提出了如下技术：分别设置具有凹凸或沟槽的伺服层及不具有凹凸或沟槽的记录再现层，一边利用循轨控制专用光束来从伺服层获取循轨信号，一边利用记录再现专用光束来对记录再现层进行信息记录(参照专利文献1、2)。
进而，最近，提出了20层ROM型光记录介质(参照非专利文献3)、10～16层可写一次型光记录介质(参照非专利文献4、5、6)等技术，使得利用与BD标准相同的光学系统(波长及数字孔径)来实现500GB左右的记录容量的可能性变高。
另外，还提出了如下技术：以同时读取两层为目的，交替层叠具有凹凸或沟槽的记录层和不具有凹凸或沟槽的记录层(参照专利文献3)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：JP特开2008-97693号公报
专利文献2：JP特开2008-97694号公报
专利文献3：国际公布WO2008/099708
非专利文献
非专利文献1：I.Ichimura et.al.，Appl.Opt，45，1974-1803(2006)
非专利文献2：K.Mishima et.al.，Proc.of SPIE，6282，62820I(2006)
非专利文献3：A.Mitsumori et.al.，Jpn.J.Appl.Phys.，48，03A055(2009)
非专利文献4：T.Kikukawa et.al.，Jpn.J.Appl.Phys.，49，08KF01(2010)
非专利文献5：M.Inoue et.al.，Proc.SPIE，7730，77300D(2010)
非专利文献6：M.Ogasawara et.al.，Tech.Dig.of International Symposiumon Optical Memory 2010，224(2010)
但是，在专利文献3的技术中，若使记录再现层的层数增多，则具有凹凸或沟槽的记录层的层数会增多，其结果，会使介质结构变得复杂、偏心调整等作业变得困难。
另外，在专利文献1、2的技术中，随着记录再现层的层数增多，记录再现层和伺服层之间的距离变大，使得两者之间容易发生膜厚公差。具体地讲，利用照射至记录再现层上的记录再现用光束来进行对焦控制，利用照射至伺服层上的循轨用光束来仅进行循轨控制。即，循轨用光束的焦点依赖于对记录再现用光束的对焦控制。其结果，存在如下问题：若膜厚公差变大，则循轨用光束的焦点位置会变动，使得循轨信号变得不稳定，无法实现充分的循轨控制。要解决该问题，可以考虑采用在用于进行循轨控制的光束的光学系统上也导入对焦伺服机构的方法，但即使采用这样的方法，也存在如下问题：能够修正的膜厚公差存在极限，并且光读写头变大。
尤其是，在记录再现用光束和循轨用光束共享一个物镜的情况下，需要通过使入射至物镜的两光束的扩散角度互不相同来使两者的焦点位置相错开。两光束的扩散角度的不同程度越大，则利用循轨用光束的循轨控制和利用记录再现用光束的循轨控制之间的偏差变得越大。例如，在光记录介质发生了弯曲的情况下等，会存在循轨位置和记录位置之间错位很严重的问题。
另外，若光记录介质的记录再现层的层数越多，则记录再现用光束光斑在层叠方向上的移动距离变得越长。其结果，会存在如下问题：在记录再现时，会受到盘片倾斜等时的慧差(coma)的影响。
另外，在专利文献1～3的技术中存在如下问题：例如，在记录再现专用光束从所希望的记录再现层发生漏光的情况下，漏光的该光束会被伺服层反射而产生串扰。尤其是，若记录再现层的层数增多，则必须降低各记录再现层的反射率，因此存在记录再现专用光束的漏光量增多的问题。
进而，若记录再现层的层数增多，则在光记录介质内的厚度方向上大范围地配置记录再现层。其结果，记录再现用的光读写头必须在厚度方向上的大范围内实现光束的聚焦，所以必须在宽范围内设定球差的修正范围。因此，存在如下问题：光读写头的结构变得复杂及大型化，光读写头对记录再现层的搜寻时间(seek time)变长。
另外，若记录再现层的层数增多，则光记录介质的容量增大，但仅凭这也不会使记录再现速度提高。例如，若不提高记录速度而仅使光记录介质的记录容量增大，则会存在如下问题：用户在记录动作中的待机时间变长，这会使用户感到不方便。
进而，在对具有多层记录再现层的光记录介质进行信息记录的情况下，需要对每一层记录再现层都进行用于优化记录用的激光器功率及其输出参数的OPC(Optimum Power Control：最佳功率控制)。此外，在该OPC中，针对各记录再现层的试写区域，一边阶段性地改变输出功率一边记录随机数据，并对该记录数据进行再现及分析，由此对激光器的记录功率电平(Pw)、擦除功率电平(Pe)等。若采用OPC，则考虑温度等使用环境、安装在驱动器上的激光器的个体差、各记录再现层的随时间劣化等，能够在刚要记录之前优化激光器功率。然而，存在记录前的准备时间会相应变长的问题。
尤其是，在对多层记录再现层连续进行信息记录的情况下，为了维持信息传输率的连续性，也需要如下准备动作：预先对成为记录对象的多层记录再现层的全体进行OPC，并将各记录再现层的互不相同的输出参数保持在存储器中。其结果，存在记录前的准备时间变得越来越长的问题。
另外，在OPC中阶段性地改变输出功率来记录随机数据，所以在试写区域上，会照射通常不可能采用的高功率的光束而形成异常标记。例如，在对某一特定的记录再现层的试写区域进行OPC的情况下，若与此相邻的记录再现层的试写区域形成有异常标记，则该异常标记所产生的反射噪声变得明显，无法进行正确的OPC。若要解决该问题，则必须采用宽广的试写区域，并将OPC控制为使所记录的随机数据在相邻的记录再现层之间不重叠。其结果，以提高光记录介质的容量为目的而越使记录再现层的层数增多，就越得加宽各记录再现层的试写区域，所以存在用户数据区域变小的问题。
在如专利文献1～3那样分别独立地设置伺服层和记录再现层的光记录介质中，越是远离伺服层的记录再现层，就越容易发生记录标记的形成位置在上径向的错位。因此，若考虑该错位，则也需要确保宽广的试写区域，所以存在用户数据区域进一步变小的问题。另外，例如，若为了使记录再现层增多而在光记录介质的一个面侧形成多层的伺服层，则成膜时的内部应力容易集中在光记录介质的一侧，所以光记录介质发生弯曲及变形。因该弯曲及变形而也会存在如下问题：记录标记的形成位置在径向上的错位变得越容易发生，所以需要确保更加宽广的试写区域。
在专利文献1、2的技术中制造光记录介质时，由于执行交替层叠记录再现层和间隔层的工序，所以它们成膜时的内部应力会集中于光记录介质的一侧面上。其结果，存在光记录介质容易发生大的弯曲及变形的问题。尤其是，若记录再现层的层数增多，则内部应力的蓄积量增多，使得光记录介质的变形量也变大。若光记录介质变形，则循轨用光束光斑和记录再现用光束光斑也会错位，这会导致循轨特性明显下降的问题。
从上述内容可知，在如专利文献1、2的技术那样的分离设置伺服层和记录再现层的光记录介质中，要求进一步减小其弯曲或变形量。要使弯曲或变形量减小，也可以考虑采用玻璃基板等超刚性体，但这会使制造成本增加。
进而，在一个光记录介质内形成多层伺服层的情况下，各伺服层彼此的凹槽/岸台的位置可能会发生错位。在这样的情况下，根据记录时利用了哪一伺服层，导致形成在记录再现层上的记录标记的相对位置会不同。若是这样，则例如在同时向两层记录再现层进行信息记录或同时对记录于两层记录再现层上的数据进行再现时，需要进行复杂的控制。
发明内容
本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于，提供一种对于具有伺服层和记录再现层的光记录介质始终稳定地进行循轨控制的技术。另外，其另一目的在于，提高记录再现时的信号品质。其另一目的在于，提供一种在光记录介质中即使采用多层记录再现层也能够提高传输率的光记录再现技术。其另一目的在于，抑制制造后的光记录介质的弯曲或变形，使得高效率的记录再现变为可能。其另一目的在于，提供一种即使记录再现层的层数变多，也能够抑制光记录再现装置的光读写头变得复杂，而且能够高效率地进行记录再现的光记录再现技术等。
本发明的发明者们通过精心研究，通过如下的手段实现了上述目的。
提供一种光记录再现方法，对光记录介质中的记录再现层进行信息记录，所述光记录介质具有：所述记录再现层，是预先层叠而成或事后形成的，并不具有循轨控制用凹凸，伺服层，形成有循轨控制用凹凸或沟槽；所述光记录再现方法的特征在于，一边利用所述伺服层来进行循轨，一边对所述记录再现层进行信息记录。
在上述光记录再现方法中，优选其特征在于，所述光记录介质具有多层所述记录再现层，所述光记录再现方法包括：伺服层利用步骤，一边利用所述伺服层来进行循轨，一边对所述记录再现层进行信息记录；已记录区域利用步骤，一边利用所述记录再现层上的已记录信息区域来进行循轨，一边对其他所述记录再现层进行信息记录。
在上述光记录再现方法中，优选其特征在于，一边将第一波长的循轨用光束照射至所述伺服层来进行循轨控制，一边将比所述第一波长短的第二波长的记录再现用光束照射至所述记录再现层来进行信息记录或再现，使所述记录再现用光束的所述第二波长的光透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时的所述伺服层的反射率，比使所述循轨用光束的所述第一波长的光透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时的所述伺服层的反射率更低。
在上述光记录再现方法中，优选其特征在于，所述光记录介质具有：配置在第一表面侧的多层第一所述记录再现层；配置在与所述第一表面相反一侧的第二表面侧且层数与第一所述记录再现层的层数相同的第二所述记录再现层；同时执行第一记录再现动作和第二记录再现动作，在该第一记录再现动作中，将第一记录再现用光束从所述第一表面照射至第一所述记录再现层来进行信息的记录或再现，在该第二记录再现动作中，将第二记录再现用光束从所述第二表面照射至第二所述记录再现层来进行信息的记录或再现。
在上述光记录再现方法中，优选其特征在于，所述光记录介质具有基板，所述伺服层形成在所述基板的一个面上，第一所述记录再现层配置在所述基板的所述伺服层一侧，第二所述记录再现层配置在所述基板的与所述伺服层相反的一侧，一边利用所述伺服层来进行循轨控制，一边对所述第一记录再现层及所述第二记录再现层进行信息记录。
在上述光记录再现方法中，优选其特征在于，第一记录动作，一边将循轨用光束照射至所述伺服层来进行循轨控制，一边将第一记录再现用光束照射至第一所述记录再现层来进行信息记录；第二记录动作，一边利用与所述第一记录动作共享的所述循轨用光束及所述伺服层来进行循轨控制，一边将第二记录再现用光束照射至第二所述记录再现层来进行信息记录。
在上述光记录再现方法中，优选其特征在于，第一所述记录再现层配置在所述伺服层的第一表面一侧，第二所述记录再现层配置在所述伺服层的第二表面一侧，所述光记录再现方法还包括：第一记录动作，一边将循轨用光束照射至所述伺服层来进行循轨控制，一边将第一记录再现用光束从所述第一表面照射至第一所述记录再现层，由此沿着从所述第一表面侧观察时的第一旋转方向进行信息记录，第二记录动作，一边利用与所述第一记录动作共享的所述伺服层来进行循轨控制，一边将第二记录再现用光束从所述第二表面照射至第二所述记录再现层，由此沿着从所述第二表面侧观察时的与所述第一旋转方向相反的第二旋转方向进行信息记录，而且该第二记录动作与所述第一记录动作同时执行。
为了达到上述目的，本发明还提供一种光记录再现装置，用于对光记录介质的记录再现层进行信息记录，所述光记录介质具有：记录再现层，是预先层叠而成或事后形成的，并不具有循轨控制用凹凸，伺服层，形成有循轨控制用凹凸或沟槽；所述光记录再现装置的特征在于，一边利用所述伺服层来进行循轨，一边对所述记录再现层进行信息记录。
在上述的光记录再现装置，优选其特征在于，所述光记录介质在第一表面侧具有多层第一所述记录再现层，在与所述第一表面相反的第二表面侧具有层数与第一所述记录再现层的层数相同的第二所述记录再现层，所述光记录再现装置具有：第一记录再现用光学系统，配置在所述光记录介质的所述第一表面一侧，用于将第一记录再现用光束从所述第一表面照射至第一所述记录再现层来进行信息的记录或再现，第二记录再现光学系统，配置在所述光记录介质的所述第二表面一侧，用于将第二记录再现用光束从所述第二表面照射至第二所述记录再现层来进行信息的记录或再现。
在上述的光记录再现装置，优选其特征在于，所述光记录介质具有基板，所述记录再现层在所述基板的与所述伺服层侧相同的一侧配置有多层，所述记录再现装置还具有：循轨用光学系统，用于将循轨用光束照射至所述伺服层，第一记录再现用光学系统，在通过所述循轨用光学系统来进行循轨控制时，将第一记录再现用光束照射至第一所述记录再现层来进行信息记录，第二记录再现用光学系统，在通过所述循轨用光学系统进行循轨控制时，将第二记录再现用光束照射至第二所述记录再现层来进行信息记录。
在上述的光记录再现装置，优选其特征在于，所述光记录介质在所述伺服层的第一表面一侧具有多层第一所述记录再现层，并在所述伺服层的第二表面一侧具有多层第二所述记录再现层，所述记录再现装置还具有：循轨用光学系统，用于将循轨用光束照射至所述伺服层，第一记录再现用光学系统，在通过所述循轨用光学系统来进行循轨控制时，将第一记录再现用光束从所述第一表面照射至所述第一记录再现层，由此沿着从所述第一表面侧观察时的第一旋转方向进行信息记录，第二记录再现用光学系统，在通过所述循轨用光学系统来进行循轨控制时，将第二记录再现用光束从所述第二表面照射至所述第二记录再现层，由此沿着从所述第二表面侧观察时的与所述第一旋转方向相反的第二旋转方向进行信息记录，而且该第二记录再现用光学系统与所述第一记录再现光学系统同时进行记录。
为了达到上述目的，本发明还提供一种光记录介质，其特征在于，具有：伺服层，具有循轨控制用凹凸或沟槽，记录再现层，是预先层叠而成或事后形成的，并不具有循轨控制用凹凸；对所述光记录介质的信息的记录或再现，是一边将循轨用光束照射至所述伺服层来进行循轨控制，一边将记录再现用光束照射至所述记录再现层来进行的。
在上述述的光记录介质中，优选其特征在于，所述光记录介质是，一边将第一波长的循轨用光束照射至所述伺服层上来进行循轨控制，一边将波长比所述第一波长短的第二波长的记录再现用光束照射至所述记录再现层上来进行信息的记录或再现的光记录介质，使所述记录再现用光束的所述第二波长的光透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时的所述伺服层的反射率，比使所述循轨用光束的所述第一波长的光透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时的所述伺服层的反射率更低。
在上述述的光记录介质中，优选其特征在于，所述光记录介质还具有基板，所述伺服层形成在所述基板的一个面上，第一所述记录再现层形成在所述基板的所述伺服层一侧，第二所述记录再现层配置在所述基板的与所述伺服层相反的一侧，在对第一所述记录再现层及第二所述记录再现层进行信息记录时，利用所述伺服层来进行循轨控制。
在上述述的光记录介质中，优选其特征在于，第一所述伺服层，在第一螺旋方向上具有所述循轨控制用凹凸或沟槽，第二所述伺服层，在与所述第一螺旋方向相反的第二螺旋方向上具有所述循轨控制用凹凸或沟槽，多层第一所述记录再现层，配置在所述第一及第二的伺服层的第一表面一侧，多层第二所述记录再现层，配置在所述第一及第二的伺服层的第二表面一侧。
为了达到上述目的，本发明还提供一种光记录介质的制造方法，其特征在于，包括：在由透光性材料构成的基板的一个面上，形成具有循轨控制用凹凸或沟槽的伺服层的步骤；同时层叠第一缓冲层和第二缓冲层的步骤，所述第一缓冲层配置于所述基板的所述伺服层一侧，所述第二缓冲层配置于所述基板的与所述伺服层相反的一侧；同时层叠第一记录再现层和第二记录再现层的步骤，所述第一记录再现层配置于所述第一缓冲层一侧，且是不具有循轨控制用凹凸的平面结构，所述第二记录再现层配置于所述第二缓冲层一侧，且是具有循轨控制用凹凸的平面结构。
若采用本发明，则针对具有伺服层和记录再现层的光记录介质，能够一边始终稳定地进行循轨控制，对记录再现层进行信息记录。
若采用本发明，则在具有伺服层和记录再现层的光记录介质中，能够提高记录再现时的信号品质。
另外，在光记录介质中，即使将记录再现层形成为多层，也能够提高传输率。
进而，针对具有伺服层和记录再现层的光记录介质，能够抑制弯曲及变形，同时，也能够高效率地进行记录再现。
即使记录再现层的层数变多，也能够抑制光记录再现装置的光读写头变得复杂，而且能够高效率地进行记录再现。
附图说明
图1是示出了用于实现本发明实施方式的光记录介质的光记录再现方法的光读写头的结构的框图。
图2是示出了上述光记录介质的叠层结构的剖面图。
图3A、图3B是放大示出了上述光记录再现方法的记录步骤的剖面图。
图4A、图4B是放大示出了上述光记录再现方法的记录步骤的剖面图。
图5是示出了在本发明实施方式的光记录再现方法中所采用的光记录介质的其他叠层结构例的剖面图。
图6A、图6B是放大示出了上述光记录再现方法的记录步骤的其他例子的剖面图。
图7A、图7B是放大示出了上述光记录再现方法的记录步骤的其他例子的剖面图。
图8是示出了本发明第二实施方式的光记录介质及用于实现该光记录介质的光记录再现的光读写头的内部结构的框图。
图9是示出了上述光记录介质的叠层结构的剖面图。
图10A是放大示出了上述光记录介质的光记录再现方法的记录步骤的剖面图，图10B是放大示出了再现步骤的剖面图。
图11A是示出了第三实施方式的光记录介质的叠层结构的剖面图，图11B是放大示出了上述光记录介质的记录再现步骤的剖面图。
图12A是示出了第三实施方式的光记录介质的叠层结构的其他例子的剖面图，图12B是放大示出了上述光记录介质的记录再现步骤的剖面图。
图13是示出了第四实施方式的光记录介质的叠层结构的剖面图。
图14是示出了用于上述光记录再现的光读写头的整体结构的图。
图15是将实施例的光记录介质的叠层结构的局部放大示出的剖面图。
图16是示出了实施例和比较例的评价结果的表格。
图17是示出了实施例和比较例的再现信号的输出波形的图。
图18是示出了本发明第二实施方式的光记录介质的其他结构例的剖面图。
图19是示出了用于实现本发明第五实施方式的光记录再现方法的光记录再现装置及光记录介质的整体结构的框图。
图20是示出了上述光记录再现装置的第一光读写头的内部结构的例子的框图。
图21是示出了上述光记录再现装置的第二光读写头的内部结构的例子的框图。
图22是示出了上述光记录介质的叠层结构的剖面图。
图23A是示出了上述光记录介质的制造步骤的剖面图。
图23B是示出了上述光记录介质的制造步骤的剖面图。
图23C是示出了上述光记录介质的制造步骤的剖面图。
图23D是示出了上述光记录介质的制造步骤的剖面图。
图24是示出了上述光记录再现装置的记录功率的设定步骤的流程图。
图25A～图25D是放大示出了通过光记录再现方法针对光记录介质执行OPC的执行步骤的剖面图。
图26是示出了通过上述光记录再现装置执行OPC时的记录功率的变化的曲线图。
图27A～图27D是放大示出了通过上述光记录再现方法对光记录介质进行记录的记录步骤的剖面图。
图28是放大示出了通过上述光记录再现方法对光记录介质进行再现的再现步骤的剖面图。
图29是示出了能够应用上述光记录再现方法的光记录介质的其他叠层结构例的剖面图。
图30是示出了能够应用上述光记录再现方法的光记录介质的其他叠层结构例的剖面图。
图31是示出了能够应用上述光记录再现方法的光记录介质的其他叠层结构例的剖面图。
图32是示出了本发明第六实施方式的光记录再现装置的记录功率的设定步骤的流程图。
图33是放大示出了通过上述光记录再现方法针对光记录介质执行OPC的执行步骤的剖面图。
图34是放大示出了通过上述光记录再现方法对光记录介质进行记录的记录步骤的剖面图。
图35是放大示出了通过上述光记录再现方法对光记录介质进行记录的记录步骤的剖面图。
图36是放大示出了通过上述光记录再现方法对光记录介质进行再现的再现步骤的剖面图。
图37是放大示出了通过本发明第七实施方式的光记录再现方法对光记录介质进行记录的记录步骤的剖面图。
图38是放大示出了通过上述光记录再现方法对光记录介质进行记录的记录步骤的剖面图。
图39是放大示出了通过上述光记录再现方法对光记录介质进行再现的再现步骤的剖面图。
图40是示出了能够应用上述光记录再现方法的光记录介质的其他叠层结构例的剖面图。
图41是示出了上述光记录再现方法的其他记录步骤及其他光记录介质的例子的剖面图。
图42A是放大示出了通过上述光记录再现方法对光记录介质进行记录的记录步骤的其他例子的剖面图。
图42B是放大示出了通过上述光记录再现方法对光记录介质进行记录的记录步骤的其他例子的剖面图。
图43是示出了用于实现本发明第八实施方式的光记录介质的光记录再现的光读写头的整体结构的框图。
图44是示出了上述光读写头的内部结构的例子的框图。
图45是示出了上述光读写头的内部结构的例子的框图。
图46是示出了上述光记录介质的叠层结构的剖面图。
图47A是放大示出了上述光记录介质的光记录再现方法的记录步骤的剖面图。
图47B是放大示出了上述光记录介质的光记录再现方法的记录步骤的剖面图。
图47C是放大示出了上述光记录介质的光记录再现方法的记录步骤的剖面图。
图47D是放大示出了上述光记录介质的光记录再现方法的记录步骤的剖面图。
图48是示出了本实施方式的光记录介质的其他叠层结构例的剖面图。
图49是示出了本实施方式的光记录介质的其他叠层结构例的剖面图。
图50是示出了本实施方式的光记录介质的其他叠层结构例的剖面图。
图51是示出了用于实现本发明第九实施方式的光记录再现方法的光记录再现装置及光记录介质的整体结构的框图。
图52是示出了上述光记录再现装置的第一光读写头的内部结构的例子的框图。
图53是示出了上述光记录再现装置的第二光读写头的内部结构的例子的框图。
图54是示出了上述光记录介质的叠层结构的剖面图。
图55A是示出了上述光记录介质的制造步骤的剖面图。
图55B是示出了上述光记录介质的制造步骤的剖面图。
图55C是示出了上述光记录介质的制造步骤的剖面图。
图55D是示出了上述光记录介质的制造步骤的剖面图。
图55E是示出了上述光记录介质的制造步骤的剖面图。
图56是放大示出了通过上述光记录再现方法对光记录介质进行记录的记录步骤的剖面图。
图57是放大示出了通过上述光记录再现方法对光记录介质进行记录的记录步骤的剖面图。
图58是放大示出了通过上述光记录再现方法对光记录介质进行再现的再现步骤的剖面图。
图59是示出了通过上述光记录再现方法对光记录介质进行记录的记录再现步骤的立体图。
图60是放大示出了通过上述光记录再现方法对光记录介质进行再现的其他再现步骤的剖面图。
图61是示出了能够应用上述光记录再现方法的光记录介质的其他叠层结构例的剖面图。
图62是示出了能够应用上述光记录再现方法的光记录介质的其他叠层结构例的剖面图。
图63是示出了能够应用上述光记录再现方法的光记录介质的其他叠层结构例的剖面图。
图64是示出了能够应用上述光记录再现方法的光记录介质的其他叠层结构例的剖面图。
具体实施方式
下面，参照附图来对本发明的实施方式进行说明。
图1示出了本发明第一实施方式的光记录介质10和用于对该光记录介质10进行记录再现的光读写头90的结构。光读写头90具有第一光学系统100和第二光学系统200。第一光学系统100是对光记录介质10的记录再现层组14进行记录及再现的光学系统(记录再现用光学系统)。第二光学系统200是用于进行循轨控制的光学系统(循轨用光学系统)，在利用第一光学系统100对记录再现层组14进行信息记录时，该第二光学系统200利用后述的伺服层18和/或记录再现层组14的已记录区域来进行循轨控制。
从第一光学系统100的光源101出射且蓝色波长380～450nm(本实施方式中为405nm)的发散的记录再现用光束170，透过具有球差修正单元193的准直透镜153，入射至偏振分束器152。入射至偏振分束器152的光束170，透过偏振分束器152，进而透过1/4波片154时变换为圆偏振光，然后入射至第二光学系统200的分束器260。该分束器260设定为透过率高且反射率低。具体地讲，透过率相对于反射率的比率大于等于10。因此，光束170透过分束器260，并被物镜156变换为会聚光束。该光束170聚焦在形成于光记录介质10的内部的成为记录再现对象的记录再现层组14或伺服层18中的任一层上。
利用光阑155来限制物镜156的孔径，该物镜156的数字孔径NA为0.70～0.90(在本实施方式中为0.85)。例如被记录再现层组14反射的光束170，透过物镜156、分束器260及1/4波片154而变换为与去程的光束相差90度的线偏振光，然后被偏振分束器152反射。
被偏振分束器152反射的光束170，透过聚光透镜159后变换为会聚光，经由柱面透镜157来入射至光检测仪132。在光束170透过柱面透镜157时，该光束170被赋予像散。
光检测仪132具有未图示的四个受光部，上述四个受光部分别输出与接收到的光量相对应的电流信号。根据这些电流信号来生成：基于像散法的对焦误差(下面，称之为“FE”)信号、再现时被限定的基于推挽法的循轨误差(下面，称之为“TE”)信号、记录于光记录介质10上的信息的再现信号等。将FE信号及TE信号放大为所希望的电平并进行相位补偿，然后反馈至致动器(actuator)191及192来进行对焦控制及循轨控制。此外，仅在再现时利用基于第一光学系统100的循轨控制。
从第二光学系统200的光源201出射的蓝色波长380～450nm(在本实施方式中为405nm)的发散的循轨控制用光束270，透过具有球差修正单元293的准直透镜253，入射至偏振分束器252。入射至偏振分束器252的光束270，透过偏振分束器252，进而透过第二光学系统用的1/4波片254时变换为圆偏振光，然后被分束器260反射。该光束270进而被物镜156变换为会聚光束，聚焦在形成于光记录介质10的内部的伺服层18或记录再现层组14的已记录区域。例如被伺服层18反射的光束270，透过物镜156后被分束器260反射，在1/4波片254中变换为与去程的光束相差90度的线偏振光，进而被偏振分束器252反射。被偏振分束器252反射的光束270，透过聚光透镜259后变换为会聚光，经由柱面透镜257来入射至光检测仪232。在光束270透过柱面透镜257时，光束270被赋予像散。
光检测仪232具有未图示的四个受光部，上述四个受光部分别输出与接收到的光量相对应的电流信号。根据这些电流信号来生成基于推挽法的循轨误差(TE)信号。此外，在伺服层18上也记录有信息的情况下，也可以根据该电流信号来生成再现信号。在该光检测仪232侧无需生成对焦误差(FE)信号，但当然也可以生成对焦误差(FE)信号。
此外，如已说明过那样，分束器260设定为透过率高且反射率低。因此，从第一光学系统100的光源101出射且被记录再现层组14中的任一层反射的返回光的一部分，被分束器260反射而向第二光学系统200侧传播。与之相反，从第二光学系统200的光源201出射且被伺服层18或记录再现层组14的已记录区域反射的返回光的大部分，透过分束器260向第一光学系统100侧传播。即，在第一光学系统100和第二光学系统200中，只要都采用大致相同的蓝色波长380～450nm的光源，就无法避免两者的返回光相混合。但是，第一光学系统100和第二光学系统200在光记录介质10内具有互不相同的焦点位置，所以各光束170、270的扩散角度互不相同，因此利用没有特别图示的规定形状的狭缝或光阑，在光束170、270中只提取一个光束并入射至各光检测仪132、232，由此能够消除混合所带来的影响。
特别是，如果第一光学系统100的光束170在光记录介质10内的焦点位置和第二光学系统200的光束270在光记录介质10内的焦点位置之差，始终落入规定的范围内，那么，上述狭缝或光阑可以采用简单的结构，因此能够更加简单地实现光束的分离。为了使焦点距离之差变得稳定，而使记录再现用光束170的焦点位置和伺服用光束270的焦点位置彼此靠近时，误差会变小，所以这是优选的。
在利用第一光学系统100来对记录再现层组14进行信息记录时，将第二光学系统200的TE信号放大为所希望的电平并进行相位补偿后，反馈至致动器191及192来进行循轨控制。其结果，第一光学系统100基于第二光学系统200的循轨控制，来对记录再现层组14进行信息记录。此外，在本实施方式中，当对已记录于记录再现层组14的信息进行再现时，第一光学系统100利用记录再现层组14上的记录标记来独自进行循轨控制。另一方面，当然，也可以利用第二光学系统200的循轨控制来进行再现。
图2放大示出了本实施方式的光记录介质10的剖面结构。
光记录介质10具有外径约为120mm、厚度约为1.2mm的圆盘形状。该光记录介质10从光入射面10A一侧起具有覆盖层(cover layer)11、记录再现层组14、中间层组16、缓冲层17、伺服层18及支撑基板12。
在本实施方式中，记录再现层组14具有第一～第六记录再现层14A～14F，各自具有能够进行信息记录的结构。该第一～第六记录再现层14A～14F采用不具有循轨控制用凹凸或沟槽的平面结构，若通过第一光学系统100来照射高能量的记录用光束170，就能够形成记录标记。此外，该记录再现层组14的种类都有：虽能够写入信息但不能擦写信息的写一次型记录再现层；能够擦写信息的可擦写型记录再现层。
支撑基板12为厚度1.0mm、直径120mm的圆盘形状的基板，用于确保光记录介质需具备的厚度(约1.2mm)，在该支撑基板12的光入射面10A一侧的面形成有伺服层18。具体地讲，在支撑基板12的光入射面10A一侧，从其中心部附近朝向外缘部以螺旋状形成有岸台18A及凹槽18B。该岸台18A及凹槽18B就是循轨控制用凹凸(沟槽)，用于引导第二光学系统200的光束270。
此外，支撑基板12可以采用各种各样的材料，例如可以采用玻璃、陶瓷、树脂。从容易成型的角度来看，这些材料中优选树脂。树脂可以列举聚碳酸酯树脂、烯烃树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、硅树脂、氟类树脂、ABS树脂、聚氨酯树脂等。从可加工性等角度来看，在这些树脂中优选聚碳酸酯树脂和烯烃树脂。此外，支撑基板12不形成光束270的光路，所以无需具有高透光性。
在支撑基板12的表面形成循轨控制用凹凸(凹槽及岸台)和反射性的层，由此在支撑基板12上形成伺服层18。尤其是在本实施方式中，设置有能够进行信息记录的记录膜。该记录膜具有与后述的记录再现层14A～14F大致相同的膜结构。此外，若该伺服层18不需要信息记录功能，则形成Ag等金属层，使其发挥单纯的光反射膜的功能即可。
在本实施方式中，伺服层18的相邻的岸台18A之间或凹槽18B之间的间隔P1设定为0.37μm以下，例如设定在0.26μm～0.35μm的范围内。具体地讲，间隔P1设定为0.32μm左右。记录于记录再现层14A～14F上的记录标记的轨道间隔P2设定为与岸台18A及凹槽18B的间隔P1大致相同。其结果，记录标记之间的轨道间隔P2设定为小于0.37μm，优选设定在0.26μm～0.35μm的范围内，更优选设定为0.32μm左右。
其结果，在记录再现层14A～14F上记录的轨道间隔P2设定为与BD标准具有互换性的0.32μm左右。伺服层18的岸台18A之间/凹槽18B之间的间隔P1(0.32μm左右)，设定为利用蓝色波长区域的光束270来足够能实现循轨的大小。
缓冲层17由透光性的丙烯酸类的紫外线固化型树脂构成，其厚度与后述的第一～第五中间层16A～16E中的某一层的膜厚相一致。在本实施方式中，设定为第一～第五中间层16A～16E的膜厚之一的12μm。
在缓冲层17的光入射面10A侧所层叠的第一～第六记录再现层14A～14F，分别采用在写一次型记录膜的两外侧层叠有介电膜的三层结构(省略图示)。此外，该第一～第六记录再现层14A～14F，针对第一光学系统100的蓝色波长区域(短波长)的光束170，已对其光反射率、吸收率、透过率等进行了优化。
各记录再现层的介电膜不仅具有保护写一次型记录膜的基本功能，而且还发挥使记录标记形成前后的光学特性的差异放大的作用。
此外，如果在照射了光束170的情况下介电膜所吸收的能量大，则容易使记录灵敏度下降。因此，为了防止发生这样的现象，这些介电膜优选在380nm～450nm(尤其是405nm)的波长区域具有低的吸收系数(k)的材料。此外，在本实施方式中，介电膜的材料采用TiO2。
位于介电膜之间的写一次型记录膜是形成不可逆的记录标记的膜，形成有记录标记的部分及其以外的部分(空白(blank)区域)对于光束170的反射率相差很大。其结果，能够进行数据的记录及再现。
写一次型记录膜的主成分为含有Bi及O的材料。该写一次型记录膜作为无机反应膜来发挥功能，激光的热使其化学或物理特性改变，使得该写一次型记录膜的反射率大幅度变化。就该写一次型记录膜的具体的材料而言，优选将Bi-O作为主成分，或者将Bi-M-O(其中，M为选自Mg、Ca、Y、Dy、Ce、Tb、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Mo、W、Mn、Fe、Zn、Al、In、Si、Ge、Sn、Sb、Li、Na、K、Sr、Ba、Sc、La、Nd、Sm、Gd、Ho、Cr、Co、Ni、Cu、Ga、Pb中的至少一种元素)作为主成分。此外，在本实施方式中，写一次型记录膜的材料采用Bi-Ge-O。
此外，在本实施方式中，示出了第一～第六记录再现层14A～14F采用了写一次型记录膜的情形，但也可以采用能够重复记录的相变记录膜。在这样的情况下的相变记录膜优选将SbTeGe作为主成分。
中间层组16从与光入射面10A远的一侧起依次具有第一～第五中间层16A～16E，层叠在第一～第六记录再现层14A～14F之间。各中间层16A～16E由丙烯酸类或环氧类的紫外线固化型树脂构成。该中间层16A～16E的膜厚，为了增加层叠数目而优选设定为20μm以下，第一中间层16A为16μm，第二中间层16B为12μm，第三中间层16C为16μm，第四中间层16D为12μm，第五中间层16E为16μm。也就是说，交替层叠有两种膜厚(16μm、12μm)的中间层。其结果，第一～第六记录再现层14A～14F的层间距离设定为，从光入射面侧起依次交替设定有第一距离(16μm)和与该第一距离不同的第二距离(12μm)。另外，第一距离和第二距离之差设定为4μm。于是，能够降低层间串扰。当然，也可以将所有的中间层组16的膜厚设定为相同的厚度。
与中间层组16同样地，覆盖层11由透光性的丙烯酸类的紫外线固化型树脂构成，其膜厚设定为38μm。
如上所述那样形成了光记录介质10，其结果，伺服层18位于与光入射面10A相距0.122mm(122μm)的位置，另外，在记录再现层组14中最远离光入射面10A的第一记录再现层14A，位于与光入射面10A相距0.11mm(110μm)的位置，第二记录再现层14B位于与光入射面10A相距94μm的位置，第三记录再现层14C位于与光入射面10A相距82μm的位置，第四记录再现层14D位于与光入射面10A相距66μm的位置，第五记录再现层14E位于与光入射面10A相距54μm的位置，而且，最靠近光入射面10A的第六记录再现层14F位于与光入射面10A相距38μm的位置。另外，记录再现层组14的整体的厚度(第一记录再现层14A～第六记录再现层14F间的距离)为72μm。
另外，在本实施方式的光记录介质10中，伺服层18配置与记录再现层组14相比更远离光入射面10A的位置。于是，能够减弱循轨用的岸台18A及凹槽18B给照射至记录再现层组14的记录再现用光束170带来的不良影响。
接下来，对本实施方式的光记录介质10的制造方法进行说明。
首先，通过使用金属压模的聚碳酸酯树脂的注塑成型法，制作形成有凹槽及岸台的支撑基板12。利用注塑成型模具，在该支撑基板12上预格式化制造介质时应预先保持的基本信息，如记录再现层组14的地址信息、包括记录再现功率等的记录条件、记录再现层14A～14F的位置或层间距离等。具体地讲，利用岸台18A或凹槽18B的抖动(wobble)，来预格式化基本信息。此外，支撑基板12的制作并不仅限定于注塑成型法，也可以通过2P法或其他方法来制作。
然后，在支撑基板12的设有凹槽及岸台一侧的表面上形成伺服层18。通过溅射法或气相生长法，以介电膜、写一次型记录膜、介电膜的顺序层叠反射膜及保护膜来形成伺服层18，该伺服层18发挥记录膜的功能。
接下来，在伺服层18上形成缓冲层17。例如，通过旋涂法等来形成调好粘度的丙烯酸类或环氧类的紫外线固化型树脂的膜，并对该膜照射紫外线来固化，由此形成缓冲层17。此外，除了可以采用紫外线固化性树脂之外，还可以利用接合剂或粘合剂等，在伺服层18上粘贴由透光性树脂而成的透光性薄片来形成缓冲层17。另外，当根据需要而对该缓冲层17形成记录所需内的凹槽或凹坑(pit)时，通过2P法来将透光性树脂压模粘贴在所旋涂的紫外线固化性树脂上，并在这样的状态下照射紫外线来进行固化，由此形成凹槽或凹坑。
接下来，形成第一记录再现层14A。具体地讲，通过气相生长法来依次形成介电膜、写一次型记录膜、介电膜。其中，优选采用溅射法。然后，在第一记录再现层14A上形成第一中间层16A。例如，通过旋涂法等来形成调好粘度的紫外线固化型树脂的膜，然后对该紫外线固化性树脂照射紫外线来进行固化来形成第一中间层16A。通过反复进行这样的步骤，依次层叠第二记录再现层14B、第二中间层16B……。
在完成了第六记录再现层14F后，在该第六记录再现层14F上形成覆盖层11，由此完成该光记录介质10的制作。还有，例如，通过旋涂法等来形成调好粘度的丙烯酸类或环氧类的紫外线固化型树脂的膜，并对该膜照射紫外线来进行固化来形成覆盖层11。此外，在本实施方式中对上述制造方法进行了说明，但本发明并不仅限定于上述制造方法，而也可以采用其他制造技术。
接下来，参照图3，关于利用光读写头90来对本实施方式的光记录介质10进行信息的记录再现的方法进行说明。
<对伺服层的记录/通用步骤>
在对该光记录介质10的伺服层18进行信息记录时，采用现有技术中的公知技术。具体地讲，仅利用第一光学系统100来对伺服层18照射光束170，一边利用凹槽18B来进行循轨控制及对焦控制，一边在凹槽18B上进行信息记录。再现时也采用同样的方法。
<对第一记录再现层的记录/伺服层利用步骤>
在对与伺服层18相邻的第一记录再现层14A进行信息记录的情况下，首先，将第二光学系统200的蓝色波长区域的光束270照射至伺服层18来进行循轨。具体地讲，如图3A、图3B所示，对伺服层18的凹槽18B照射光束270的光斑来进行循轨。同时，将第一光学系统100的蓝色波长区域的记录用光束170照射至第一记录再现层14A。
其结果，一边利用凹槽18B来进行循轨，一边沿着该凹槽18B对第一记录再现层14A进行信息记录。其结果，形成于第一记录再现层14A的记录标记的轨道间隔P2变得与凹槽18B间的间隔P1相一致。此外，在伺服层18的记录凹坑或BCA(Burst Cutting Area：烧录区)，预先记录有与光记录介质10相关的基本规格、与信息记录层组14的层叠数目相关的信息，所以在开始进行循轨控制之前始终读取这些信息。与光记录介质相关的基本信息包括伺服层18的位置、第一～第六记录再现层14A～14F的位置、与记录再现层组的层间距离相关的规则。
在结束对第一记录再现层14A的必要信息的记录之后，对伺服层18侧记录这一次的写入信息(与记录相关的地址信息、内容信息等)并结束这次记录。此外，此时对伺服层18的记录，利用光束170并采用已叙述过的通用步骤来进行，当然，也可以利用进行循轨控制的光束270来直接进行记录。通过将管理信息集中记录在伺服层18上，能够在下一次进行记录再现时容易地把握应该从哪里开始进行记录。
此外，假如伺服层18不具有记录层，则优选地，例如利用最远离光入射面10A(最靠近伺服层18)的第一记录再现层14A的一部分来确保管理区域，并在该管理区域上记录管理信息。
然后，在重新开始对第一记录再现层14A进行信息记录的情况下，首先，对记录于伺服层18上的管理信息进行再现，来在第一记录再现层14A上确认上一次记录的结束位置，并从该结束位置起继续进行记录。这样，在伺服层利用步骤中，必须持续(继续)进行记录动作，直到对第一记录再现层14A上的所有数据区域都结束信息记录为止。即使假如在数据区域的剩余量不够使用或者根据需要而必须确保未记录的空间的情况下，也通过在此处记录伪信息来维持信息的继续记录。其结果，第一记录再现层14A的所有数据区域都变为已记录区域。
<对第二记录再现层的记录/已记录区域利用步骤>
如果对第一记录再现层14A的所有数据区域都结束了信息记录，那么，接下来对与第一记录再现层14A相邻的第二记录再现层14B进行信息记录。在这样的情况下，如图4A、图4B所示，首先，将第二光学系统200的循轨控制用光束270照射至第一记录再现层14A的已记录区域，利用其再现信号来进行循轨控制。同时，将第一光学系统100的记录用光束170照射至第二记录再现层14B来进行记录。此外，在结束了必要信息的记录之后，将这一次的写入信息(与记录相关的地址信息、内容信息等)记录在伺服层18侧并结束这次的记录。
然后，在重新开始对第二记录再现层14B进行信息记录的情况下，首先，对记录于伺服层18的管理信息进行再现，来在第二记录再现层14B上确认上一次记录的结束位置，并从该结束位置起继续进行记录。这样，在已记录区域利用步骤中，必须持续(继续)进行记录动作，直到对第二记录再现层14B的所有数据区域都结束信息记录为止。即使假如在数据区的域剩余量不够使用或者根据需要而必须确保未记录的空间的情况下，也通过记录伪信息来维持信息的继续记录。其结果，第二记录再现层14B的所有数据区域都变为已记录区域。
<对第三记录再现层以后的记录再现层的记录/已记录区域利用步骤>
如果对第二记录再现层14B的所有数据区域都结束了信息的记录，那么，接下来对与第二记录再现层14B相邻的第三记录再现层14C进行信息记录。在这样的情况下，将第二光学系统200的循轨控制用光束270照射至第二记录再现层14B的已记录区域，利用其再现信号来进行循轨控制。同时，将第一光学系统100的记录用光束170照射至第三记录再现层14C来进行记录。之后的步骤与利用第二记录再现层14B来说明过的已记录区域利用步骤相同，所以省略其说明。通过反复进行以上的步骤，依次对第一～第六记录再现层14A～14F进行信息记录。
此外，例如在对记录于第一记录再现层14A上的信息进行再现时，首先，利用第一光学系统100的光束170来对伺服层18进行再现，来读取上述的基本规格和基于记录的写入信息(例如，记录在第一记录再现层14A上的内容的信息等)。然后，基于这些信息，使第一光学系统100的光束170移动至第一记录再现层14A上来访问规定地址，由此进行再现。此时，利用记录于第一记录再现层14A上的记录标记来进行循轨即可。因此，在第一记录再现层14A的内容再现中，可以不使用第二光学系统200的光束270。
如上所述，根据本实施方式的光记录介质10及光记录再现方法，包括如下两个步骤：伺服层利用步骤，一边利用伺服层18来进行循轨，一边对记录再现层组14进行信息记录；已记录区域利用步骤，一边利用记录再现层的已记录信息区域来进行循轨，一边对其他记录再现层组14进行信息记录。其结果，在最初对记录再现层组14进行信息记录时，采用伺服层利用步骤，积极利用伺服层18来进行循轨控制。另一方面，在任一记录再现层的数据区域变为已记录区域的情况下，移到已记录区域利用步骤。其结果，能够一边利用记录再现层的已记录区域来进行循轨控制，一边对其他记录再现层进行信息记录。
这样，即使记录再现层组14的层叠数目增多，也能够使进行循轨控制的记录再现层组14中的已记录区域和进行信息记录的记录再现层的未记录区域之间的距离(层叠方向上的距离)变短(靠近)。其结果，能够使循轨控制用光束270和记录再现用光束170之间发生的膜厚公差变小，所以即使不独立地对循轨控制用光束270进行对焦控制，也能够使循轨信号稳定。
尤其是在本实施方式的伺服层利用步骤中，对与伺服层18相邻的第一记录再现层14A进行信息记录。其结果，能够使伺服层18和第一记录再现层14A之间的层间距离变短(具体地讲，在20μm以下)，从而能够使循轨信号更加稳定。另外，在已记录区域利用步骤中，例如在利用第一记录再现层14A的已记录区域的情况下，也对与此相邻的第二记录再现层14B进行信息记录。在利用第二记录再现层14B的已记录区域的情况下，对与此相邻的第三记录再现层14C进行信息记录。这样，通过使以循轨控制为目的所利用的记录再现层与成为记录对象的记录再现层相邻，同样能够使循轨信号进一步稳定。
进而在本实施方式的伺服层利用步骤及已记录区域利用步骤中，均持续(继续)进行记录动作，直到对成为记录对象的记录再现层的所有数据区域都结束信息记录为止。此外，该“继续”意味着，在成为记录对象的记录再现层的数据区域内，未残留因未记录状态连续而无法循轨的区域。因此，只要如本实施方式那样在记录再现层的数据区域内不存在未记录区域，则针对其他记录再现层能够提供稳定的循轨控制。
另外，在本实施方式中，循轨用光束270的波长和记录用光束170的波长在相同的蓝色波长区域，进而被设定为相同的波长。进而，在伺服层18形成有记录再现膜。利用这些光束170、270中的任一光束，能够对该记录再现膜进行信息记录。若将伺服层18作为记录层来有效利用，则不仅能够提高光记录介质10的记录容量，而且能够在该伺服层18上记录管理信息。例如，在开始进行记录再现时，只要读取记录于该伺服层18的管理信息，就能够快速地找到记录再现层组14的记录开始位置或再现开始位置，所以能够提高记录再现效率。
在该光记录介质10中，配置于伺服层18和第一记录再现层14A之间的缓冲层17的厚度，设定为与中间层组16中的某一中间层的厚度大致相同。这样，伺服层18和记录再现层组14之间的距离变短，从而能够使伺服层18的循轨信号变得稳定。另外，由于伺服层18和记录再现层组14之间的距离变短，所以在伺服层18发挥记录再现层的功能时，能够直接利用用于记录再现层组14的记录再现中的第一光学系统100。尤其是，通过利用第一光学系统100，容易推测伺服层18的位置，能够简单地将伺服层18作为第一光学系统100中的记录再现层组14之一来利用。
此外，在该光记录介质10中，为了抑制串扰，将中间层组16设定为两种厚度，而且交替设定厚薄的膜厚。还有，在本实施方式中，通过将缓冲层17的厚度设定为与第二中间层16B的膜厚相同的12μm，来维持两种厚度交替的关系。由此，能够避免伺服层18在对第一记录再现层14A进行再现时带来不良影响。
另外，在本实施方式的光记录介质10中，伺服层18配置在与记录再现层组14相比更远离光入射面的位置。这样，能够在支撑基板12上直接形成凹凸(岸台18A、凹槽18B)，所以伺服层18的制作变得容易，并能够降低制造成本。
在本实施方式的光记录介质10中，示出了以光入射面10A为基准将伺服层18配置在比记录再现层组14更远的一侧的情形，但本发明并不仅限定于此。另外，本实施方式中示出了将记录再现层组14具有6层以上记录再现层的情形，但本发明并不仅限定于此。
在图5中，作为其他实施例的光记录介质10，示出了伺服层18配置在与4层记录再现层组14相比更靠近光入射面10A一侧的位置的情形。因此，伺服层18靠近光入射面10A，所以像差修正范围的可扩性得以提高，从而能够提高循轨精度。此外，在本实施方式中没有特别图示，但也可以在记录再现层组的中间配置伺服层。
还有，在本实施方式的光记录再现方法的伺服层利用步骤及已记录区域利用步骤的这两个步骤中，均持续(继续)进行记录动作，直到对成为记录对象的记录再现层的所有数据区域都结束信息记录为止，但本发明并不仅限定于此。例如，如图6A、图6B所示，也可以将记录再现层组14的数据区域沿着径向划分为多个区域E，并以该区域E为单位在层叠方向依次进行记录。
另外，在本实施方式的光记录再现方法中，示出了进行循轨控制的伺服层18或信息记录层的已记录区域与成为记录对象的记录再现层始终相邻的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，如图7A、图7B所示，也可以在进行循轨控制的伺服层18或信息记录层的已记录区域和利用光束170进行记录的成为记录对象的记录再现层之间设置其他记录再现层。这样，记录再现用光束170和循轨控制用光束270，优选在膜厚公差不变大的范围内确保某一程度的距离(焦点距离之差)。其结果，光束170、270之间的扩散角度差变大，所以即使来自光记录介质10的两光束的返回光相混合，也能够使用狭缝或光阑来容易地进行分离。另外，在如本实施方式那样交替设定包括缓冲层17在内的中间层组16的膜厚的情况下，优选在伺服层18或信息记录层的已记录区域和成为记录对象的记录再现层之间设置一层记录再现层。其结果，焦点距离之差始终为恒定的28μm(16μm+12μm之和)，所以循轨控制用光束270的焦点位置的设定变得简单。
此外，在本实施方式中，示出了在记录再现层组中交替设定两种层间距离(16μm、12μm)的情形，但本发明并不仅限定于此，也可以组合三种以上的层间距离。当然，也可以将全部设定为相同的膜厚。
此外，作为能够应用上述实施方式的光记录再现方法的光记录介质，示出了预先形成有记录再现层的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，也可以将在光记录介质内将来可能会成为多层记录再现层的部位整体，形成为具有规定厚度的一体的整层(bulk layer)。若光束照射至该整层，则仅在光束光斑的焦点部分发生状态变化而形成记录标记。即，本发明的多层光记录介质并不仅限定于预先形成了光束所照射的记录再现层的情形，而也包括如下情形：在整层内的平面区域随时形成记录标记，并通过该记录标记的集合体来事后形成多层记录再现层。
在这样的情况下，本光记录再现方法包括如下两个步骤：伺服层利用步骤，一边利用伺服层来进行循轨，一边在整层的一部分的平面区域形成记录标记，从而事后形成记录再现层；已记录区域利用步骤，一边利用事后在整层内形成的记录再现层的已记录区域来进行循轨，一边在整层的其他区域形成记录标记，从而事后形成记录再现层。其结果，在最初对整层进行信息记录时，采用伺服层利用步骤，积极利用伺服层来进行循轨控制。另一方面，若在整层内已形成记录再现层，则移到已记录区域利用步骤，能够一边利用该整层内的已记录区域来进行循轨控制，一边对其他部位形成记录标记。
进而，在本实施方式中，光束170、270都在蓝色波长区域，但本发明并不仅限定于此。另外，例如，只要光束270在能够利用记录再现层组14的已记录区域来进行循轨控制的波长范围内，则也可以将光束270设定为与记录再现用光束170不同的波长。通过使光束170、270具有波长差，能够使用具有波长选择特性的滤光器等来分离相混合的返回光。
接着，关于本发明第二实施方式，在图8中示出了用于记录再现的光读写头90的结构，在图9中示出了光记录介质10的结构。此外，在此以本实施方式和第一实施方式之间的不同点为中心进行说明。
作为光读写头90的循轨用光学系统20的光源的光束270，具有红色波长630～680nm(在本实施方式中为650nm)。另外，在第二实施方式的光读写头90中，第一光学系统100和第二光学系统200之间的波长不同，所以能够利用具有波长依赖性的滤光器来分离光束170、270。
在支撑基板12的循轨控制用凹凸(凹槽及岸台)上形成反射性的层，由此形成光记录介质10的伺服层18。假设将(假使)记录再现用光束170照射至伺服层18时的反射光量为，将记录再现用光束170照射至记录再现层组14时的反射光量的5倍以下。因此，在将记录再现用光束170照射至记录再现层组14时，即使该光束170向伺服层18侧发生了漏光，由于该漏光被伺服层18的反射光量会衰减，所以能够使串扰的影响变得极小。
进而，在本第二实施方式中，假设将记录再现用光束170照射至伺服层18时的伺服层18的反射率，设定为比将循轨用光束270照射至伺服层18时的反射率更小。即，伺服层18具有如下波长依赖特性：若照射长波长的红色光束270就反射率变高，而若照射短波长的蓝色光束170就反射率变低。
具体地讲，将循轨用光束270照射至伺服层18时的伺服层18的反射率为40％～95％，假设将记录再现用光束170照射至伺服层18时的伺服层18的反射率为60％以下。
作为具有这样的光学特性的伺服层18的结构例，具有至少将Ag、Al、Au、Cu中的任一种作为主成分的反射膜(金属膜)、与该反射膜相邻而层叠的辅助膜。通过使反射膜和辅助膜的折射率和厚度不同，能够做到对于长波长(红色波长)的光束270的反射率高，而对于短波长(蓝色波长)的光束170的反射率低。伺服层18优选采用如下结构，即，将由金属膜而成的反射膜层叠一层以上，进而将辅助膜层叠两层以上的三层以上结构。此时，将反射膜层叠在支撑基板12侧，并将辅助膜层叠在该反射膜上。例如，可以采用从支撑基板12侧起依次层叠Ag反射膜、Si辅助膜、ZnS-SiO2辅助膜的三层结构。
而且，伺服层18也优选采用如下结构，即，将反射膜层叠两层以上，并将辅助膜层叠三层以上而成的五层以上结构。此时，在第一反射膜和第二反射膜之间至少设置一层辅助膜。例如，优选采用从支撑基板12侧起依次层叠Ag反射膜、ZnS-SiO2辅助膜、Cu反射膜、Si辅助膜、ZnS-SiO2辅助膜而成的五层结构。若采用该五层结构，则在伺服层18上也能够进行信息记录。此外，在本实施方式中，伺服层18采用这里例示的五层结构。
若采用该伺服层18，则能够做到对于长波长光束270的反射率高，而对于短波长光束170的反射率低。
在本实施方式中，伺服层18的相邻的岸台18A之间或凹槽18B之间的间隔P1设定为小于0.74μm。具体地讲，优选将间隔P1设定在0.6μm～0.7μm的范围内，更优选设定为0.64μm左右。另一方面，记录标记的轨道间隔P2设定为岸台18A及凹槽18B的间隔P1的一半(1/2)。即，记录标记之间的轨道间隔P2设定为小于0.37μm，优选设定在0.26μm～0.35μm的范围内，更优选设定为0.32μm左右。其结果，记录标记之间的轨道间隔P2设定为与BD标准具有互换性的0.32μm左右。
伺服层18的岸台18A之间/凹槽18B之间的间隔P1(0.64μm左右)，设定为利用相对长的红色波长区域的光束270能足够实现循轨的大小。在本实施方式中，利用岸台18A和凹槽18B这两者来进行循轨。其结果，记录标记的轨道间隔P2变为伺服层18的间隔P1的一半即0.32μm左右。这样，分别利用岸台18A和凹槽18B来进行循轨控制，所以即使伺服层18的间隔P1不采用小值，也能够使记录再现层组14的记录标记的轨道间隔P2变小。
缓冲层17由透光性的丙烯酸类的紫外线固化型树脂构成。该缓冲层17的厚度优选设定为10μm～200μm。此外，若该缓冲层17的厚度为10μm以下，则伺服层18和记录再现层组14过度靠近，彼此极易产生不良影响。另一方面，若缓冲层17的厚度为200μm以上，则在形成缓冲层17的工序中极易造成厚度不均匀。在本实施方式中，将缓冲层17的厚度设定为30μm。
其结果，光记录介质10的伺服层18位于与光入射面10A相距0.140mm(140μm)的位置。
接下来，参照图10A、图10B及其以后的附图，针对利用光读写头90来对第二实施方式的光记录介质10进行记录再现的记录再现方法及其作用进行说明。
<对记录再现层组的记录>
例如，在对与伺服层18相邻的第一记录再现层14A进行信息记录的情况下，首先，将第二光学系统200的红色波长区域的光束270照射至伺服层18来进行循轨。具体地讲，如图10A所示，将光束270的光斑交替照射至伺服层18的凹槽18B和岸台18A这两者来进行循轨。同时，将第一光学系统100的蓝色波长区域的记录再现用光束170照射至第一记录再现层14A。
其结果，一边利用凹槽18B及岸台18A来进行循轨，一边沿着该凹槽18B或岸台18A对第一记录再现层14A进行信息记录。此时，照射至第一记录再现层14A上的记录再现用光束170的一部分，透过该第一记录再现层14A而到达伺服层18。然而，如已叙述过那样，将记录再现用光束170照射至伺服层18时的反射光量，设定为将记录再现用光束170照射至记录再现层组14时的反射光量的5倍以下。因此，即使从第一记录再现层14A漏出的光束170被伺服层18反射，该反射光的光量也会大幅度衰减。其结果，能够抑制对形成于第一记录再现层14A上的记录标记带来的不良影响。另外，伺服层18不仅能够抑制记录再现用光束170的反射，而且能够使循轨用光束270发生足够的反射。具体地讲，伺服层18对于循轨用光束270的反射率保持40％～95％的高反射率。另一方面，对于记录再现用光束170的反射率被抑制在60％以下。其结果，能够实现稳定的循轨控制。
此外，在伺服层18的记录凹坑或BCA(烧录区)，预先记录有与光记录介质10相关的基本规格以及与信息记录层组14的层叠数目相关的信息，所以在开始进行循轨控制之前始终能够读取这些信息。与光记录介质相关的基本信息包括伺服层18的位置、第一～第六记录再现层14A～14F的位置、与记录再现层组的层间距离相关的规则。
在结束对第一记录再现层14A的必要信息的记录之后，对第一记录再现层14A记录这一次的写入信息(与记录相关的地址信息、内容信息等)并结束这次记录。然后，在重新开始对第一记录再现层14A进行信息记录的情况下，首先，对记录于该第一记录再现层14A上的管理信息进行再现，来确认上一次记录的结束位置，并从该结束位置开始继续进行记录。这样，能够对第一记录再现层14A～第六记录再现层14F的所有数据区域进行信息记录。
<记录再现层组的再现>
例如，在对记录于与伺服层18相邻的第一记录再现层14A上的信息进行再现的情况下，首先，将第二光学系统200的红色波长区域的光束270照射至伺服层18来进行循轨。具体地讲，如图10B所示，将光束270的光斑照射至伺服层18的凹槽18B及岸台18A来进行循轨。同时，将第一光学系统100的蓝色波长区域的记录再现用光束170照射至第一记录再现层14A。
其结果，一边利用凹槽18B及岸台18A来进行循轨，一边沿着该凹槽18B或岸台18A对记录于第一记录再现层14A上的信息进行再现。此时，照射至第一记录再现层14A上的记录再现用光束170的一部分，透过该第一记录再现层14A而到达伺服层18。然而，如已叙述过那样，将光束170照射至伺服层18时的反射光量，设定为将光束170照射至记录再现层组14时的反射光量的5倍以下。因此，即使从第一记录再现层14A漏出的光束170被伺服层18反射，该反射光的光量也会大幅度衰减，所以能够大幅度抑制与再现信号之间的串扰。另外，伺服层18不仅能够抑制记录再现用光束170的反射，而且能够使循轨用光束270发生足够的反射。具体地讲，伺服层18对于循轨用光束270的反射率保持40％～95％的高反射率，而对于记录再现用光束170的反射率抑制在60％以下。其结果，即使记录再现用光束170的一部分发生漏光而到达伺服层18，也不会使循轨信号的品质降低。由此，能够对记录于第一记录再现层14A～第六记录再现层14F的数据区域上的信息进行再现。
如上所述，在本实施方式的光记录介质10中，假设将记录再现用光束170照射至伺服层18时的伺服层18的反射率，设定为比将记录再现用光束170照射至记录再现层组14时的反射率更小。其结果，在将记录再现用光束170照射至记录再现层组14时，即使该记录再现用光束170的一部分发生漏光而到达里侧伺服层18，但由于被伺服层18的反射光量少，所以也能够回避对记录再现动作带来不良影响。
另外，在本实施方式中，假设将记录再现用光束170照射至伺服层18时的反射光量，设定为将记录再现用光束170照射至记录再现层组14时的反射光量的5倍以下，所以即使照射至记录再现层组14的记录再现用光束170发生漏光为到达里侧的伺服层18，也几乎会被该伺服层18吸收或透过。
另一方面，在该光记录介质10中，假设透过记录再现层组14来将记录再现用光束170照射至伺服层18时的反射率，设定为比透过记录再现层组14来将循轨用光束270照射至伺服层18时的反射率更小。若采用该伺服层18，则不仅能够抑制记录再现用光束170的反射，而且能够使循轨用光束270发生足够的反射，从而能够防止循轨信号的品质降低。
尤其在本实施方式中，如上所述，为了使伺服层18的光学特性随着波长而变化，采用了层叠将金属材料作为主成分的反射膜(金属膜)和折射率及膜厚与该反射膜不同的辅助膜而成的结构。这样，能够通过光学方法来降低在进行循轨时不需要的特定波长(在本实施方式中为蓝色波长)的反射光强度。
而且，如上所述那样构成了光记录介质10，其结果，能够将记录再现层组14和伺服层18的层间距离形成为10μm～200μm这样的小值，从而能够增加该记录再现层组14的层叠数目。
接下来，参照图11A、图11B，对第三实施方式的光记录介质310进行说明。此外，关于该光记录介质310与第二实施方式的光记录介质10相同或相似的部分，使附图及说明中的附图标记的后二位相一致，并省略了对各个部件的说明，以不同点为中心进行说明。
该光记录介质310从光入射面310A一侧起依次具有覆盖层311、记录再现层组314、中间层组316、缓冲层317、伺服层318及支撑基板312。
伺服层318具有至少将Ag、Al、Au、Cu中的任一种作为主成分的单层金属膜。因此，不具有辅助膜。
缓冲层317设置在伺服层318和记录再现层组314之间，并由将色素混合在透光性树脂中或将色素均匀地溶解于透光性树脂中的材料构成。具体地讲，缓冲层317采用对于循轨用光束170的第一波长(在本实施方式中为650nm)的吸光度低而对于记录再现用光束270的第二波长(在本实施方式中为405nm)的吸光度高的材料，发挥具有波长依赖特性的滤光层的功能。在此，缓冲层317采用将如偶氮、重氮、甲亚胺等具有黄色的发色团、助色团的一般的色素分散在透明树脂中或与透明树脂相结合而成的材料。
若采用该光记录介质310，则即使照射至记录再现层组314的记录再现用光束170向伺服层318侧发生漏光，该漏光也会在到达伺服层318之前被缓冲层317吸收。另外，假设该漏光被伺服层318反射，那么，该反射光也会再次被缓冲层317吸收。
另外，在该光记录介质310中，将记录再现用光束170照射至伺服层318时的反射率，设定为比将循轨用光束270照射至伺服层318时的反射率更小。这是因为，记录再现用光束170在到达伺服层318之前会被缓冲层317吸收掉。
其结果，本光记录介质310能够提高再现信号和循轨信号这两者的品质。另外，在本光记录介质310中，缓冲层317配置在记录再现层组314的里侧。因此，使色素材料发生漂白的紫外线等外部光线会被光入射面310A侧的记录再现层组314吸收，所以难以到达缓冲层317。因此，能够确保缓冲层317的长期稳定性，从而能够抑制光记录介质310的随时间劣化。尤其是在采用有机色素的情况下紫外线的影响大，所以优选采用该光记录介质310的结构。
此外，在本实施方式中，例示了缓冲层317采用具有如吸收率或透过率根据波段(wavelength band)而不同的波长依赖特性的材料的情形，但例如如图12A、图12B所示，也可以与缓冲层317分别独立地配置滤光层317B，并将色素混合在该滤光层317B的透光性树脂中，由此对滤光层317B赋予波长依赖特性。
接下来，参照图13，对第四实施方式的光记录介质410进行说明。此外，关于该光记录介质410与第二实施方式的光记录介质10相同或相似的部分，使附图及说明中的附图标记的后二位相一致，并省略了对各个部件的说明，以不同点为中心进行说明。
光记录介质410从第一表面410A一侧起依次具有第一覆盖层411、第一记录再现层组414、第一中间层组416、第一缓冲层417、伺服层418、支撑基板412、第二缓冲层437、第二记录再现层组434、第二中间层组436、第二覆盖层431及第二表面430A。即，该光记录介质410与第一实施方式的光记录介质10之间的不同点在于，在以支撑基板412为基准的第二表面430A一侧也具有第二缓冲层437、第二记录再现层组434、第二中间层组436及第二覆盖层431。
在本实施方式中，支撑基板412的厚度设定为900μm，在第一表面410A一侧，从其中心部附近朝向外缘部以螺旋状形成有岸台418A及凹槽418B。
伺服层418具有至少将Ag、Al、Au、Cu中的任一种作为主成分的单层金属膜。因此，不具有保护膜。伺服层418的岸台418A之间或凹槽418B之间的间隔P1设定为0.64μm左右。另一方面，记录标记的轨道间隔P2设定为岸台418A及凹槽418B的间隔P1的一半(1/2)。即，记录标记之间的轨道间隔P2设定为0.32μm左右。其结果，记录标记之间的轨道间隔P2设定为与BD标准具有互换性的0.32μm左右。
在本实施方式中，利用岸台418A和凹槽418B这两者来进行循轨。其结果，记录标记的轨道间隔P2变为伺服层418的间隔P1的一半即0.32μm左右。
第一缓冲层417的膜厚设定为30～40μm，并由将色素混合在透光性树脂中或将色素均匀地溶解于透光性树脂中的材料构成。具体地讲，第一缓冲层417采用对于循轨用光束的第一波长(在本实施方式中为650nm)的吸光度低而对于记录再现用光束的第二波长(在本实施方式中为405nm)的吸光度高的材料。在此，第一缓冲层417采用将如偶氮、重氮、甲亚胺等具有黄色的发色团、助色团的一般的色素分散在透明树脂中或与透明树脂相结合而成的材料。
第一覆盖层411由透光性的丙烯酸类的紫外线固化型树脂构成，其膜厚设定为40μm。
第二缓冲层437的膜厚设定为20～40μm，由将色素混合在透光性树脂中或将色素均匀地溶解于透光性树脂中而成的材料构成。具体地讲，第二缓冲层437采用对于循轨用光束的第一波长(在本实施方式中为650nm)的吸光度低而对于记录再现用光束的第二波长(在本实施方式中为405nm)的吸光度高的材料。在此，第二缓冲层437采用将如偶氮、重氮、甲亚胺等具有黄色的发色团、助色团的一般的色素分散在透明树脂中或与透明树脂相结合而成的材料。
在第二缓冲层437的第二表面430A一侧层叠的第二记录再现层组434(L0～L5记录再现层434A～434F)及第二中间层组436，具有几乎与第一记录再现层组414及第二中间层组416相同的结构。
第二覆盖层431由透光性的丙烯酸类的紫外线固化型树脂构成，其膜厚设定为40μm。
如上所述那样构成了光记录介质410，其结果，光记录介质410的支撑基板412和第一缓冲层417之间的边界(伺服层418)，位于与第一表面410A相距约150μm的位置。另外，在第一记录再现层组414中，最远离第一表面410A的L0记录再现层414A位于与第一表面410A相距112μm的位置，L1记录再现层414B位于与第一表面410A相距96μm的位置，L2记录再现层414C位于与第一表面410A相距84μm的位置，L3记录再现层414D位于与第一表面410A相距68μm的位置，L4记录再现层414E位于与第一表面410A相距56μm的位置，而且最靠近第一表面410A的L5记录再现层414F位于与第一表面410A相距40μm的位置。另外，第一记录再现层组414的整体的厚度(L0记录再现层414A～L5记录再现层414F间的距离)为72μm。
另外，在第二记录再现层组434中，最远离第二表面430A分L0记录再现层434A位于与第二表面430A相距112μm的位置，L1记录再现层434B位于与第二表面430A相距96μm的位置，L2记录再现层434C位于与第二表面430A相距84μm的位置，L3记录再现层434D位于与第二表面430A相距68μm的位置，L4记录再现层434E位于与第二表面430A相距56μm的位置，而且，最靠近第二表面430A的L5记录再现层434F位于与第二表面430A相距40μm的位置。另外，第二记录再现层组434的整体的厚度(L0记录再现层434A～L5记录再现层434F间的距离)为72μm。
就该光记录介质410而言，除了伺服层418非对称配置之外，在厚度方向上是对称的结构。其结果，制作光记录介质410时发生的内部应力在厚度方向彼此对称，所以能够抑制弯曲及变形。尤其，即使将支撑基板412形成为600μm以下例如100μm，也能够抑制光记录介质410的弯曲及变形量。
图14示出了用于第四实施方式的光记录介质410的记录再现中的第一、第二光读写头90A、90B的结构。第一光读写头90A从光记录介质410的一侧的第一表面410A侧照射光束。第二光读写头90B从光记录介质410的另一侧的第二表面430A侧照射光束。此外，第一、第二光读写头90A、90B的内部结构与第一实施方式的光读写头90大致相同，所以在附图中或说明文章中，对第一光读写头90A侧的各部件的附图标记的末尾标注了A，而对第二光读写头90B侧的各部件的附图标记的末尾标注了B，并省略这些部件的图示及说明。
第一光读写头90A具有记录再现用光学系统100A和循轨用光学系统200A。记录再现用光学系统100A是对光记录介质410的第一记录再现层组414照射记录再现用光束170A来进行记录及再现的光学系统。循轨用光学系统200A是用于进行循轨控制的光学系统，在利用记录再现用光学系统100A对第一记录再现层组414进行信息记录时，该第二光学系统200A对伺服层418照射循轨用光束270A来进行循轨控制。
第二光读写头90B具有记录再现用光学系统100B和循轨用光学系统200B。记录再现用光学系统100B是对光记录介质410的第二记录再现层组434照射记录再现用光束170B来进行记录及再现的光学系统。循轨用光学系统200B是用于进行循轨控制的光学系统，在利用记录再现用光学系统100B来对第一记录再现层组434进行信息记录时，该循轨用光学系统200B对伺服层418照射循轨用光束270B来进行循轨控制。
接下来，对利用第一、第二光读写头90A、90B来对光记录介质410进行信息记录再现的方法进行说明。
<第一记录再现层组的记录再现>
例如，在对第一记录再现层组414的L0记录再现层414A进行信息的记录再现的情况下，首先，将第一光读写头90A的红色波长区域的循轨用光束270A照射至伺服层18来进行循轨。具体地讲，如图13所示，将循轨用光束270A的光斑照射至伺服层418的凹槽418B及岸台418A来进行循轨。同时，将第一光读写头90A的蓝色波长区域的记录再现用光束170A照射至L0记录再现层414A，来对L0记录再现层414A进行记录或再现。
此时，即使照射至第一记录再现层组414上的记录再现用光束170A向伺服层418侧发生漏光，该漏光也会在到达伺服层418之前被第一缓冲层417吸收掉。另外，假设该漏光被伺服层418反射，那么，该反射光也会再次被第一缓冲层417吸收。另一方面，第一缓冲层417积极地使红色波长的循轨用光束270A透过，由此增加循轨信号的光量。其结果，能够实现稳定的循轨控制。
<第二记录再现层组的记录再现>
在对第二记录再现层组434的L0记录再现层434A进行信息记录的情况下，首先，透过该支撑基板412将第二光读写头90B的红色波长区域的循轨用光束270B照射至伺服层418来进行循轨。具体地讲，如图13所示，将循轨用光束270B的光斑照射至伺服层418的岸台18A及凹槽418B来进行循轨。同时，将第二光读写头90B的蓝色波长区域的记录再现用光束170B照射至L0记录再现层434A，来对L0记录再现层434A进行记录或再现。
此时，即使照射至第二记录再现层组434上的记录再现用光束170B向伺服层418侧发生漏光，该漏光也会在到达伺服层418之前被第二缓冲层437吸收掉。另外，假设该漏光被伺服层418反射，那么，该反射光也会再次被第二缓冲层437吸收。另一方面，第二缓冲层437积极地使红色波长的循轨用光束270B透过，由此增加循轨信号的光量。其结果，能够实现稳定的循轨控制。
此外，也可以同时对第一记录再现层组414和第二记录再现层组434进行记录或再现。由此，记录或再现的传输率变为2倍。
如上所述，在第四实施方式的光记录介质410中，仅在支撑基板412的一侧面上形成有伺服层418，而且在该支撑基板412的两侧面上分别配置有第一记录再现层组414和第二记录再现层组434。其结果，在形成第一、第二记录再现层组414、434时发生的内部应力分散在支撑基板412的两侧，所以能够抑制光记录介质410的弯曲及变形。此外，这样分散了内部应力，所以即使将支撑基板12的厚度设定在10μm～1000μm的范围内，优选设定在10μm～600μm的范围内，也能够抑制光记录介质410的弯曲。
此时，如果想要在支撑基板412的两侧形成循轨用凹凸，那么该支撑基板412的制作工序本身会变得复杂，而且容易使支撑基板412的精度下降。于是，在本实施方式中，将循轨用凹凸形成在支撑基板412的单侧面上，由此使支撑基板412的制作变得简单，从而提高了精度。另外，两侧的第一、第二记录再现层组414、434共享伺服层418，所以无需在第一、第二记录再现层组414、434的各记录再现层上形成循轨用凹凸。其结果，能够进一步提高光记录介质410的形状精度。在支撑基板412的两侧分别配置有第一记录再现层组414和第二记录再现层组434，所以还能够提高记录容量。
进而，在光记录介质410中，照射了循轨用的红色波长光束270A、270B时的伺服层418的反射率，被设定为比假设将记录再现用光束170A、170B照射至伺服层418时的反射率更大。具体地讲，为了实现这样的特性，第一、第二缓冲层417、437采用了光束的波长越短就光吸收量越多的材料。于是，假设蓝色波长的记录再现用光束170A、170B入射至伺服层18侧，那么，也会被第一、第二缓冲层417、437吸收，所以到达伺服层418的漏光的光量及被伺服层418反射的反射光量会被衰减。另一方面，第一、第二缓冲层417、437积极地使红色波长的循轨用光束270A、270B透过，所以能够使来自伺服层418的反射光量增多。其结果，能够抑制记录再现用光束170A、170B和循轨用光束270A、270B之间的串扰，所以不仅能够提高再现信号的品质，而且能够实现稳定的循轨控制。
另外，如上所述，使假设将记录再现用光束170A、170B照射至伺服层418时的反射率小，其结果，能够将第一、第二缓冲层417、437形成为薄的厚度。具体地讲，在本实施方式中，能够将第一、第二缓冲层417、437的厚度形成为：优选在200μm以下，更优选在100μm以下，进而优选在50μm以下。这样能够使第一、第二缓冲层417、437的厚度变薄，则能够相应地减小在形成第一、第二缓冲层417、437时的膜厚误差。同时，能够加厚支撑基板412的厚度，所以能够进一步抑制在制作光记录介质410时的弯曲。
进而，在该光记录介质410中，第一缓冲层417和第二缓冲层437的厚度设定为大致相同。其结果，能够抑制支撑基板412在形成第一、第二缓冲层417、437的工序中弯曲。这意味着，能够使支撑基板412变薄或由刚性低的材料构成支撑基板412，因此能够相应地增加第一记录再现层组414和第二记录再现层组434的层数。
另外，光记录介质410的第一记录再现层组414和第二记录再现层组434，层叠于以支撑基板412的中心为基准而在厚度方向上对称的位置。因此，第一、第二记录再现层组414、434的内部应力也相对称，所以能够抑制光记录介质410的弯曲。
此外，在制作本第四实施方式的光记录介质410时，优选在两侧的面上同时形成第一缓冲层417和第二缓冲层437、第一记录再现层组414和第二记录再现层组434、第一中间层组416和第二中间层组436。其结果，紫外线固化时所发生的内部应力会均等地作用于支撑基板412的两侧，所以能够进一步抑制光记录介质410的弯曲。
此外，在第四实施方式中，对第一、第二缓冲层417、437赋予了对于红色波长和蓝色波长的光吸收率互不相同的特性，其结果，伺服层418的反射率对于循轨用光束和记录再现用光束互不相同，但本发明并不仅限定于此。例如，也可以对形成于伺服层418的反射膜本身，赋予根据波长而其反射率不同的波长依赖特性。另外，可以与第一、第二缓冲层417、437分别独立地设置具有光透过率或吸收率的波长依赖特性的滤光层，而且也可以对基板材料赋予波长依赖特性。
实施例
以用简单方式确认第一实施方式的光记录介质10的特性为目的，实际制作了该光记录介质，并使用具有通常的分光仪功能且在光盘领域中的标准光盘测定仪ETA-optic(德国Steag公司制造)来进行了评价。具体地讲，对该光记录介质的伺服层在记录再现用激光二极管的波长405nm附近的反射率和在循轨用激光二极管(laser diode)的波长650nm附近的反射率进行了测定。其结果，对于蓝色波长(405nm)的反射率为9％，对于红色波长(650nm)的反射率为52％，从而确认到：将记录再现用光束波长的光照射至伺服层时的伺服层的反射率比照射了循轨用光束波长的光时的反射率更低。
进而，为了更加详细地确认该伺服层的反射率，另外制作了不具有伺服层的各金属膜及辅助膜(成为透明伺服层)的计算用光盘，并通过如上所述的方法对反射率进行了评价。只要求出该计算用光盘和上述通常的光记录介质之间的反射率的差分，就能够单独对伺服层本身的反射率特性进行分析。在对该计算用光盘的反射率测定中，对于蓝色波长(405nm)的反射率为14％，对于红色波长(650nm)的反射率为32％。进而，计算出通常的光记录介质和计算用光盘之间的光学差分(这并不意味着单纯的减法，而意味着考虑到各种各样的状况的光学差分)，则伺服层单独的反射率成分为，对于蓝色波长为1％以下，对于红色波长为20％左右。即，关于实际的光记录介质中的伺服层的反射特性确认到，对于记录再现用光束的波长的反射率，明显比对于循轨用光束的波长的反射率小。
接下来，进而为了在接近于实际信号处理特性的状态下进行验证，制作了将第一实施方式所示的光记录介质10的记录再现层组14的层叠数目作为单层的光记录介质，来作为实施例1、2的光记录介质。即，如图15所示，该光记录介质10具有覆盖层11、记录再现层14、缓冲层17、伺服层18及支撑基板12。
此外，实施例1的伺服层18采用层叠Ag反射膜、ZnS-SiO2辅助膜、Cu反射膜、Si反射膜、ZnS-SiO2辅助膜构成的五层结构膜，而且整体的膜厚为119nm。此外，其中的Ag反射膜及Cu反射膜的合计厚度为91nm。另外，在实施例1中，将缓冲层17的厚度设定为30μm。在实施例2中，将伺服层18的Ag反射膜及Cu反射膜的合计厚度同样设定为91nm，而改变了其他辅助膜的厚度。另外，缓冲层17的厚度也改变为40μm。
另外，制作了将第二实施方式所示的光记录介质310的记录再现层组14的层叠数目作为单层的光记录介质，来作为实施例3的光记录介质。该实施例3的伺服层18采用膜厚为80nm的Ag合金的单层金属膜，缓冲层17采用将所谓偶氮骨格等的具有黄色发色团、助色团的一般的色素混合在上述透明丙烯酸类树脂材料中而得到的材料。该材料对于循轨用光束170的第一波长(在本实施方式中为650nm)的吸光度低，而对于记录再现用光束270的第二波长(在本实施方式中为405nm)的吸光度高。
此外，在实施例1～3中，记录再现层14的材料都采用Bi-Ge-O。另外，为了对记录再现层14的再现信号进行评价，采用了如下方法：特意在记录再现层14上形成信号品质评价用岸台19A及凹槽19B，并评价了利用该岸台19A及凹槽19B来进行的循轨信号的品质，由此间接地对再现信号的品质进行了评价。
另一方面，制作了未对缓冲层17赋予光吸收功能且伺服层18采用金属单层膜的光记录介质，来作为比较例1～3的光记录介质。比较例1的伺服层18采用膜厚为80nm的Ag合金的金属膜，比较例2的伺服层18采用膜厚为20nm的Ag合金的金属膜，比较例3的伺服层18采用膜厚为10nm的Ag合金的金属膜。
作为各光记录介质的评价方法，将蓝色波长的记录再现用光束170照射至记录再现层14，并通过光检测仪132的电压变动来对岸台19A或凹槽19B的包含循轨信号的反射光进行检测，由此判断可否进行循轨控制以及判断循轨信号中的噪声量。如果利用包含在记录再现层14的反射光中的循轨信号来能够跟踪岸台19A或凹槽19B，那么，能够推测为记录再现层14的再现信号的品质良好。同样地，若该循轨信号所含的噪声少，则能够推测为再现信号的品质良好。此外，如果照射至记录再现层14的蓝色波长的记录再现用光束170的一部分向伺服层18侧发生了漏光，该漏光强烈地被伺服层18反射，那么，循轨信号中所含有的噪声就会增多。
另外，作为参考，确认了将记录再现用光束170照射至记录再现层14时的反射光量和将该记录再现用光束170直接照射至伺服层18时的反射光量，并对两者的倍率进行了评价。另外，对伺服层18照射了蓝色波长(405nm)的记录再现用光束170和红色波长(650nm)的循轨用光束270，来确认了各自的反射率，并分为高、中、低的三个阶段来进行了评价。此外，评价装置采用了作为光盘领域的标准检查仪的帕路斯科技(PULSTECINDUSTRIAL CO.，LTD)制造的光盘检查仪ODU1000。
以上的评价结果如图15所示。在实施例1中，将记录再现用光束170照射至伺服层18时的反射光量为74.0mV，将记录再现用光束170照射至记录再现层14时的反射光量为84.5mV，伺服层18的反射光量相对于记录再现层14的反射光量的比率为0.9。进而，利用该反射光(循轨信号)的循轨为良好，该循轨信号中所含的噪声也少。此外，对于伺服层18，照射了蓝色波长(405nm)的记录再现用光束170时的反射率为低，而照射了红色波长(650nm)的循轨用光束270时的反射率为高。
在实施例2中，将记录再现用光束170照射至伺服层18时的反射光量为112.0mV，将记录再现用光束170照射至记录再现层14时的反射光量为160.0mV，伺服层18的反射光量相对于记录再现层14的反射光量的比率为0.7。进而，利用该反射光(循轨信号)的循轨为良好，该循轨信号中所含有的噪声也极其少。此外，对于伺服层18，照射了蓝色波长(405nm)的记录再现用光束170时的反射率为低，而照射了红色波长(650nm)的循轨用光束270时的反射率为高。
在实施例3中，将记录再现用光束170照射至伺服层18时的反射光量为740.0mV，将记录再现用光束170照射至记录再现层14时的反射光量为160.5mV，伺服层18的反射光量相对于记录再现层14的反射光量的比率为4.5。进而，利用该反射光(循轨信号)的循轨为良好，该循轨信号中所含有的噪声也少。此外，对于伺服层18，照射了蓝色波长(405nm)的记录再现用光束170时的反射率为低，而照射了红色波长(650nm)的循轨用光束270时的反射率为高。从该实施例3可知，只要伺服层18的反射光量相对于记录再现层14的反射光量的比率在5以下，就能够维持良好的信号品质。另外，从实施例1、2可知，只要该比率在1以下，就能够维持非常良好的品质。
在比较例1中，将记录再现用光束170照射至伺服层18时的反射光量为5000.0mV，将记录再现用光束170照射至记录再现层14时的反射光量为216.0mV，伺服层18的反射光量相对于记录再现层14的反射光量的比率为23.1。进而，利用该反射光(循轨信号)的循轨变为不可，该循轨信号中所含有的噪声也极大。此外，对于伺服层18，照射了蓝色波长(405nm)的记录再现用光束170时的反射率为高，照射了红色波长(650nm)的循轨用光束270时的反射率也为高。
在比较例2中，将记录再现用光束170照射至伺服层18时的反射光量为1615.0mV，将记录再现用光束170照射至记录再现层14时的反射光量为216.0mV，伺服层18的反射光量相对于记录再现层14的反射光量的比率为19.7。进而，利用该反射光(循轨信号)的循轨处于不良状态，该循轨信号中所含有的噪声也极大。此外，对于伺服层18，照射了蓝色波长(405nm)的记录再现用光束170时的反射率为中，照射了红色波长(650nm)的循轨用光束270时的反射率也为中。
在比较例3中，将记录再现用光束170照射至伺服层18时的反射光量为930.0mV，将记录再现用光束170照射至记录再现层14时的反射光量为174.5mV，伺服层18的反射光量相对于记录再现层14的反射光量的比率为5.3。进而，利用该反射光(循轨信号)的循轨为可能，该循轨信号中所含有的噪声为极大。此外，对于伺服层18，照射了蓝色波长(405nm)的记录再现用光束170时的反射率为极低，照射了红色波长(650nm)的循轨用光束270时的反射率也为低。即，比较实施例3和比较例3可知，若伺服层18的反射光量相对于记录再现层14的反射光量的比率超出了5，则信号特性如比较例3那样变差，而若在5以下，则信号特性如实施例3那样变为良好。
此外，在图17A的输出画面的下段所示出的信号波形为实施例1的循轨信号，从附图上可知，噪声成分少且信号品质极其良好。另一方面，在图17B的输出画面的下段所示出的信号波形为比较例1的循轨信号，从附图上可知，噪声成分多且信号品质差。
另外，在本实施方式中，示出了循轨用光束的波长在红色波段且记录再现用光束波长在蓝色波段的情形，但本发明并不仅限定于此，也可以采用其他波长区域的光束。
在以上的实施方式中，示出了作为各记录再现层而预先形成了记录膜的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，如图11所示的光记录介质510那样，也可以使将来可能会成为记录再现层组的部位整体，形成为具有规定厚度的整层513。若将记录用光束170照射至该整层513，则仅在光束光斑的焦点部分发生状态变化而形成记录标记。即，本发明的光记录介质并不仅限定于预先形成了光束所照射的记录再现层的情形，而也包括如下情形：在平面区域随时形成记录标记，并通过该记录标记的集合体来事后形成记录再现层组514的多层结构。由于光记录介质510采用了整层513的结构，所以只要是在整层513的范围内，就能够自由地设定记录再现层的位置。在第三实施方式所示的光记录介质410也能够采用同样的整层结构。
接下来，参照附图，对本发明第五实施方式进行说明。
图19示出了能够应用本发明第五实施方式的光记录再现方法的光记录介质10和用于实现该光记录再现方法的光记录再现装置70的内部结构。该记录再现装置70具有：第一、第二光读写头90A、90B；用于使该第一、第二光读写头90A、90B沿着循轨方向移动的第一、第二直动机构75A、75B；用于控制该第一、第二直动机构75A、75B的循轨控制装置80；用于控制第一、第二光读写头90A、90B的各光束的输出功率的输出控制装置86。
第一、第二直动机构75A、75B是所谓的线性马达，在上述第一、第二直动机构75A、75B上分别安装有第一、第二光读写头90A、90B。其结果，第一光读写头90A借助第一直动机构75A在光记录介质10的径向上移动。另外，第二光读写头90B借助第二直动机构75B在光记录介质10的径向上移动。
第一光读写头90A从光记录介质10的一侧的第一表面10A侧照射光束。第二光读写头90B从光记录介质10的另一侧的第二表面30A侧照射光束。此外，虽没有特别图示，但第一光读写头90A和第二光读写头90B处于在光记录介质10的周向上错开规定角度差的状态。于是，能够回避彼此的光束发生干涉。此外，该角度差例如优选在20度以内。
就第一、第二光读写头90A、90B的内部结构而言，一部分大致相同，而一部分互不相同。因此，关于彼此相同的部件及构件，在附图中或文章中，对第一光读写头90A的各部件及构件的附图标记的末尾标注了A，对第二光读写头90B的各部件及构件的附图标记的末尾标注了B，而附图标记的末尾之外的各位采用相同的编号。在此，对第一光读写头90A的内部结构进行详细说明，而关于第二光读写头90B，仅以与第一光读写头90A之间的不同点为中心进行说明。
如图20所示，第一光读写头90A具有记录再现用光学系统100A和循轨用光学系统200A。记录再现用光学系统100A是对光记录介质10的第一记录再现层组14进行记录及再现的光学系统。循轨用光学系统200A是用于进行循轨控制的光学系统，在利用记录再现用光学系统100A对第一记录再现层组14进行信息记录时，该循轨用光学系统200A利用伺服层18来进行循轨控制。
从记录再现用光学系统100A的光源101A出射的发散的记录再现用光束170A，透过具有球差修正单元193A的准直透镜153A，入射至偏振分束器152A。此外，光束170A具有蓝色波长380～450nm(在本实施方式中为405nm)。入射至偏振分束器152A的光束170A，透过该偏振分束器152A，进而透过1/4波片154A时变换为圆偏振光，然后入射至循轨用光学系统200A的分束器260A。该分束器260A设定为透过率高且反射率低。具体地讲，透过率相对于反射率的比率大于等于10。因此，光束170A透过分束器260A，并被物镜156A变换为会聚光束。该光束170A聚焦在形成于光记录介质10的内部的成为记录再现对象的第一记录再现层组14或伺服层18中的任一层上。
利用光阑155A来限制物镜156A的孔径，该物镜156A的数字孔径NA为0.70～0.90(在本实施方式中为0.85)。例如，被第一记录再现层组14反射的光束170A，透过物镜156A、分束器260A及1/4波片154A而变换为与去程的光束相差90度的线偏振光，然后被偏振分束器152A反射。
被偏振分束器152A反射的光束170A，透过聚光透镜159A后变换为会聚光，经由柱面透镜157A而入射至光检测仪132A。在光束170A透过柱面透镜157A时，该光束170A被赋予像散。
光检测仪132A具有未图示的四个受光部，上述四个受光部分别输出与接收到的光量相对应的电流信号。根据这些电流信号来生成以下信号：基于像散法的对焦误差(下面，称之为“FE”)信号、再现时被限定的基于推挽法的循轨误差(下面，称之为“TE”)信号(根据情况，有时为基于DPD(相位差)法的TE信号)、记录于光记录介质10上的信息的再现信号等。将FE信号及TE信号放大为所希望的电平并进行相位补偿，然后反馈至致动器191A及192A。该致动器191A及192A对物镜156A进行倾斜控制、循轨控制、对焦控制等。此外，仅在再现时利用基于记录再现用光学系统100A的循轨误差信号。
从循轨用光学系统200A的光源201A出射的红色波长630～680nm(在本实施方式中为650nm)的发散的循轨控制用光束270A，透过具有球差修正单元293A的准直透镜253A，入射至偏振分束器252A。入射至偏振分束器252A的光束270A，透过偏振分束器252A，进而透过1/4波片254A时变换为圆偏振光，然后被分束器260A反射。该光束270A进而被物镜156A变换为会聚光束，聚焦在形成于光记录介质10内部的伺服层18上。被伺服层18反射的光束270A，透过物镜156A后被分束器260A反射，在1/4波片254A中变换为与去程的光束相差90度的线偏振光，进而被偏振分束器252A反射。被偏振分束器252A反射的光束270A，透过聚光透镜259A后变换为会聚光，经由柱面透镜257A而入射至光检测仪232A。在光束270A透过柱面透镜257A时，光束270A被赋予像散。
光检测仪232A具有未图示的四个受光部，上述四个受光部分别输出与接收到的光量相对应的电流信号。根据这些电流信号来生成基于推挽法的循轨误差(TE)信号(根据情况，有时为基于DPD(相位差)法的循轨误差(TE)信号)。此外，在伺服层18上也记录有信息的情况下，也可以根据该电流信号来生成再现信号。在该光检测仪232A侧无需生成对焦误差(FE)信号，但当然也可以生成对焦误差(FE)信号。
此外，如已叙述过那样，分束器260A设定为透过率高且反射率低。因此，从记录再现用光学系统100A的光源101A出射且被第一记录再现层组14中的任一层反射的返回光的一部分，被分束器260A反射而向循轨用光学系统200A侧传播。与之相反，从循轨用光学系统200A的光源201A出射且被伺服层18反射的返回光的大部分，可能会透过分束器260A而向记录再现用光学系统100A侧传播。即使在记录再现用光学系统100A和循轨用光学系统200A中两者的返回光相混合，由于记录再现用光学系统100A和循轨用光学系统200A在光记录介质10内具有互不相同的焦点位置，所以各光束170A、270A的扩散角度互不相同。因此，利用没有特别图示的规定形状的狭缝或光阑，在光束170A、270A中只提取一个光束并入射至各光检测仪132A、252A，由此能够消除混合所带来的影响。当然，也可以利用具有波长选择性的滤光器来对光束170A、270A进行分离。
特别是，如果记录再现用光学系统100A的光束170A在光记录介质10内的焦点位置和循轨用光学系统200A的光束270A在光记录介质10内的焦点位置之差，始终落入规定的范围内，那么，上述狭缝或光阑可以采用简单的结构，因此能够更加简单地实现光束的分离。为了使焦点距离之差变得稳定，而使记录再现用光束170A的焦点位置和伺服用光束270A的焦点位置彼此靠近时，误差会变小，所以这是优选的。
如图21所示，第二光读写头90B具有记录再现用光学系统100B，而不具有循轨用光学系统。记录再现用光学系统100B是对光记录介质10的第二记录再现层组34进行记录及再现的光学系统。此外，该记录再现光学系统100B具有与第一光读写头90A的记录再现光学系统100A大致相同的结构。
在利用第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B向第二记录再现层组34记录信息时，使用通过将第一光读写头90A的循轨用光学系统200A照射至伺服层18而得到的循轨误差(TE)信号。具体地讲，致动器191B及192B利用该循轨误差信号对物镜156B进行倾斜控制、循轨控制、对焦控制等。
回到图19，循轨控制装置80具有访问控制器82、第一驱动器84A、第二驱动器84B。访问控制器82对第一及第二光读写头90A、90B的致动器191A、191B、192A、192B进行控制，并利用第一驱动器84A及第二驱动器84B，控制第一直动机构75A及第二直动机构75B到达作为目标的循轨位置。
具体地讲，访问控制器82如下所述那样对第一、第二光读写头90A、90B进行控制。
(1)记录时的控制动作
访问控制器82从没有特别图示的记录再现控制装置接收作为记录对象的循轨编号，或使第一光读写头90A的循轨用光束270A照射至与该循轨编号相当的伺服层18的岸台/凹槽。这是通过如下方式来实现的，即，访问控制器82接收利用循轨用光学系统200A的光束270A得到的循轨误差(TE)信号，由此对致动器191A、192A和第一直动机构75A进行反馈控制来实现的。在这样的状态下，第一光读写头90A将记录再现用光束170A照射至第一记录再现层组14来进行信息记录。
与此同时，访问控制器82利用第一光读写头90A的上述循轨误差(TE)信号，对致动器191A、192A和第二直动机构75B进行控制。即，致动器191A、191B、192A、192B和第一直动机构75A及第二直动机构75B，在循轨方向上进行完全相同的动作。在这样的状态下，第二光读写头90B将记录再现用光束170B照射至第二记录再现层组34来进行信息记录。其结果，在本实施方式中，利用彼此共享的伺服层18来同时对第一、第二光读写头90A、90B进行循轨控制，由此同时对第一、第二记录再现层组14、34进行信息记录。
(2)再现时的控制动作
通过将第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的光束170A照射至第一记录再现层组14，来对第一记录再现层组14进行再现。此时的循轨控制是通过如下方式来实现的，即，并不利用循轨用光束270A，而访问控制器82直接利用记录再现用光束170A的循轨误差(TE)信号，对致动器191A、192A和第一直动机构75A进行反馈控制来实现。
将第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的光束170B照射至第二记录再现层组34，由此对第二记录再现层组34进行再现。此时的循轨控制是以如下方式实现的：访问控制器82直接利用第二光读写头90B的记录再现用光束170B的循轨误差(TE)信号，对致动器191B、192B和第二直动机构75B进行反馈控制，来实现循轨控制。即，在本实施方式中，分别独立地对第一、第二光读写头90A、90B来进行循轨控制，来同时对第一、第二记录再现层组14、34的信息进行再现。
输出控制装置86具有试写单元87、品质评价单元88、记录功率调整单元89。
在将实际的信息写入用户数据区域之前，试写单元87对光记录介质10的各记录再现层的试写区域进行测试用数据的试写。具体地讲，首先，利用由随机数据或由特定的数据重复而成的简易数据构成的功率设定用图案，一边阶段性地改变激光器功率，一边写入该功率设定用图案。然后，对该功率设定用图案进行再现，利用品质评价单元88对信号品质的判定结果来选定最佳记录功率。所选定的记录功率传递至记录功率调整单元89，被反映于实际的输出中。另外，该试写单元87具有存储器单元87A，将所选定的最佳记录功率蓄积在存储器单元87A中。
品质评价单元88接收试写在第一或第二记录再现层组14、34的试写区域(OPC区域)上的记录标记的再现数据，并利用该数据来检测出错率或SAM(Sequenced Amplitude Margin：顺序振幅余量)值来传递至试写单元87。于是，试写单元87利用从品质评价单元88获取的出错率或SAM值，根据这些数据是否满足规定的基准或是否发生了无法订正的错误等来判定再现数据的品质，由此选定使品质变为最好的记录功率。例如，选定使出错率或SAM值变得最小的最佳记录功率。此外，在此作为基准值而例示了出错率或SAM值，但本发明并不仅限定于此，也可以利用其他方法来判断信号品质。
记录功率调整单元89受到来自试写单元87的指示，来对第一光读写头90A的光源101A的记录功率和第二光读写头90B的光源101B的记录功率进行控制。具体地讲，对各光源101A、101B的记录功率Pw、擦除功率Pe及偏置功率Pb进行设定。
图22中放大示出了本实施方式的光记录介质10的剖面结构。
光记录介质10具有外径约为120mm、厚度约为1.2mm的圆盘形状。该光记录介质10从第一表面10A一侧起依次具有第一覆盖层11、第一记录再现层组14、第一中间层组16、第一缓冲层17、伺服层18、支撑基板12、第二缓冲层37、第二记录再现层组34、第二中间层组36、第二覆盖层31及第二表面30A。
在本实施方式中，第一记录再现层组14具有L0～L5记录再现层14A～14F，这些记录再现层分别具有能够进行信息记录的结构。该L0～L5记录再现层14A～14F采用不具有循轨控制用凹凸或沟槽的平面结构，若通过记录再现用光学系统100来照射高能量的记录用光束170，就能够形成记录标记。此外，该第一记录再现层组14的种类都有：虽能够写入信息但不能擦写信息的写一次型记录再现层；能够擦写信息的可擦写型记录再现层。
支撑基板12是圆盘形状的基板，其厚度为10μm～1200μm，优选在10μm～700μm的范围内，更优选在10μm～600μm的范围内或100μm～700μm的范围内的，用于确保光记录介质需具备的厚度(约1.2mm)。具体地讲，在本实施方式中，将支撑基板12的厚度设定为500μm，将直径设定为120mm。在支撑基板12的第一表面10A一侧，从其中心部附近朝向外缘部以螺旋状形成有岸台18A及凹槽18B。该岸台18A及凹槽18B就是循轨控制用凹凸(沟槽)。该支撑基板12的上述凹凸将来会成为伺服层18。
在支撑基板12上所形成的伺服层18，由形成于支撑基板12的表面的循轨控制用凹凸(凹槽及岸台)和形成于该循轨控制用凹凸上的反射性的层构成。尤其是在本实施方式中，反射性的层由Al、Ag等金属膜形成，并作为单纯的光反射膜来发挥功能。该伺服层18设计成，透过率在照射了第一光读写头90A的循轨用光束270A时为10％以下。其结果，能够防止光束270A向相反一侧发生漏光而成为第二光读写头90B侧的噪声成分。此外，在设置除具有反射功能外还能够进行信息记录的记录膜的情况下，可以采用与后述的记录再现层14A～14F大致相同的膜结构。
在本实施方式中，伺服层18的相邻的岸台18A之间或凹槽18B之间的间隔P1设定为小于0.74μm。具体地讲，优选将间隔P1设定在0.6μm～0.7μm的范围内，更优选设定为0.64μm左右。另一方面，记录标记的轨道间隔P2设定为岸台18A及凹槽18B的间隔P1的一半(1/2)。即，记录标记之间的轨道间隔P2设定为小于0.37μm，优选设定在0.26μm～0.35μm的范围内，更优选设定为0.32μm左右。其结果，记录标记之间的轨道间隔P2设定为与BD标准具有互换性的0.32μm左右。
伺服层18的岸台18A之间/凹槽18B之间的间隔P1(0.64μm左右)，其大小被设定能够利用相对长的红色波长区域的光束270A能充分实现循轨。在本实施方式中，利用岸台18A和凹槽18B这两者来进行循轨。其结果，记录标记的轨道间隔P2变为伺服层18的间隔P1的一半即0.32μm左右。这样，分别利用岸台18A和凹槽18B来进行循轨控制，所以即使伺服层18的间隔P2不采用小值，也能够使记录再现层组14的记录标记的轨道间隔P2变小。
第一缓冲层17由透光性的丙烯酸类的紫外线固化型树脂构成，该第一缓冲层17的膜厚设定为238μm。该第一缓冲层17采用了光束的波长越短就光吸收量越多的材料。这样，对于蓝色波长的光束170A的光吸收量变多，而对于红色波长的光束270A的吸收量变少。其结果，第一缓冲层17能够抑制蓝色波长的光束170A到达伺服层18后被反射的光量，所以能够降低再现时的信号噪声。另一方面，第一缓冲层17能够积极地使红色波长的光束270A透过，从而能够使循轨信号的光量增多。
在第一缓冲层17的第一表面10A一侧所层叠的第一记录再现层组14的各层(L0～L5记录再现层14A～14F)，分别采用在写一次型记录膜的两外侧层叠有介电膜的三层结构(省略图示)。此外，该L0～L5记录再现层14A～14F，针对第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的蓝色波长区域(短波长)的光束170A，已对其光反射率、吸收率、透过率等进行了优化。
第一中间层组16从远离第一表面10A的一侧起依次具有L0～L4中间层16A～16E，并且层叠在L0～L5记录再现层14A～14F之间。各中间层16A～16E由丙烯酸类或环氧类的紫外线固化型树脂构成。该L0～L4中间层16A～16E的膜厚，为了增加层叠数目而优选设定为20μm以下，L0中间层16A为16μm，L1中间层16B为12μm，L2中间层16C为16μm，L3中间层16D为12μm，L4中间层16E为16μm。也就是说，交替层叠有两种膜厚(16μm、12μm)的中间层。其结果，L0～L5记录再现层14A～14F的层间距离设定为，从光入射面一侧起依次交替设定有第一距离(16μm)和与该第一距离不同的第二距离(12μm)。另外，第一距离和第二距离之差设定为4μm。于是，能够降低层间串扰。当然，也可以将所有的中间层组16的膜厚设定为相同的厚度。
与第一中间层组16同样地，第一覆盖层11由透光性的丙烯酸类的紫外线固化型树脂构成，其膜厚设定为40μm。
在支撑基板12的第二表面30A一侧所形成的第二缓冲层37，由透光性的丙烯酸类的紫外线固化型树脂构成，其膜厚设定为238μm。
在第二缓冲层37的第二表面30A一侧所层叠的第二记录再现层组34的各层(L0～L5记录再现层34A～34F)，分别采用在写一次型记录膜的两外侧层叠有介电膜的三层结构(图示省略)。此外，该L0～L5记录再现层34A～34F，针对第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的蓝色波长区域(短波长)的光束170B，已对其光反射率、吸收率、透过率等进行了优化。
第二中间层组36从远离第二表面30A的一侧起依次具有L0～L4中间层36A～36E，层叠在L0～L5记录再现层34A～34F之间。各中间层36A～36E由丙烯酸类或环氧类的紫外线固化型树脂构成。该中间层36A～36E的膜厚，为了增加层叠数目而优选设定为20μm以下，L0中间层36A为16μm，L1中间层36B为12μm，L2中间层36C为16μm，L3中间层36D为12μm，L4中间层36E为16μm。也就是说，交替层叠有两种膜厚(16μm、12μm)的中间层。其结果，L0～L5记录再现层34A～34F的层间距离设定为，从第二表面30A一侧起依次交替设定有第一距离(16μm)和与该第一距离不同的第二距离(12μm)。另外，第一距离和第二距离之差设定为4μm。于是，能够降低层间串扰。当然，也可以将所有的第二中间层组36的膜厚设定为相同的厚度。
此外，第二记录再现层组34、第二中间层组36的材料等与第一记录再现层组14及第一中间层组16的材料相同，所以省略其说明。
与第二中间层组36同样地，第二覆盖层31由透光性的丙烯酸类的紫外线固化型树脂构成，其膜厚设定为40μm。
如上所述那样构成了光记录介质10，其结果，光记录介质10中的支撑基板12和第一缓冲层17之间的边界(伺服层18)位于与第一表面10A相距350μm的位置。另外，在第一记录再现层组14中，最远离第一表面10A的L0记录再现层14A位于与第一表面10A相距112μm的位置，L1记录再现层14B位于与第一表面10A相距96μm的位置，L2记录再现层14C位于与第一表面10A相距84μm的位置，L3记录再现层14D位于与第一表面10A相距68μm的位置，L4记录再现层14E位于与第一表面10A相距56μm的位置，而且最靠近第一表面10A的L5记录再现层14F位于与第一表面10A相距40μm的位置。另外，第一记录再现层组14的整体的厚度(L0记录再现层14A～L5记录再现层14F间的距离)为72μm。
另外，在第二记录再现层组34中，最远离第二表面30A的L0记录再现层34A位于与第二表面30A相距112μm的位置，L1记录再现层34B位于与第二表面30A相距96μm的位置，L2记录再现层34C位于与第二表面30A相距84μm的位置，L3记录再现层34D位于与第二表面30A相距68μm的位置，L4记录再现层34E位于与第二表面30A相距56μm的位置，而且最靠近第二表面30A的L5记录再现层34F位于与第二表面30A相距40μm的位置。另外，第二记录再现层组34的整体的厚度(L0记录再现层34A～L5记录再现层34F间的距离)为72μm。
即，就该光记录介质10而言，除了伺服层18非对称配置之外，具有在厚度方向上对称的结构。其结果，制造光记录介质10时发生的内部应力在厚度方向上彼此对称，所以能够抑制弯曲及变形。尤其是，即使将支撑基板12形成为700μm以下，在此薄至100μm，也能够抑制光记录介质10的弯曲及变形量。
接下来，对本第五实施方式的光记录介质10的制造方法进行说明。
如图23A所示，首先，通过使用金属压模的聚碳酸酯树脂的注塑成型法，制作仅在单侧面上形成有凹槽及岸台的支撑基板12。利用注塑成型模具，在该支撑基板12上预格式化制造介质时应预先保持的基本信息，如第一记录再现层组14及第二记录再现层组34的地址信息、包括记录再现功率等的记录条件、各记录再现层的位置或层间距离等。具体地讲，利用岸台18A或凹槽18B的抖动，来预格式化基本信息。此外，支撑基板12的制作并不仅限定于注塑成型法，也可以通过2P法或其他方法来制作。
然后，在支撑基板12的设有凹槽及岸台一侧的表面上形成伺服层18。通过溅射法等，形成对于循轨用光学系统200A的光源具有反射性的膜(例如，Al或Ag等的金属膜)，由此形成伺服层18。
接下来，如图23B所示，在形成有该伺服层18的支撑基板12的两侧面上，同时形成第一缓冲层17及第二缓冲层37。例如，通过旋涂法等，在支撑基板12的两侧面上形成调好粘度的丙烯酸类或环氧类的紫外线固化型树脂的膜，并对这些膜照射紫外线来进行固化，由此形成第一、第二缓冲层17、37。此外，除了可以采用紫外线固化性树脂之外，还可以利用接合剂或粘合剂等，在支撑基板12的两侧面上粘贴由透光性树脂而成的透光性薄片，由此形成第一、第二缓冲层17、37。另外，还可以通过喷涂法、DIP法等，来在支撑基板12的两侧面上形成第一、第二缓冲层17、37。
接下来，如图23C所示，分别在第一缓冲层17和第二缓冲层37上，同时形成第一记录再现层组14的L0记录再现层14A和第二记录再现层组34的L0记录再现层34A。具体地讲，利用气相生长法，依次形成介电膜、写一次型记录膜、介电膜。其中，优选采用溅射法。然后，在第一记录再现层组14的L0记录再现层14A上，形成第一中间层组16的L0中间层16A，在第二记录再现层组34的L0记录再现层34A上，形成第二中间层组36的L0中间层36A。这两者的形成也是同时进行的。而且，例如通过旋涂法等来形成调好粘度的紫外线固化型树脂的膜，然后，对该紫外线固化性树脂照射紫外线来进行固化，由此形成L0中间层16A、36A。通过反复进行这样的步骤，在第一缓冲层17侧交替层叠第一记录再现层组14及第一中间层组16，在第二缓冲层37侧交替层叠第二记录再现层组34及第二中间层组36。
在第一记录再现层组14的L5记录再现层14F的形成和第二记录再现层组34的L5记录再现层34F的形成也都结束之后，如图23D所示，分别在这些L5记录再现层14F、34F上，同时形成第一及第二覆盖层11、31，由此完成该光记录介质10。例如，通过旋涂法等来形成调好粘度的丙烯酸类或环氧类的紫外线固化型树脂的膜，并对这些膜照射紫外线来进行固化，由此形成该第一、第二覆盖层11、31。此外，在本实施方式中说明了上述制造方法，但本发明并没有特别限定于上述制造方法，而也可以采用其他的制造技术。
接下来，关于利用本第五实施方式的光记录再现装置70来对光记录介质10进行信息记录再现的光记录再现方法进行说明。在本实施方式的光记录再现方法中，同时对特定的一对记录再现层进行信息记录，上述特定的一对记录再现层是指，在第一记录再现层组14中的从第一表面10A侧起的层叠顺位，与在第二记录再现层组34中的从光记录介质10的厚度方向上的中心侧起的层叠顺位彼此相同的一对记录再现层。
例如，在本实施方式中，例示了对第一记录事例至第四记录事例的共计4对记录再现层依次进行信息记录的情形。在第一记录事例中，同时对在第一记录再现层组14中的从第一表面10A侧起的层叠顺位为第一位的L5记录再现层14F和在第二记录再现层组34中的从光记录介质10的厚度方向上的中心侧起的层叠顺位为第一位的L0记录再现层34A进行信息记录。在第二记录事例中，同时对在第一记录再现层组14中的从第一表面10A侧起的层叠顺位为第三位的L3记录再现层14D和在第二记录再现层组34中的从光记录介质10的厚度方向上的中心侧起的层叠顺位为第三位的L2记录再现层34C进行信息记录。在第三记录事例中，同时对在第一记录再现层组14中的从第一表面10A侧起的层叠顺位为第四位的L2记录再现层14C和在第二记录再现层组34中的从光记录介质10的厚度方向上的中心侧起的层叠顺位为第四位的L3记录再现层34D进行信息记录。在第四记录事例中，同时对在第一记录再现层组14中的从第一表面10A侧起的层叠顺位为第六位的L0记录再现层14A和在第二记录再现层组34中的从光记录介质10的厚度方向上的中心侧起的层叠顺位为第六位的L5记录再现层34F进行信息记录。
<第一记录事例/对L5记录再现层14F和L0记录再现层34A的同时记录>
<OPC控制>
在对光记录介质10进行信息记录之前，按照图24的流程图，对该光记录再现装置70的记录功率进行设定。
首先，在步骤300中，通过输出控制单元86来对光记录介质10的DI(Disc Information：盘片信息)区域进行再现，来读取光记录介质10的基本特性信息。在该DI区域，记录有介质的种类(写一次型或可擦写型等)、记录速度(1X、2X等)、记录策略、伺服层18的位置、记录再现层的位置、记录再现层的层间距离，还记录有激光束的推荐记录功率PK。于是，将该推荐记录功率PK设定为初始记录条件(步骤302)。此外，在本实施方式中，在伺服层18上形成有该DI区域。因此，利用第一光读写头90A的红色波长区域的光束270A，从伺服层18读取这些信息。
接着，在步骤304中，输出控制装置86参照存储器单元87A，来判定用于对L5记录再现层14F进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率是否已通过OPC来决定，在已决定的情况下，进入步骤306，将该最佳记录功率也应用于这一次的记录中。此外，在第一记录事例中，处于还未决定最佳记录功率的状态。
在还未决定用于对L5记录再现层14F进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率的情况下，进入步骤308，通过参照存储器单元87A，来判定用于对从厚度方向上的中心侧起的层叠顺位与L5记录再现层14F相同的L5记录再现层34F(即，以中心为基准，位于与L5记录再现层14F对称的位置的记录再现层)进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率是否已通过OPC来决定。在已决定用于对L5记录再现层34F记录的最佳记录功率的情况下，进入步骤310，将该最佳记录功率作为用于对第一记录再现层组14的L5记录再现层14F进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率。
另一方面，在步骤308中，在连用于对L5记录再现层34F进行记录的最佳记录功率也还未决定的情况下，进入步骤312，在该L5记录再现层14F的试写区域X上记录功率设定用图案(在本实施方式中为随机图案)(参照图25A)。此外，在第一记录事例中，用于对L5记录再现层34F进行记录的最佳记录功率也处于未决定状态，所以移到步骤312的试写动作中。
在这样的情况下，如图26所示，以推荐记录功率PK为基准，将实际记录的记录功率向强弱两侧分多个阶段(PK+1、PK+2、PK+3、PK-1、PK-2、PK-3)来改变，并利用各记录功率来执行功率设定用图案的写入动作。此外，关于在L5记录再现层14F的试写区域X上记录功率设定用图案时的具体的方法，由于在后述的第一记录再现动作中详细进行说明，所以在此省略其说明。
然后，在步骤314中，利用没有特别图示的PRML处理装置来对所记录的功率设定用图案进行再现，并在步骤316中，通过品质评价单元88，利用其出错率或SAM值来对再现信号的品质进行评价。将该评价结果传递至试写单元87。在步骤318中，试写单元87选定做出最高品质的记录的记录功率，参考该记录功率来决定第一光读写头90A的光源101A的记录功率Pw、擦除功率Pe、偏置功率Pb，并对记录功率调整单元89下达指示。通过以上的步骤，完成关于用于对L5记录再现层14F进行记录的最佳记录功率的设定动作。此外，通过这些步骤所决定的用于对L5记录再现层14F进行记录的最佳记录功率，会蓄积在存储器单元87A中。
接下来，经由步骤320的判定动作而返回至上述步骤302，按照与上述相同的步骤，来设定用于对L0记录再现层34A进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率。具体地讲，在步骤304中，输出控制装置86参照存储器单元87A，来判定用于对L0记录再现层34A进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率是否已通过OPC来决定，在已决定的情况下，进入步骤306，将该最佳记录功率也应用于这一次的记录中。此外，在第一记录事例中，处于还未决定最佳记录功率的状态。
在用于对L0记录再现层34A进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率还未决定的情况下，进入步骤308，通过参照存储器单元87A，来判定用于对从厚度方向上的中心侧起的层叠顺位与L0记录再现层34A相同的L0记录再现层14A进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率是否已通过OPC来决定。在用于对L0记录再现层14A进行记录的最佳记录功率已决定的情况下，进入步骤310，将该最佳记录功率作为用于对第二记录再现层组34的L0记录再现层34A进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率。
另一方面，在步骤308中，在连用于对L0记录再现层14A进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率也还未决定的情况下，进入步骤312，在L0记录再现层34A的试写区域X上记录功率设定用图案(在本实施方式中为随机图案)。此外，在第一记录事例中，将用于对L0记录再现层14A进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率也处于未决定状态，所以移到步骤312的试写动作中(参照图25A)。
然后，在步骤314中，利用没有特别图示的PRML处理装置来对所记录的功率设定用图案进行再现，并在步骤316中，通过品质评价单元88来对再现信号的品质进行评价，然后在步骤318中，决定用于对L0记录再现层34A进行记录的第二光读写头90B的光源101B的最佳记录功率。通过以上的步骤所决定的用于对L0记录再现层34A进行记录的最佳记录功率，会蓄积在存储器单元87A中。
<对L5记录再现层14F和L0记录再现层34A的同时信息记录>
如已叙述过那样，在本实施方式中，对在第一记录再现层组14中的从第一表面10A侧起的层叠顺位和在第二记录再现层组34中的从光记录介质10的厚度方向上的中心侧起的层叠顺位彼此相同的一对记录再现层，同时进行信息记录。具体地讲，作为第一记录再现动作，为了对第一记录再现层组14的L5记录再现层14F进行信息记录，首先，将第一光读写头90A的循轨用光学系统200A的红色波长区域的光束270A照射至伺服层18来进行循轨。具体地讲，如图27A所示，将光束270A的光斑照射至伺服层18的凹槽18B及岸台18A这两者来进行循轨。在进行循轨的同时，将第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的蓝色波长区域的记录用光束170A照射至L5记录再现层14F。
其结果，一边利用凹槽18B及岸台18A来进行循轨，一边沿着该凹槽18B及岸台18A对L5记录再现层14F进行信息记录。其结果，形成于L5记录再现层14F上的记录标记的轨道间隔P2，变为凹槽18B之间的间隔P1的一半。
另外，作为第二记录再现动作，在对第二记录再现层组34的L0记录再现层34A进行信息记录的情况下，利用上述第一光读写头90A的循轨用光学系统200A的循轨误差信号，对第二光读写头90B进行循轨控制。其结果，第一光读写头90A和第二光读写头90B在循轨方向上始终位于相同的位置。在进行循轨的同时，将第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的蓝色波长区域的记录用光束170B照射至L0记录再现层34A。其结果，能够对L0记录再现层34A进行信息记录。形成于L0记录再现层34A上的记录标记的轨道间隔P2，也变为伺服层18的凹槽之间的间隔P1的一半。
通过同时并行地进行以上的第一记录再现动作和第二记录再现动作，来实现对第一、第二记录再现层组14、34的同时信息记录。在进行该同时记录时的记录功率Pw、擦除功率Pe、偏置功率Pb，是通过上述的OPC步骤来设定的。
此外，在结束对第一记录再现层组14的L0记录再现层14A和第二记录再现层组34的L0记录再现层34A的必要信息的记录之后，对预先在该L0记录再现层14A、34A的一部分上所确保的管理区域，同时记录这一次的写入信息(与记录相关的地址信息、内容信息等)。
<第二记录事例/对L3记录再现层14D和L2记录再现层34C的同时记录>
<OPC控制>
按照图24的流程图，对该光记录再现装置70的记录功率进行设定。
首先，在步骤300中，通过输出控制单元86来对光记录介质10的DI(Disc Information：盘片信息)区域进行再现，来读取光记录介质10的基本特性信息，并将该推荐记录功率PK设定为初始记录条件(步骤302)。
接着，在步骤304中，输出控制装置86参照存储器单元87A，来判定用于对L3记录再现层14D进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率是否已通过OPC来决定，在已决定的情况下，进入步骤306，将该最佳记录功率也应用于这一次的记录中。此外，在第二记录事例中，处于还未决定最佳记录功率的状态。
在用于对L3记录再现层14D进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率还未决定的情况下，进入步骤308，通过参照存储器单元87A，来判定用于对从厚度方向上的中心侧起的层叠顺位与L3记录再现层14D相同的L3记录再现层34D(即，以中心为基准，位于与L3记录再现层14D对称分位置的记录再现层)进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率是否已通过OPC来决定。在用于对L3记录再现层34D进行记录的最佳记录功率已决定的情况下，进入步骤310，将该最佳记录功率作为用于对第一记录再现层组14的L3记录再现层14D进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率。
另一方面，在步骤308中，在连用于对L3记录再现层34D进行记录的最佳记录功率也还未决定的情况下，进入步骤312，在该L3记录再现层14D的试写区域X上记录功率设定用图案(在本实施方式中为随机图案)(参照图25B)。此外，在第二记录事例中，将用于对L3记录再现层34D进行记录的最佳记录功率也处于未决定状态，所以移到步骤312的试写动作中。
然后，在步骤314中，对所记录的功率设定用图案进行再现，并在步骤316中，通过品质评价单元88来对再现信号的品质进行评价，然后在步骤318中，试写单元87对第一光读写头90A的最佳记录功率进行决定。此外，通过这些步骤所决定的用于对L3记录再现层14D进行记录的最佳记录功率，会蓄积在存储器单元87A中。
接下来，返回至上述步骤302，按照与上述相同的步骤，来设定用于对L2记录再现层34C进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率。具体地讲，在步骤304中，输出控制装置86参照存储器单元87A，来判定用于对L2记录再现层34C进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率是否已通过OPC来决定，在已决定的情况下，进入步骤306，将该最佳记录功率也应用于这一次的记录中。此外，在第二记录事例中，处于还未决定最佳记录功率的状态。
在用于对L2记录再现层34C进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率还未决定的情况下，进入步骤308，通过参照存储器单元87A，来判定用于对从厚度方向上的中心侧起的层叠顺位与L2记录再现层34C相同的L2记录再现层14C进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率是否已通过OPC来决定。在用于对L2记录再现层14C进行记录的最佳记录功率已决定的情况下，进入步骤310，将该最佳记录功率作为用于对第二记录再现层组34的L2记录再现层34C进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率。
另一方面，在步骤308中，在连用于对L2记录再现层14C进行记录的最佳记录功率也还未决定的情况下，进入步骤312，在该L2记录再现层34C的试写区域X上记录功率设定用图案(在本实施方式中为随机图案)。此外，在第二记录事例中，将用于对L2记录再现层14C进行记录的最佳记录功率也处于未决定状态，所以移到步骤312的试写动作中(参照图25B)。
然后，在步骤314中，利用没有特别图示的PRML处理装置来对所记录的功率设定用图案进行再现，并在步骤316中，通过品质评价单元88来对再现信号的品质进行评价，然后在步骤318中，决定用于对L2记录再现层34C进行记录的第二光读写头90B的光源101B的最佳记录功率。通过以上的步骤所决定的用于对L2记录再现层34C进行记录的最佳记录功率，会蓄积在存储器单元87A中。
<对L3记录再现层14D和L2记录再现层34C的同时信息记录>
作为第一记录再现动作，一边将第一光读写头90A的循轨用光学系统200A的红色波长区域的光束270A照射至伺服层18来进行循轨，一边将第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的蓝色波长区域的记录用光束170A照射至L3记录再现层14D来进行信息记录。
另外，作为第二记录再现动作，一边利用上述第一光读写头90A的循轨用光学系统200A的循轨误差信号来对第二光读写头90B进行循轨控制，一边将该第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的蓝色波长区域的记录用光束170B照射至L2记录再现层34C来进行信息记录。
通过同时并行地进行以上的第一记录再现动作和第二记录再现动作，来实现对第一、第二记录再现层组14、34的同时信息记录(参照图27B)。在进行该同时记录时的记录功率Pw、擦除功率Pe、偏置功率Pb，是通过上述的OPC步骤来设定的。
<第三记录事例/对L2记录再现层14C和L3记录再现层34D的同时记录>
<OPC控制>
按照图24的流程图，对该光记录再现装置70的记录功率进行设定。
首先，在步骤300中，通过输出控制单元86来对光记录介质10的DI(Disc Information：盘片信息)区域进行再现，来读取光记录介质10的基本特性信息，并将该推荐记录功率PK设定为初始记录条件(步骤302)。
接着，在步骤304中，输出控制装置86参照存储器单元87A，来判定用于对L2记录再现层14C进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率是否已通过OPC来决定，在已决定的情况下，进入步骤306，将该最佳记录功率也应用于这一次的记录中。此外，在第三记录事例中，处于还未决定最佳记录功率的状态。
在用于对L2记录再现层14C进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率还未决定的情况下，进入步骤308，通过参照存储器单元87A，来判定用于对从厚度方向上的中心侧起的层叠顺位与L2记录再现层14C相同的L2记录再现层34C(即，以中心为基准，位于与L2记录再现层14C对称的位置的记录再现层)进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率是否已通过OPC来决定。在用于对L2记录再现层34C进行记录的最佳记录功率已决定的情况下，进入步骤310，将该最佳记录功率作为用于对第一记录再现层组14的L2记录再现层14C进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率。
此外，在本实施方式的第二记录事例中，将用于对L2记录再现层34C进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率已蓄积在存储器单元87A中。其结果，在步骤310中，可以将该最佳记录功率作为用于对L2记录再现层14C进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率。因此，省略步骤312～步骤318的试写动作(参照图25C)。
通过以上的步骤所决定的用于对L2记录再现层14C进行记录的最佳记录功率，会蓄积在存储器单元87A中。
接下来，返回至步骤302，按照与上述相同的步骤，来设定用于对L3记录再现层34D进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率。具体地讲，在步骤304中，输出控制装置86参照存储器单元87A，来判定用于对L3记录再现层34D进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率是否已通过OPC来决定，在已决定的情况下，进入步骤306，将该最佳记录功率也应用于这一次的记录中。此外，在第三记录事例中，处于还未决定最佳记录功率的状态。
在用于对L3记录再现层34D进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率还未决定的情况下，进入步骤308，通过参照存储器单元87A，来判定用于对从厚度方向上的中心侧起的层叠顺位与L3记录再现层34D相同的L3记录再现层14D进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率是否已通过OPC来决定。在用于对L3记录再现层14D进行记录的最佳记录功率已决定的情况下，进入步骤310，将该最佳记录功率作为用于对第二记录再现层组34的L3记录再现层34D进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率。
此外，在本实施方式的第二记录事例中，将用于对L3记录再现层14D进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率已蓄积在存储器单元87A中。其结果，在步骤310中，可以将该最佳记录功率作为用于对L3记录再现层34D进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率。因此，省略步骤312～步骤318的试写动作(参照图25C)。
通过以上的步骤所决定的用于对L3记录再现层34D进行记录的最佳记录功率，会蓄积在存储器单元87A中。
<对L2记录再现层14C和L3记录再现层34D的同时信息记录>
作为第一记录再现动作，一边将第一光读写头90A的循轨用光学系统200A的红色波长区域的光束270A照射至伺服层18来进行循轨，一边将第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的蓝色波长区域的记录用光束170A照射至L2记录再现层14C来进行信息记录。
另外，作为第二记录再现动作，一边利用上述第一光读写头90A的循轨用光学系统200A的循轨误差信号来对第二光读写头90B进行循轨控制，一边将该第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的蓝色波长区域的记录用光束170B照射至L3记录再现层34D来进行信息记录。
通过同时并行地进行以上的第一记录再现动作和第二记录再现动作，来实现对第一、第二记录再现层组14、34的同时信息记录(参照图27C)。在进行该同时记录时的记录功率Pw、擦除功率Pe、偏置功率Pb，是通过上述的OPC步骤来设定的。
<对第四记录事例/L0记录再现层14A和L5记录再现层34F的同时记录>
<OPC控制>
按照图24的流程图，对该光记录再现装置70的记录功率进行设定。
首先，在步骤300中，通过输出控制单元86来对光记录介质10的DI(Disc Information：盘片信息)区域进行再现，来读取光记录介质10的基本特性信息，并将该推荐记录功率PK设定为初始记录条件(步骤302)。
接着，在步骤304中，输出控制装置86参照存储器单元87A，来判定用于对L0记录再现层14A进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率是否已通过OPC来决定，在已决定的情况下，进入步骤306，将该最佳记录功率也应用于这一次的记录中。此外，在第四记录事例中，处于还未决定最佳记录功率的状态。
在用于对L0记录再现层14A进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率还未决定的情况下，进入步骤308，通过参照存储器单元87A，来判定用于对从厚度方向上的中心侧起的层叠顺位与L0记录再现层14A相同的的L0记录再现层34A(即，以中心为基准，位于与L0记录再现层14A对称的位置的记录再现层)进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率是否已通过OPC来决定。在用于对L0记录再现层34A进行记录的最佳记录功率已决定的情况下，进入步骤310，将该最佳记录功率作为用于对第一记录再现层组14的L0记录再现层14A进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率。
此外，在本实施方式的第一记录事例中，将用于对L0记录再现层34A进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率已蓄积在存储器单元87A中。其结果，在步骤310中，可以将该最佳记录功率作为用于对L0记录再现层14A进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率。因此，省略步骤312～步骤318的试写动作(参照图25D)。
通过以上的步骤所决定的用于对L0记录再现层14A进行记录的最佳记录功率，会蓄积在存储器单元87A中。
接下来，返回至步骤302，按照与上述相同的步骤，来设定用于对L5记录再现层34F进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率。具体地讲，在步骤304中，输出控制装置86参照存储器单元87A，来判定用于对L5记录再现层34F进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率是否已通过OPC来决定，在已决定的情况下，进入步骤306，将该最佳记录功率也应用于这一次的记录中。此外，在第四记录事例中，处于还未决定最佳记录功率的状态。
在用于对L5记录再现层34F进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率还未决定的情况下，进入步骤308，通过参照存储器单元87A，来判定用于对从厚度方向上的中心侧起的层叠顺位与L5记录再现层34F相同的L5记录再现层14F进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率是否已通过OPC来决定。在用于对L5记录再现层14F进行记录的最佳记录功率已决定的情况下，进入步骤310，将该最佳记录功率作为用于对第二记录再现层组34的L5记录再现层34F进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率。
此外，在本实施方式的第一记录事例中，用于对L5记录再现层14F进行记录的第一光读写头90A的最佳记录功率已蓄积在存储器单元87A中。其结果，在步骤310中，可以将该最佳记录功率作为用于对L5记录再现层34F进行记录的第二光读写头90B的最佳记录功率。因此，在此省略步骤312～步骤318的试写动作(参照图25D)。
通过以上的步骤所决定的用于对L5记录再现层34F进行记录的最佳记录功率，会蓄积在存储器单元87A中。
<对L0记录再现层14A和L5记录再现层34F的同时信息记录>
作为第一记录再现动作，一边将第一光读写头90A的循轨用光学系统200A的红色波长区域的光束270A照射至伺服层18来进行循轨，一边将第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的蓝色波长区域的记录用光束170A照射至L0记录再现层14A来进行信息记录。
另外，作为第二记录再现动作，一边利用上述第一光读写头90A的循轨用光学系统200A的循轨误差信号来对第二光读写头90B进行循轨控制，一边将该第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的蓝色波长区域的记录用光束170B照射至L5记录再现层34F来进行信息记录。
通过同时并行地进行以上的第一记录再现动作和第二记录再现动作，来实现对第一、第二记录再现层组14、34的同时信息记录(参照图27D)。在进行该同时记录时的记录功率Pw、擦除功率Pe、偏置功率Pb，是通过上述的OPC步骤来设定的。
此外，在此例示了利用L0记录再现层14A、34A来确保管理区域的情形，但也可以利用其他记录再现层。另外，在伺服层18具有记录膜的情况下，优选在该伺服层18上确保管理区域并在该管理区域上记录写入信息。在进行该记录时，可以利用进行循轨控制的光束270A。通过将管理信息集中记录在伺服层18上，还能够同时把握第一记录再现层组14和第二记录再现层组34这两者的管理信息。
另外，在此例示了如下情形，即，在进行第一记录事例至第四记录事例的过程中，每当选择了成为记录再现对象的一对记录再现层时都进行OPC控制的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，也可以优选通过预先执行在第一记录事例至第四记录事例中说明过的OPC控制，来决定成为记录再现对象的4对记录再现层的最佳记录功率，并将这些最佳记录功率蓄积在存储器单元87A中，然后仅将在第一记录事例至第四记录事例中所示的记录动作连续地执行也可。于是，能够维持在对多层记录再现层进行信息记录时的传输率的连续性。
<对第一、第二记录再现层组的同时信息再现>
在本实施方式中，同时对同时记录于第一记录再现层组14和第二记录再现层组34上的信息进行再现。例如，如图28所示，作为第一再现动作，在对第一记录再现层组14的L5记录再现层14F进行信息再现时，将第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的光束170A照射至L5记录再现层14F，来一边进行循轨控制和对焦控制一边进行再现。
另外，作为第二再现动作，在对第二记录再现层组34的L0记录再现层34A进行信息再现时，将第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的光束170B照射至L0记录再现层34A，来一边进行循轨控制和对焦控制一边进行再现。通过同时并行地进行该第一再现动作和第二再现动作，来实现对第一、第二记录再现层组14、34的同时信息再现。此外，在进行记录时，利用伺服层18来进行了循轨控制，但在进行同时再现时，分别利用各个记录再现用光学系统100A、100B，独立地对第一、第二光读写头90A、90B进行循轨控制。
如上所述，在本第五实施方式的光记录再现方法中，通过同时执行利用了第一光读写头90A的第一记录再现动作和利用了第二光读写头90B的第二记录再现动作，来同时对第一及第二记录再现层组14、34进行信息的记录或再现。其结果，能够飞跃地提高记录或再现时的传输率。
尤其是在本实施方式中，同时对特定的一对记录再现层进行信息记录，上述特定的一对记录再现层是指，在第一记录再现层组14中的从第一表面10A侧起的层叠顺位，与在第二记录再现层组34中的从光记录介质10的厚度方向上的中心侧起的层叠顺位彼此相同的一对记录再现层。若归纳这些内容，则：可以以在第一记录再现层组14和第二记录再现层组34的层数均设定为S层(S为2以上的自然数)的情况下，在第一记录再现层组14中成为记录对象的记录再现层的从厚度方向上的中心起的层叠顺位(在本实施方式中为第X位)和在第二记录再现层组34中成为记录对象的记录再现层的从厚度方向上的中心起的层叠顺位(在本实施方式中为第Y位)之和(X+Y)，始终为(S+1)的方式，对同时进行记录的一对记录再现层进行选定。例如，在本实施方式中，只要做到，在第一记录再现层组14中成为记录对象的L1记录再现层14B的从厚度方向上的中心起的层叠顺位(在本实施方式中为第2位)和在第二记录再现层组34中成为记录对象的L4记录再现层34E的从厚度方向上的中心起的层叠顺位(在本实施方式中为第5位)之和，始终为7就可。
这样，能够使第一光读写头90A侧的记录再现用光束170A的焦点和第二光读写头90B侧的记录再现用光束170B的焦点之间的焦点间距离T(参照图27A～图27D)恒定或相对稳定。具体地讲，在本实施方式中，如图27B～图27D的箭头Q所示，光束170A的焦点从第一表面10A侧朝向中心侧移动，而光束170B的焦点从中心侧朝向第二表面30A侧移动。其结果，一对光束170A、170B之间的焦点间距离T始终恒定，并且在该焦点之间所存在的中间层组16、36的数目也始终恒定。因此，能够将中间层组16、36的成膜误差所导致的焦点间距离T的变动量控制在规定的范围内，从而能够降低对焦误差等。尤其是，在将光束170A、170B切换至下一个记录再现层时，只要在固定住焦点间距离T的状态下同时移动光束170A、170B的焦点，就也能够降低误切换至其他记录再现层的概率。
此外，在本实施方式中，例示了从第一表面10A侧朝向中心侧对第一记录再现层组14进行记录且从中心侧朝向第二表面30A侧对第二记录再现层组34进行记录的情形，但本发明并不仅限定于此。只要是同时对在第一记录再现层组14中的从第一表面10A侧起的层叠顺位和在第二记录再现层组34中的从光记录介质10的厚度方向上的中心侧起的层叠顺位彼此相同的的一对记录再现层进行记录，则也可以随机地选定这些一对记录再现层来进行记录。
进而，在本实施方式中，作为第一记录再现动作，一边将循轨用光束270A照射至伺服层18来进行循轨控制，一边将第一光读写头90A的记录再现用光束170A照射至第一记录再现层组14来进行信息记录。另一方面，在第二记录再现动作中，针对第二记录再现层组34，利用在第一记录再现动作中所使用的光束270A及伺服层18，来对第二光读写头90B进行循轨控制，并照射第二光读写头90B的记录再现用光束170B来进行信息记录。因此，在光记录再现装置70的第二光读写头90B中能够省略循轨用光学系统，从而能够使结构变得简单。
另外，在本实施方式的OPC控制中，如按照图24的流程图来说明过那样，在用于对第一记录再现层组14中的从光记录介质10的厚度方向上的中心侧起第n位的记录再现层进行记录的记录再现用光束170A的最佳记录功率还未决定的情况下，参照存储器单元87A，来判断用于对第二记录再现层组34中的从中心侧起第n位的记录再现层进行记录的记录再现用光束107B的最佳记录功率是否已通过OPC控制来决定，在已决定的情况下，将该最佳记录功率决定为第一记录再现用光束170A的最佳记录功率。另一方面，在连该第二记录再现层组34的记录再现用光束170B的最佳记录功率也还未决定的情况下，利用记录再现用光束170A对第一记录再现层组14中的第n位的记录再现层的试写区域进行试写，由此决定该记录再现用光束170A的最佳记录功率。
同样地，在用于对第二记录再现层组34中的从光记录介质10的厚度方向上的中心侧起第m位的记录再现层进行记录的记录再现用光束170B的最佳记录功率还未决定的情况下，参照存储器单元87A，来判定用于对第一记录再现层组14中的从中心侧起第m位的记录再现层进行记录的记录再现用光束107A的最佳记录功率是否已通过OPC控制来决定，在已决定的情况下，将该最佳记录功率决定为第二记录再现用光束170B的最佳记录功率。另一方面，在连该第一记录再现层组14的记录再现用光束170A的最佳记录功率也还未决定的情况下，利用记录再现用光束170B来对第二记录再现层组34的第m位的记录再现层的试写区域进行试写，由此决定该记录再现用光束170B的最佳记录功率。
在该光记录介质10中，就从厚度方向上的中心起的层叠顺位(第n为，第m位)彼此相同的一对记录再现层而言，各自到第一、第二表面10A、30A的距离以及光束的光路都处于对称状态，所以彼此的记录特性也相似。因此，在分别对第一、第二记录再现层组14、34的各记录再现层的最佳记录功率进行设定时，若在从厚度方向使中心起的层叠顺位(第n位、第m为)彼此相同的一对记录再现层中的一个记录再现层的最佳记录功率已决定，则将该最佳记录功率作为另一个记录再现层的最佳记录功率。相应地能够省略试写动作，所以能够大幅度缩短OPC所需的时间。
尤其是如图25所示那样，随着记录从第一记录事例向着第四记录事例进行，蓄积在存储器单元87A中的最佳记录功率的种类会增加，这会使为了OPC而在试写区域X上进行试写的必要性减少，从而能够使OPC所需的时间越来越短。
其结果，在本实施方式的OPC控制中，能够使第一及第二记录再现层组14、34所需的试写区域X减少为一半。因此，与在所有记录再现层上形成试写区域X的情形相比，也能够使试写区域X的面积变小。这样，能够使第一及第二记录再现层组14、34的用户数据区域变宽。
进而，在该光记录再现方法中，利用独立的两束记录再现用光束170A、170B来对第一、第二记录再现层组14、34进行信息记录。因此，能够将第一、第二光读写头90A、90B的记录再现用光束170A、170B的焦点移动范围，在厚度方向上进行分担。其结果，即使记录再现层的层数增多，也会处于对倾斜等时的慧差有利的状态。
具体地讲，在本光记录再现方法中，使在第一记录再现动作中所使用的第一光读写头90A的记录再现用光束170A从光记录介质10的第一表面10A入射，使在第二记录再现动作中所使用的第二光读写头90B的记录再现用光束170B从光记录介质10的第二表面30A入射。其结果，例如，能够利用进行第一记录再现动作的第一光读写头90A，来对以光记录介质10的厚度方向上的中心为基准而配置于一侧的第一记录再现层14进行记录，而且能够利用进行第二记录再现动作的第二光读写头90B，来对以光记录介质10的厚度方向上的中心为基准而配置于另一侧的第二记录再现层组34进行记录。其结果，如该光记录介质10那样，能够使第一记录再现层组14靠近于第一表面10A，并使第二记录再现层组34靠近于第二表面30A。因此，若采用该记录再现方法，则不仅能够增加记录再现层的层数，而且对倾斜等时的慧差也有利。
另外，在本实施方式的光记录介质10中，第一记录再现层组14和第二记录再现层组34分别配置在以光记录介质10的厚度方向上的中心为基准而对称的位置上。其结果，在光记录再现装置70的第一、第二光读写头90A、90B之间，能够使光学设计、记录再现层的位置确认、对焦控制等变得相同，从而能够实现记录再现速度的高速化。另外，在光记录介质10中，第一、第二记录再现层组14、34的内部应力也在厚度方向上对称，所以还能够抑制光记录介质10的弯曲。其结果，即使是最远离伺服层18的L5记录再现层14F、34F，在形成记录标记时也不易发生径向错位，所以在试写区域X，能够将应预先考虑到的误差范围设定为小的值。
进而，在该光记录再现方法中，第一光读写头90A的记录再现用光束170A和第二光读写头90B的记录再现用光束170B，分别配置在光记录介质10的周向上彼此错开的位置上。其结果，即使彼此的光束170A、170B发生漏光而到达相反一侧的表面，也能够防止对再现波形带来不良影响。此外，若照射至伺服层18的循轨用光束270A大量透过伺服层18，则容易对第二光读写头90B侧带来不良影响。于是，在本光记录介质10中，将伺服层18对于光束270A的透过率设定为10％以下，从而能够抑制光束270A对第二光读写头90B侧所带来的不良影响。
另外，在能够应用本实施方式的光记录再现方法的光记录介质10中，伺服层18仅形成在支撑基板12的一侧面上，而且，第一记录再现层组14和第二记录再现层组34配置在该支撑基板12的两侧面上。其结果，在形成第一、第二记录再现层组14、34时的内部应力会分散在支撑基板12的两侧，所以能够抑制光记录介质10的弯曲及变形。此外，这样分散了内部应力，所以即使将支撑基板12的厚度设定在100μm～1000μm的范围内，也能够抑制光记录介质10的弯曲。
此外，若想要在支撑基板12的两侧形成循轨用凹凸，则该支撑基板12的制造工序本身会变得复杂，而且容易使支撑基板12的精度变差。于是，在本实施方式中，将循轨用凹凸形成在支撑基板12的单侧面上，由此使支撑基板12的制造变得简单，从而提高了精度。即使这样设置了单个伺服层18，也能够利用单个光束270A来对配置在两侧的第一、第二光读写头90A、90B进行循轨控制，因此足够能确保光记录再现装置70的记录精度。
进而，在该光记录介质10中，第一缓冲层17和第二缓冲层37的厚度设定为大致相同。其结果，在第一、第二缓冲层17、37的形成工序中，能够抑制支撑基板12的弯曲。这意味着，能够使支撑基板12变薄或由刚性低的材料来构成该支撑基板12，因此能够相应地使在形成记录再现层的厚度方向上的空间增大。
尤其是在本实施方式中，当制作光记录介质10时，在两侧的面上，同时形成第一缓冲层17和第二缓冲层37、第一记录再现层组14和第二记录再现层组34、第一中间层组16和第二中间层组36。其结果，紫外线固化时所发生的内部应力会均等地作用于支撑基板12的两侧，因此能够进一步抑制光记录介质10的弯曲。
进而，在光记录介质10中，当照射了循轨用的红色波长的光束270A时的伺服层18的反射率，设定为比假设将记录再现用光束170A照射至伺服层18时的反射率更大。具体地讲，为了实现这样的特性，第一缓冲层17采用了光束的波长越短就光吸收量越多的材料。这样，假设蓝色波长的记录再现用光束170A入射至伺服层18侧，那么，也会容易被第一缓冲层17吸收，所以能够抑制到达伺服层18的光量(来自伺服层18的反射光量)。另一方面，第一缓冲层17积极地使第一光读写头90A的循轨用光束270A透过，所以能够使到达伺服层18的光量(来自伺服层18的反射光量)增多。其结果，既能够提高再现信号的品质，而且能够实现稳定的循轨控制。
此外，在本实施方式中，给第一缓冲层17赋予了对于红色波长和蓝色波长的光吸收率互不相同的特性，其结果，使伺服层18的反射率对于循轨用光束和记录再现用光束互不相同，但本发明并不仅限定于此。例如，也可以给形成于伺服层18的反射膜本身赋予根据波长而其反射率不同的波长选择特性。另外，也可以与第一缓冲层17分别独立地设置具有光透过率或吸收率的波长选择特性的滤光层。
进而，如现有技术那样在光记录介质内形成有多层伺服层，那么，如利用哪一伺服层、对哪一记录再现层进行记录等问题变得复杂，所以容易使记录再现控制发生混乱。于是，如本实施方式那样，对一个伺服层18仅照射第一光读写头90A的循轨用光束270A，利用该循轨误差信号来对第一记录再现层组14和第二记录再现层组34的所有记录再现层进行记录，那么，能够使记录再现控制变得简单，从而还能够降低记录再现错误。
另外，在上述实施方式的光记录介质10中，示出了将第一覆盖层11和第二覆盖层31的厚度设定为彼此相同的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，如图29所示的光记录介质10那样，也可以使第一覆盖层11和第二覆盖层31的厚度设定为互不相同。具体地讲，将第一覆盖层11的厚度设定为比第二覆盖层31的厚度更厚，并使，第一覆盖层11的厚度和第二覆盖层31的厚度之差等于支撑基板12的厚度。这样，伺服层18就配置在光记录介质10的厚度方向上的中心。此外，在制作该光记录介质10时，优选分别独立地层叠厚度互不相同的第一覆盖层11和第二覆盖层31。由于通过支撑基板12、第一、第二缓冲层17、37、第一记录再现层组14及第一中间层组16、第二记录再现层组34及第二中间层组36，就已能够确保某一程度的刚性，所以即使不同时层叠这些覆盖层，也足够能抑制光记录介质10的弯曲及变形。
进而，在上述实施方式中，示出了作为第一、第二记录再现层组14、34的各记录再现层而预先形成了记录膜的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，如图30所示的光记录介质10那样，也可以将将来可能会成为第一、第二记录再现层组的部位整体，形成为具有规定的厚度的第一、第二整层13、33。若将记录用光束170A、170B照射至该第一、第二整层13、33，则仅在光束光斑的焦点部分发生状态变化而形成记录标记。即，本发明的光记录介质并不仅限定于预先形成了光束所照射的记录再现层的情形，而也包括如下情形：在平面区域随时形成记录标记，并通过该记录标记的集合体来事后形成第一、第二记录再现层组14、34的多层结构。由于光记录介质10采用了整层13、33的结构，所以只要是在整层13、33分范围内，就能够自由地设定记录再现层的位置。例如，在第一整层13和第二整层33的厚度及配置互不相同的情况下，也能够使第一、第二记录再现层组14、34各自与第一、第二表面10A、30A之间的距离相一致。此外，在此例示了当采用第一、第二整层13、33时省略了覆盖层的结构，但除此之外，还可以省略缓冲层。
另外，在本实施方式中，示出了一边将第一光读写头90A的循轨用光束270A照射至伺服层18来进行循轨控制一边将记录再现用光束170A、170B照射至第一、第二记录再现层组14、34来进行信息记录的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，如图31所示，也可以使第二光读写头90B也具有循轨用光束270B，并两者将循轨用光束270A、270B照射至伺服层18，来分别独立地对第一、第二光读写头90A、90B进行循轨控制。这样，能够同时对第一、第二记录再现层组14、34的彼此不同的部位进行记录。
进而，在本实施方式中，示出了在第一、第二记录再现层组14、34上不形成循轨控制用凹凸的情形，但本发明并不仅限定于此。也可以在第一、第二记录再现层组14、34的各记录再现层上形成循轨用凹凸。
另外，在本实施方式中例示了如下情形，即，输出控制装置86利用光记录介质10的试写区域来进行OPC控制，由此选定最佳记录功率，并将该记录功率直接传递至记录功率调整单元89来进行控制的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，也可以对通过OPC控制来得到的最佳记录功率，进一步通过加法或乗算等来进行修正，并将修正后的最佳记录功率传递至记录功率调整单元89中。具体地讲，在对特定的记录再现层的记录功率进行确定时，优选地，判断比该特定的记录再现层更靠近光入射面侧的其他记录再现层上是否记录有信息，并基于该判断的结果，来对特定的记录再现层的记录功率进行修正。例如，在因比特定的记录再现层更靠近光入射面侧的记录再现层记录有信息而记录用光束的透过率变差的情况下，优选将用于对特定的记录再现层进行信息记录时的最佳记录功率修正为变高。这样，能够进一步提高记录品质。
进而，在本实施方式中，例示了将通过OPC控制所选定的最佳记录功率蓄积于存储器单元87A中的情形，但优选将该最佳记录功率与光记录介质10的个体识别信息(介质识别信息)一起蓄积在存储器单元87A中。这样，在将光记录介质10暂时从光记录再现装置70取出后再次安装于该光记录再现装置70中时，输出控制装置86读取重新安装的该光记录介质10的个体识别信息，并参照存储器单元87A来读取过去的最佳记录功率。其结果，能够进一步缩短在交换光记录介质10时OPC控制所需的时间。此外，也可以通过将该最佳记录功率记录于光记录介质10的记录再现层上的管理区域等，来将该最佳记录功率蓄积在光记录介质10侧。
此外，在本实施方式中，示出了循轨用光束270A的波长和记录再现用光束170A、170B的波长分别为红色和蓝色的不同波长的情形，但本发明并不仅限定于此，循轨用及记录再现用的光束，也可以采用具有彼此相同的波长区域的光束。
下面，参照附图，对本发明第六实施方式进行说明。还有，除了光记录再现方法彼此不同之外，本第六实施方式采用与第五实施方式相同的光记录介质10和光记录再现装置70。因此，关于这些结构的图示及说明，可以参照第五实施方式的图19～图23，在此省略其说明。
在本第六实施方式的光记录再现方法中，同时对特定的一对记录再现层进行信息记录，上述特定的一对记录再现层是指，在第一记录再现层组14和第二记录再现层组34各自中，从光记录介质10的厚度方向上的中心起的层叠顺位彼此相同的一对记录再现层。
<OPC控制>
在对光记录介质10进行信息记录时，首先，按照图32的流程图，对该光记录再现装置70的记录功率进行设定。
首先，在步骤300中，通过输出控制单元86来对光记录介质10的DI(Disc Information：盘片信息)区域进行再现，来光记录介质10的基本特性信息。在该DI区域，记录有介质的种类(写一次型或可擦写型等)、记录速度(1X、2X等)、记录策略、伺服层18的位置、记录再现层的位置、记录再现层的层间距离，还记录有激光束的推荐记录功率PK。于是，将该推荐记录功率PK设定为初始记录条件(步骤302)。此外，在本实施方式中，将在伺服层18上形成有该DI区域。因此，利用第一光读写头90A的红色波长区域的光束270A，从伺服层18读取这些信息。
接着，在步骤304中，判定对光记录介质10的第一、第二记录再现层组14、34的哪一记录再现层进行信息记录。具体地讲，判定成为记录对象的一对记录再现层位于从光记录介质10的厚度方向上的中心侧起的偶数顺位还是奇数顺位。例如，在同时对第一记录再现层组14的L0记录再现层14A和第二记录再现层组34的L0记录再现层34A进行记录时，判定为这些记录再现层位于奇数顺位(第一顺位)，所以进入步骤306。另一方面，在同时对第一记录再现层组14的L1记录再现层14B和第二记录再现层组34的L1记录再现层34B进行记录时，判定为这些记录再现层位于偶数顺位(第二顺位)，所以进入步骤310。
在此，设想一下同时对位于奇数顺位的L0记录再现层14A、34A进行信息记录的情形，那么，在步骤306中，在第二记录再现层组34的L0记录再现层34A的试写区域X上记录功率设定用图案(在本实施方式中为随机图案)(参照图33参照)。在这样的情况下，如已在第五实施方式的图26中说明过的那样，以推荐记录功率PK为基准，将实际记录的记录功率向强弱两侧分多个阶段(PK+1、PK+2、PK+3、PK-1、PK-2、PK-3)来改变，并利用各记录功率来执行功率设定用图案的写入动作。此外，关于在L0记录再现层34A的试写区域X上记录功率设定用图案时的具体的方法，由于在后述的第二记录再现动作中进行详细说明，所以在此省略其说明。
然后，在步骤308中，利用没有特别图示的PRML处理装置来对所记录的功率设定用图案进行再现，并在步骤314中，通过品质评价单元88，利用其出错率或SAM值来对再现信号的品质进行评价。将该评价结果传递至试写单元87。在步骤316中，试写单元87选定做出最高品质的记录的记录功率，参考该记录功率来决定第一光读写头90A的光源101A和第二光读写头90B的光源101B这两者的记录功率Pw、擦除功率Pe、偏置功率Pb，并对记录功率调整单元89下达指示。通过以上的步骤，来完成对记录功率的设定动作。此外，记录功率调整单元89利用接受指示的记录功率Pw、擦除功率Pe、偏置功率Pb，来对第一光读写头90A的光源101A和第二光读写头90B的光源101B这两者进行控制。
另一方面，返回至步骤304，在同时对位于偶数顺位的L1记录再现层14B、34B进行记录的情况下，在步骤310中，在第一记录再现层组14的L1记录再现层14B的试写区域X上记录功率设定用图案(在本实施方式中为随机图案)(参照图33)。此外，关于在L1记录再现层14B的试写区域X上记录功率设定用图案时的具体的方法，由于在后述的第一记录再现动作中进行详细说明，所以在此省略其说明。
然后，在步骤312中，利用没有特别图示的PRML处理装置来对所记录的功率设定用图案进行再现。与奇数顺位的情形同样地，在步骤314中，通过品质评价单元88来对再现信号的品质进行评价，并在步骤316中，通过试写单元87对第一光读写头90A的光源101A、第二光读写头90B的光源101B这两者的记录功率Pw、擦除功率Pe、偏置功率Pb进行决定并结束OPC。
<对第一、第二记录再现层组的同时信息记录>
如已叙述过那样，在本实施方式中，对在第一记录再现层组14和第二记录再现层组34各自中从光记录介质10的厚度方向上的中心起的层叠顺位彼此相同的记录再现层，同时进行信息记录或再现。具体地讲，作为第一记录再现动作，为了对第一记录再现层组14的L0记录再现层14A进行信息记录，首先，将第一光读写头90A的循轨用光学系统200A的红色波长区域的光束270A照射至伺服层18来进行循轨。具体地讲，如图34所示，将光束270A的光斑照射至伺服层18的凹槽18B及岸台18A这两者来进行循轨。在进行循轨的同时，将第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的蓝色波长区域的记录用光束170A照射至L0记录再现层14A。
其结果，一边利用凹槽18B及岸台18A来进行循轨，一边沿着该凹槽18B及岸台18A对L0记录再现层14A进行信息记录。其结果，形成于L0记录再现层14A上的记录标记的轨道间隔P2，变为凹槽18B之间的间隔P1的一半。
另外，作为第二记录再现动作，在对第二记录再现层组34的L0记录再现层34A进行信息记录的情况下，利用上述第一光读写头90A的循轨用光学系统200A的循轨误差信号，对第二光读写头90B进行循轨控制。其结果，第一光读写头90A和第二光读写头90B在循轨方向上始终位于相同的位置。在进行循轨的同时，将第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的蓝色波长区域的记录用光束170B照射至L0记录再现层34A。其结果，能够对L0记录再现层34A进行信息记录。形成于L0记录再现层34A上的记录标记的轨道间隔P2，也变为伺服层18的凹槽之间的间隔P1的一半。
通过同时并行地进行以上的第一记录再现动作和第二记录再现动作，来实现对第一、第二记录再现层组14、34的同时信息记录。
此外，如已叙述过那样，在进行该同时记录时的记录功率Pw、擦除功率Pe、偏置功率Pb，是通过利用第二记录再现层组34的L0记录再现层34A的OPC控制来设定的。
在结束对第一记录再现层组14的L0记录再现层14A和第二记录再现层组34的L0记录再现层34A的必要信息的记录之后，对预先在该L0记录再现层14A、34A的一部分上所确保的管理区域，同时记录这一次的写入信息(与记录相关的地址信息、内容信息等)。
然后，在重新开始对L0记录再现层14A、34A进行信息记录的情况下，首先，对L0记录再现层14A、34A的管理区域进行再现，来确认上一次记录的结束位置，并从该结束位置起继续进行记录。这样，继续进行同时记录动作，直到对L0记录再现层14A、34A的所有数据区域都结束信息记录为止。
如果对L0记录再现层14A、34A的数据区域所进行的记录动作结束，那么，如图35所示，开始对与L0记录再现层14A、34A相邻的L1记录再现层14B、34B的数据区域进行记录。此时，如已说明过那样，利用第一记录再现层组14的L1记录再现层14B来进行OPC控制，来设定在同时进行记录时的光束170A、170B这两者的记录功率Pw、擦除功率Pe、偏置功率Pb。
在结束对L1记录再现层14B的必要信息的记录之后，对如上所述的L0记录再现层14A的管理区域上记录这一次的写入信息(与记录相关的地址信息、内容信息等)。反复进行这样的记录动作，其结果，对第一、第二记录再现层组14、34中从光记录介质10的厚度方向上的中心侧起的层叠顺位彼此相同的一对记录再现层，能够同时进行信息记录。此外，在本实施方式中，例示了如图35中的箭头Q所示那样从光记录介质10的厚度方向上的中心侧朝向外侧依次进行信息记录的情形，但也可以与之相反地从外侧朝向中心侧依次进行记录，而且也可以一边随机地选定层叠顺位一边进行记录。
此外，在此例示了利用L0记录再现层14A、34A来确保管理区域的情形，但也可以利用其他记录再现层。另外，在伺服层18具有记录膜的情况下，优选在该伺服层18上确保管理区域，并在该管理区域上记录写入信息。在进行该记录时，可以利用进行循轨控制的光束270A。通过将管理信息集中记录在伺服层18上，还能够同时把握第一记录再现层组14和第二记录再现层组34这两者的管理信息。
另外，虽在此没有特别例示，但在横跨着L0记录再现层14A、34A和L1记录再现层14B、34B之间来连续进行信息记录的情况下，优选地，预先对奇数顺位的L0记录再现层34A和偶数顺位的L1记录再现层14B这两者进行OPC控制，来事先将各自的记录功率设定在存储器中。这样，能够维持信息传输率的连续性。
<对第一、第二记录再现层组的同时信息再现>
在本实施方式中，同时对同时记录于第一记录再现层组14和第二记录再现层组34上的信息进行再现。例如，如图36所示，作为第一再现动作，在对第一记录再现层组14的L0记录再现层14A进行信息再现时，将第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的光束170A照射至L0记录再现层14A，来一边进行循轨控制和对焦控制一边进行再现。
另外，作为第二再现动作，在对第二记录再现层组34的L0记录再现层34A进行信息再现时，将第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的光束170B照射至L0记录再现层34A，来一边进行循轨控制和对焦控制一边进行再现。通过同时并行地进行该第一再现动作和第二再现动作，来实现对第一、第二记录再现层组14、34的同时信息再现。此外，在进行记录时，利用伺服层18进行了循轨控制，但在进行同时再现时，分别利用各个记录再现用光学系统100A、100B，独立地对第一、第二光读写头90A、90B进行循轨控制。
如上所述，在本第六实施方式的光记录再现方法中，通过同时执行利用了第一光读写头90A的第一记录再现动作和利用了第二光读写头90B的第二记录再现动作，来同时对第一及第二记录再现层组14、34进行信息记录或再现。其结果，能够飞跃地提高记录或再现时的传输率。
尤其是在本光记录再现方法中，第一记录再现层组14和第二记录再现层组34都设定为多层且彼此的层数相同，而且同时对从光记录介质10的厚度方向上的中心起的层叠顺位彼此相同的一对记录再现层进行信息记录或再现。于是，就成为记录再现对象的一对记录再现层而言，各自到光记录介质10的表面10A、30A的距离相近似，而且光束的光路也处于对称状态。其结果，就例如由第一光读写头90A得到的控制用信号，具体地讲是光记录介质10的倾斜及面抖动等控制信息而言，只要使这些信息取相反的极性，就能够直接用作为第二光读写头90B的控制用信号。其结果，在第二光读写头90B中，还可以省略用于获取该控制用信号的特殊的光电二极管机构等。
另外，在本实施方式中，当将光束170A、170B的焦点移动至其他记录再现层时，只要将第一、第二光读写头90A、90B的光束170A、170B的焦点以光记录介质10的中心为基准进行对称移动即可。若进行这样的控制，则自然能够会移动至从光记录介质10的厚度方向上的中心起的层叠顺位彼此相同的其他一对记录再现层。其结果，能够使层间转换(jump)的控制变得简单。
另外，在第一、第二记录再现层组14、34中，同时对从光记录介质10的厚度方向上的中心起的层叠顺位彼此相同的记录再现层进行信息记录，所以这一对记录再现层的记录特性会相似。因此，在本实施方式中，当同时对一对记录再现层进行信息记录时，仅利用其中任一记录再现层的记录再现层来进行OPC。其结果，与对第一及第二记录再现层组14、34这两者都进行OPC的情况相比，能够将OPC所需的时间减少为一半。
另外，在本实施方式中，如图33所示，在对从光记录介质10的中心侧起位于偶数顺位的第一及第二记录再现层组14、34进行记录时，利用第一记录再现层组14来进行OPC，在对位于奇数顺位的第一及第二记录再现层组14、34进行记录时，利用第二记录再现层组34来进行OPC。其结果，第一记录再现层组14的试写区域X仅形成在偶数顺位的记录再现层上，而第二记录再现层组34的试写区域X仅形成在奇数顺位的记录再现层上。因此，在相邻的记录再现层之间，试写区域X不会相重叠，所以能够抑制在进行OPC时发生噪声，因此即使记录再现层的层间距离变窄，也能够提高OPC的正确性。另外，由于试写区域X互不相邻，所以即使作为OPC所记录的随机数据的层叠方向相重叠，也不易使OPC的精度变差，因此能够使该试写区域X变窄。其结果，能够使第一及第二记录再现层组14、34的用户数据区域变宽。
下面，参照附图，对本发明第七实施方式进行说明。还有，除了光记录再现方法之外，本第七实施方式采用与第五实施方式相同的光记录介质10和光记录再现装置70。因此，关于这些结构的图示及说明，可以参照第五实施方式的图19～图23，在此省略其所有说明。
<对第一、第二记录再现层组的同时信息记录>
在本第七实施方式中，同时对第一记录再现层组14和第二记录再现层组34进行信息记录。具体地讲，作为第一记录动作，为了对第一记录再现层组14的L0记录再现层14A进行信息记录，首先，将第一光读写头90A的循轨用光学系统200A的红色波长区域的光束270A照射至伺服层18来进行循轨。具体地讲，如图37所示，将光束270A的光斑照射至伺服层18的凹槽18B及岸台18A来进行循轨。在进行循轨的同时，将第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的蓝色波长区域的记录用光束170A照射至L0记录再现层14A。
其结果，一边利用凹槽18B及岸台18A这两者来进行循轨，一边沿着该凹槽18B及岸台18A对L0记录再现层14A进行信息记录。其结果，形成于L0记录再现层14A上的记录标记的轨道间隔P2，变为凹槽18B之间或岸台18A之间的间隔P1的一半。
另外，作为第二记录动作，在对第二记录再现层组34的L0记录再现层34A进行信息记录的情况下，利用上述第一光读写头90A的循轨用光学系统200A的循轨误差信号，对第二光读写头90B进行循轨控制。其结果，第一光读写头90A和第二光读写头90B在循轨方向上始终位于相同的位置。在进行循轨的同时，将第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的蓝色波长区域的记录用光束170B照射至L0记录再现层34A。其结果，能够对L0记录再现层34A进行信息记录。形成于L0记录再现层34A上的记录标记的轨道间隔P2，也变为伺服层18的凹槽18B之间或岸台18A之间的间隔P1的一半。通过同时亚行地进行以上的第一记录动作和第二记录动作，来实现对第一、第二记录再现层组14、34的同时信息记录。
此外，在伺服层18的记录凹坑或BCA(Burst Cutting Area：烧录区)，预先记录有与光记录介质10相关的基本规格、与信息记录层组14的层叠数目相关的信息，所以能够在开始进行循轨控制之前始终利用红色波长区域的光束270A来读取这些信息。与光记录介质相关的基本信息包括伺服层18的位置、各记录再现层的位置、与记录再现层组的层间距离相关的规则。
在结束对第一记录再现层组14的L0记录再现层14A和第二记录再现层组34的L0记录再现层34A的必要信息的记录之后，对预先在该L0记录再现层14A、34A的一部分上所确保的管理区域，同时记录这一次的写入信息(与记录相关的地址信息、内容信息等)。
然后，在重新开始对L0记录再现层14A、34A进行信息记录的情况下，首先，对L0记录再现层14A、34A的管理区域进行再现，来确认上一次记录的结束位置，并从该结束位置起继续进行记录。这样，继续进行同时记录动作，直到对L0记录再现层14A、34A的所有数据区域都结束信息记录为止。
如果对L0记录再现层14A、34A的数据区域所进行的记录动作结束，那么，如图38所示，开始对与L0记录再现层14A、34A相邻的L1记录再现层14B、34B的数据区域进行记录。此外，在结束对L1记录再现层14B的必要信息的记录之后，在如上所述的L0记录再现层14A的管理区域上记录这一次的写入信息(与记录相关的地址信息、内容信息等)。反复进行这样的记录动作，其结果，对第一、第二记录再现层组14、34中层叠顺位相同的一对记录再现层，能够同时进行信息记录。特别是在本实施方式中，如图38的箭头Q所示，从光记录介质10的厚度方向上的中心侧朝向外侧依次进行信息记录。
此外，在此例示了利用L0记录再现层14A、34A来确保管理区域的情形，但也可以利用其他记录再现层。另外，在伺服层18具有记录膜的情况下，优选在该伺服层18上确保管理区域，并在该管理区域上记录写入信息。在进行该记录时，可以利用进行循轨控制的光束270A。通过将管理信息集中记录在伺服层18上，还能够同时把握第一记录再现层组14和第二记录再现层组34这两者的管理信息。
<对第一、第二记录再现层组的同时信息再现>
在本实施方式中，同时对同时记录于第一记录再现层组14和第二记录再现层组34上的信息进行再现。例如，如图39所示，作为第一再现动作，在对第一记录再现层组14的L0记录再现层14A进行信息再现时，将第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的光束170A照射至L0记录再现层14A，来一边进行循轨控制和对焦控制一边进行再现。
另外，作为第二再现动作，在对第二记录再现层组34的L0记录再现层34A进行信息再现时，将第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的光束170B照射至L0记录再现层34A，来一边进行循轨控制和对焦控制一边进行再现。通过同时并行地进行该第一再现动作和第二再现动作，来实现对第一、第二记录再现层组14、34的同时信息再现。此外，在进行记录时，利用伺服层18进行了循轨控制，但在进行同时再现时，分别利用各个记录再现用光学系统100A、100B，独立地对第一、第二光读写头90A、90B进行循轨控制。
如上所述，本实施方式的光记录再现方法中，一边将循轨用光束270A照射至伺服层18来进行循轨控制，一边将第一光读写头90A的记录再现用光束170A照射至第一记录再现层组14来进行信息记录(第一记录动作)。另一方面，针对第二记录再现层组34，利用在该第一记录再现动作中所使用的光束270A及伺服层18，来对第二光读写头90B进行循轨控制，并照射第二光读写头90B的记录再现用光束170B来进行信息记录(第二记录动作)。因此，在光记录再现装置70的第二光读写头90B中能够省略循轨用光学系统，从而能够使结构变得简单。
另一方面，在该光记录再现方法中，利用独立的两束记录再现用光束170A、170B来对第一、第二记录再现层组14、34进行信息记录。因此，能够将第一、第二光读写头90A、90B的记录再现用光束170A、170B的焦点移动范围，在厚度方向上进行分担。其结果，即使记录再现层的层数增多，也会处于对倾斜等时的慧差有利的状态。
具体地讲，在本光记录再现方法中，使在第一记录动作中所使用的第一光读写头90A的记录再现用光束170A从光记录介质10的第一表面10A入射，在第二记录动作中所使用的第二光读写头90B的记录再现用光束170B从光记录介质10的第二表面30A入射。其结果，例如，能够利用进行第一记录动作的第一光读写头90A，来对以光记录介质10的厚度方向上的中心为基准而配置于一侧的第一记录再现层组14进行记录，而且能够利用进行第二记录动作的第二光读写头90B，来对以光记录介质10的厚度方向上的中心为基准而配置于另一侧的第二记录再现层组34进行记录。其结果，如该光记录介质10那样，能够使第一记录再现层组14靠近于第一表面10A，并使第二记录再现层组34靠近于第二表面30A。因此，若采用该记录再现方法，则不仅能够增加记录再现层的层数，而且对倾斜等时的慧差也有利。
另外，在本实施方式的光记录介质10中，第一记录再现层组14和第二记录再现层组34分别配置在以光记录介质10的厚度方向上的中心为基准而对称的位置上。其结果，在光记录再现装置70的第一、第二光读写头90A、90B之间，能够使光学设计、记录再现层的位置识别、对焦控制等变得相同，从而能够实现记录再现速度的高速化。另外，在光记录介质10中，第一、第二记录再现层组14、34的内部应力也在厚度方向上对称，所以还能够抑制光记录介质10的弯曲。
进而，在本光记录再现方法中，通过同时执行利用了第一光读写头90A的第一记录动作和利用了第二光读写头90B的第二记录动作，来同时对第一及第二记录再现层组14、34进行信息记录，从而能够飞跃提高记录时的传输率。
另外，在该光记录再现方法中，第一光读写头90A的记录再现用光束170A和第二光读写头90B的记录再现用光束170B，分别配置在光记录介质10的周向上彼此错开的位置。其结果，即使彼此的光束170A、170B发生了漏光而到达相反一侧的表面，也能够防止对再现波形带来不良影响。此外，若照射至伺服层18的循轨用光束270A大量地透过了伺服层18，则容易给第二光读写头90B侧带来不良影响。于是，在本光记录介质10中，将伺服层18对于光束270A的透过率设定为10％以下，从而能够抑制光束270A对第二光读写头90B侧带来不良影响。
而且，在本光记录再现方法中，第一记录再现层组14和第二记录再现层组34都设定为多层且彼此的层数相同，而且同时对从光记录介质10的厚度方向上的中心起的层叠顺位彼此相同的记录再现层进行信息记录。于是，就成为记录对象的一对记录再现层而言，各自到光记录介质10的表面10A、30A的距离相近似，而且光束的光路也处于对称状态。其结果，就例如由第一光读写头90A得到的控制用信号，具体地讲是光记录介质10的倾斜及面抖动等控制信息而言，只要使这些信息取相反的极性，就能够直接用作为第二光读写头90B的控制用信号。其结果，在第二光读写头90B中，还可以省略用于获取该控制用信号的特殊的光电二极管机构等。
此外，在上述实施方式的光记录再现方法中，例示了在第一、第二记录再现层组14、34中从光记录介质10的厚度方向上的中心侧朝向外侧以层叠顺序进行信息记录的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，也可以在第一、第二记录再现层组14、34中从光记录介质10的外侧朝向中心侧以层叠顺序进行信息记录。另外，也可以在第一、第二记录再现层组14、34中随机地提取层叠顺位相同的一对记录再现层来进行记录。
另外，如图40所示的光记录介质10那样，也可以通过改变第一、第二缓冲层17、37的厚度，或改变第一、第二记录再现层组14、34的层间距离或层叠数目，来最终使伺服层18位于厚度方向上的中心。
进而，在本实施方式中，示出了在光记录介质10的两侧表面10A、30A侧分别配置有第一记录再现层组14、第二记录再现层组34的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，如图41所示，也可以在光记录介质10的一侧的表面10A侧，以在厚度方向上划分了区域的状态配置第一记录再现层组14和第二记录再现层组34这两者。在这样的情况下，利用第一光读写头90A的光束170A来对第一记录再现层组14进行记录再现，而利用第二光读写头90B的光束170B来对第二记录再现层组34进行记录再现。另外，通过将彼此共享的光束270A照射至伺服层18，来对这两者进行循轨控制。利用多束记录再现用光束170A、170B来分担记录再现层，由此能够降低成膜误差或倾斜等导致的慧差所带来的影响，从而能够增加记录再现层数。此外，在这样的情况下，也可以将伺服层18配置在第一记录再现层组14和第二记录再现层组34之间。
另外，在本实施方式中，例示了利用第一、第二光读写头90A、90B来同时对一对记录再现层进行信息记录的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，如图42A所示的第一记录动作那样，在一边将循轨用光束270A照射至伺服层18一边利用记录再现用光束170A来对第一记录再现层组14进行信息记录时，也可以使第二光读写头90B的光束170B停止。另外，如图42B所示的第二记录动作那样，在利用第二光读写头90B的光束170B来对第二记录再现层组34进行信息记录时，也可以仅将第一光读写头的循轨用光束270A照射至伺服层18来进行循轨控制，而使记录再现用光束170A停止。这样，虽记录再现时的传输率减少，但无需进行用于同时记录及同时再现的信息管理，所以能够使记录再现用的信息控制程序变得简单。
下面，参照附图，对本发明第八实施方式进行说明。
图43～图45示出了第八实施方式的光记录介质10和在该光记录介质10的记录再现中所使用的第一、第二光读写头90A、90B的结构。第一光读写头90A从光记录介质10的一侧的第一表面10A侧照射光束。第二光读写头90B从光记录介质10的另一侧的第二表面30A侧照射光束。此外，与第五实施方式的不同点的特征为，第一、第二光读写头90A、90B的内部结构大致相同。即，如图3所示，第二光读写头90B也具有循轨用光学系统200B。因此，在附图中或文章中，对第一光读写头90A的各部件的附图标记的末尾标注了A，而对第二光读写头90B的个部件的附图标记的末尾标注了B，之外的部件采用相同的附图标记。另外，第一、第二光读写头90A、90B的主要部件与第五实施方式的第一光读写头90的部件相同或相似，所以在此省略其说明，而仅以第五实施方式的不同点为中心进行说明。
在第八实施方式中，在利用记录再现用光学系统100A对第一记录再现层组14进行信息记录时，如图44所示，在将循轨用光学系统200A的TE信号放大为所希望的电平并进行相位补偿，然后反馈至致动器191A及192A来进行循轨控制。其结果，记录再现用光学系统100A基于循轨用光学系统200A的循轨控制，对第一记录再现层组14进行信息记录。此外，在本实施方式中，当对已记录于第一记录再现层组14上的信息进行再现时，记录再现用光学系统100A利用第一记录再现层组14上的记录标记，独自进行循轨控制。另一方面，当然也可以利用循轨用光学系统200A的循轨控制来进行再现。
利用第二光读写头90B来进行对第二记录再现层组34的记录再现。如图45所示，在利用第二光读写头的记录再现用光学系统100B来对第二记录再现层组34进行信息记录时，利用通过将循轨用光学系统200B照射至伺服层18来得到TE信号。一边利用该TE信号来对记录再现用光学系统100B进行循轨控制，一边对第二记录再现层组34进行信息记录。
因此，该第一、第二光读写头90A、90B这两者，以循轨为目的而利用光记录介质10的伺服层18。其结果，伺服层18的岸台18A之间/凹槽18B之间的间隔P1(0.64μm左右)，设定为利用该第一、第二光读写头90A、90B的相对长的红色波长区域的光束270A、270B来足够能实现循轨的大小。其结果，该伺服层18，能够引导第一光读写头90A的循轨用光学系统200A的光束270A和第二光读写头90B的循轨用光学系统200B的光束270B这两者。
附带而言，在光记录介质10的支撑基板12的第二表面30A侧所形成的第二缓冲层37，由透光性的丙烯酸类的紫外线固化型树脂构成，而且其膜厚设定为238μm。进而，在循轨用光束270B的波长条件下的第二缓冲层37的折射率，设定为比在相同波长下的支撑基板12的折射率更低。这样，从第二缓冲层37侧入射的循轨用光束270B，透过支撑基板12而容易到达伺服层18。此外，在本实施方式中，在循轨用光束270A的波长条件下的第一缓冲层17的折射率，设定为比相同波长下的支撑基板12的折射率更低。这样，能够使第二缓冲层37和第一缓冲层17的材料变得相同，从而还能够使成膜工艺变得相同。
另外，第一、第二缓冲层17、37采用了光束的波长越短就光吸收量越多的材料。这样，对于蓝色波长的光束170A、170B的光吸收量变多，而对于红色波长的光束270A、270B的吸收量变少。其结果，第一、第二缓冲层17、37能够抑制蓝色波长的光束170A、170B到达伺服层18的光量，所以能够降低再现时的信号噪声。另一方面，第一、第二缓冲层17、37能够积极地使红色波长的光束270A、270B透过，从而能够使循轨信号的光量增多。
接下来，对本第八实施方式的光记录再现方法进行说明。
在对与支撑基板12的伺服层18侧相邻的第一记录再现层组14的L0记录再现层14A进行信息记录的情况下，首先，将第一光读写头90A的循轨用光学系统200A的红色波长区域的光束270A照射至伺服层18来进行循轨。具体地讲，如图47A、图47B所示，将光束270A的光斑照射至伺服层18的凹槽18B及岸台18A来进行循轨。同时，将第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的蓝色波长区域的记录用光束170A照射至L0记录再现层14A。
其结果，一边利用凹槽18B及岸台18A这两者来进行循轨，一边沿着该凹槽18B及岸台18A对L0记录再现层14A进行信息记录。其结果，形成于L0记录再现层14A上的记录标记的轨道间隔P2，变为凹槽18B之间或岸台18A之间的间隔P1的一半。此外，在伺服层18的记录凹坑或BCA(BurstCutting Area：烧录区)，预先记录有与光记录介质10相关的基本规格、与信息记录层组14的层叠数目相关的信息，所以在开始进行循轨控制之前始终利用红色波长区域的光束270A来读取这些信息。与光记录介质相关的基本信息包括伺服层18的位置、各记录再现层的位置、与记录再现层组的层间距离相关的规则。
在结束对L0记录再现层14A的必要信息的记录之后，对预先在该L0记录再现层14A的一部分上预先确保的管理区域记录这一次的写入信息(与记录相关的地址信息、内容信息等)。
然后，在重新开始对L0记录再现层14A进行信息记录的情况下，首先，对L0记录再现层14A的管理区域进行再现，来确认上一次记录的结束位置，并从该结束位置起继续进行记录。这样，持续(继续)进行记录动作，直到对L0记录再现层14A的所有数据区域都结束信息记录为止。如果结束了对L0记录再现层14A的数据区域的记录，那么开始对L1记录再现层14B的数据区域进行记录。此外，在结束对L1记录再现层14B的必要信息的记录之后，在如上所述的L0记录再现层14A的管理区域上记录这一次的写入信息(与记录相关的地址信息、内容信息等)。
<对第二记录再现层组的记录>
在对配置于与支撑基板12的伺服层18相反的一侧的第二记录再现层组34的L0记录再现层34A进行信息记录的情况下，首先，透过该支撑基板12来将第二光读写头90B的循轨用光学系统200B的红色波长区域的光束270B照射至伺服层18来进行循轨。具体地讲，如图47C、图47D所示，将光束270B的光斑照射至伺服层18的凹槽18B及岸台18A来进行循轨。同时，将第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的蓝色波长区域的记录用光束170B照射至L0记录再现层34A。
其结果，一边利用岸台18A及凹槽18B这两者来进行循轨，一边沿着该岸台18A及凹槽18B对L0记录再现层34A进行信息记录。其结果，形成于L0记录再现层34A上的记录标记的轨道间隔P2，变为岸台18A间或凹槽18B之间的间隔P1的一半。如已叙述过那样，在伺服层18的记录凹坑或BCA(烧录区)，预先记录有与光记录介质10相关的基本规格、与第一记录再现层组14的层叠数目相关的信息。因此，能够在开始进行循轨控制之前始终利用红色波长区域的光束270B来读取这些信息。
在结束对L0记录再现层34A的必要信息的记录之后，对预先在该L0记录再现层34A的一部分上所确保的管理区域记录这一次的写入信息(与记录相关的地址信息、内容信息等)。
然后，在重新开始对L0记录再现层34A进行信息记录的情况下，首先，对L0记录再现层24A的管理区域进行再现，来确认上一次记录的结束位置，并从该结束位置起继续进行记录。这样，持续(继续)进行记录动作，直到对L0记录再现层34A的所有数据区域都结束信息记录为止。如果对L0记录再现层34A的数据区域所进行的记录动作结束之后，那么，开始对L1记录再现层34B的数据区域进行记录。此外，在结束对L1记录再现层34B的必要信息的记录之后，在如上所述的L0记录再现层34A的管理区域上记录这一次的写入信息(与记录相关的地址信息、内容信息等)。
此外，在此例示了利用L0记录再现层14A、34A来确保管理区域的情形，但也可以利用其他记录再现层。另外，在伺服层18具有记录膜的情况下，优选在该伺服层18上确保管理区域，并在该管理区域上记录写入信息。在进行该记录时，可以利用进行循轨控制的光束270A、270B。通过将管理信息集中记录在伺服层18上，还能够同时把握第一记录再现层组14和第二记录再现层组34这两者的管理信息。
如上所述，在本第八实施方式的光记录介质10中，仅在支撑基板12的一侧面上形成有伺服层18，而且在该支撑基板12的两侧面上分别配置有第一记录再现层组14和第二记录再现层组34。其结果，在形成第一、第二记录再现层组14、34时的内部应力分散在支撑基板12的两侧，所以能够抑制光记录介质10的弯曲及变形。此外，这样分散了内部应力，所以即使将支撑基板12的厚度设定在100μm～1000μm的范围内，也能够抑制光记录介质10的弯曲。
此时，若想要在支撑基板12的两侧形成循轨用凹凸，则该支撑基板12的制造工序本身会变得复杂，而且容易使支撑基板12的精度变差。于是，在本实施方式中，将循轨用凹凸形成在支撑基板12的单侧面上，由此使支撑基板12的制造变得简单，从而提高了精度。另外，两侧的第一、第二记录再现层组14、34共享伺服层18，所以无需在第一、第二记录再现层组14、34的各记录再现层上形成循轨用凹凸。其结果，能够进一步提高光记录介质10的形状精度。在支撑基板12的两侧分别配置有第一记录再现层组14和第二记录再现层组34，所以还能够提高记录容量。
进而，在本光记录介质10中，由透光性材料来构成该支撑基板12。其结果，能够将第二光读写头90B的光束270B透过支撑基板12来照射至伺服层18。此外，在由不透光的材料构成该支撑基板12的情况下，也可以利用第一光读写头90A的光束270A的返回光来对第二光读写头90B进行循轨控制。
另外，光记录介质10的第一记录再现层组14和第二记录再现层组34，层叠于以支撑基板12的中心为基准而在厚度方向上对称的位置。因此，第一、第二记录再现层组14、34的内部应力也相对称，所以能够抑制光记录介质10的弯曲。
在该光记录介质10中，在循轨用光束270B的波长条件下的支撑基板12的折射率，设定为比相同波长下的第二缓冲层37的折射率更高。这样，从第二缓冲层37侧入射的循轨用光束270B的会聚点，容易透过支撑基板12来到达伺服层18。其结果，能够可靠地对第二光读写头90B进行循轨控制。
进而，在光记录介质10中，照射了循轨用的红色波长的光束270A、270B时的伺服层18的反射率，设定为比假设将记录再现用光束170A、170B照射至伺服层18时的反射率更高。具体地讲，为了实现这样的特性，第一、第二缓冲层17、37采用了光束的波长越短就光吸收量越多的材料。这样，假设蓝色波长的记录再现用光束170A、170B入射至伺服层18侧，那么，也会容易被第一、第二缓冲层17、37吸收，所以能够抑制到达伺服层18的光量(来自伺服层18的反射光量)。另一方面，第一、第二缓冲层17、37积极地使红色波长的循轨用光束270A、270B透过，所以能够使到达伺服层18光量(来自伺服层18的反射光量)增多。其结果，既能够提高再现信号的品质，而且能够实现稳定的循轨控制。
此外，在本实施方式中，给第一、第二缓冲层17、37赋予了对于红色波长和蓝色波长的光吸收率互不相同的特性，其结果，使伺服层18的反射率对于循轨用光束和记录再现用光束互不相同，但本发明并不仅限定于此。例如，也可以给形成于伺服层18的反射膜本身赋予根据波长而其反射率不同的波长选择特性。另外，也可以与第一、第二缓冲层17、37分别独立地设置具有光透过率或吸收率的波长选择特性的滤光层。
进而，如现有技术那样在光记录介质内形成有多层的伺服层，那么，如利用哪一伺服层、对哪一记录再现层进行记录等问题变得复杂，所以容易使记录再现控制变得混乱。于是，如本实施方式那样，第一记录再现层组14和第二记录再现层组34共享一个伺服层18，那么，能够使记录再现控制变得简单，从而还能够降低记录再现错误。
此外，上述实施方式中，例示了将第一覆盖层11和第二覆盖层31的厚度设定为彼此相同的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，如图48所示的光记录介质10那样，也可以将第一覆盖层11和第二覆盖层31的厚度设定为互不相同。具体地讲，将第一覆盖层11的厚度设定为比第二覆盖层31的厚度更厚，并使，第一覆盖层11的厚度和第二覆盖层31的厚度之差等于支撑基板12的厚度。这样，伺服层18就配置在光记录介质10的厚度方向上的中心。其结果，在第一光读写头90A和第二光读写头90B中，能够使循轨用光学系统200A、200B的焦点距离相一致。此外，在制作该光记录介质10时，优选分别独立地层叠厚度互不相同的第一覆盖层11和第二覆盖层31。由于通过支撑基板12、第一、第二缓冲层17、37、第一记录再现层组14及第一中间层组16、第二记录再现层组34及第二中间层组36，就已能够确保某一程度的刚性，所以所以即使不同时层叠这些覆盖层，也足够能抑制光记录介质10的弯曲及变形。
另外，如图49所示的光记录介质10那样，也可以通过改变第一、第二缓冲层17、37的厚度，或改变第一、第二记录再现层组14、34的层间距离或层叠数目，来最终使伺服层18位于厚度方向上的中心。
另外，也可以通过分别改变第一覆盖层11和第二覆盖层31的折射率，或改变第一、第二记录再现层组14、34的层间的折射率，来最终使伺服层18位于厚度方向上的光学距离中心。
进而，在上述实施方式中，示出了作为第一、第二记录再现层组14、34的各记录再现层而预先形成了记录膜的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，如图50所示的光记录介质10那样，也可以将将来可能会成为第一、第二记录再现层组的部位整体，形成为具有规定的厚度的第一、第二整层13、33。若将记录用光束170A、170B照射至该第一、第二整层13、33，则仅在光束光斑的焦点部分发生状态变化而形成记录标记。即，本发明的光记录介质并不仅限定于预先形成了光束所照射的记录再现层的情形，而也包括如下情形：在平面区域随时形成记录标记，并通过该记录标记的集合体来事后形成第一、第二记录再现层组14、34的多层结构的情形。由于光记录介质10采用了整层13、33的结构，所以只要是在整层13、33的范围内，就能够自由地设定记录再现层的位置。例如，如图50所示，在第一整层13和第二整层33的厚度及配置互不相同的情况下，也能够使第一、第二记录再现层组14、34各自与第一、第二表面10A、30A之间的距离相一致。
此外，在此例示了当采用第一、第二整层13、33时省略了覆盖层的结构，但除此之外，还可以省略缓冲层。
下面，参照附图，对本发明第九实施方式进行说明。由于本第九实施方式的光记录介质和光记录再现装置的一部分与第五实施方式相同或相似，所以省略对这些的说明，在此仅以与第五实施方式的不同点为中心进行说明。
图51～图54示出了能够应用本发明第九实施方式的光记录再现方法的光记录介质10和用于实现该光记录再现方法的光记录再现装置70的内部结构。记录再现装置70具有：第一、第二光读写头90A、90B；用于使该第一、第二光读写头90A、90B在循轨方向上移动的第一、第二直动机构75A、75B；用于控制该第一、第二直动机构75A、75B的循轨控制装置80。附图标记86为数字信号处理装置，该数字信号处理装置用于与外部的信息设备进行用于记录或再现的用户信息的输入输出，而且该数字信号处理装置用于控制光记录介质10的记录数据或再现数据。此外，虽没有特别图示的，但第一光读写头90A的光轴和第二光读写头90B的光轴处于同轴。
如图52所示，第一光读写头90A具有记录再现用光学系统100A和循轨用光学系统200A。记录再现用光学系统100A是对光记录介质10的第一记录再现层组14进行记录及再现的光学系统。循轨用光学系统200A是用于进行循轨控制的光学系统，在利用记录再现用光学系统100A对第一记录再现层组14进行信息记录时，该循轨用光学系统200A利用第一、第二伺服层18、20来进行循轨控制。
循轨用光学系统200A的光束270A被物镜156A变换为会聚光束，聚焦在形成于光记录介质10的内部的第一、第二伺服层18、20之一上。被第一、第二伺服层18、20反射的光束270A，透过物镜156A后被分束器260A反射，在1/4波片254A中变换为与去程的光束相差90度的线偏振光，然后进而被偏振分束器252A反射。
如图53所示，在利用第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B对第二记录再现层组34进行信息记录时，利用通过将第一光读写头90A的循轨用光学系统200A照射至第一、第二伺服层18、20所得到的循轨误差(TE)信号。
返回至图51，循轨控制装置80的访问控制器82，以如下方式对第一、第二光读写头90A、90B进行控制。
(记录时的访问控制器的控制动作)访问控制器82从后述的数字信号处理装置86接收作为记录对象的记录再现层及其循轨编号，并针对成为记录对象的记录再现层，判断是使用第一伺服层18来进行记录再现，还是使用第二伺服层20来进行记录再现。进而，访问控制器82使第一光读写头90A的循轨用光束270A照射至与根据该判定结果得到的第一或第二伺服层18、20之一的循轨编号相当的岸台/凹槽。这是通过如下方式来实现的，即，访问控制器82接收利用循轨用光学系统200A的光束270A得到的循轨误差(TE)信号，由此反馈控制致动器191A、192A和第一直动机构75A。在这样的状态下，第一光读写头90A将记录再现用光束170A照射至第一记录再现层组14来进行信息记录。
与此同时，访问控制器82利用第一光读写头90A的上述循轨误差(TE)信号，对致动器191B、192B和第二直动机构75B进行控制。即，致动器191A、191B、192A、192B和第一直动机构75A及第二直动机构75B，在循轨方向上进行完全相同的动作。在这样的状态下，第二光读写头90B将记录再现用光束170B照射至第二记录再现层组34来进行信息记录。其结果，在本实施方式中，利用彼此共享的第一、第二伺服层18、20来同时对第一、第二光读写头90A、90B进行循轨控制，由此同时对第一、第二记录再现层组14、34进行信息记录。
(再现时的访问控制器的控制动作)通过将第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的光束170A照射至第一记录再现层组14，来对第一记录再现层组14进行再现。此时的循轨控制是通过如下方式来实现的：并不利用循轨用光束270A，而访问控制器82直接利用记录再现用光束170A的循轨误差(TE)信号，对致动器191A、192A和第一直动机构75A进行反馈控制来实现。
将第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的光束170B照射至第二记录再现层组34，由此对第二记录再现层组34进行再现。此时的循轨控制是，访问控制器82直接利用第二光读写头90B的记录再现用光束170B的循轨误差(TE)信号，对致动器191B、192B和第二直动机构75B进行反馈控制来实现的。即，在本实施方式中，分别独立地对第一、第二光读写头90A、90B来进行循轨控制，来同时对第一、第二记录再现层组14、34进行信息再现。
数字信号处理装置86具有再现处理部87A、记录处理部87B、分割/合成处理部87C、输入输出接口部87D。
再现处理部87A将第一、第二光读写头90A、90B的光源101A、101B的功率，恒定地控制为规定的再现电平，来对记录于光记录介质10上的信息进行再现。而且，接收第一、第二光读写头90A、90B的模拟再现信号，并将该模拟信号变换为数字信号。
具体地讲，再现处理部87A利用没有特别图示的A/D变换器、PR均衡器、ML解码器等来将模拟信号解码为数字信号。A/D变换器将再现波形变换为数字值。PR均衡器对该数字值进行采样并进行均衡处理，使得其电压电平接近PR参照类(class)特性。ML解码器在通过PR均衡器进行过均衡处理的信号中选择最大似然理想响应，来生成二值化的数字信号。其结果，记录于第一记录再现层组14上的信息被第一光读写头90A再现而成为数字化的第一数据。另外，记录于第二记录再现层组34上的信息被第二光读写头90B再现而成为数字化的第二数据。该第一、第二数据被转送至分割/合成处理部87C。
记录处理部87B基于规定的记录策略，个别地(分别独立地)控制第一、第二光读写头90A、90B的光源101A、101B的功率，来对光记录介质10进行信息记录，或擦除光记录介质10上的信息。具体地讲，控制第一光读写头90A的光源101A的记录功率，来对第一记录再现层组14记录第一数据。另外，控制第二光读写头90B的光源101B的记录功率，来对第二记录再现层组34记录第二数据。此外，该第一数据及第二数据，是从分割/合成处理部87C接收到的。
分割/合成处理部87C将从输入输出接口部87D接收到的预记录数据分割为第一数据和第二数据，并传递至记录处理部87B。另外，分割/合成处理部87C将从再现处理部87A接收到的第一数据和第二数据合成为一个再现数据，并将该再现数据传递至输入输出接口部87D。
输入输出接口部87D用于与外部的信息设备进行信息的输入输出。具体地讲，从外部的信息设备接收需记录的数据，将光记录介质10的再现数据输出至外部的信息设备。
图54放大示出了本实施方式的光记录介质10的剖面结构。
光记录介质10具有外径约为120mm、厚度约为1.2mm的圆盘形状。该光记录介质10从第一表面10A一侧起依次具有第一覆盖层11、第一记录再现层组14、第一中间层组16、第一缓冲层17、第一伺服层18、伺服间缓冲层19、第二伺服层20、支撑基板12、第二缓冲层37、第二记录再现层组34、第二中间层组36、第二覆盖层31及第二表面30A。
在支撑基板12的第一表面10A侧，以螺旋状形成有岸台20A及凹槽20B。该岸台20A及凹槽20B就是循轨控制用凹凸(沟槽)。该岸台20A及凹槽20B将来会成为第二伺服层20，利用于循轨控制中。
即，形成于支撑基板12的第二伺服层20，由形成于支撑基板12的表面上的循轨控制用凹凸(岸台20A及凹槽20B)和形成于该循轨控制用凹凸上的反射性的层构成。
在本实施方式中，第二伺服层20的相邻的岸台20A之间或凹槽20B之间的间隔P1设定为小于0.74μm。具体地讲，优选将间隔P1设定在0.6μm～0.7μm的范围内，更优选设定为0.64μm左右。第二伺服层20的岸台20A之间/凹槽20B之间的间隔P1(0.64μm左右)，设定为利用相对长的红色波长区域的光束270A来足够实现循轨的大小。在本实施方式中，利用岸台20A和凹槽20B这两者来进行循轨。其结果，相对于第二伺服层20的间隔P1，记录标记的轨道间隔P2设定为小于0.37μm，优选设定在0.26μm～0.35μm的范围内，更优选设定在间隔P1的一半(1/2)即0.32μm左右。其结果，记录标记之间的轨道间隔P2设定为与BD标准具有互换性的0.32μm左右。这样，分别利用岸台20A和凹槽20B对循轨控制，所以即使第二伺服层20的间隔P2不采用小值，也能够使记录再现层组14的记录标记的轨道间隔P2变小。
伺服间缓冲层19形成在第二伺服层20的表面上，并由透光性的丙烯酸类的紫外线固化型树脂构成。该伺服间缓冲层19的膜厚例如设定为30μm。通过使用透光性树脂压模，在该伺服间缓冲层19的表面上以螺旋状形成有岸台18A及凹槽18B。该岸台18A及凹槽18B就是第一伺服层18的循轨控制用凹凸(沟槽)。该岸台18A及凹槽18B的螺旋方向与第二伺服层20的岸台20A及凹槽20B的螺旋方向相反。
形成于伺服间缓冲层19上的第一伺服层18，由形成于伺服间缓冲层19的表面上的循轨控制用凹凸(岸台18A及凹槽18B)和形成于该循轨控制用凹凸上的反射性的层构成。在此，反射性的层由通过溅射法形成的Al、Ag等的金属膜来构成，而且作为单纯的光反射膜来发挥功能。该第一伺服层18的透过率设定为比第二伺服层20的透过率更高。此外，在设置除具有反射功能外还能够进行信息记录的记录膜的情况下，也可以采用与后述的记录再现层14A～14F大致相同的膜结构。
第一伺服层18的相邻的岸台18A之间或凹槽18B之间的间隔P1与第二伺服层20的情形相一致。具体地讲，设定为0.64μm左右。
第一缓冲层17由透光性的丙烯酸类的紫外线固化型树脂构成，其膜厚设定为208μm。
如上所述那样构成了光记录介质10，其结果，光记录介质10中的支撑基板12和第一缓冲层17之间的边界(第二伺服层20)位于与第一表面10A相距350μm的位置。另外，第一伺服层18位于与第一表面10A相距320μm的位置。
其他结构与第五实施方式所示的光记录介质的结构相同。其结果，就该光记录介质10而言，除了第一、第二伺服层18、20非对称配置之外，具有在厚度方向上对称的结构。
接下来，对本第九实施方式的光记录介质10的制造方法进行说明。
如图55A所示，制作仅在单侧面上形成有凹槽及岸台的支撑基板12。然后，在支撑基板12的形成有凹槽及岸台一侧的表面上形成伺服层20。通过溅射法等，形成对于循轨用光学系统200A的光源具有反射性的膜(例如，Al或Ag等的金属膜)，由此形成伺服层20。
接下来，如图55B所示，在形成有该第二伺服层20的支撑基板12的第二伺服层20一侧，形成伺服间缓冲层19。此时，在伺服间缓冲层19的表面上形成凹槽18B及岸台18A。具体地讲，通过旋涂法等，在支撑基板12的两侧面上形成调好粘度的丙烯酸类或环氧类的紫外线固化型树脂的膜，并利用透明树脂压模来在伺服间缓冲层19侧形成凹槽18B及岸台18A，然后照射紫外线来进行固化。其结果，形成了伺服间缓冲层19。此外，除了可以采用紫外线固化性树脂之外，还可以通过喷涂法、DIP法等，来在第二伺服层20的表面上形成服间缓冲层19。
然后，在伺服间缓冲层19的表面上形成第一伺服层18。具体地讲，通过溅射法等，在伺服间缓冲层19的表面上形成对于循轨用光学系统200A的光源具有反射性及透过性这两者的膜(例如，Al或Ag等的金属薄膜)。
接下来，如图55C所示，在该第一伺服层18的表面及其相反一侧的支撑基板12的表面30A上，同时形成第一缓冲层17及第二缓冲层37。
接下来，如图55D所示，分别在第一缓冲层17和第二缓冲层37上，同时形成第一记录再现层组14的L0记录再现层14A和第二记录再现层组34的L0记录再现层34A。
在第一记录再现层组14的L5记录再现层14F的形成和第二记录再现层组34的L5记录再现层34F的形成也都结束之后，图55D所示，分别在这些L5记录再现层14F、34F上，同时形成第一及第二覆盖层11、31，由此完成该光记录介质10。
接下来，参照图56～图59，关于利用本实施方式的光记录再现装置70来对光记录介质10进行信息记录再现的光记录再现方法进行说明。在本实施方式中，交替反复进行如下两个工序：利用第一伺服层18来同时对第一、第二记录再现层组进行信息记录的工序；利用第二伺服层20来同时对第一、第二记录再现层组进行信息记录的工序。
首先，对进行该光记录再现方法时的前提条件进行说明。如图59所示，以使第一表面10A朝向下侧且使第二表面30A朝向上侧的状态，将光记录介质10配置在旋转轴S上。在沿着该旋转轴S从下侧观察的情况下，光记录介质10按顺时针方向旋转。在从第一表面10A侧观察光记录介质10的情况下，第一伺服层18的岸台18A及凹槽18B的第一螺旋方向设定为，按逆时针方向从内周侧朝向外周侧扩散的方向。另一方面，在从第一表面10A侧观察光记录介质10的情况下，第二伺服层20的岸台20A及凹槽20B的第二螺旋方向设定为，按顺时针方向从内周侧朝向外周侧扩散的方向，即与第一螺旋方向相反的方向。另外，在此，将利用第一光读写头90A对第一记录再现层组14进行记录或再现的情形称为第一记录再现动作，将利用第二光读写头90B对第二记录再现层组34进行记录或再现的情形称为第二记录再现动作。
<利用第一伺服层的对第一、第二记录再现层组的同时信息记录>
数字信号处理装置86中的输入输出接口部87C从外部的信息设备接收要进行记录的预记录数据，并将该预记录数据发送至分割/合成处理部87C。分割/合成处理部87C将接收到的预记录数据分割为第一数据和第二数据并传递至记录处理部87B。记录处理部87B控制第一光读写头90A的光源101A的记录功率，来对第一记录再现层组14记录第一数据(第一记录再现动作)。与此同时，记录处理部87B控制第二光读写头90B的光源101B的记录功率，来对第二记录再现层组34记录第二数据(第二记录再现动作)。第一、第二记录再现动作的详细情况如下。
(第一记录再现动作)如图56及图59A所示，在对第一记录再现层组14的L0记录再现层14A进行信息记录时，将第一光读写头90A的循轨用光学系统200A的红色波长区域的光束270A从第一表面10A照射至第一伺服层18来进行循轨。具体地讲，将第一将光束270A的光斑照射至伺服层18的凹槽18B及岸台18A来进行循轨。
进而，在进行循轨的同时，将第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的蓝色波长区域的记录用光束170A从第一表面10A照射至L0记录再现层14A。
其结果，在从第一表面10A侧观察的情况下，针对按顺时针方向旋转的光记录介质10，一边沿着该凹槽18B及岸台18A从内周朝向外周移动，一边对L0记录再现层14A进行信息记录。此外，形成于L0记录再现层14A上的记录标记的轨道间隔P2，变为凹槽18B或岸台18A间的间隔P1的一半。
(第二记录再现动作)在对第二记录再现层组34的L0记录再现层34A进行信息记录时，利用第一记录再现动作中的第一光读写头90A的循轨误差信号，来对第二光读写头90B进行循轨控制。其结果，第一光读写头90A和第二光读写头90B处于光轴相对置且大致同轴的状态。在这样的状态下，将第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的蓝色波长区域的记录用光束170B照射至L0记录再现层34A。
其结果，如图59A所示，在从第二表面30A侧观察的情况下，针对按逆时针方向旋转的光记录介质10，一边沿着第一伺服层18的凹槽18B及岸台18A从内周朝向外周移动，一边对L0记录再现层34A进行信息记录。此外，形成于L0记录再现层34A上的记录标记的轨道间隔P2，也变为第一伺服层18的凹槽18B或岸台18A间的间隔P1的一半。
通过同时并行地进行以上的第一记录动作和第二记录动作，能够利用第一伺服层18来实现对第一、第二记录再现层组14、34的同时信息记录。
此外，第一伺服层18的记录凹坑或BCA(烧录区)，预先记录有与光记录介质10相关的基本规格、与第一、第二记录再现层组14、34的层叠数目相关的信息。因此，能够在开始进行循轨控制之前始终利用红色波长区域的光束270A来读取这些信息。与光记录介质10相关的基本规格包括第一、第二伺服层18、20的位置、各记录再现层的位置、与记录再现层组的层间距离相关的规则。
在结束对第一记录再现层组14的L0记录再现层14A和第二记录再现层组34的L0记录再现层34A的必要信息的记录之后，对预先在该L0记录再现层14A、34A的一部分上所确保的管理区域上，同时记录这一次的写入信息(与记录相关的地址信息、内容信息等)。
然后，在重新开始对L0记录再现层14A、34A进行信息记录的情况下，首先，对L0记录再现层14A、34A的管理区域进行再现，来确认上一次记录的结束位置，并从该结束位置起继续进行记录。这样，继续进行同时记录动作，直到对L0记录再现层14A、34A的所有数据区域都结束信息记录为止。
<利用第二伺服层的对第一、第二记录再现层组的同时信息记录>
如果对L0记录再现层14A、34A的数据区域所进行的记录动作结束，那么，如图57及图59B所示，开始对与L0记录再现层14A、34A相邻的L1记录再现层14B、34B的数据区域进行记录。
(第一记录再现动作)在对第一记录再现层组14的L1记录再现层14B进行信息记录时，将第一光读写头90A的红色波长区域的光束270A从第一表面10A照射至第二伺服层20来进行循轨。具体地讲，将光束270A的光斑照射至第二伺服层20的凹槽20B及岸台20A来进行循轨。
进而，在进行循轨的同时，将第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的蓝色波长区域的记录用光束170A从第一表面10A照射至L1记录再现层14B。
其结果，在从第一表面10A侧观察的情况下，针对按顺时针方向(第一旋转方向)旋转的光记录介质10，一边沿着该凹槽20B及岸台20A从外周朝向内周移动，一边对L1记录再现层14B进行信息记录。此外，形成于L1记录再现层14B上的记录标记的轨道间隔P2，变为凹槽20B或岸台20A间的间隔P1的一半。
(第二记录再现动作)在对第二记录再现层组34的L1记录再现层34B进行信息记录时，利用第一记录再现动作中的第一光读写头90A的循轨误差信号，来对第二光读写头90B进行循轨控制。在进行该循轨的同时，将第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的蓝色波长区域的记录用光束170B照射至L1记录再现层34B。
其结果，在从第二表面30A侧观察的情况下，针对按逆时针方向(第二旋转方向)旋转的光记录介质10，一边沿着第二伺服层20的凹槽20B及岸台20A从外周朝向内周移动，一边对L1记录再现层34B进行信息记录。此外，形成于L1记录再现层34B上的记录标记的轨道间隔P2，也变为第二伺服层20的凹槽20B或岸台20A间的间隔P1的一半。
通过同时并行地进行以上的第一记录动作和第二记录动作，能够利用第二伺服层20来实现对第一、第二记录再现层组14、34的同时信息记录。
此外，在结束对L1、L2记录再现层14B、34B的必要信息的记录之后，在如上所述的L0记录再现层14A、34A的管理区域上记录这一次的写入信息(与记录相关的地址信息、内容信息等)。
在本光记录再现方法中，反复进行以上的记录动作，其结果，如图57中的箭头Q所示，能够交替执行如下记录动作：利用第一伺服层18，从光记录介质10的径向上的内侧朝向外侧所进行的记录动作；利用第二伺服层20，从光记录介质10的径向上的外侧朝向内侧所进行的记录动作。
另外，在本实施方式中，对第一、第二记录再现层组14、34中从厚度方向上的中心侧起的层叠顺位彼此相同的一对记录再现层，同时进行信息记录。尤其是，从光记录介质10的厚度方向上的中心侧朝向外侧，以层叠顺序选择一对记录再现层来进行信息记录。
此外，在此例示了利用L0记录再现层14A、34A来确保管理区域的情形，但也可以利用其他记录再现层来确保管理区域。另外，在第一、第二伺服层18、20具有记录膜的情况下，优选在该第一、第二伺服层18、20上确保管理区域，并在该管理区域上记录写入信息。在对第一、第二伺服层18、20进行记录时，可以利用进行循轨控制的光束270A。通过将管理信息集中记录在第一、第二伺服层18、20上，还能够同时把握第一记录再现层组14和第二记录再现层组34这两者的管理信息。
<对第一、第二记录再现层组的同时信息再现>
在数字信号处理装置86从外部的信息设备接受了对记录于光记录介质10上的数据的再现请求的情况下，数字信号处理装置86中的再现处理部87A将第一、第二光读写头90A、90B的光源101A、101B的功率恒定地控制为规定的再现电平，来对记录于光记录介质10上的信息进行再现。如已在记录动作的说明中叙述过那样，在本实施方式中，要进行记录的预记录数据被分割为第一数据和第二数据后，分别记录在第一、第二记录再现层组14、34中的层叠顺位相同的一对记录再现层上，所以在进行再现时，同时对该第一数据和第二数据进行再现，并对这些数据进行合成，复原成再现数据。
(第一记录再现动作)如图58所示，在对记录于第一记录再现层组14的L0记录再现层14A上的第一数据进行再现时，将第一光读写头90A的记录再现用光学系统100A的光束170A照射至L0记录再现层14A，来一边进行循轨控制和对焦控制一边进行再现。
(第二记录再现动作)在对记录于第二记录再现层组34的L0记录再现层34A上的第二数据进行再现时，将第二光读写头90B的记录再现用光学系统100B的光束170B照射至L0记录再现层34A，来一边进行循轨控制和对焦控制一边进行再现。
通过同时并行地进行该第一再现动作和第二再现动作，来实现对第一、第二记录再现层组14、34上的第一数据和第二数据的同时再现。此外，在进行记录时，利用第一、第二伺服层18、20来进行了循轨控制，但在进行同时再现时，分别利用记录再现用光学系统100A、100B，独立地对第一、第二光读写头90A、90B进行循轨控制。
再现处理部87A接收第一、第二光读写头90A、90B的模拟再现信号，将该模拟信号变换为数字信号来得到第一数据、第二数据。进而，再现处理部87A将这些第一、第二数据转送至分割/合成处理部87C。分割/合成处理部87C将从再现处理部87A接收到的第一、第二数据合成为一个再现数据，并将该再现数据传递至输入输出接口部87C。输入输出接口部87C将该再现数据输出至外部的信息设备。
如上所述，在本第九实施方式的光记录再现方法中，一边将循轨用光束270A照射至第一或第二伺服层18、20来进行循轨控制，一边将记录再现用光束170A照射至在从第一表面10A侧观察时按顺时针方向旋转的第一记录再现层组14来进行信息的记录或再现，与此同时，将记录再现用光束170B照射至在从第二表面30A侧观察时按逆时针方向旋转的第二记录再现层组34来进行信息的记录或再现。由此，能够同时对一对记录再现层进行信息的记录或再现，所以能够大幅度提高信息的传输率。
进而，在本光记录再现方法中，共享第一或第二伺服层18、20中的某一伺服层，所以能够使第一光读写头90A的记录再现用光束170A和第二光读写头90B的记录再现用光束170B，在保持大致同轴的状态的情况下，同时对一对记录再现层进行信息记录。其结果，第一数据和第二数据会始终记录在相同的循轨位置上，所以使在进行同时再现时的再现控制变得简单。另外，光记录再现装置70的第二光读写头90B能够省略循轨用光学系统，所以还能够使结构变得简单。
此外，在本实施方式中，若照射至第二伺服层20的循轨用光束270A大量通过第二伺服层20，则容易对配置在同轴上的第二光读写头90B带来不良影响。于是，在本光记录介质10中，通过将第二伺服层20对于循轨用光束270A的透过率设定为10％以下，来抑制光束270A给第二光读写头90B侧所带来的不良影响。
另外，光记录再现装置70中的数字信号处理装置86将从外部的信息设备接收到的记录数据，分割为第一记录动作用的第一数据和第二记录动作用的第二数据来同时对一对记录再现层进行记录。而且，该数字信号处理装置86同时对同时记录于该一对记录再现层上的第一数据及第二数据进行再现，并将该第一数据及第二数据进行合成，犹如原本就是一个再现数据那样输出至外部的信息设备。因此，可以对外部的信息设备提供与现有技术中对一个记录再现层进行记录或再现的光记录再现装置相同的接口，所以也无需改变外部的信息设备的规格。
进而，在本光记录再现方法中，光记录介质10具有如下两层伺服层：在第一螺旋方向上具有循轨控制用凹凸或沟槽的第一伺服层18；在与该第一螺旋方向相反的第二螺旋方向上具有循轨控制用凹凸或沟槽的第二伺服层20。另外，每当切换记录再现层都交替进行如下两个工序：一边共享第一伺服层18来从光记录介质10的内周侧朝向外周侧进行循轨控制，一边同时进行第一记录动作及第二记录动作的工序；一边共享第二伺服层20来从光记录介质10的外周侧朝向内周侧进行循轨控制，一边进行第一记录动作及所述第二记录动作的工序。因此，如图57所示，大昂对记录再现层进行切换时，仅通过使第一、第二光读写头90A、90B的记录再现用光束170A、170B向对焦方向移动，能够快速地移动至作为移动目标位置的一对记录再现层的记录开始位置或再现开始位置。其结果，能够抑制切换记录再现层时的传输率的下降。
另外，在本光记录再现方法中，循轨用光束270A的波长设定为与记录再现用光束170A、170B的波长互不相同。尤其是，将循轨用光束270A设定为红色的630～680nm，将记录再现用光束170A、170B的波长设定为蓝色的380～450nm。
在此基础上，在该光记录介质10中，将照射了循轨用的红色波长的光束270A时的第一、第二伺服层18、20的反射率，设定为比假设将记录再现用光束170A照射至第一、第二伺服层18、20时的反射率更高。具体地讲，为了实现这样的特性，第一缓冲层17采用了光束的波长越短就光吸收量越多的材料。
于是，假设蓝色波长的记录再现用光束170A入射至第一、第二伺服层18、20侧，那么，也会容易被第一缓冲层17吸收，所以到达第一、第二伺服层18、20的光量(来自第一、第二伺服层18、20的反射光量)会得到抑制。另一方面，第一缓冲层17积极地使第一光读写头90A的循轨用光束270A透过，所以能够使到达第一、第二伺服层18、20的光量(来自第一、第二伺服层18、20的反射光量)增多。其结果，不仅能够提高再现信号的品质，而且能够实现稳定的循轨控制。
此外，在本实施方式中，给第一缓冲层17赋予了对于循轨用光束(红色波长)和记录再现用光束(蓝色波长)的光吸收率互不相同的特性，其结果，第一、第二伺服层18、20的反射率对于循轨用光束和记录再现用光束互不相同，但本发明并不仅限定于此。例如，也可以给形成于第一、第二伺服层18、20的反射膜本身，赋予根据波长而其反射率不同的波长依赖特性。另外，可以与第一缓冲层17分别独立地设置具有光透过率或吸收率的波长依赖特性的滤光层。
进而，在本光记录再现方法中，针对第一记录再现层组14和第二记录再现层组34，同时对从光记录介质10的厚度方向上的中心起的层叠顺位彼此相同的记录再现层进行信息记录。于是，就成为记录对象的一对记录再现层而言，各自到光记录介质10的表面10A、30A的距离相近似，而且光束的光路也处于对称状态。其结果，就例如由第一光读写头90A得到的控制用信号，具体地讲是光记录介质10的倾斜及面抖动等控制信息而言，只要使这些信息取相反的极性，就能够直接用作为第二光读写头90B的控制用信号。其结果，在第二光读写头90B中，还可以省略用于获取该控制用信号的特殊的光电二极管机构等。
进而，在该光记录介质10中，使具有相对厚的厚度的第一缓冲层17和第二缓冲层37的厚度彼此近似，而且同时形成这些第一、第二缓冲层17、37，从而能够抑制支撑基板12的弯曲。这意味着，能够使支撑基板12变薄或由刚性低的材料构成支撑基板12，因此能够相应地增加用于形成记录再现层的空间。
尤其是在本实施方式中，当制作光记录介质10时，除了伺服间缓冲层19之外，在两侧的面上，同时形成第一缓冲层17和第二缓冲层37、第一记录再现层组14和第二记录再现层组34、第一中间层组16和第二中间层组36。其结果，紫外线固化时所发生的内部应力会均等地作用于支撑基板12的两侧，所以能够进一步抑制光记录介质10的弯曲。
此外，在上述实施方式的光记录再现方法中，例示了在第一、第二记录再现层组14、34中从光记录介质10的厚度方向上的中心侧朝向外侧以层叠顺序进行信息记录的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，也可以在第一、第二记录再现层组14、34中从光记录介质10的外侧朝向中心侧以层叠顺序进行信息记录。另外，也可以在第一、第二记录再现层组14、34中随机地提取层叠顺位相同的一对记录再现层来进行记录。
而且，在上述实施方式的光记录再现方法中，例示了对从光记录介质10的厚度方向上的中心侧起的层叠顺位相同的一对记录再现层进行信息记录或再现的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，也可以选择如下的一对记录再现层，即，如图60中的箭头Q所示，第一记录再现动作时的第一记录再现层组14中从第一表面10A侧起的层叠顺位和第二记录再现动作时的第二记录再现层组34中从光记录介质10的厚度方向上的中心侧起的层叠顺位彼此相同的一对记录再现层。
这样，能够使第一光读写头90A侧的记录再现用光束170A的焦点和第二光读写头90B侧的记录再现用光束170B的焦点之间的焦点间距离T恒定或相对稳定。其结果，在一对光束170A、170B的焦点之间所存在的中间层组16、36的数目也始终恒定。因此，能够将中间层组16、36的成膜误差所导致的焦点间距离T的变动量控制在规定的范围内，从而能够降低对焦误差等。尤其是，在将光束170A、170B切换至下一个记录再现层时，只要在固定住焦点间距离T的状态下同时移动光束170A、170B的焦点，就也能够将误切换至其他记录再现层的概率。
另外，在上述实施方式的光记录介质10中，例示了将第一覆盖层11和第二覆盖层31的厚度设定为彼此相同的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，如图61所示的光记录介质10那样，也可以使第一覆盖层11和第二覆盖层31的厚度设定为互不相同。具体地讲，将第一覆盖层11的厚度设定为比第二覆盖层31的厚度更厚，第一覆盖层11的厚度和第二覆盖层31的厚度之差等于支撑基板12的厚度。这样，第一、第二伺服层18、20就配置在光记录介质10的厚度方向上的中心。此外，在制作该光记录介质10时，优选分别独立地层叠厚度互不相同的第一覆盖层11和第二覆盖层31。由于通过支撑基板12、第一、第二缓冲层17、37、第一记录再现层组14及第一中间层组16、第二记录再现层组34及第二中间层组36，就已能够确保某一程度的刚性，所以即使不同时层叠这些覆盖层，也足够能抑制光记录介质10的弯曲及变形。
另外，如图62所示的光记录介质10那样，也可以通过改变第一、第二缓冲层17、37的厚度，或改变第一、第二记录再现层组14、34的层间距离或层叠数目，来最终使第一、第二伺服层18、20位于厚度方向上的中心。
进而，在上述实施方式中，示出了作为第一、第二记录再现层组14、34的各记录再现层而预先形成了记录膜的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，如图63所示的光记录介质10那样，也可以将将来可能会成为第一、第二记录再现层组的部位全体，形成为具有规定的厚度的第一、第二整层13、33。若将记录用光束170A、170B照射至该第一、第二整层13、33，则仅在光束光斑的焦点部分发生状态变化而形成记录标记。即，本发明的光记录介质并不仅限定于预先形成了光束所照射的记录再现层的情形，而也包括如下情形：在平面区域随时形成记录标记，并通过该记录标记的集合体来事后形成第一、第二记录再现层组14、34的多层结构的情形。由于光记录介质10采用整层13、33的结构，所以只要是在整层13、33的范围内，就能够自由地设定记录再现层的位置。例如，在第一整层13和第二整层33的厚度及配置互不相同的情况下，也能够使第一、第二记录再现层组14、34各自与第一、第二表面10A、30A的距离相一致。此外，在此例示了当采用第一、第二整层13、33时省略了覆盖层及缓冲层的结构。
另外，作为能够应用本实施方式的光记录再现方法的光记录介质10，示出了如下情形。即，在支撑基板12的一侧形成有第一、第二伺服层18、20这两者，并分别在该支撑基板12的两侧面上形成有第一记录再现层组14和第二记录再现层组34的情形，但本发明并不仅限定于此。例如，如图64所示，也可以在支撑基板12的一侧配置第一伺服层18，而在另一侧配置第二伺服层20。这会使光记录介质10在厚度方向上的对称性进一步提高，所以能够抑制弯曲。
产业上的可利用性
本发明的光记录介质及光记录再现方法，能够应用于具有伺服层和记录再现层的各种光记录介质上。

Claims (96)

1.一种光记录再现方法，对光记录介质中的记录再现层进行信息记录，
所述光记录介质具有：
所述记录再现层，是预先层叠而成或事后形成的，并不具有循轨控制用凹凸，
伺服层，形成有循轨控制用凹凸或沟槽；
所述光记录再现方法的特征在于，
一边利用所述伺服层来进行循轨，一边对所述记录再现层进行信息记录。
2.如权利要求1所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述光记录介质具有多层所述记录再现层，
所述光记录再现方法包括：
伺服层利用步骤，一边利用所述伺服层来进行循轨，一边对所述记录再现层进行信息记录；
已记录区域利用步骤，一边利用所述记录再现层上的已记录信息区域来进行循轨，一边对其他所述记录再现层进行信息记录。
3.如权利要求2所述的光记录再现方法，其特征在于，
在所述已记录区域利用步骤中，对与提供所述已记录区域的所述记录再现层相邻的所述记录再现层进行信息记录。
4.如权利要求2或3所述的光记录再现方法，其特征在于，
在所述伺服层利用步骤中，对与所述伺服层相邻的所述记录再现层进行信息记录。
5.如权利要求2所述的光记录再现方法，其特征在于，
在所述伺服层利用步骤中，持续进行记录动作，直到对所述记录再现层的所有数据区域都结束信息记录为止，
在所述已记录区域利用步骤中，利用在所述伺服层利用步骤中的所述记录再现层上的所述已记录区域，对其他所述记录再现层进行信息记录。
6.如权利要求5所述的光记录再现方法，其特征在于，
在所述伺服层利用步骤中，持续进行记录动作，直到对其他所述记录再现层的所有数据区域都结束信息记录为止，然后，利用其他所述记录再现层上的所述已记录区域，来对下一个所述记录再现层进行信息记录。
7.如权利要求2或3所述的光记录再现方法，其特征在于，
在所述伺服层利用步骤中，照射至所述伺服层上的循轨用光束的波长与照射至所述记录再现层上的记录用光束的波长大致相同，
所述伺服层具有能够利用所述循轨用光束或所述记录用光束来进行信息记录的记录再现膜。
8.如权利要求1或2或3所述的光记录再现方法，其特征在于，
在所述光记录介质中，配置在所述伺服层和最靠近该伺服层的所述记录再现层之间的缓冲层的厚度，与在配置于多层所述记录再现层之间的多层中间层中的某一中间层的厚度大致相同。
9.如权利要求8所述的光记录再现方法，其特征在于，
在所述光记录介质中，多层所述中间层的厚度设定为两种以下。
10.如权利要求1或2或3所述的光记录再现方法，其特征在于，
在所述光记录介质中，所述伺服层配置在比多层所述记录再现层更远离光入射面的位置。
11.如权利要求1或2或3所述的光记录再现方法，其特征在于，
在所述光记录介质中，所述伺服层配置在比多层所述记录再现层更靠近光入射面的位置。
12.如权利要求1所述的光记录再现方法，其特征在于，
一边将第一波长的循轨用光束照射至所述伺服层来进行循轨控制，一边将比所述第一波长短的第二波长的记录再现用光束照射至所述记录再现层来进行信息记录或再现，
使所述记录再现用光束的所述第二波长的光透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时的所述伺服层的反射率，比使所述循轨用光束的所述第一波长的光透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时的所述伺服层的反射率更低。
13.如权利要求12所述的光记录再现方法，其特征在于，
使所述记录再现用光束透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时来自所述伺服层的反射光量，是使所述记录再现用光束照射至所述记录再现层时来自所述记录再现层的反射光量的5倍以下。
14.如权利要求13所述的光记录再现方法，其特征在于，
使所述记录再现用光束透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时来自所述伺服层的反射光量，比使所述记录再现用光束照射至所述记录再现层时来自所述记录再现层的反射光量更少
15.如权利要求12或13或14所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述记录再现层和所述伺服层的层间距离为10μm～200μm。
16.如权利要求12或13或14所述的光记录再现方法，其特征在于，
使所述循轨用光束透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时的所述伺服层的反射率为40％～95％，假使所述记录再现用光束透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时的所述伺服层的反射率为60％以下。
17.如权利要求12或13或14所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述伺服层具有：
反射膜，以金属作为主成分；
辅助膜，配置成与所述反射膜相邻，而且其折射率与该反射膜的折射率不同。
18.如权利要求17所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述伺服层具有两层以上的所述反射膜和三层以上的所述辅助膜。
19.如权利要求12或13或14所述的光记录再现方法，其特征在于，
在所述伺服层和所述记录再现层之间，具有将色素分散在其中而成的滤光层或与色素结合而成的滤光层，
所述滤光层对于所述循轨用光束的所述第一波长的吸光度低，而对于所述记录再现用光束的所述第二波长的吸光度高。
20.如权利要求12或13或14所述的光记录再现方法，其特征在于，
第一所述记录再现层配置在所述伺服层一侧，
第二所述记录再现层配置在所述伺服层的与第一所述记录再现层相反的一侧，
一边利用所述伺服层来进行循轨控制，一边对第二所述记录再现层进行信息记录。
21.如权利要求20所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述伺服层直接形成在基板的第一所述记录再现层一侧，
第二所述记录再现层形成在所述基板的与所述伺服层相反的一侧。
22.如权利要求21所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述基板由透光性材料构成。
23.如权利要求20所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述第一记录再现层和所述第二记录再现层，预先层叠或事后形成在以所述基板的厚度方向上的中心为基准而对称的位置。
24.如权利要求20所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述基板的厚度为10μm～600μm。
25.如权利要求1所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述光记录介质具有：
配置在第一表面侧的多层第一所述记录再现层；
配置在与所述第一表面相反一侧的第二表面侧且层数与第一所述记录再现层的层数相同的第二所述记录再现层；
同时执行第一记录再现动作和第二记录再现动作，在该第一记录再现动作中，将第一记录再现用光束从所述第一表面照射至第一所述记录再现层来进行信息的记录或再现，在该第二记录再现动作中，将第二记录再现用光束从所述第二表面照射至第二所述记录再现层来进行信息的记录或再现。
26.如权利要求25所述的光记录再现方法，其特征在于，
在所述第一记录再现动作中的第一所述记录再现层的从所述第一表面侧起的层叠顺位，与在所述第二记录再现动作中的第二所述记录再现层的从所述光记录介质的厚度方向上的中心侧起的层叠顺位相同。
27.如权利要求26所述的光记录再现方法，其特征在于，
以与所述第一表面的距离从近到远的顺序对多层第一所述记录再现层进行记录或再现，
以与所述光记录介质的厚度方向上的中心的距离从近到远的顺序对多层第二所述记录再现层进行记录或再现。
28.如权利要求26所述的光记录再现方法，其特征在于，
对从所述光记录介质的厚度方向上的中心起的层叠顺位彼此相同的所述第一及第二记录再现层，同时进行记录或再现。
29.如权利要求25～28中任一项所述的光记录再现方法，其特征在于，
在所述第一记录再现动作及所述第二记录再现动作中，利用彼此共享的所述循轨用光束及所述伺服层来进行循轨控制。
30.如权利要求25～28中任一项所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述伺服层形成在所述光记录介质的基板的至少一侧面上，
所述基板大致透明。
31.如权利要求25～28中任一项所述的光记录再现方法，其特征在于，
在通过所述第一记录再现动作及所述第二记录再现动作来同时对所述第一及第二记录再现层进行信息记录时，利用所述第一或第二记录再现用光束来对所述第一或第二记录再现层的试写区域进行试写，由此设定所述第一及第二记录再现用光束这两者的最佳记录功率。
32.如权利要求31所述的光记录再现方法，其特征在于，
在同时对从所述光记录介质的厚度方向上的中心起的层叠顺位为偶数的所述第一及第二记录再现层进行记录时，利用所述第一记录再现用光束来对所述第一记录再现层的试写区域进行试写，由此设定所述第一及第二记录再现用光束这两者的最佳记录功率，
在同时对从所述光记录介质的厚度方向上的中心起的层叠顺位为奇数的所述第一及第二记录再现层进行记录时，利用所述第二记录再现用光束来对所述第二记录再现层的试写区域进行试写，由此设定所述第一及第二记录再现用光束这两者的最佳记录功率。
33.如权利要求25～28中任一项所述的光记录再现方法，其特征在于，
在用于对从所述光记录介质的厚度方向上的中心侧起第n位的第一所述记录再现层进行记录的所述第一记录再现用光束的最佳记录功率还未决定的情况下，在设定该最佳记录功率时，执行如下处理：
若用于对从所述光记录介质的厚度方向上的中心侧起第n位的第二所述记录再现层进行记录的所述第二记录再现用光束的最佳记录功率已被决定，则将所述第二记录再现用光束的最佳记录功率决定为所述第一记录再现用光束的最佳记录功率，另一方面，
若用于对所述第n位的第二所述记录再现层进行记录的所述第二记录再现用光束的最佳记录功率还未被决定，则利用所述第一记录再现用光束来对所述第n位的第一所述记录再现层的试写区域进行试写，由此设定所述第一记录再现用光束的最佳记录功率；
在用于对从所述光记录介质的厚度方向上的中心侧起第m位的第二所述记录再现层进行记录的所述第二记录再现用光束的最佳记录功率还未决定的情况下，在设定该最佳记录功率时，执行如下处理：
若用于对从所述光记录介质的厚度方向上的中心侧起第m位的第一所述记录再现层进行记录的所述第一记录再现用光束的最佳记录功率已被决定，则将所述第一记录再现用光束的最佳记录功率决定为所述第二记录再现用光束的最佳记录功率，另一方面，
若用于对所述第m位的第一所述记录再现层进行记录的所述第一记录再现用光束的最佳记录功率还未被决定，则利用所述第二记录再现用光束来对所述第m位的第二所述记录再现层的试写区域进行试写，由此设定所述第二记录再现用光束的最佳记录功率。
34.如权利要求25～28中任一项所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述光记录介质的第一所述记录再现层和第二所述记录再现层，分别配置在以所述光记录介质的厚度方向上的中心为基准的对称位置上。
35.如权利要求1所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述光记录介质具有基板，
所述伺服层形成在所述基板的一个面上，
第一所述记录再现层配置在所述基板的所述伺服层一侧，
第二所述记录再现层配置在所述基板的与所述伺服层相反的一侧，
一边利用所述伺服层来进行循轨控制，一边对所述第一记录再现层及所述第二记录再现层进行信息记录。
36.如权利要求35所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述基板由透光性材料构成。
37.如权利要求35或36所述的光记录再现方法，其特征在于，
在预先层叠而成的第一所述记录再现层和所述伺服层之间层叠有第一缓冲层，并在预先层叠而成的第二所述记录再现层和所述基板之间层叠有第二缓冲层，
所述第一缓冲层的厚度和所述第二缓冲层的厚度大致相同。
38.如权利要求37所述的光记录再现方法，其特征在于，
对于照射至所述伺服层上的循轨用光束的波长，所述基板的折射率比所述第二缓冲层的折射率更高。
39.如权利要求37或38所述的光记录再现方法，其特征在于，
对于照射至所述伺服层上的循轨用光束的波长，所述基板的折射率比所述第一缓冲层的折射率更高。
40.如权利要求36或37所述的光记录再现方法，其特征在于，
第一所述记录再现层和第二所述记录再现层，分别预先层叠或事后形成在以所述基板的厚度方向上的中心为基准的对称位置。
41.如权利要求36或37所述的光记录再现方法，其特征在于，
第一所述记录再现层及第二所述记录再现层分别为多层。
42.如权利要求36或37所述的光记录再现方法，其特征在于，
在最远离所述基板的第一所述记录再现层的外侧层叠第一覆盖层，并在最远离所述基板的第二所述记录再现层的外侧层叠第二覆盖层，
所述第一覆盖层的厚度比所述第二覆盖层的厚度更厚，而且所述第一覆盖层的厚度和所述第二覆盖层的厚度之差等于所述基板的厚度。
43.如权利要求36或37所述的光记录再现方法，其特征在于，
照射至所述伺服层的循轨用光束的波长，被设定为比照射至所述第一或第二记录再现层的记录再现用光束的波长更长，
照射了所述循轨用光束时的所述伺服层的反射率，比假设将所述记录再现用光束照射至所述伺服层时的反射率更高。
44.如权利要求36或37所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述基板的厚度为10μm～600μm。
45.如权利要求1所述的光记录再现方法，其特征在于，包括：
第一记录动作，一边将循轨用光束照射至所述伺服层来进行循轨控制，一边将第一记录再现用光束照射至第一所述记录再现层来进行信息记录；
第二记录动作，一边利用与所述第一记录动作共享的所述循轨用光束及所述伺服层来进行循轨控制，一边将第二记录再现用光束照射至第二所述记录再现层来进行信息记录。
46.如权利要求45所述的光记录再现方法，其特征在于，
使第一记录动作中的所述第一记录再现用光束从所述光记录介质的第一表面入射，
使所述第二记录动作中的所述第二记录再现用光束从所述光记录介质的与所述第一表面相反的一侧的第二表面入射。
47.如权利要求45或46所述的光记录再现方法，其特征在于，
通过同时执行所述第一记录动作和所述第二记录动作，来同时对所述第一及第二记录再现层进行信息记录。
48.如权利要求45或46所述的光记录再现方法，其特征在于，
在所述第一记录动作中，对以所述光记录介质的厚度方向上的中心为基准而配置在一侧的第一所述记录再现层进行记录，
在所述第二记录动作中，对以所述光记录介质的厚度方向上的中心为基准而配置在另一侧的第二所述记录再现层进行记录。
49.如权利要求48所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述光记录介质的第一所述记录再现层和第二所述记录再现层，分别配置在以所述光记录介质的厚度方向上的中心为基准的对称位置。
50.如权利要求45或46所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述光记录介质的所述伺服层对于所述循轨用光束分透过率被设定为10％以下。
51.如权利要求1所述的光记录再现方法，其特征在于，
第一所述记录再现层配置在所述伺服层的第一表面一侧，
第二所述记录再现层配置在所述伺服层的第二表面一侧，
所述光记录再现方法还包括：
第一记录动作，一边将循轨用光束照射至所述伺服层来进行循轨控制，一边将第一记录再现用光束从所述第一表面照射至第一所述记录再现层，由此沿着从所述第一表面侧观察时的第一旋转方向进行信息记录，
第二记录动作，一边利用与所述第一记录动作共享的所述伺服层来进行循轨控制，一边将第二记录再现用光束从所述第二表面照射至第二所述记录再现层，由此沿着从所述第二表面侧观察时的与所述第一旋转方向相反的第二旋转方向进行信息记录，而且该第二记录动作与所述第一记录动作同时执行。
52.如权利要求51所述的光记录再现方法，其特征在于，
在使所述第一记录再现用光束及所述第二记录再现用光束保持彼此大致同轴的状态下，同时执行所述第一记录动作及所述第二记录动作。
53.如权利要求51或52所述的光记录再现方法，其特征在于，
将彼此共享的所述循轨用光束照射至所述伺服层，来同时执行所述第一记录动作及所述第二记录动作。
54.如权利要求51或52所述的光记录再现方法，其特征在于，
通过用于控制所述第一及所述第二记录再现光束的数字信号处理装置，将要记录于所述光记录介质上的数据分割为所述第一记录动作侧的第一数据和所述第二记录动作侧的第二数据。
55.如权利要求51或52所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述光记录介质具有如下两层所述伺服层：
第一伺服层，在第一螺旋方向上具有所述循轨控制用凹凸或沟槽，
第二伺服层，在与所述第一螺旋方向相反的第二螺旋方向上具有所述循轨控制用凹凸或沟槽；
所述光记录再现方法包括：
一边利用彼此共享的所述第一伺服层来从所述光记录介质的内周侧朝向外周侧进行循轨控制，一边进行所述第一记录动作及所述第二记录动作的工序，
一边利用彼此共享的所述第二伺服层来从所述光记录介质的外周侧朝向内周侧进行循轨控制，一边进行所述第一记录动作及所述第二记录动作的工序。
56.如权利要求51或52所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述循轨用光束的波长与所述第一或第二记录再现用光束的波长互不相同。
57.如权利要求51或52所述的光记录再现方法，其特征在于，
所述第一或第二记录再现用光束的波长在380～450nm的范围内。
58.一种光记录再现装置，用于对光记录介质的记录再现层进行信息记录，
所述光记录介质具有：
记录再现层，是预先层叠而成或事后形成的，并不具有循轨控制用凹凸，
伺服层，形成有循轨控制用凹凸或沟槽；
所述光记录再现装置的特征在于，
一边利用所述伺服层来进行循轨，一边对所述记录再现层进行信息记录。
59.如权利要求58所述的光记录再现装置，其特征在于，
所述光记录介质在第一表面侧具有多层第一所述记录再现层，在与所述第一表面相反的第二表面侧具有层数与第一所述记录再现层的层数相同的第二所述记录再现层，
所述光记录再现装置具有：
第一记录再现用光学系统，配置在所述光记录介质的所述第一表面一侧，用于将第一记录再现用光束从所述第一表面照射至第一所述记录再现层来进行信息的记录或再现，
第二记录再现光学系统，配置在所述光记录介质的所述第二表面一侧，用于将第二记录再现用光束从所述第二表面照射至第二所述记录再现层来进行信息的记录或再现。
60.如权利要求59所述的光记录再现装置，其特征在于，
所述第一记录再现光学系统及所述第二记录再现光学系统，分别同时对从所述光记录介质的厚度方向上的中心起的层叠顺位相同的所述第一及第二记录再现层进行记录或再现。
61.如权利要求59所述的光记录再现装置，其特征在于，
通过所述第一记录再现光学系统进行记录的所述第一记录再现层的从所述第一表面侧起的层叠顺位，与通过所述第二记录再现光学系统进行记录的所述第二记录再现层的从所述光记录介质的厚度方向上的中心侧起的层叠顺位相同。
62.如权利要求59或60或61所述的光记录再现装置，其特征在于，
还具有输出控制单元，在通过所述第一记录再现光学系统及所述第二记录再现光学系统来同时对所述第一及第二记录再现层进行信息记录时，该输出控制单元利用所述第一或第二记录再现用光束对所述第一或第二记录再现层中的一方的试写区域进行试写，由此设定所述第一及第二记录再现用光束这两者的最佳记录功率。
63.如权利要求59或60或61所述的光记录再现装置，其特征在于，
还具有输出控制单元，该输出控制单元用于决定所述第一及第二记录再现用光束的最佳记录功率，并将所述最佳记录功率蓄积在存储器中；
在用于对从所述光记录介质的厚度方向上的中心侧起第n位的所述第一记录再现层进行记录的所述第一记录再现用光束的最佳记录功率还未决定的情况下，在设定该最佳记录功率时，所述输出控制单元参照所述存储器执行如下处理：
若已蓄积有用于对从所述光记录介质的厚度方向上的中心侧起第n位的所述第二记录再现层进行记录的所述第二记录再现用光束的最佳记录功率，则将所述第二记录再现用光束的最佳记录功率决定为所述第一记录再现用光束的最佳记录功率，另一方面，
若未蓄积有用于对所述第n位的所述第二记录再现层进行记录的所述第二记录再现用光束的最佳记录功率，则利用所述第一记录再现用光束来对所述第n位的所述第一记录再现层的试写区域进行试写，由此设定所述第一记录再现用光束的最佳记录功率，并将该最佳记录功率蓄积在所述存储器中；
在用于对从所述光记录介质的厚度方向上的中心侧起第m位的所述第二记录再现层进行记录的所述第二记录再现用光束的最佳记录功率还未决定的情况下，在设定该最佳记录功率时，所述输出控制单元参照所述存储器执行如下处理：
若蓄积有用于对从所述光记录介质的厚度方向上的中心侧起第m位的所述第一记录再现层进行记录的所述第一记录再现用光束的最佳记录功率，则将所述第一记录再现用光束的最佳记录功率设定为所述第二记录再现用光束的最佳记录功率，另一方面，
若未蓄积有用于对所述第m位的所述第一记录再现层进行记录的所述第一记录再现用光束的最佳记录功率，则利用所述第二记录再现用光束来对所述第m位的所述第二记录再现层的试写区域进行试写，由此决定所述第二记录再现用光束的最佳记录功率，并将该最佳记录功率蓄积在所述存储器中。
64.如权利要求58所述的光记录再现装置，其特征在于，
所述光记录介质具有基板，所述记录再现层在所述基板的与所述伺服层侧相同的一侧配置有多层，
所述记录再现装置还具有：
循轨用光学系统，用于将循轨用光束照射至所述伺服层，
第一记录再现用光学系统，在通过所述循轨用光学系统来进行循轨控制时，将第一记录再现用光束照射至第一所述记录再现层来进行信息记录，
第二记录再现用光学系统，在通过所述循轨用光学系统进行循轨控制时，将第二记录再现用光束照射至第二所述记录再现层来进行信息记录。
65.如权利要求64所述的光记录再现装置，其特征在于，
所述循轨用光学系统及所述第一记录再现用光学系统，配置在所述光记录介质的第一表面一侧，
所述第二记录再现用光学系统，配置在与所述光记录介质的所述第一表面相反的一侧的第二表面侧。
66.如权利要求64或65所述的光记录再现装置，其特征在于，
还具有：
第一直动机构，用于使所述第一记录再现用光学系统及所述循轨用光学系统一起在循轨方向上移动，
第二直动机构，用于使所述第二记录再现用光学系统在循轨方向上移动；
在控制所述第二直动机构时，利用所述循轨用光学系统的循轨信号。
67.如权利要求58所述的光记录再现装置，其特征在于，
所述光记录介质在所述伺服层的第一表面一侧具有多层第一所述记录再现层，并在所述伺服层的第二表面一侧具有多层第二所述记录再现层，
所述记录再现装置还具有：
循轨用光学系统，用于将循轨用光束照射至所述伺服层，
第一记录再现用光学系统，在通过所述循轨用光学系统来进行循轨控制时，将第一记录再现用光束从所述第一表面照射至所述第一记录再现层，由此沿着从所述第一表面侧观察时的第一旋转方向进行信息记录，
第二记录再现用光学系统，在通过所述循轨用光学系统来进行循轨控制时，将第二记录再现用光束从所述第二表面照射至所述第二记录再现层，由此沿着从所述第二表面侧观察时的与所述第一旋转方向相反的第二旋转方向进行信息记录，而且该第二记录再现用光学系统与所述第一记录再现光学系统同时进行记录。
68.如权利要求68所述的光记录再现装置，其特征在于，
具有：
第一直动机构，用于使所述第一记录再现用光学系统及所述循轨用光学系统一起在循轨方向上移动，
第二直动机构，用于使所述第二记录再现用光学系统在循轨方向上移动；
在控制所述第二直动机构时，利用所述循轨用光学系统的循轨信号。
69.如权利要求67或68所述的光记录再现装置，其特征在于，
还具有数字信号处理装置，该数字信号处理装置将要记录于所述光记录介质上的数据分割为：
通过所述第一记录再现用光学系统来对所述第一记录再现层进行记录的第一数据，
通过所述第二记录再现用光学系统来的来对所述第二记录再现层进行记录的第二数据。
70.一种光记录介质，其特征在于，
具有：
伺服层，具有循轨控制用凹凸或沟槽，
记录再现层，是预先层叠而成或事后形成的，并不具有循轨控制用凹凸；
对所述光记录介质的信息的记录或再现，是一边将循轨用光束照射至所述伺服层来进行循轨控制，一边将记录再现用光束照射至所述记录再现层来进行的。
71.如权利要求70所述的光记录介质，其特征在于，
所述光记录介质是，一边将第一波长的循轨用光束照射至所述伺服层上来进行循轨控制，一边将波长比所述第一波长短的第二波长的记录再现用光束照射至所述记录再现层上来进行信息的记录或再现的光记录介质，
使所述记录再现用光束的所述第二波长的光透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时的所述伺服层的反射率，比使所述循轨用光束的所述第一波长的光透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时的所述伺服层的反射率更低。
72.如权利要求71所述的光记录介质，其特征在于，
使所述记录再现用光束透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时来自所述伺服层的反射光量，是使所述记录再现用光束照射至所述记录再现层时来自所述记录再现层的反射光量的5倍以下。
73.如权利要求71或72所述的光记录介质，其特征在于，
使所述记录再现用光束透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时来自所述伺服层的反射光量，比使所述记录再现用光束照射至所述记录再现层时来自所述记录再现层的反射光量更少。
74.如权利要求71或72所述的光记录介质，其特征在于，
所述记录再现层和所述伺服层的层间距离为10μm～200μm。
75.如权利要求71或72所述的光记录介质，其特征在于，
使所述循轨用光束透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时的所述伺服层的反射率为40％～95％，假使所述记录再现用光束透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时的所述伺服层的反射率为60％以下。
76.如权利要求71或72所述的光记录介质，其特征在于，
所述伺服层具有：
反射膜，以金属作为主成分；
辅助膜，配置成与所述反射膜相邻，而且其折射率与该反射膜的折射率不同。
77.如权利要求76所述的光记录介质，其特征在于，
所述伺服层具有两层以上的所述反射膜和三层以上的所述辅助膜。
78.如权利要求71或72所述的光记录介质，其特征在于，
在所述伺服层和所述记录再现层之间，具有将色素分散在其中而成的滤光层或与色素结合而成的滤光层，
所述滤光层对于所述循轨用光束的所述第一波长的吸光度低，而对于所述记录再现用光束的所述第二波长的吸光度高。
79.如权利要求71或72所述的光记录介质，其特征在于，
在将所述记录再现层作为第一记录再现层的情况下，
所述光记录介质还具有第二记录再现层，该第二记录再现层预先层叠或事后形成在所述所述伺服层上的与所述第一记录再现层相反的一侧，而且第二记录再现层不具有循轨控制用凹凸，
在对所述第二记录再现层进行信息记录时，利用所述伺服层来进行循轨控制。
80.如权利要求79所述的光记录介质，其特征在于，
所述伺服层直接形成在基板的所述第一记录再现层一侧，
所述第二记录再现层形成在所述基板的与所述伺服层相反的一侧。
81.如权利要求80所述的光记录介质，其特征在于，
所述基板由透光性材料构成。
82.如权利要求80或81所述的光记录介质，其特征在于，
所述第一记录再现层和所述第二记录再现层，预先层叠或事后形成在以所述基板的厚度方向上的中心为基准而对称的位置。
83.如权利要求80或81所述的光记录介质，其特征在于，
所述基板的厚度为10μm～600μm。
84.如权利要求70所述的光记录介质，其特征在于，
所述光记录介质还具有基板，
所述伺服层形成在所述基板的一个面上，
第一所述记录再现层形成在所述基板的所述伺服层一侧，
第二所述记录再现层配置在所述基板的与所述伺服层相反的一侧，
在对第一所述记录再现层及第二所述记录再现层进行信息记录时，利用所述伺服层来进行循轨控制。
85.如权利要求84所述的光记录介质，其特征在于，
所述基板由透光性材料构成。
86.如权利要求84或85所述的光记录介质，其特征在于，
在预先层叠而成的第一所述记录再现层和所述伺服层之间层叠有第一缓冲层，并在预先层叠而成的第二所述记录再现层和所述基板之间层叠有第二缓冲层，
所述第一缓冲层的厚度和所述第二缓冲层的厚度大致相同。
87.如权利要求86所述的光记录介质，其特征在于，
对于照射至所述伺服层上的循轨用光束的波长，所述基板的折射率比所述第二缓冲层的折射率更高。
88.如权利要求86所述的光记录介质，其特征在于，
对于照射至所述伺服层上的循轨用光束的波长，所述基板的折射率比所述第一缓冲层的折射率更高。
89.如权利要求84或85或86所述的光记录介质，其特征在于，
第一所述记录再现层和第二所述记录再现层，预先层叠或事后形成在以所述基板的厚度方向上的中心为基准而对称的位置。
90.如权利要求84或85或86所述的光记录介质，其特征在于，
第一所述记录再现层及第二所述记录再现层分别为多层。
91.如权利要求84或85或86所述的光记录介质，其特征在于，
在最远离所述基板的第一所述记录再现层的外侧层叠有第一覆盖层，并在最远离所述基板的第二所述记录再现层的外侧层叠有第二覆盖层，
所述第一覆盖层的厚度比所述第二覆盖层的厚度更厚，而且所述第一覆盖层的厚度和所述第二覆盖层的厚度之差等于所述基板的厚度。
92.如权利要求84或85或86所述的光记录介质，其特征在于，
照射至所述伺服层上的循轨用光束的波长，被设定为比照射至所述第一或第二记录再现层上的记录再现用光束的波长更长，
照射了所述循轨用光束时的所述伺服层的反射率，比假使所述记录再现用光束照射至所述伺服层时的反射率更大。
93.如权利要求84或85或86所述的光记录介质，其特征在于，
所述基板的厚度为10μm～600μm。
94.如权利要求70所述的光记录介质，其特征在于，
第一所述伺服层，在第一螺旋方向上具有所述循轨控制用凹凸或沟槽，
第二所述伺服层，在与所述第一螺旋方向相反的第二螺旋方向上具有所述循轨控制用凹凸或沟槽，
多层第一所述记录再现层，配置在所述第一及第二的伺服层的第一表面一侧，
多层第二所述记录再现层，配置在所述第一及第二的伺服层的第二表面一侧。
95.一种光记录介质的制造方法，其特征在于，包括：
在由透光性材料构成的基板的一个面上，形成具有循轨控制用凹凸或沟槽的伺服层的步骤；
同时层叠第一缓冲层和第二缓冲层的步骤，所述第一缓冲层配置于所述基板的所述伺服层一侧，所述第二缓冲层配置于所述基板的与所述伺服层相反的一侧；
同时层叠第一记录再现层和第二记录再现层的步骤，所述第一记录再现层配置于所述第一缓冲层一侧，且是不具有循轨控制用凹凸的平面结构，所述第二记录再现层配置于所述第二缓冲层一侧，且是具有循轨控制用凹凸的平面结构。
96.如权利要求95所述的光记录介质的制造方法，其特征在于，
包括分别独立地层叠第一覆盖层和第二覆盖层的步骤，所述第一覆盖层配置于所述第一记录再现层一侧，所述第二覆盖层配置于所述第二记录再现层一侧。
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