CN102621615A - 偏振板的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的在于提供一种没有印痕、异物、或损伤导致的外观缺陷,能够提高偏振片和环烯烃系树脂薄膜的粘接力的偏振板的制造方法。本发明的偏振板的制造方法包括:对环烯烃系树脂薄膜的设置有偏振片的面,以输出强度0.9~2.5kW实施电晕放电处理的工序;对实施了电晕放电处理的环烯烃系树脂薄膜进行水洗的工序;以及;经由胶粘剂粘贴偏振片和环烯烃系树脂薄膜的工序。

Description

偏振板的制造方法
技术领域
本发明涉及偏振板的制造方法。另外,本发明还涉及利用该制造方法获得的偏振板。该偏振板用其单独或作为将其层叠而成的光学薄膜,形成液晶显示装置(LCD)、有机EL显示装置、CRT、PDP等图像显示装置。
背景技术
液晶显示装置为使液晶因开关导致的偏振状态可视化的装置,根据其显示原理,使用在偏振片的两面利用胶粘剂层粘贴有透明保护薄膜的偏振板。作为偏振片,例如,一般使用使聚乙烯醇上吸附碘且拉伸的构造的碘系偏振片。作为透明保护薄膜,一般使用三乙酰纤维素系薄膜、环烯烃系树脂薄膜等。
但是,现有的偏振板具有在高温高湿环境中长时间曝晒时,偏振片和透明保护薄膜之间容易剥离的问题。
作为解决上述问题的方法,已提出以下的技术。
在专利文献1中,提案有为了提高与偏振片的粘接性,对热塑性饱和降冰片烯树脂薄膜的表面进行电晕放电处理的技术。
在专利文献2及3中,提案有为了提高密接性而对偏振薄膜及/或保护薄膜的粘接表面实施等离子处理、电晕处理、紫外线照射处理等表面处理的技术。
在专利文献4中,提案有为了提高偏振薄膜和环烯烃系树脂薄膜的粘接性,对环烯烃系树脂薄膜的粘贴有偏振薄膜侧的面,以800W以下的输出强度实施电晕放电处理的技术。
在专利文献5中,提案有为了使粘接强度稳定,在对TAC薄膜等难粘接性薄膜进行等离子处理之后,用水等清洗而除去表面产生的难粘接性的渗出物的技术。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:(日本)特开2000-241627号公报
专利文献2:(日本)特开2005-70140号公报
专利文献3:(日本)特开2005-181817号公报
专利文献4:(日本)特开2007-279621号公报
专利文献5:(日本)特开2010-150373号公报
发明内容
发明要解决的技术问题
本发明的目的在于提供一种没有印痕、异物、或损伤导致的外观缺陷,能够提高偏振片和环烯烃系树脂薄膜的粘接力的偏振板的制造方法,。
另外,本发明的目的在于提供一种通过所述制造方法获得的偏振板。另外,本发明的目的在于提供一种将该偏振板层叠而成的光学薄膜,以及提供一种使用该偏振板、光学薄膜的液晶显示装置等图像显示装置。
本发明研究人员为解决所述课题而反复进行锐意研究的结果发现,通过以下所示的偏振板的制造方法能够达到所述目的,直至完成了本发明。
即,本发明涉及一种偏振板的制造方法,其是在偏振片的至少一面借助胶粘剂层设置有环烯烃系树脂薄膜的偏振板的制造方法,包括:以输出强度0.9~2.5kW对环烯烃系树脂薄膜的设置有偏振片的面实施电晕放电处理的工序;对实施了电晕放电处理的环烯烃系树脂薄膜进行水洗的工序;以及;借助胶粘剂贴合偏振片和环烯烃系树脂薄膜的工序。
对环烯烃系树脂薄膜的表面实施电晕放电处理时,产生起因于环烯烃系树脂的微粉末状物质(羧酸衍生物),在以工厂标准连续长期实施期间,该微粉末状物质蓄积而将工厂内污染。另外,存在该微粉末状物质为原因而损害偏振板的性能或外观的问题。例如,微粉末状物质附着在输送辊上时,在偏振片或环烯烃系树脂薄膜上附带印痕,或微粉末状物质残留于环烯烃系树脂薄膜的表面时,在偏振板上产生由异物造成的制品缺陷。
本发明研究人员发现,通过用水等进行清洗处理除去该微粉末状物质,可获得没有印痕或异物导致的外观缺陷,且偏振片和环烯烃系树脂薄膜的粘接性优异的偏振板。
电晕放电的输出强度需要为0.9~2.5kW。在输出强度不足0.9kW时,能够抑制微粉末状物质的产生,但在薄膜的宽度方向不能均匀地进行电晕放电处理,因此,产生改性斑而不能提高粘接力。另一方面,在输出强度超过2.5kW时,在薄膜表面容易产生电晕损伤,偏振板容易产生制品缺陷。
另外,本发明涉及利用所述制造方法得到的偏振板。
另外,本发明涉及至少层叠有一张所述偏振板的光学薄膜。
另外,本发明涉及包含所述偏振板或所述光学薄膜的图像显示装置。
发明效果
在本发明中,在用胶粘剂粘贴偏振片和环烯烃系树脂薄膜之前,对环烯烃系树脂薄膜实施电晕放电处理。通过电晕放电处理,向薄膜的表面导入亲水性官能基(-COOH或-OH)、自由基活性种,或薄膜的表面被粗面化。另外,通过使用水等进行清洗处理而除去因电晕放电处理产生的微粉末状物质。由此,偏振片和环烯烃系树脂薄膜的粘接力提高,能够获得即使在高温高湿环境中长时间曝晒,偏振片和环烯烃系树脂薄膜之间也难以剥离的偏振板。另外,通过将电晕放电处理中的输出强度调整为0.9~2.5kW,使得在薄膜表面不会发生电晕损伤,能够均匀地进行表面改性。
具体实施方式
本发明的偏振板的制造方法中使用的偏振片可以使用各种偏振片。作为偏振片,例如可以举出使聚乙烯醇系薄膜、部分甲缩醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯·醋酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等亲水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料的二色性物质并单轴拉伸的薄膜,聚乙烯醇的脱水处理物或聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯系取向薄膜等。在这些偏振片中,优选由聚乙烯醇系薄膜和碘等二色性物质构成的偏振片。
聚乙烯醇系偏振片使用用二色性物质(有代表性的为碘、二色性染料)将聚乙烯醇树脂薄膜染色并单轴拉伸的薄膜。构成聚乙烯醇系树脂薄膜的聚乙烯醇系树脂的聚合度优选为100~10000,更优选为1000~5000。若聚合度过低,则进行规定的拉伸时容易发生拉伸中断,另外,若聚合度过高,则在拉伸时需要非常大的张力,恐怕不能进行机械性拉伸。
构成偏振片的聚乙烯醇系树脂薄膜可用任意适当的方法(例如,将在水或有机溶剂中溶解有树脂的溶液进行流延制膜的流延法、铸造法、挤出法)成型。对于偏振片的厚度,可根据使用偏振板的LCD的目的、用途适当设定,但通常为10~300μm左右。优选为20~100μm。
作为偏振片的制造方法,可根据目的、使用材料及条件等采用任意适当的方法。例如,通常可采用向包含溶胀、染色、交联、拉伸、水洗及干燥工序的一系列制造工序中供给上述聚乙烯醇系树脂薄膜的方式。在除了干燥工序之外的各处理工序中,通过将聚乙烯醇系树脂薄膜浸渍在含有各个工序中使用的溶液的液体中而进行处理。溶胀、染色、交联、拉伸、水洗及干燥的各处理的顺序、次数及实施的有无,可根据目的、使用材料及条件等适当设定。例如,也可以在一个工序中同时进行几个处理,也可以同时进行溶胀处理、染色处理及交联处理。另外,例如,可适当地采用在拉伸处理的前后进行交联处理的方法。另外,例如,水洗处理也可以在全部的处理之后进行,也可以在特定的处理之后进行。
用于本发明的偏振板的制造方法的环烯烃系树脂薄膜没有特别的限制,可以使用公知的薄膜。环烯烃系树脂为将环烯烃作为聚合单位聚合的树脂的总称,例如,可以举出(日本)特开平1-240517号公报、(日本)特开平3-14882号公报、(日本)特开平3-122137号公报等中记载的树脂。
作为具体例,可以举出,环烯烃的开环(共)聚合物、环烯烃的加聚物、环烯烃和乙烯、丙烯等α-烯烃的共聚物(有代表性的为无规共聚物)、将它们用不饱和羟酸或其衍生物改性后的接枝聚合物、及它们的氢化物等。作为环烯烃的具体例,可举出降冰片烯系单体。
作为环烯烃系树脂,可以是市售的各种制品。作为具体例,可以举出,日本Zeon株式会社制的商品名“ゼォネックス(ZEONEX)”、“ゼォノァ(ZEONOR)”、JSR株式会社制的商品名“ァ一トン(ARTON)”、TICONA社制的商品名“ト一パス(TOPAS)”、三井化学株式会社制的商品名“APEL”等。
上述环烯烃系树脂薄膜作为透明保护薄膜而设置于偏振片的单面或两面,但在将其设置于偏振片的单面时,在另一面可以设置公知的透明保护薄膜。
作为构成透明保护薄膜的材料,例如可以使用透明性、机械强度、热稳定性、防水性、各向同性等优异的热塑性树脂。作为这种热塑性树脂的具体例,可以举出,三乙酰纤维素等纤维素树脂、聚酯树脂、聚醚砜树脂、聚砜树脂、聚碳酸酯树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚烯烃树脂、(甲基)丙烯酸树脂、聚芳酯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯醇树脂及它们的混合物。另外,也可以使用(甲基)丙烯酰系、氨基甲酸酯系、丙烯酰氨基甲酸酯系、环氧系、硅酮系等热固性树脂或紫外线固化型树脂。
环烯烃系树脂薄膜及透明保护薄膜的厚度可适当决定,但从强度、操作性等作业性、薄层性等方面考虑,一般为1~500μm左右,优选为1~300μm,更优选为5~200μm,特别优选为5~150μm。
作为透明保护薄膜,可以使用具有正面相位差40nm以上及/或厚度方向相位差80nm以上的相位差的相位差板。正面相位差通常控制在40~200nm的范围,厚度方向相位差通常控制在80~300nm的范围。在使用相位差板作为透明保护薄膜的情况下,该相位差板作为透明保护薄膜发挥作用,因此,能够实现薄型化。
作为相位差板,可以举出,将高分子原材料进行单轴或双轴拉伸处理而成的双折射性薄膜、液晶聚合物的取向薄膜、在薄膜上支承有液晶聚合物的取向层的薄膜等。相位差板的厚度也没有特别的限制,但一般为20~150μm左右。
另外,具有上述相位差的薄膜也可以在不具有相位差的透明保护薄膜上另外粘贴而赋予上述功能。
也可以对未粘接环烯烃系树脂薄膜及透明保护薄膜的偏振片的面实施硬涂层处理、防反射处理、防粘结处理、以扩散或防眩为目的的处理。
另外,也可以在环烯烃系树脂薄膜或透明保护薄膜上另外层叠硬涂层、防反射层、防粘结层、扩散层及防眩层等。
用于偏振片与环烯烃系树脂薄膜的粘贴的胶粘剂,只要是光学性透明,就没有特别限制,可以使用水系、溶剂系、热熔系、自由基固化型的各种形态的胶粘剂,但优选水系胶粘剂。
作为水系胶粘剂,可例示聚乙烯醇系、明胶系、乙烯系乳胶系、聚氨酯系、异氰酸酯系、聚酯系、环氧系等。在上述胶粘剂中可以含有各种交联剂。另外,在上述胶粘剂中也可以配合催化剂、偶联剂、各种粘接赋予剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、耐热稳定剂、耐水解稳定剂等稳定剂等。胶粘剂的固体成分一般使用0.1~20重量%。
在上述胶粘剂中优选聚乙烯醇系胶粘剂。聚乙烯醇系胶粘剂含有聚乙烯醇系树脂和交联剂。
聚乙烯醇系树脂可以举出,将聚醋酸乙烯酯皂化得到的聚乙烯醇;其衍生物;进而醋酸乙烯酯和具有共聚合性的单体的共聚合物的皂化物;将聚乙烯醇乙缩醛化、氨基甲酸酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等的改性聚乙烯醇。作为上述单体,可以举出(无水)马来酸、富马酸、巴豆酸、衣康酸、(甲基)丙烯酸等不饱和羧酸及其酯类;乙烯、丙烯等α-烯烃、(甲基)烯丙基磺酸(钠)、磺酸钠(单烷基苹果酸)(日文:スルホン酸ソ一ダ(モノァルキルマレ一ト))、二磺酸钠烷基苹果酸、N-羟甲基丙烯酰胺、丙烯酰胺烷基磺酸碱盐、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基吡咯烷酮衍生物等。这些聚乙烯醇系树脂可以单独使用一种或并用二种以上。
对上述聚乙烯醇系树脂没有特别的限定,但从粘接性方面考虑,平均聚合度为100~3000左右,优选为500~3000,平均皂化度为85~100摩尔%左右,优选为90~100摩尔%。
另外,作为聚乙烯醇系树脂,可以使用具有乙酰乙酰基的聚乙烯醇树脂。具有乙酰乙酰基的聚乙烯醇树脂,优选具有反应性高的官能基的聚乙烯醇系胶粘剂,以提高偏振板的耐久性。
作为交联剂,没有特别限制,可以使用用于聚乙烯醇系胶粘剂的材料。交联剂可以使用至少具有两个与聚乙烯醇系树脂具有反应性的官能基的化合物。例如可以举出,乙二胺、三亚乙基二胺、六亚甲基二胺等亚烷基和具有2个氨基的亚烷基二胺类;甲苯二异氰酸酯、氢化甲苯二异氰酸酯、三羟甲基丙烷甲苯二异氰酸酯加成物、三苯基甲烷三异氰酸酯、亚甲基双(4-苯基甲烷三异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯及它们的酮肟封端物或苯酚封端物等异氰酸酯类;乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、甘油二或三缩水甘油醚、1,6-己二醇二缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、二缩水甘油基苯胺、二缩水甘油基胺等环氧类;甲醛、乙醛、丙醛、丁醛等一元醛类、乙二醛、丙二醛、丁二醛、戊二醛、顺丁烯二醛、邻苯二甲醛等二醛类;羟甲基脲、羟甲基三聚氰胺、烷基化羟甲基脲、烷基化羟甲基化三聚氰胺、乙酰胍胺、苯鸟粪胺和甲醛的缩合物等氨基甲醛树脂;进而钠、钾、镁、钙、铝、铁、镍等二价金属或三价金属的盐及其氧化物。作为交联剂,优选三聚氰胺系交联剂,尤其适合的是羟甲基三聚氰胺。
上述交联剂的配合量相对于聚乙烯醇系树脂100重量份,通常为0.1~35重量份左右,优选为10~25重量份。另一方面,为了进一步提高耐久性,相对于聚乙烯醇系树脂100重量份,在超过30重量份且46重量份以下的范围内配合交联剂。尤其在使用含乙酰乙酰基的聚乙烯醇系树脂的情况下,优选交联剂的使用量超过30重量份。通过在超过30重量份并在46重量份以下的范围内配合交联剂,耐水性得以提高。
在上述胶粘剂中也可以再配合硅烷偶联剂、钛偶联剂等偶联剂、各种粘接赋予剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、耐热稳定剂、耐水解稳定剂等稳定剂等。
另外,在上述胶粘剂中可以含有金属化合物填料。通过金属化合物填料能够控制胶粘剂的流动性,使膜厚稳定化而获得具有良好的外观,面内均匀且没有粘接性不均的偏振板。
金属化合物填料可以使用各种填料。作为金属化合物,例如可以举出,氧化铝、二氧化硅、氧化锆、二氧化钛、硅酸铝、碳酸钙、硅酸镁等金属氧化物;碳酸锌、碳酸钡、磷酸钙等金属盐;硅藻土、滑石、粘土、高岭土等矿物质。另外,这些金属化合物填料可以使用表面改性后的物质。
金属化合物填料的平均粒径通常为1~1000nm左右,优选为1~500nm,进一步优选为10~200nm,更优选为10~100nm。只要金属化合物填料的平均粒径在上述范围内,在胶粘剂层中,就能够使金属化合物大致均匀地分散,确保粘接性,且可获得外观良好、面内均匀的粘接性。
金属化合物填料的配合量,优选相对于固化性成分100重量份,以100重量份以下的比例配合。另外,通过将金属化合物填料的配合比例设定为上述范围,不仅确保偏振片和透明保护薄膜的粘接性,且可获得外观良好、面内均匀的粘接性。金属化合物填料的配合比例优选为1~100重量份,更优选为2~50重量份,进一步优选为5~30重量份。金属化合物填料的配合比例相对于固化性成分100重量份超过100重量份时,胶粘剂中的固化性成分的比例变小,从粘接性方面考虑,不优选。另外,金属化合物填料的配合比例没有特别限制,但为了确保粘接性,且获得外观良好、面内均匀的粘接性,优选设定为上述范围的下限值。
偏振板通过经由胶粘剂粘贴偏振片和环烯烃系树脂薄膜来制造,但本发明的特征在于,在将它们粘贴之前,对环烯烃系树脂薄膜的设置有偏振片的面以输出强度0.9~2.5kW实施电晕放电处理,之后,对实施了电晕放电处理的环烯烃系树脂薄膜进行水洗。
电晕放电处理是通过在电极间配置环烯烃系树脂薄膜,在常压空气中向电极间施加高电压而进行放电来进行的。除了输出强度之外的处理条件没有特别限制,但电极间隔为1~5mm左右,薄膜的移动速度为3~20m/分钟左右。另外,优选输出强度为0.9~2.0kW。
在偏振片的另一面设置有透明保护薄膜的情况下,也可以对透明保护薄膜进行表面改性处理。作为具体的处理,可以举出,电晕放电处理、等离子放电处理、紫外线照射处理、火焰处理、底涂处理、及皂化处理等。
作为水洗处理,例如可以举出,将实施了电晕放电处理的环烯烃系树脂薄膜浸渍于水性清洗液浴中的方法、在环烯烃系树脂薄膜的电晕放电处理面上涂敷或喷撒水性清洗液的方法等。
作为水性清洗液,可以举出纯水、离子交换水、及含有酶系清洗剂的水溶液等。水性清洗液的温度没有特别限制,但优选为5~80℃,更优选为10~50℃。当温度不足5℃时,水洗处理工序后在薄膜表面容易产生结露,当超过80℃时,由于热而在薄膜上产生皱褶,存在操作性恶劣的倾向。水洗处理时间没有特别限制,但设定为3~180秒钟左右,优选为5~120秒钟。当处理时间过短时,难以充分除去薄膜表面的微粉末状物质,当处理时间过长时,制造效率降低,因此不优选。
优选在水洗处理后,使用咬送辊、玻璃棒、气刀等除去残存于薄膜表面的水滴。
之后,使用胶粘剂粘贴上述环烯烃系树脂薄膜和偏振片而制造偏振板。胶粘剂的涂敷可以在环烯烃系树脂薄膜的电晕放电处理面或偏振片的任一个上进行,也可以在双方上进行。在粘贴之后,干燥形成胶粘剂层。在使用水系胶粘剂时,干燥的温度为20~80℃左右,优选为40~80℃,时间为1~10分钟左右,优选为1~5分钟。环烯烃系树脂薄膜与偏振片的粘贴可以通过辊层压机等进行。胶粘剂层的厚度没有特别限制,但通常为30~1000nm左右。
本发明的偏振板在实际使用时可以作为与其它的光学层层叠的光学薄膜来使用。关于其光学层没有特别限定,但例如可以使用1层或2层以上的用于反射板或半透射板、相位差板(包括1/2及1/4等波长板)、视角补偿薄膜等液晶显示装置等的形成的光学层。尤其优选在本发明的偏振板上再层叠反射板或半透射反射板而成的反射型偏振板或半透射型偏振板、在偏振板上再层叠相位差板而成的椭圆偏振板或圆偏振板、在偏振板上再层叠视角补偿薄膜而成的广视角偏振板、或在偏振板上再层叠亮度提高薄膜而成的偏振板。
在液晶显示装置等的制造过程中,也能够以依次分别层叠的方式形成在偏振板上层叠有上述光学层的光学薄膜,但预先层叠制成的光学薄膜的方法具有品质的稳定性及组装作业等优异且使液晶显示装置等的制造工序提高的优点。层叠中可使用粘接层等适当的粘接机构。在粘接上述的偏振板或其它光学薄膜时,它们的光学轴可以根据作为目的的相位差特性等而设定为适当的配置角度。
在前述的偏振板、至少层叠有1层偏振板的光学薄膜中,也可以设置用于与液晶单元等其他构件粘接的粘接层。形成粘接层的胶粘剂没有特别限制,但可以适当地选择使用例如丙烯酸系聚合物、硅酮系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚醚、将氟系及橡胶系等的聚合物为基础聚合物的胶粘剂。尤其优选使用如丙烯酸系胶粘剂那样的光学上的透明性优异、显示适度的润湿性、凝集性和粘接性的粘接特性、耐候性或耐热性等优异的胶粘剂。
粘接层向偏振板、光学薄膜的单面或两面的附设,可以用适当的方式进行。作为其例子,例如可以举出在由甲苯、醋酸乙酯等适当的溶剂的单独物或混合物构成的溶剂中,溶解或分散基础聚合物或其组成物而制备10~40重量%左右的胶粘剂溶液,将其以流延方式或涂敷方式等适当的展开方式直接附设于偏振板上或光学薄膜上的方式、或按上述方式在隔板上形成粘接层并将其向偏振板上或光学薄膜上移接的方式等。
粘接层也可以作为不同的组成或种类等的层的重叠层设置在偏振板或光学薄膜的单面或两面。另外,在设置于两面的情况下,在偏振板或光学薄膜的表背也可以设定不同组成、种类或厚度等的粘接层。粘接层的厚度可以根据使用目的、粘接力等适当决定,一般为1~500μm,优选为5~200μm,特别优选为10~100μm。
对于粘接层的露出面,直到供于实际使用期间,以防止其污染等为目的临时罩上隔板。由此,在通常的操作状态中能够防止与粘接层接触,作为隔板,除了上述厚度条件,可以使用例如将塑料薄膜、橡胶片、纸、布、无纺布、网、发泡片或金属箔、它们的层压体等适宜的薄片体,根据需要用硅酮系或长链烷基系、氟系或硫化钼等适当的剥离剂实施涂层处理后的构件等、以现有为准的适当的构件。
另外,在本发明中,也可以是对形成上述的偏振板的偏振片或透明保护薄膜或光学薄膜等、以及粘接层等各层,通过例如用水杨酸酯系化合物或二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物或氰基丙烯酸酯系化合物、镍络盐系化合物等紫外线吸收剂进行处理的方式等方式具有紫外线吸收能的薄膜等。
本发明的偏振板或光学薄膜可以优选用于液晶显示装置等各种装置的形成等中。液晶显示装置的形成可以现有的显示装置为基准进行。即,液晶显示装置一般通过将液晶单元和偏振板或光学薄膜、及根据需要的照明系统等构成部件适当地组装而装入驱动电路中等来形成,但在本发明中,除了使用本发明的偏振板或光学薄膜这一点之外,没有特别限定,可以现有装置为准。对于液晶单元而言,也可以使用例如TN型或STN型、π型等任意类型的液晶单元。
能够形成在液晶单元的一侧或两侧配置了偏振板或光学薄膜的液晶显示装置、在照明系统中使用了背光灯或反射板的液晶显示装置等适当的液晶显示装置。在该情况下,本发明的偏振板或光学薄膜可以设置于液晶单元的一侧或两侧。在两侧设置有偏振板或光学薄膜的情况下,它们可以相同,也可以不同。另外,在形成液晶显示装置时,可以在适当的位置配置1层或2层以上例如扩散板、防眩层、防反射膜、保护板、棱镜阵列、透镜阵列板、光扩散板、背光灯等适当的部件。
实施例
以下,记载本发明的实施例,但本发明的实施方式并不限于这些实施例。
实施例1
(偏振片)
将平均聚合度2400、皂化度99.9摩尔%、厚度75μm的聚乙烯醇薄膜,在30℃的温水中浸渍60秒钟,使之溶胀。接着,将上述薄膜浸渍于含有碘/碘化钾(重量比=0.5/8)的浓度0.3%的碘溶液中,将其拉伸至3.5倍,同时对薄膜染色。之后,在65℃的硼酸酯溶液中,将上述薄膜拉伸至综合拉伸倍率达到6倍。之后,在40℃的烘箱中干燥3分钟而获得偏振片。
(透明保护薄膜)
使用了厚度73μm的降冰片烯系树脂薄膜即ZEONOR薄膜(Zeon社制、ZB14薄膜)、和实施了皂化处理的厚度80μm的TAC薄膜(富士胶片社制、TD80UL)。
(水系胶粘剂)
相对于含乙酰乙酰基的聚乙烯醇系树脂(平均聚合度:1200、皂化度:98.5摩尔%、乙酰乙酰基改性度:5摩尔%)100重量份,将羟甲基三聚氰胺50重量份在30℃的温度条件下溶解在纯水中,制备固体成分浓度调整为3.7重量%的水溶液。相对于上述水溶液100重量份,添加氧化铝胶态水溶液(平均粒径15nm、固体成分浓度10%、正电荷)18重量份,制备水系胶粘剂。水系胶粘剂的粘度为9.6mPa·s,pH为4~4.5。
(电晕放电处理)
使用电晕照射机(春日电机社制,CT-0212),对上述ZEONOR薄膜的单面实施电晕放电处理。处理条件设定为电极间隔2mm、薄膜移动速度13m/分钟、输出强度0.9kW。
(水洗处理)
将实施了电晕放电处理的ZEONOR薄膜在30℃的水洗浴中浸渍30秒钟,之后,使用咬送辊除去薄膜表面的水滴。
(偏振板的制作)
在ZEONOR薄膜的电晕放电处理面及TAC薄膜的皂化处理面上,以干燥后的厚度为100nm的方式涂敷上述水系胶粘剂。接着,用辊轧机将它们粘贴在上述偏振片的两面。之后,在70℃下干燥10分钟,制作偏振板。
实施例2~5、比较例1~10
如表1记载的那样,除了变更电晕放电中的输出强度,或省略水洗处理之外,用与实施例1同样的方法制作了偏振板。
[评价]
对在实施例及比较例中制作的ZEONOR薄膜及偏振板进行下述评价。将结果示于表1。
(放电状态)
肉眼观察ZEONOR薄膜的电晕放电处理面的状态。将被均匀地放电处理的情况设定为○,将放电处理中存在偏差的情况设定为×。
(粘接性)
在偏振板的端部,向偏振片和ZEONOR薄膜之间插入刀具的刀尖。在该插入部,抓住偏振片和ZEONOR薄膜,将它们分别向反方向拉伸。这时,在偏振片及/或ZEONOR薄膜破断而不能剥离的情况,判断为密合性良好:“○”,在偏振片和ZEONOR薄膜间有一部分剥离的情况,判断为密合性稍微欠缺:“△”,偏振片和ZEONOR薄膜间全部剥离的情况,判断为密合性欠缺:“×”。
(外观评价)
将制作的偏振板切断成1000mm×1000mm而得到试样。将试样放置于荧光灯下,用肉眼测定印痕的个数(个/m2)、异物缺陷的个数(个/m2)、损伤的有无。
【表1】
Figure BDA0000124120450000131

Claims (4)

1.一种偏振板的制造方法,其是在偏振片的至少一面借助胶粘剂层设置有环烯烃系树脂薄膜的偏振板的制造方法,包括:
以输出强度0.9~2.5kW对环烯烃系树脂薄膜的设置有偏振片的面实施电晕放电处理的工序;
对实施了电晕放电处理的环烯烃系树脂薄膜进行水洗的工序;及
借助胶粘剂贴合偏振片和环烯烃系树脂薄膜的工序。
2.一种偏振板,其是通过权利要求1所述的制造方法获得的。
3.一种光学薄膜,其至少层叠有一张权利要求2所述的偏振板。
4.一种图像显示装置,其含有权利要求2所述的偏振板或权利要求3所述的光学薄膜。
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