CN102458855A - 平版印刷版前体 - Google Patents

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Abstract

公开了正性工作的平版印刷版前体，其在具有亲水表面或带有亲水层的载体上包含包括红外吸收剂和含苯并

Description

平版印刷版前体
技术领域
本发明涉及包含含苯并
Figure 893490DEST_PATH_IMAGE001
嗪基团的化合物的平版印刷版前体，还涉及新型碱溶性树脂。
背景技术
平版印刷机使用所谓的印刷母版，如安装在印刷机的滚筒上的印刷版。母版在其表面上带有平版图像并通过将油墨施加到所述图像上然后将油墨从母版转移到接受材料（其通常是纸）上来获得印刷品。在传统的所谓“湿”平版印刷中，将油墨以及润版水溶液（也称作润版液）供应到由亲油（或疏水，即受墨、拒水）区以及亲水（或疏油，即受水，拒墨）区构成的平版图像上。在所谓的无水胶印中，平版图像由受墨和憎墨（拒墨）区构成，并在无水胶印过程中，对母版仅供应油墨。
印刷母版通常通过被称作印刷版前体的成像材料的依图像曝光和加工来获得。除了适合透过薄膜掩模UV接触曝光的公知光敏（所谓的预敏化）版外，热敏印刷版前体在90年代后期也已变得非常流行。这种热材料提供日光稳定性优点并尤其用在所谓的电脑制版法中，其中版前体直接曝光，即不使用薄膜掩模。该材料暴露在热或红外线中且生成的热引发(物理-)化学过程，例如烧蚀、聚合、通过聚合物的交联变不可溶、热引发的增溶或热塑性聚合物胶乳的粒子聚结。
最通用的热版通过热引发的涂层的曝光和未曝光区域之间在碱性显影剂中的溶解度差异来成像。该涂层典型地包含亲油粘合剂，例如酚醛树脂，依图像曝光使其在显影剂中的溶解率降低（负性工作）或提高（正性工作）。在加工过程中，溶解度差异导致除去涂层的非图像（非印刷）区域，由此暴露出亲水载体，同时涂层的图像（印刷）区域仍留在载体上。在例如EP-A 625728、823327、825927、864420、894622和901902中描述了此类版的典型实例。此类热材料的负性工作实施方案常常如EP-625,728中所述需要在曝光和显影之间的预热步骤。
在印刷步骤之前、之中和之后，通常用各种液体，例如油墨和润版液或用于进一步改进图像和非图像区域的平版印刷性质的处理液处理平版印刷版。油墨和润版液可能侵蚀涂层并可能降低平版印刷品质和/或印刷机寿命。同样非常重要的是，该涂层足够耐受各种处理液的施加或换言之，具有高耐化学性。此外，印刷版易发生由在例如自动输送、机械操作、手工操作和/或印刷过程中施加到涂层表面上的机械力造成的损伤。机械损伤可能造成归因于印刷版涂层表面的破坏和/或归因于降低的印刷机寿命的降低的印刷品质。
发明内容
本发明的一个目的是提供具有高化学和/或机械耐受性的正性工作的平版印刷版。
高化学耐受性是指该涂层不受或基本不受印刷液，如油墨，例如UV-油墨、润版液、版和胶布清洁剂影响。高机械耐受性是指防止印刷版受到在版装卸和/或印刷过程中发生的机械损伤。
本发明的目的通过权利要求1实现，即在具有亲水表面或带有亲水层的载体上包含包括红外吸收剂和含苯并
Figure 810630DEST_PATH_IMAGE001
嗪基团的化合物的热和/或光敏涂层的平版印刷版前体。所述含苯并
Figure 652685DEST_PATH_IMAGE002
嗪基团的化合物优选是碱溶性树脂或根据下列结构（I）或（II）的化合物：
Figure 47894DEST_PATH_IMAGE003
(I)                                                                   (II)
其中
Q和Q’独立地代表任选取代的烷叉基或杂-烷叉基、任选取代的氮、氧、砜、亚砜、羰基、硫醚、硫醇或氧化膦基团；
R10代表氢或任选取代的烷基、脂环族烷基、芳烷基、芳基或杂芳基；且
n和n’独立地代表1至4的整数；
R11、R12和R13独立地代表氢、卤素或任选取代的烷基、脂环族烷基、芳烷基、芳基或杂芳基。
令人惊讶地发现，所述含苯并
Figure 173850DEST_PATH_IMAGE004
嗪基团的化合物为印刷版的涂层提供对印刷液，如油墨、润版液和/或处理液的高化学耐受性和/或防止在印刷和/或版装卸过程中发生的损伤的高机械耐受性。
根据本发明，还提供包含衍生自根据下列结构（III）的单体的单体单元的新型粘合剂：
(III)
其中
R1代表任选取代的苯并
Figure 263346DEST_PATH_IMAGE004
嗪基团；
R2代表氢或任选取代的烷基、烷氧基（-CqH2qORe）、羧酸（-CqH2qCOOH）或酯（-CqH2qCOORf）基团，其中q优选为1至12，q更优选等于1，且其中Re和Rf代表任选取代的烷基；
X代表任选取代的氮（-NH-或-NRa-，其中Ra代表任选取代的烷基）、氧或硫；X优选为任选取代的氮；
m代表0、1或大于1的整数。
R1可经由其位置1、2、3或4键合。R1优选在位置2键合。结构（IV）上的数字规定苯并
Figure 524563DEST_PATH_IMAGE004
嗪基团上的位置1至4：
Figure 6491DEST_PATH_IMAGE006
(IV)
令人惊讶地发现，这种新型粘合剂为印刷版的涂层提供优异的化学和/或机械耐受性。
从本发明的优选实施方案的下列详述中更易看出本发明的其它特征、元素、步骤、特征和优点。还在从属权利要求中规定本发明的具体实施方案。
具体实施方式
本发明的平版印刷版前体包含在载体上的热和/或光敏涂层并且是正性工作的，即在曝光和显影后，该涂层的曝光区域从载体上除去并划定亲水（非印刷）区域，而未曝光涂层未从载体上除去并划定亲油（印刷）区域。
在第一优选实施方案中，所述含苯并
Figure 999855DEST_PATH_IMAGE004
嗪基团的化合物是碱溶性树脂。该碱溶性树脂包含衍生自根据下列结构（V）的单体的单体单元：
Figure 816501DEST_PATH_IMAGE007
(V)
其中
R3至R6代表氢、卤素、任选取代的直链、支链、环状或脂环族烷基，如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、叔丁基、戊基、环戊基、环己基或金刚烷基烷基，任选取代的芳烷基或杂-芳烷基、任选取代的(二)烷基胺基、任选取代的芳基，如苯基、苄基、甲苯基、邻-、间-或对-二甲苯基、萘基、蒽基、菲基或咔唑基，任选取代的杂芳基，如吡啶基、嘧啶基、吡唑基或哒嗪基，相邻R3至R5各自可代表形成一个或多个环状结构 - 芳族、非芳族或其组合 - 所必需的原子或包含烯键式不饱和的可聚合基团的结构部分；和/或它们的组合；条件是R3至R6中的至少一个代表或包含包括烯键式不饱和的可聚合基团的结构部分。
烯键式不饱和的可聚合基团的合适实例包括乙烯基、乙烯基醚、烯丙基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、丙烯酰胺基、甲基丙烯酰胺基、马来酰亚胺基、降冰片烯官能化的马来酰亚胺基或环烯基-，如环戊烯基或环戊二烯基。
特别优选的烯键式不饱和的可聚合基团由式（VI）表示：
(VI)
其中
X代表任选取代的氮（-NH-或-NRb-，其中Rb代表任选取代的烷基）、氧或硫；
m代表0、1或大于1的整数；m优选代表0或最多10的整数；且
R7代表氢、烷基、烷氧基（-CpH2pORc）、羧酸（-CpH2pCOOH）、或酯（-CpH2pCOORd）基团，其中p优选为1至12，p更优选等于1，且其中Rc和Rd代表任选取代的烷基；
* 结构（VI）经由这个键连接至R3、R4、R5或R6，或在位置**1、2、3或4连接至结构（V）。结构（VI）最优选连接至结构（V）中的苯并
Figure 76899DEST_PATH_IMAGE004
嗪基团的位置**2。
** 见结构（IV）。
在一个优选实施方案中，该碱溶性树脂包含衍生自根据下列结构（III）的单体的单体单元：
Figure 818327DEST_PATH_IMAGE005
(III)
其中
R1代表任选取代的苯并
Figure 59953DEST_PATH_IMAGE004
嗪基团；
R2代表氢或任选取代的烷基、烷氧基（-CqH2qORe）、羧酸（-CqH2qCOOH）或酯（-CqH2qCOORf）基团，其中q优选为1至12，q更优选等于1，且其中Re和Rf代表任选取代的烷基；
X代表任选取代的氮（-NH-或-NRa-，其中Ra代表任选取代的烷基）、氧或硫；X优选为任选取代的氮；
m代表0、1或大于1的整数；和
R1可经由其位置* 1、2、3或4键合。R1优选经由其位置* 2键合。
*：见结构（IV）
在进一步优选的实施方案中，该碱溶性树脂包含衍生自根据下列结构（VII）的单体的单体单元：
Figure 335076DEST_PATH_IMAGE009
(VII)
其中
R9代表氢或任选取代的烷基；
R8代表氢、任选取代的直链、支链或环状烷基，如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、叔丁基、戊基、环戊基、环己基或金刚烷基，任选取代的芳烷基或杂-芳烷基、任选取代的(二)烷基胺基、任选取代的芳基，如苯基、苄基、甲苯基、邻-、间-或对-二甲苯基、萘基、蒽基、菲基或咔唑基，或任选取代的杂芳基，如吡啶基、嘧啶基、吡唑基或哒嗪基；
X代表任选取代的氮（-NH-或–NRe-，其中Re代表任选取代的烷基)或氧，X优选代表任选取代的氮。
苯并
Figure 40864DEST_PATH_IMAGE004
嗪基团上的任选取代基选自氢、任选取代的直链、支链或环状烷基，如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、叔丁基、戊基、环戊基、环己基或金刚烷基，任选取代的芳烷基或杂-芳烷基、任选取代的(二)烷基胺基、任选取代的芳基，如苯基、苄基、甲苯基、邻-、间-或对-二甲苯基、萘基、蒽基、菲基或咔唑基，或任选取代的杂芳基，如吡啶基、嘧啶基、吡唑基或哒嗪基，和/或它们的组合。
结构（III）、（V）、（VI）和（VII）的取代基R2至R9上的任选取代基可选自烷基、环烷基、芳基或杂芳基、烷基芳基或芳基烷基、烷氧基或芳氧基、硫烷基、硫芳基或硫代杂芳基、羟基、-SH、羧酸基或其烷基酯、磺酸基或其烷基酯、膦酸基或其烷基酯、磷酸基或其烷基酯、氨基、磺酰胺基团、酰胺基团、硝基、腈基、卤素或至少两个这些基团的组合，包括被这些基团之一和/或其组合进一步取代的至少一个这些基团。
不限于此，下面给出根据一般结构（III）、（V）和/或（VII）的单体的典型实例。
Figure 376031DEST_PATH_IMAGE010
Figure 104952DEST_PATH_IMAGE011
Figure 996816DEST_PATH_IMAGE012
Figure 557110DEST_PATH_IMAGE013
Figure 328757DEST_PATH_IMAGE014
在一个优选实施方案中，本发明的碱溶性树脂进一步包含包括磺酰胺基团的单体单元。含磺酰胺基团的单体单元优选是包含–NRj-SO2-、-SO2-NRk-所示的磺酰胺基团的单体单元，其中Rj和Rk各自独立地代表氢、任选取代的烷基、烷酰基、链烯基、炔基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、芳烷基、杂芳烷基或它们的组合。
在更优选的实施方案中，含磺酰胺基团的单体单元衍生自根据结构（VIII）的单体：
Figure 590980DEST_PATH_IMAGE015
(VIII)
其中
R1’、R2’和R3’独立地代表氢或烷基，如甲基、乙基或丙基；R3’优选是氢或甲基；R1’和R2’优选是氢；
L2代表二价连接基；
R4’和R5’代表氢、任选取代的烷基，如甲基、乙基、丙基、异丙基等，环烷基，如环戊烷、环己烷、1,3-二甲基环己烷、链烯基、炔基、烷芳基或芳烷基、芳基，如苯、萘或蒽，或杂芳基芳基，如呋喃、噻吩、吡咯、吡唑、咪唑、1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、四唑、唑、异
Figure 825969DEST_PATH_IMAGE004
唑、噻唑、异噻唑、噻二唑、
Figure 830835DEST_PATH_IMAGE004
二唑、吡啶、哒嗪、嘧啶、吡嗪、1,3,5-三嗪、1,2,4-三嗪或1,2,3-三嗪、苯并呋喃、苯并噻吩、吲哚、吲唑、苯并
Figure 268769DEST_PATH_IMAGE004
唑、喹啉、喹唑啉、苯并咪唑或苯并三唑。
连接基L2优选代表亚烷基、亚芳基、杂亚芳基、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-CS-、-O-(CH2)k-、-(CH2)k-O-、-(CH2)k-O-CO-、-O-CO-(CH2)k-、-(CH2)k-O-CO-(CH2)l-、-(CH2)k-COO-,-CO-O-(CH2)k-,-(CH2)k-COO-(CH2)l-、-(CH2)k-NH-、-NH-(CH2)k-、-(CH2)k-CONH-、-(CH2)k-CONH-SO2-、-NH-(CH2)k-O-(CH2)l-、-CO-(CH2)k、-(CH2)k-CO-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-、-O-CO-NH、-(CH2)k-CO-NH-、-NH-CO-(CH2)k-、-NH-CO-NH-、-NH-CS-NH-或它们的组合。
该任选取代基可选自烷基、环烷基、链烯基或环烯基、芳基或杂芳基、卤素、烷基胺、烷基芳基或芳基烷基、烷氧基或芳氧基、硫烷基、硫芳基或硫代杂芳基、羟基、-SH、羧酸基或其烷基酯、磺酸基或其烷基酯、膦酸基或其烷基酯、磷酸基或其烷基酯、氨基、磺酰胺基团、酰胺基团、硝基、腈基、卤素或至少两个这些基团的组合，包括被这些基团之一进一步取代的至少一个这些基团。
在EP 933 682、EP 982 123、EP 1 072 432、WO 99/63407和EP 1 400 351中公开了磺酰胺聚合物的其它合适实例和/或它们的制备方法。不限于此，下面给出作为单体的典型磺酰胺单体单元：
Figure 689386DEST_PATH_IMAGE016
 磺酰胺单体-1
Figure 975005DEST_PATH_IMAGE017
 磺酰胺单体-2
Figure 88455DEST_PATH_IMAGE018
 磺酰胺单体-3
磺酰胺单体-4
Figure 300310DEST_PATH_IMAGE020
 磺酰胺单体-5
Figure 361807DEST_PATH_IMAGE021
 磺酰胺单体-6
Figure 646158DEST_PATH_IMAGE022
 磺酰胺单体-7
Figure 370269DEST_PATH_IMAGE023
 磺酰胺单体-8
Figure 398268DEST_PATH_IMAGE024
 磺酰胺单体-9
Figure 579851DEST_PATH_IMAGE025
 磺酰胺单体-10
磺酰胺单体-11
Figure 731663DEST_PATH_IMAGE027
 磺酰胺单体-12
本发明的碱溶性树脂可进一步包含一种或多种其它单体单元，优选选自丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，例如(甲基)丙烯酸烷基或芳基酯，如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-苯乙酯、(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸苯酯或N-(4-甲基吡啶基)(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸；(甲基)丙烯酰胺，例如(甲基)丙烯酰胺或N-烷基或N-芳基(甲基)丙烯酰胺，如N-甲基(甲基)丙烯酰胺、N-乙基(甲基)丙烯酰胺、N-苯基(甲基)丙烯酰胺、N-苄基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-(4-羟基苯基)(甲基)丙烯酰胺；(甲基)丙烯腈；苯乙烯；取代苯乙烯，如2-、3-或4-羟基-苯乙烯、4-苯甲酸-苯乙烯；乙烯基吡啶，如2-乙烯基吡啶、3-乙烯基吡啶、4-乙烯基吡啶；取代乙烯基吡啶，如4-甲基-2-乙烯基吡啶；乙酸乙烯酯，该共聚乙酸乙烯酯单体单元任选至少部分水解，以形成醇基团，和/或至少部分与醛化合物，如甲醛或丁醛反应，以形成乙缩醛或丁缩醛基团；乙烯醇；乙烯醇缩乙醛；乙烯醇缩丁醛；乙烯基醚，如甲基乙烯基醚；乙烯酰胺；N-烷基乙烯酰胺，如N-甲基乙烯酰胺、己内酰胺、乙烯基吡咯烷酮；马来酸酐、马来酰亚胺，例如马来酰亚胺或N-烷基或N-芳基马来酰亚胺，如N-苄基马来酰亚胺。
在一个优选实施方案中，该碱溶性树脂进一步包含选自(甲基)丙烯酰胺，如(甲基)丙烯酰胺、苯基(甲基)丙烯酰胺和羟甲基(甲基)丙烯酰胺；(甲基)丙烯酸；苯乙烯；马来酸酐；马来酰亚胺，例如马来酰亚胺或N-烷基或N-芳基马来酰亚胺，如N-苄基马来酰亚胺，(甲基)丙烯酸酯，如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸羟乙酯或(甲基)丙烯酸苄酯的单体单元。
根据结构（III）、（V）和/或（VII）的单体单元在该碱溶性树脂中的摩尔百分比优选为0.5和10摩尔%，更优选0.8和5摩尔%，最优选1和2.5摩尔%。在该碱溶性树脂包含磺酰胺单体的优选实施方案中，磺酰胺单体在该碱溶性树脂中的摩尔百分比优选为50至80摩尔%，更优选55至75摩尔%，最优选60至70摩尔%。本发明的碱溶性聚合物的分子量优选为：Mn，即数均分子量，为10000至500000，更优选15000至250000，最优选20000至200000；Mw，即重均分子量，为10000至1000000，更优选50000至800000，最优选60000至600000。通过如实施例中所述的方法测定这些分子量。
本发明的碱溶性粘合剂在该涂层中的量优选高于该涂层中所有成分总重量的25重量%，更优选高于50重量%，最优选高于75重量%。或者，该涂层中本发明的碱溶性粘合剂优选高于80重量%，更优选高于85重量%，最优选高于90重量%。
任选地，该涂层可进一步包含一种或多种选自下列材料的粘合剂：亲水粘合剂，如乙烯醇、(甲基)丙烯酰胺、羟甲基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羟乙酯的均聚物和共聚物、马来酸酐/乙烯基甲基醚共聚物、(甲基)丙烯酸或乙烯醇与苯乙烯磺酸的共聚物；疏水粘合剂，如酚醛树脂（例如线型酚醛清漆树脂、甲阶酚醛树脂或聚乙烯酚）；化学改性的酚醛树脂或如DE 4 007 428、DE 4 027 301和DE 4 445 820中所述的含有羧基、腈基或马来酰亚胺基团的聚合物；具有活性酰亚胺基团，如–SO2-NH-CO-Rh、–SO2-NH-SO2-Rh或–CO-NH-SO2-Rh的聚合物，其中Rh代表任选取代的烃基，如任选取代的烷基、芳基、烷芳基、芳烷基或杂芳基；如EP 933 682、EP 894 622（第3页第16行至第6页第30行）、EP 982 123（第3页第56行至第51页第5行）、EP 1 072 432（第4页第21行至第10页第29行）和WO 99/63407（第4页第13行至第9页第37行）中所述的包含N-苄基-马来酰亚胺单体单元的聚合物；具有酸基的聚合物，其可选自例如通过使酚、间苯二酚、甲酚、二甲苯酚或三甲基酚与醛，尤其是甲醛，或酮反应获得的具有游离酚式羟基的缩聚物和聚合物；氨磺酰基-或氨基甲酰基-取代的芳族化合物和醛或酮的缩合物；双羟甲基-取代脲、乙烯基醚、乙烯醇、乙烯醇缩乙醛或乙烯酰胺的聚合物和丙烯酸苯酯聚合物和羟基-苯基马来酰亚胺共聚物；具有任选含有一个或多个羧基、酚式羟基、氨磺酰基或氨基甲酰基的乙烯基芳族化合物、N-芳基(甲基)丙烯酰胺或(甲基)丙烯酸芳基酯的单元的聚合物，如具有(甲基)丙烯酸2-羟基苯酯单元、N-(4-羟基苯基)(甲基)丙烯酰胺单元、N-(4-氨磺酰基苯基)-(甲基)丙烯酰胺单元、N-(4-羟基-3,5-二甲基苄基)-(甲基)丙烯酰胺单元或4-羟基苯乙烯单元或羟基苯基马来酰亚胺单元的聚合物；乙烯基芳族化合物、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、甲基丙烯酰胺或丙烯腈。
在本发明的第二个优选实施方案中，所述含苯并
Figure 110823DEST_PATH_IMAGE028
嗪基团的化合物是根据结构（I）和/或（II）的化合物：
Figure 412492DEST_PATH_IMAGE003
(I)                                                                 (II)
其中
Q和Q’独立地代表任选取代的烷叉基或杂-烷叉基、任选取代的氮、氧、砜、亚砜、羰基、硫醚、硫醇或氧化膦基团；
R10代表氢或任选取代的烷基、脂环族烷基、芳烷基、芳基或杂芳基；
R11、R12和R13独立地代表氢、卤素或任选取代的烷基、脂环族烷基、芳烷基、芳基或杂芳基；且
n和n’独立地代表1至4的整数。
结构（I）和（II）的取代基R10至R13上的任选取代基可选自烷基、环烷基、芳基或杂芳基、烷基芳基或芳基烷基、烷氧基或芳氧基、硫烷基、硫芳基或硫代杂芳基、羟基、-SH、羧酸基或其烷基酯、磺酸基或其烷基酯、膦酸基或其烷基酯、磷酸基或其烷基酯、氨基、磺酰胺基团、酰胺基团、硝基、腈基、卤素或至少两个这些基团的组合，包括被这些基团之一和/或其组合进一步取代的至少一个这些基团。
在一个优选实施方案中，根据结构（I）和/或（II）的苯并
Figure 773066DEST_PATH_IMAGE004
嗪化合物是多官能的，即n或n’ ≥ 2。该多官能苯并
Figure 222502DEST_PATH_IMAGE004
嗪化合物可基于双-苯胺衍生物，其中n’等于2。
优选的根据结构（I）和/或（II）的苯并
Figure 592303DEST_PATH_IMAGE004
嗪化合物基于双-酚-A、双-酚-F或双-苯胺衍生物并可以例如如下合成：
Figure 482899DEST_PATH_IMAGE029
Figure 591538DEST_PATH_IMAGE030
其中
R14和R16独立地代表氢或甲基；
R15代表氢、任选取代的直链、支链或环状烷基，如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、叔丁基、戊基、环戊基或环己基烷基，任选取代的芳烷基或杂-芳烷基、任选取代的(二)烷基胺基、任选取代的芳基，如苯基、苄基、甲苯基、邻-、间-或对-二甲苯基、萘基、蒽基、菲基或咔唑基，或任选取代的杂芳基，如吡啶基、嘧啶基、吡唑基或哒嗪基。
根据结构（I）和/或（II）的苯并
Figure 200374DEST_PATH_IMAGE004
嗪化合物可进一步根据例如Ning和Ishida在Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, 32, 1121-1129 (1994)中描述的方法合成。这些苯并
Figure 373866DEST_PATH_IMAGE004
嗪化合物中的一些可购得并通常作为部分反应的化合物（即通过经由开环的热自聚合制成的低聚物类）的混合物提供。
根据结构（I）和/或（II）的所述含苯并
Figure 446864DEST_PATH_IMAGE004
嗪基团的化合物的在印刷版的涂层中的含量优选为0.01克/平方米至1克/平方米，更优选0.02克/平方米至0.5克/平方米，最优选0.02克/平方米至0.2克/平方米。
包含根据结构（I）和/或（II）的化合物的印刷版涂层优选进一步包含一种或多种粘合剂，其选自本发明的碱溶性树脂、亲水粘合剂，如乙烯醇、(甲基)丙烯酰胺、羟甲基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羟乙酯的均聚物和共聚物、马来酸酐/乙烯基甲基醚共聚物、(甲基)丙烯酸或乙烯醇与苯乙烯磺酸的共聚物；疏水粘合剂，如酚醛树脂（例如线型酚醛清漆树脂、甲阶酚醛树脂或聚乙烯酚）；化学改性的酚醛树脂或如DE 4 007 428、DE 4 027 301和DE 4 445 820中所述的含有羧基、腈基或马来酰亚胺基团的聚合物；具有活性酰亚胺基团，如–SO2-NH-CO-Rh、–SO2-NH-SO2-Rh或–CO-NH-SO2-Rh的聚合物，其中Rh代表任选取代的烃基，如任选取代的烷基、芳基、烷芳基、芳烷基或杂芳基；如EP 933 682、EP 894 622（第3页第16行至第6页第30行）、EP 982 123（第3页第56行至第51页第5行）、EP 1 072 432（第4页第21行至第10页第29行）和WO 99/63407（第4页第13行至第9页第37行）中所述的包含N-苄基-马来酰亚胺单体单元的聚合物；具有酸基的聚合物，其可选自例如通过使酚、间苯二酚、甲酚、二甲苯酚或三甲基酚与醛，尤其是甲醛，或酮反应获得的具有游离酚式羟基的缩聚物和聚合物；氨磺酰基-或氨基甲酰基-取代的芳族化合物和醛或酮的缩合物；双羟甲基-取代脲、乙烯基醚、乙烯醇、乙烯醇缩乙醛或乙烯酰胺的聚合物和丙烯酸苯酯聚合物和羟基-苯基马来酰亚胺共聚物；磺酰胺（如上所述）；具有任选含有一个或多个羧基、酚式羟基、氨磺酰基或氨基甲酰基的乙烯基芳族化合物、N-芳基(甲基)丙烯酰胺或(甲基)丙烯酸芳基酯的单元的聚合物，如具有(甲基)丙烯酸2-羟基苯酯单元、N-(4-羟基苯基)(甲基)丙烯酰胺单元、N-(4-氨磺酰基苯基)-(甲基)丙烯酰胺单元、N-(4-羟基-3,5-二甲基苄基)-(甲基)丙烯酰胺单元或4-羟基苯乙烯单元或羟基苯基马来酰亚胺单元的聚合物；乙烯基芳族化合物、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、甲基丙烯酰胺或丙烯腈。
包括根据结构（I）和/或（II）的化合物的涂层优选进一步包含一种或多种选自如上所述的乙烯醇、(甲基)丙烯酰胺、羟甲基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羟乙酯的均聚物和共聚物、马来酸酐/乙烯基甲基醚共聚物、苯乙烯树脂、(甲基)丙烯腈、酚醛树脂或磺酰胺粘合剂的粘合剂。该涂层最优选包括如上文详细定义的磺酰胺粘合剂。
该涂层可包含多于一层。一种或多种根据本发明的所述含苯并
Figure 414820DEST_PATH_IMAGE031
嗪基团的化合物 - 即如上所述的碱溶性树脂和/或结构（I）和/或（II） - 可以仅存在于一层中或存在于多于一层中。该涂层优选包含至少两层。
在一个优选实施方案中，该涂层包含含有所述含苯并
Figure 510952DEST_PATH_IMAGE031
嗪基团的化合物的第一层——进一步被称作第一层，和位于所述第一层上的含酚醛树脂的第二层——进一步被称作第二层。第一层是指与第二层相比更靠近平版印刷载体的层。第一层中存在的一种或多种所述含苯并
Figure 35606DEST_PATH_IMAGE031
嗪基团的化合物也可存在于第二层中，但优选仅存在于第一层中。在该涂层包含两层的这种优选实施方案中，第一层优选除所述含苯并
Figure 900793DEST_PATH_IMAGE031
嗪基团的化合物外还含有如上所述的磺酰胺粘合剂和/或其它粘合剂。包含酚醛树脂的第二层是碱溶性亲油树脂。该酚醛树脂优选是线型酚醛清漆树脂、甲阶酚醛树脂或聚乙烯基酚醛树脂；线型酚醛清漆树脂更优选。此类聚合物的典型实例描述在DE-A-4007428、DE-A-4027301和DE-A-4445820中。其它优选聚合物是酚醛树脂，其中酚类单体单元的苯基或羟基如EP 894 622、EP 901 902、EP 933 682、WO99/63407、EP 934 822、EP 1 072 432、US 5,641,608、EP 982 123、WO99/01795、WO04/035310、WO04/035686、WO04/035645、WO04/035687或EP 1 506 858中所述用有机取代基化学改性。
线型酚醛清漆树脂或甲阶酚醛树脂可以通过选自芳烃，如酚、邻甲酚、对甲酚、间甲酚、2,5-二甲苯酚、3,5-二甲苯酚、间苯二酚、连苯三酚、双酚、双酚A、三酚、邻乙基酚、对乙基酚、丙基酚、正丁基酚、叔丁基酚、1-萘酚和2-萘酚的至少一员与选自如甲醛、乙二醛、乙酰乙醛、丙醛、苯甲醛和糠醛之类的醛和如丙酮、甲乙酮和甲基异丁基酮之类的酮的至少一种醛或酮在酸催化剂存在下的缩聚制备。可以分别使用低聚甲醛和仲乙醛代替甲醛和乙醛。
使用通用校准和聚苯乙烯标样通过凝胶渗透色谱法测得的线型酚醛清漆树脂的重均分子量优选为500至150,000克/摩尔，更优选1,500至50,000克/摩尔。
聚(乙烯基酚)树脂也可以是一种或多种含羟苯基的单体，如羟基苯乙烯或(甲基)丙烯酸羟苯基酯的聚合物。此类羟基苯乙烯的实例是邻羟基苯乙烯、间羟基苯乙烯、对羟基苯乙烯、2-(邻羟苯基)丙烯、2-(间羟苯基)丙烯和2-(对羟苯基)丙烯。此类羟基苯乙烯可以在其芳环上具有取代基，如氯、溴、碘、氟或C1-4烷基。此类(甲基)丙烯酸羟苯酯的实例是甲基丙烯酸2-羟基-苯酯。
聚(乙烯基酚)树脂通常可通过使一种或多种含羟苯基的单体在自由基引发剂或阳离子聚合引发剂存在下聚合来制备。聚(乙烯基酚)树脂也可以通过使一种或多种这些含羟苯基的单体与其它单体化合物，如丙烯酸酯单体、甲基丙烯酸酯单体、丙烯酰胺单体、甲基丙烯酰胺单体、乙烯基单体、芳族乙烯基单体或二烯单体共聚来制备。
使用通用校准和聚苯乙烯标样通过凝胶渗透色谱法测得的聚(乙烯基酚)树脂的重均分子量优选为1,000至200,000克/摩尔，更优选1,500至50,000克/摩尔。
合适的酚醛树脂的实例是：
树脂-01：ALNOVOL SPN452是线型酚醛清漆树脂在Dowanol PM中的40重量%溶液，获自CLARIANT GmbH。
Dowanol PM由1-甲氧基-2-丙醇（>99.5%）和2-甲氧基-1-丙醇（<0.5%）构成。
树脂-02：ALNOVOL SPN400是线型酚醛清漆树脂在Dowanol PMA中的44重量%溶液，获自CLARIANT GmbH。
Dowanol PMA由2-甲氧基-1-甲基-乙基乙酸酯构成。
树脂-03：ALNOVOL HPN100获自CLARIANT GmbH的线型酚醛清漆树脂
树脂-04：DURITE PD443是获自BORDEN CHEM. INC的线型酚醛清漆树脂。
树脂-05：DURITE SD423A是获自BORDEN CHEM. INC的线型酚醛清漆树脂。
树脂-06：DURITE SD126A是获自BORDEN CHEM. INC的线型酚醛清漆树脂。
树脂-07：BAKELITE 6866LB02是获自BAKELITE AG的线型酚醛清漆树脂。
树脂-08：BAKELITE 6866LB03是获自BAKELITE AG的线型酚醛清漆树脂。
树脂-09：KR 400/8是获自KOYO CHEMICALS INC的线型酚醛清漆树脂。
树脂-10：HRJ 1085是获自SCHNECTADY INTERNATIONAL INC的线型酚醛清漆树脂。
树脂-11：HRJ 2606是获自SCHNECTADY INTERNATIONAL INC的酚线型酚醛清漆树脂。
树脂-12：LYNCUR CMM是获自SIBER HEGNER的4-羟基-苯乙烯和甲基丙烯酸甲酯的共聚物。
可以通过任选溶解度调节组分微调该双层涂层 – 即包含第一层、第二层和/或任选其它层的涂层 – 在显影剂中的溶解性能。更特别地，可以使用显影加速剂和显影抑制剂。这些成分优选添加到第二层中。
显影加速剂是充当溶解促进剂的化合物，因为它们能够提高涂层的溶解率，显影剂耐受剂，也称作显影抑制剂，即能够延迟未曝光区域在加工过程中的溶解的一种或多种成分。优选通过加热逆转溶解抑制作用，以使曝光区域的溶解基本不延迟并由此获得曝光和未曝光区域之间的大溶解差。例如EP 823 327和WO 97/39894中描述的化合物被认为由于例如通过氢桥形成与涂层中的碱溶性树脂的相互作用而充当溶解抑制剂。这类抑制剂典型地包含至少一个形成氢桥的基团，如氮原子、
Figure 39651DEST_PATH_IMAGE032
基团、羰基（-CO-）、亚磺酰基（-SO-）或磺酰基（-SO2-）和大疏水部分，如一个或多个芳环。下面提到的一些化合物，例如红外染料，如花青和对比染料，如季铵化三芳基甲烷染料也可充当溶解抑制剂。
其它合适的抑制剂由于它们延迟含水碱性显影剂渗入涂层中来改进显影剂耐受性。此类化合物可以如EP 950 518中所述存在于成像层和/或任选第二层中，和/或如EP 864 420、EP 950 517、WO 99/21725和WO 01/45958中所述存在于所述层上的任选显影阻隔层中。在后一实施方案中，可以通过暴露在热或红外线下来提高阻隔层在显影剂中的溶解度或显影剂对阻隔层的渗透度。
延迟含水碱性显影剂渗入涂层中的抑制剂的优选实例包括下列：
（a）不可溶于显影剂或显影剂不可透的聚合材料，例如疏水或拒水聚合物或共聚物，如丙烯酸聚合物、聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯酸共聚物、聚酯、聚酰胺、聚脲、聚氨酯、硝化纤维素和环氧树脂；或包含硅氧烷（有机硅）和/或全氟烷基单元的聚合物。
（b）双官能化合物，如包含极性基团和疏水基团，如长链烃基、聚硅氧烷或低聚硅氧烷和/或全氟烃基的表面活性剂。典型实例是Megafac F-177，可获自Dainippon Ink & Chemicals, Inc的全氟表面活性剂。此类化合物的合适的量为10至100毫克/平方米，更优选50至90毫克/平方米。
（c）包含极性嵌段，如聚-或低聚(环氧烷)和疏水嵌段，如长链烃基、聚硅氧烷或低聚硅氧烷和/或全氟烃基的双官能嵌段共聚物。此类化合物的合适的量为0.5至25毫克/平方米，优选0.5至15毫克/平方米，最优选0.5至10毫克/平方米。合适的共聚物包含大约15至25个硅氧烷单元和50至70个环氧烷基团。优选实例包括包含苯基甲基硅氧烷和/或二甲基硅氧烷以及环氧乙烷和/或环氧丙烷的共聚物，例如Tego Glide 410、Tego Wet 265、Tego Protect 5001或Silikophen P50/X，均可购自Tego Chemie, Essen, Germany。所述聚硅氧烷或低聚硅氧烷可以是直链、环状或复杂的交联聚合物或共聚物。术语聚硅氧烷化合物应该包括含有多于一个硅氧烷基团-Si(R,R')-O-的任何化合物，其中R和R'是任选取代的烷基或芳基。优选的硅氧烷是苯基烷基硅氧烷和二烷基硅氧烷。该聚合物或低聚物中的硅氧烷基团数为至少2，优选至少10，更优选至少20。其可以小于100，优选小于60。
据信，在涂布和干燥过程中，上文提到的（b）和（c）类抑制剂因其双官能结构而倾向于自定位在涂层和空气之间的界面处并由此形成单独的顶层，即使作为第一和/或第二层的涂层溶液的成分施加时。同时，该表面活性剂还充当改进涂层品质的铺展剂。由此形成的独立顶层看似能够充当延迟显影剂渗入该涂层中的上述阻隔层。
或者，（a）至（c）类抑制剂可以在涂在该涂层的第二层和/或任选其它层上的单独溶液中施加。在这种实施方案中，可以有利地在该单独溶液中使用不能溶解所述其它层中存在的成分的溶剂以便在涂层顶部获得能够充当上述显影阻隔层的高度浓缩的拒水或疏水相。
上述热敏印刷版前体的涂层优选还含有可存在于第一层、第二层和/或任选其它层中的红外线吸收染料或颜料。优选的IR吸收染料是花青染料、部花青染料、碘苯胺染料、氧杂菁染料、吡啶染料和squarilium染料。在例如EP-As 823327、978376、1029667、1053868、1093934；WO 97/39894和00/29214中描述了合适的IR染料的实例。优选化合物是下列花青染料：
Figure 935112DEST_PATH_IMAGE033
IR-1
IR-染料在该涂层中的浓度优选为整个涂层的0.25至15.0重量%，更优选0.5至10.0重量%，最优选1.0至7.5重量%。
该涂层可进一步包含为该涂层提供可见颜色并留在加工步骤中未除去的涂层图像区域中的一种或多种着色剂，如染料或颜料。由此形成可见图像并变得可以检查显影印刷版上的平版印刷图像。此类染料通常被称作对比染料或指示染料。优选地，该染料具有蓝色和在600纳米至750纳米的波长范围内的吸收最大值。此类对比染料的典型实例是氨基取代的三-或二-芳基甲烷染料，例如结晶紫、甲基紫、维多利亚纯蓝、flexoblau 630、basonylblau 640、金胺和孔雀绿。EP-A 400,706中深入论述的染料也是合适的对比染料。如例如WO2006/005688中所述的与特定添加剂结合时仅将该涂层轻微着色但在曝光后变得强着色的染料也可用作着色剂。
该涂层可任选进一步含有附加成分。这些成分可存在于第一、第二或任选其它层中。例如，聚合物粒子，如消光剂和间隔剂、表面活性剂，如全氟表面活性剂，二氧化硅或二氧化钛粒子、着色剂、金属络合剂是平版印刷涂层的公知组分。
为了保护涂层表面特别免受机械损伤，可任选在该涂层上施加保护层。该保护层通常包含至少一种水溶性聚合粘合剂，如聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、部分水解的聚乙酸乙烯酯、明胶、碳水化合物或羟乙基纤维素。该保护层可含有少量，即少于5重量%有机溶剂。不特别限制该保护层的厚度，但优选最多5.0微米，更优选0.05至3.0微米，特别优选0.10至1.0微米。
该涂层可进一步含有其它附加层，例如位于第一层和载体之间的增粘层。
本发明中使用的平版印刷版包含具有亲水表面或带有亲水层的载体。该载体可以是片状材料，如板，或其可以是圆筒元件，如可以围绕印刷机的印刷滚筒滑动的套筒。载体优选是金属载体，如铝或不锈钢。该载体也可以是包含铝箔和塑料层，例如聚酯膜的层压材料。
特别优选的平版印刷载体是电化学粒化和阳极化的铝载体。铝载体通常具有大约0.1-0.6毫米的厚度。但是，可以根据所用印刷版的尺寸和/或制版机（plate-setters，印刷版前体在其上曝光）的尺寸适当改变这种厚度。铝优选通过电化学粒化法粒化和借助使用磷酸或硫酸/磷酸混合物的阳极化技术阳极化。铝的粒化和阳极化方法是本领域内公知的。
通过粒化（或粗糙化）铝载体，改进印刷图像的粘合和非图像区域的润湿特性。通过改变粒化步骤中的电解质的类型和/或浓度和施加电压，可以获得不同类型的颗粒。表面粗糙度通常表示为算术平均中线粗糙度Ra（ISO 4287/1或DIN 4762）并可以为0.05至1.5微米不等。本发明的铝基底优选具有低于0.45微米，更优选低于0.40微米，再更优选低于0.30微米，最优选低于0.25微米的Ra值。Ra值的下限优选为大约0.1微米。在EP 1 356 926中描述了关于粒化和阳极化的铝载体的表面的优选Ra值的更多细节。
通过将铝载体阳极化，改进其耐磨性和亲水性质。通过阳极化步骤测定Al2O3层的微结构以及厚度，阳极重量（在铝表面上形成的Al2O3的克/平方米）为1至8克/平方米不等。阳极重量优选≥ 3克/平方米，更优选≥ 3.5克/平方米，最优选≥ 4.0克/平方米。
可以对该粒化和阳极化的铝载体施以所谓的后阳极化处理以改进其表面的亲水性质。例如，铝载体可以通过用硅酸钠溶液在升高的温度，例如95℃下处理其表面来硅酸化。或者，可以实施磷酸盐处理，包括用可进一步含有无机氟化物的磷酸盐溶液处理氧化铝表面。此外，氧化铝表面可以用柠檬酸或柠檬酸盐溶液漂洗。这种处理可以在室温下进行，或可以在大约30至50℃的略微升高的温度下进行。另一有兴趣的处理包括用碳酸氢盐溶液漂洗氧化铝表面。再进一步地，氧化铝表面可以用聚乙烯基膦酸、聚乙烯基甲基膦酸、聚乙烯醇的磷酸酯、聚乙烯基磺酸、聚乙烯基苯磺酸、聚乙烯醇的硫酸酯、和通过与磺酸化脂族醛反应形成的聚乙烯醇的缩醛进行处理。
另一可用的后阳极化处理可以用聚丙烯酸或包含至少30摩尔%丙烯酸单体单元的聚合物，例如GLASCOL E15（可购自Ciba Speciality Chemicals的聚丙烯酸），的溶液进行。
该载体也可以是挠性载体，其可带有亲水层，在下文中称作“基层”。该挠性载体是例如纸、塑料膜或铝。塑料膜的优选实例是聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚萘二甲酸乙二醇酯膜、乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等。该塑料膜载体可以是不透明或透明的。
该基层优选是由用硬化剂，如甲醛、乙二醛、聚异氰酸酯或水解原硅酸四烷基酯交联的亲水粘合剂获得的交联亲水层。后者特别优选。该亲水基层的厚度可以为0.2至25微米不等，优选为1至10微米。基层的优选实施方案的更多细节可见于例如EP-A 1 025 992。
任何涂布方法都可用于将两种或更多种涂层溶液施加到该载体的亲水表面上。可以通过接连涂布/干燥各层或通过一次同时涂布数种涂层溶液来施加多层涂层。在干燥步骤中，从涂层中除去挥发性溶剂直至涂层自承并触干。但是，不必（甚至可能无法）在干燥步骤中除去所有溶剂。实际上，残留溶剂含量可以被视为另一组成变量，可借此优化该组合物。典型通过将热空气吹到该涂层上，典型在至少70℃，合适地80-150℃，尤其是90-140℃下进行干燥。也可以使用红外灯。干燥时间典型可以为15-600秒。
在涂布和干燥之间或在干燥步骤后，热处理和随后冷却可以如WO99/21715、EP-A 1074386、EP-A 1074889、WO00/29214和WO/04030923、WO/04030924、WO/04030925中所述提供额外益处。
该热敏版前体可以直接用热，例如借助热头，或间接通过红外线，优选近红外线依图像曝光。优选通过如上论述的红外线吸收性化合物将红外线转化成热。该印刷版前体是正性工作的并依赖于本发明的粘合剂的热引发的增溶。该粘合剂优选是可溶于水性显影剂，更优选具有7.5至14的pH的碱性显影水溶液的聚合物。
印刷版前体可以借助例如LEDs或激光器暴露在红外线中。最优选地，用于曝光的光是发出波长大约750至大约1500纳米，更优选750至1100纳米的近红外线的激光器，如半导体激光二极管、Nd:YAG或Nd:YLF激光器。所需激光功率取决于版前体的灵敏度、激光束的像素停留时间（这由光点直径决定（现代制版机在1/e2的最大强度下的典型值：5-25微米））、曝光装置的扫描速度和分辨率（即每单位线性距离的可寻址像素数，通常表示为每英寸的圆点数或dpi；典型值：1000-4000 dpi）。
通常使用两种类型的激光曝光装置：内（ITD）和外鼓（XTD）制版机。热版用的ITD制版机典型以最多500米/秒的极高扫描速度为特征并可能需要几瓦特的激光功率。具有大约200 mW至大约1W的典型激光功率的热版用XTD制版机在例如0.1至10米/秒的较低扫描速度下运行。配有一个或多个发射750至850纳米波长范围的激光二极管的XTD制版机是本发明的方法的尤其优选实施方案。
已知的制版机可用作离机曝光装置，这提供减少的印刷机停机时间的益处。XTD制版机构造也可用于在机曝光，提供在多色印刷机中即时配准的益处。在例如US 5,174,205和US 5,163,368中描述了在机曝光装置的更多技术细节。
已知的制版机可用作离机曝光装置，这提供减少的印刷机停机时间的益处。XTD制版机构造也可用于在机曝光，提供在多色印刷机中即时配准的益处。在例如US 5,174,205和US 5,163,368中描述了在机曝光装置的更多技术细节。
本发明的优选平版印刷版前体在用能量密度（在所述前体表面上测得）为200 mJ/cm2或更小，更优选180 mJ/cm2或更小，最优选160 mJ/cm2或更小的红外线依图像曝光时产生可用的平版印刷图像。对于印刷版上的可用平版印刷图像，在纸上的至少1000个印刷品上2%点（在200 lpi下）完美可见。
曝光后的印刷版前体借助合适的加工液离机显影。在显影步骤中，至少部分除去图像记录层的曝光区域而基本不除去未曝光区域，即不在使曝光区域的受墨性不可接受的程度上影响曝光区域。可以例如用手或在自动加工装置中通过用浸渍垫摩擦、通过浸渍、浸泡、（旋）涂布、喷涂、浇注来将该加工液施加到版上。用加工液处理可以与机械摩擦（例如借助旋转刷）结合。如果需要，显影的版前体可以如本领域中已知的那样用洗水、合适的校正剂或防腐剂后处理。在显影步骤过程中，优选也除去所存在的任何水溶性保护层。优选在本领域中常规的自动化加工装置中在20至40℃的温度下进行显影。关于显影步骤的更多细节可见于例如EP 1 614 538、EP 1 614 539、EP 1 614 540和WO/2004/071767。
显影液优选含有缓冲剂，例如硅酸盐基缓冲剂或磷酸盐缓冲剂。显影剂中的缓冲剂浓度优选为3至14重量%。二氧化硅/碱金属氧化物比率为至少1的硅酸盐基显影剂是有利的，因为它们确保不破坏基底的氧化铝层（如果存在）。优选的碱金属氧化物包括Na2O和K2O及其混合物。特别优选的硅酸盐基显影剂溶液是包含偏硅酸钠或偏硅酸钾的显影剂溶液，即二氧化硅与碱金属氧化物的比率为1的硅酸盐。
该显影液可任选含有本领域中已知的其它组分：其它缓冲物质、螯合剂、表面活性剂、络合物、无机盐、无机碱性剂、有机碱性剂、防沫剂、少量，即优选少于10重量%，更优选少于5重量%的有机溶剂、非还原糖、糖苷、染料和/或水溶助长剂。这些组分可以单独或结合使用。
为了确保用显影剂溶液长时间稳定加工，特别重要的是控制显影剂中的成分的浓度。因此，通常向显影液中加入补充液，下文也称作补充剂。可以向显影液中加入含有不同成分和/或不同量的成分的多于一种补充液。可以合适地使用具有0.6至2.0摩尔/升碱金属含量的碱金属硅酸盐溶液。这些溶液可具有与显影剂相同的二氧化硅/碱金属氧化物比率（但通常更低），并同样任选含有其它添加剂。本发明的（共）聚合物有利地存在于该补充剂中；优选以至少0.5克/升的浓度，更优选以1至50克/升，最优选2至30克/升的浓度。
补充液优选具有至少10，更优选至少11，最优选至少12的pH值。
显影步骤后可以接着漂洗步骤和/或涂胶步骤。在例如EP-A 1 342 568和WO 2005/111727中描述了可用的合适的树胶溶液。
为了提高最终印刷版的耐受性并因此延长其印刷机寿命能力（运行长度），优选将该版涂层简短加热至升高的温度（“烘焙”）。该版可以在烘焙之前干燥或在烘焙过程本身中干燥。在烘焙步骤中，该版可以在高于热敏涂层的玻璃化转变温度的温度，例如100℃至300℃下加热15秒至5分钟。在一个优选实施方案中，烘焙温度在烘焙期间不超过300℃。烘焙可以如EP 1 588 220和EP 1 916 101中所述在常规热空气炉中或通过用在红外或紫外光谱内发光的灯照射来进行。可以使用所谓的静态和动态烘焙炉。由于这种烘焙步骤，印刷版对版清洁剂、腐蚀剂和可UV固化的印刷油墨的耐受性提高。这种热后处理是本领域中已知的并尤其描述在DE 1,447,963、GB 1,154,749和EP 1 506 854中。
根据本发明，还提供制造正性工作的平版印刷版的方法，包括使本发明的热敏平版印刷版前体依图像暴露在热和/或红外线下，接着用含水碱性显影剂将所述依图像曝光的前体显影以溶解曝光区域的步骤。优选烘焙所得前体。可以通过使该版在200℃至300℃的温度下保持30秒至2分钟来进行烘焙。也可以如前一段中所述进行烘焙步骤。
由此获得的印刷版可用于传统的所谓湿法胶印，其中将油墨和水性润版液供应到版上。另一合适的印刷法使用不含润版液的所谓单流体油墨。在US 4,045,232；US 4,981,517和US 6,140,392中描述了合适的单流体油墨。在最优选实施方案中，单流体油墨如WO 00/32705中所述包含油墨相，也称作疏水或亲油相，和多元醇相。
实施例
I.合成
A. 苯并 嗪单体的合成
本发明的苯并
Figure 627483DEST_PATH_IMAGE004
嗪单体1至40的合成遵循下列反应机制：
Figure 511256DEST_PATH_IMAGE034
1. 苯并嗪单体-17的合成
5.9克（0.072摩尔）甲醛水溶液、3.6克（0.036摩尔）环己胺和0.3克（0.0036）三乙胺在25毫升1,4-二氧杂环己烷或乙酸乙酯中在23℃搅拌0.2小时。将温度升至88℃（回流）并将溶解在16毫升1,4-二氧杂环己烷中的3.2克（0.018摩尔）N-对-羟基苯基甲基丙烯酰胺（可购自Wako Fine Chemicals Co. - CAS 19243-95-9）添加到反应混合物中。将反应混合物在88℃再搅拌4小时。将2,6-二-叔丁基-4-甲基酚（0.08克，0.0004摩尔）添加到该混合物中。薄层色谱法表明反应完成，无任何进一步提纯。通过减压下的溶剂蒸发分离粗产物：收率 = 82%。通过1H NMR指示无重结晶程序的该浅米色粉末的纯度：纯度 > 99%。
2. 苯并
Figure 947420DEST_PATH_IMAGE004
嗪单体1、5、9、13、21、25、29、33和37的合成
单体1、5、9、13、21、25、29、33和37的合成遵循上述用于合成单体17的通用程序，但将环己胺分别换成如下表1中概述的烷基、芳基或脂环族胺。
3．苯并
Figure 239861DEST_PATH_IMAGE004
嗪单体2、6、10、14、18、22、26、30、34和38的合成
单体2、6、10、14、18、22、26、30、34和38的合成遵循所述用于合成单体17的通用程序，但将N-对羟基苯基甲基丙烯酰胺换成N-对羟基苯基丙烯酰胺（可购自Finechemie & Pharma Co.和China Hallochem Pharma Co.）和使用下表1中概述的适当的烷基、芳基或脂环族胺。
4. 苯并
Figure 408543DEST_PATH_IMAGE004
嗪单体3、7、11、15、19、23、27、31、35和39的合成
单体3、7、11、15、19、23、27、31、35和39的合成遵循所述用于合成单体17的通用程序，但将N-对羟基苯基甲基丙烯酰胺换成甲基丙烯酸对羟基苯酯（可购自Finechemie & Pharma Co.和China Hallochem Pharma Co.）和使用下表1中概述的适当的烷基、芳基或脂环族胺。可以根据EP 1 970 367 A2合成甲基丙烯酸对羟基苯酯。
5.苯并
Figure 102829DEST_PATH_IMAGE028
嗪单体4、8、12、16、20、24、28、32、36和40的合成
单体4、8、12、16、20、24、28、32、36和40的合成遵循所述用于合成单体17的通用程序，但将N-对羟基苯基甲基丙烯酰胺换成丙烯酸对羟基苯酯和使用下表1中概述的适当的烷基、芳基或脂环族胺。可以根据EP 1 970 367 A2合成丙烯酸对羟基苯酯。
表1：用于合成本发明的苯并
Figure 816707DEST_PATH_IMAGE028
嗪单体的胺
Figure 862024DEST_PATH_IMAGE036
表2中给出适用于合成苯并嗪单体的其它胺。
表2：适用于合成苯并
Figure 619075DEST_PATH_IMAGE004
嗪单体的胺
Figure 707117DEST_PATH_IMAGE037
表1和2不是穷举性的，本发明的范围涵盖任选含有不饱和键并带有伯胺或仲胺官能团的任何任选取代的烷基、脂环族烷基或芳基化合物。任选含有不饱和键并带有伯胺或仲胺官能团（包括杂环，例如嘧啶-衍生物、2-吡啶或4-吡啶）或可以为该单体增加碱性并可提高其碱溶性的碱性官能团，如叔胺，的化合物也可用于本发明。
B.苯并
Figure 36467DEST_PATH_IMAGE004
嗪交联剂的合成
苯并
Figure 546952DEST_PATH_IMAGE004
嗪交联剂1、2和3（表3）可购自Shikoku Chemicals Co. (Japan)。它们作为部分反应的化合物（即通过经由开环的热自聚合制成的低聚物类）的混合物提供。
表3：苯并
Figure 12568DEST_PATH_IMAGE004
嗪交联剂的结构
* B-m、F-a和P-d是反映它们的合成的属名。
C.丙烯酰胺的合成 .
1. 苄基丙烯酰胺的合成
通过使用Tamaddon等人在Tetrahedron Letters2007,48(21), 3643-3646中描述的Ritter反应由丙烯腈和苄基醇的反应获得苄基丙烯酰胺。
2. 苯基丙烯酰胺的合成
经由苯胺的酰化反应接着3-氯丙酰基酰胺中间产物（中间产物1）的β-消除合成苯基丙烯酰胺。
将苯胺（0.1摩尔）溶解在乙酸乙酯（80毫升）中。将溶解在水（100毫升）中的Na2CO3（12.72克，0.12摩尔）添加到反应混合物中并冷却至0℃。在恒定搅拌下经20分钟加入溶解在20毫升乙酸乙酯中的3-氯丙酰氯（13.86克，0.11摩尔）。该温度保持在0℃。使反应在室温下再继续1小时。在过滤后，分离有机相，用水洗涤两次并经MgSO4干燥。减压蒸发溶剂，从MeOH/w水中重结晶产生中间体1（收率 = 98%, mp = 118-120℃）。
将中间体1（80毫摩尔）和三乙胺（160毫摩尔）溶解在乙酸乙酯（170毫升）中。将该混合物回流24小时。使反应混合物冷却至室温。过滤除去盐。有机馏分用80毫升3 N HCl萃取两次，经Na2SO4干燥并减压蒸发。收率 = 89.6%，mp = 106-108℃。
D.磺酰胺单体-1的合成
通过EP 894 622 (Fuji Photo Film Co.)中描述的方法合成磺酰胺单体-1。Hofmann等人在Makromoleculare Chemie1976,177, 1791-1813中描述了磺酰胺-3的合成。
E.本发明的树脂和对比树脂的合成
根据下列程序制备根据本发明的树脂（本发明的聚合物1至13）和对比聚合物1。在表4中给出单体组成，并在表5中给出引发温度、以分钟计的后引发（post-initiation）时间和分子量（GPC）。
在250毫升反应器中，将单体（总共70毫摩尔）添加到35.4克γ-丁内酯（GBL）中并在200 rpm下搅拌的同时将该混合物加热至140℃。在单体混合物完全溶解后，使反应混合物冷却至如表4中所示的引发温度。立刻加入80微升Trigonox DC-50（0.14毫摩尔，可购自AKZO NOBEL），此后立即加入在GBL中的1121微升Trigonox-141（0.7毫摩尔，可购自AKZO NOBEL）的25重量%溶液。将温度降至引发后温度。在75℃加入813微升在1-甲氧基-2-丙醇中的33重量%V-59（1.4毫摩尔，可购自Wako Fine Chemical Co.）。使聚合继续至少30分钟（表4）。用19.0毫升1-甲氧基-2-丙醇稀释反应混合物。使反应混合物冷却至室温。该粘合剂溶液不含残留单体。该溶液不经进一步提纯直接用于制备涂层溶液。根据相同方法通过将用于后引发的V-59换成874微升在1-甲氧基-2-丙醇中的20重量% V-601（1.4毫摩尔，可购自Wako Fine Chemical Co.）（其用于在105℃在4小时中后引发）合成本发明的聚合物10和12。
在作为反应溶剂的二甲基乙酰胺（DMA）中合成本发明的聚合物1、5、6、7、8、11和13。该方法类似于上述方法，只是490微升在DMA中的33重量% V-59（0.84毫摩尔，可购自Wako Fine Chemical Co.）用于在75℃的引发步骤且不需要在140℃的预热来使单体完全溶解。在后引发后，使反应物沉淀到去离子水中，经Büchner过滤并在真空中在45℃干燥8小时。该黄白色粉末不含残留单体。
使用薄层色谱法与不同单体的原始样品比较分析残留单体的存在。分别使用Partisil KC18F板（Whatman供应）和MeOH/0.5 M NaCl 60/40作为固定和流动相。在所有样品中都没有检出残留单体。
通过尺寸排阻色谱法（SEC），通过使用二甲基乙酰胺/0.21%LiCl作为洗脱剂和相对于聚苯乙烯标样校准的3个混合-B柱分析共聚物的分子量（M n、M w、M w/M n）。分析结果列在表4中。
表4：对比聚合物1和本发明的聚合物1至13的单体组成
Figure 638219DEST_PATH_IMAGE040
Figure 473188DEST_PATH_IMAGE041
Figure 879079DEST_PATH_IMAGE043
表5：实验数据和分析结果
  引发温度/溶剂* 后引发温度/时间 M n M w M w/M n
对比聚合物1 105℃/GBL 130℃/240 min 40,740 129,760 3.18
本发明的聚合物1 75℃/DMA 75℃/240 min 98,100 462,050 4.71
本发明的聚合物2 102℃/GBL 75℃/240 min 62,200 344,600 5.54
本发明的聚合物3 100℃/GBL 75℃/30 min 56,700 199,580 3.52
本发明的聚合物4 102℃/GBL 无 54,800 409,360 7.47
本发明的聚合物5 75℃/DMA 75℃/240 min 78,400 248,200 3.16
本发明的聚合物6 75℃/DMA 75℃/120 min 71,600 189,000 2.64
本发明的聚合物7 75℃/DMA 无 151,200 319,000 2.11
本发明的聚合物8 75℃/DMA 75℃/240 min 56,000 163,300 2.92
本发明的聚合物9 100℃/GBL 75℃/120 min 87,500 501,500 5.73
本发明的聚合物10 100℃/GBL 105℃/240min 48,500 152,400 3.14
本发明的聚合物11 75℃/DMA 75℃/240 min 46,800 102,000 2.18
本发明的聚合物12 100℃/GBL 105℃/240 min 37,000 138,300 3.74
本发明的聚合物13 75℃/DMA 75℃/240 min 46,800 102,000 2.18
*GBL: γ-丁内酯；DMA: N,N-二甲基乙酰胺。
II. 平版印刷载体S-01的制备
0.30毫米厚的铝箔通过用70℃的含有34克/升NaOH的水溶液喷6秒来脱脂，并用软化水漂洗3.6秒。然后在含有15克/升HCl、15克/升SO4 2-离子和5克/升Al3+离子的水溶液中在37℃的温度和大约100 A/dm2的电流密度（大约800 C/dm2的电荷密度）下使用交流电将该箔片电化学粒化8秒。此后通过在80℃用含有145克/升硫酸的水溶液蚀刻5秒来将该铝箔去污并用软化水漂洗4秒。随后将该箔片在含有145克/升硫酸的水溶液中在57℃的温度和33A/dm2的电流密度（330 C/dm2的电荷密度）下阳极氧化10秒，随后用软化水漂洗7秒并在70℃用含有2.2克/升聚乙烯基膦酸的溶液后处理4秒（通过喷涂），用软化水漂洗3.5秒并在120℃干燥7秒。
由此获得的载体以0.35-0.4微米的表面粗糙度Ra（用干涉仪 NT1100测量）和4.0克/平方米的阳极重量为特征。
III.包含根据结构（I）或（II）的苯并
Figure 216519DEST_PATH_IMAGE044
嗪化合物的试样和印刷版前体
1.试样TS-01至TS-13的制备
试样是通过将涂层溶液施加到上述平版印刷载体S-01上而制成的TS-01至TS-13。该涂层溶液含有溶解在下列溶剂的混合物中的如表6中规定的成分：53体积%四氢呋喃、20体积% Dowanol PM（1-甲氧基-2-丙醇，可购自DOW CHEMICAL Company）和27体积% γ-丁内酯。该涂层溶液以20微米的湿涂层厚度施加，随后在135℃干燥3分钟。各成分的以克/平方米计的干涂层重量显示在表6中。
表6：干涂层重量
Figure 859990DEST_PATH_IMAGE045
（1）见上表4和5；
（2）结晶紫，可购自CIBA-GEIGY；
（3）TEGOGLIDE 410是聚硅氧烷和聚(环氧烷)的共聚物，可购自TEGO CHEMIE SERVICE GmbH；
（4）苯并
Figure 195157DEST_PATH_IMAGE044
嗪交联剂1、2和3：见上文。
2.化学耐受性试验
如下评测试样的化学耐受性。使各试样TS-01至TS-13的一部分经过在270℃和1.1米/分钟下工作的动态烘箱（来自Systemtechnik Haase GmbH的Top Line OG15动态烘箱）。这产生所谓的“烘焙试样”。
随后，将一滴40微升RevivaPlate（可购自Agfa Graphics N.V.）施加到烘焙试样的涂层的表面上并在此停留3分钟。最后，用棉垫擦去该滴，用自来水冲洗试样并留置干燥。
用GretagMacBeth D19c密度计（可购自Gretag-Macbeth AG）测量所造成的相对涂层损失（RCL）并如下规定：
相对涂层损失(RCL, %)= [1 – (与RevivaPlate接触3分钟后的光学密度/不与RevivaPlate*接触的光学密度] x 100
*：可购自Agfa Graphics N.V.。
3.化学耐受性试验的结果
烘焙试样的与RevivaPlate（版清洁剂，可购自Agfa Graphics N.V.）接触3分钟的结果列在表7中。
表7：化学耐受性试验的结果
试样 RCL* (%)
TS-01, 对比例 100
TS-02, 本发明 43
TS-03, 本发明 16
TS-04, 本发明 8
TS-05, 本发明 2
TS-06, 本发明 49
TS-07, 本发明 16
TS-08, 本发明 7
TS-09, 本发明 2
TS-10, 本发明 75
TS-11, 本发明 24
TS-12, 本发明 16
TS-13, 本发明 10
* 相对涂层损失：见上文
这些结果表明，所述含苯并
Figure 2707DEST_PATH_IMAGE044
嗪基团的化合物提供烘焙后的涂层的化学耐受性的实质改进。
4.印刷版前体PPP-01至PPP-13的制备
通过首先在上述载体S-01上施加含有溶解在下列溶剂的混合物中的如表8中规定的成分的涂层溶液，制造印刷版前体PPP-01至PPP-13：53体积%四氢呋喃、20体积%Dowanol PM（1-甲氧基-2-丙醇，可购自DOW CHEMICAL Company）和27体积% γ-丁内酯。该涂层溶液以20微米的湿涂层厚度施加，随后在135℃干燥3分钟。
表8：第一涂层的组成
Figure 81521DEST_PATH_IMAGE046
（1）见上表4和5；
（2）结晶紫，可购自CIBA-GEIGY；
（3）TEGOGLIDE 410是聚硅氧烷和聚(环氧烷)的共聚物，可购自TEGO CHEMIE SERVICE GmbH；
（4）苯并
Figure 579499DEST_PATH_IMAGE047
嗪交联剂1、2和3：见上文。
随后，在该涂布载体上施加含有溶解在下列溶剂的混合物中的如表9中规定的成分的第二涂层溶液：50 体积%MEK、50 体积%Dowanol PM，其是可购自DOW CHEMICAL Company的1-甲氧基-2-丙醇。该第二涂层溶液以16微米的湿涂层厚度施加，随后在125℃干燥3分钟。各成分的以克/平方米计的干涂层重量显示在表9中。获得印刷版前体PPP-01至PPP-13。
表9：第二涂层的组成
  第二涂层
成分 克/平方米
Alnovol SPN402 (1) 0.653
SOO94 (2) 0.025
结晶紫(3) 0.010
Tegoglide 410 (4) 0.001
TMCA (5) 0.056
（1）Alnovol SPN402是可购自Clariant GmbH的m,p-甲酚-甲酚-二甲苯酚 甲醛线型酚醛清漆树脂在Dowanol PM中的44.0重量%溶液。
（2）SOO94是红外吸收花青染料，可购自FEW CHEMICALS；上文给出SOO94的化学结构（IR-1）。
（3）结晶紫，可购自CIBA-GEIGY。
（4）TEGOGLIDE 410是聚硅氧烷和聚(环氧烷)的共聚物，可购自TEGO CHEMIE SERVICE GmbH。
（5）TMCA是3,4,5-三甲氧基肉桂酸
Figure 147883DEST_PATH_IMAGE048
。
5.成像和加工
用具有20 W热头的以150 rpm运行的Creo Trendsetter 3244（可获自Kodak的外鼓制版机曝光所得印刷版前体PPP-01至PPP-13。成像分辨率合计2400 dpi。使各印刷版前体暴露在几种能量密度下（曝光序列）。
随后在Elantrix 85H加工机（可购自Agfa Graphics N.V.的加工装置）中加工曝光的印刷版前体。显影剂段装有Energy Elite Improved Developer（可购自Agfa Graphics N.V.），胶/整饰剂段装有RC795c（可购自Agfa Graphics N.V.）。显影剂温度为25℃，显影剂停留时间总计22秒。
6.灵敏度结果.
在加工过的版上以1x1像素棋盘图案具有52%点面积覆盖率（用可购自GretagMacbeth AG的GretagMacbeth D19C密度计测得）时的能量密度测定灵敏度。灵敏度结果列在表10中。
表10：灵敏度结果.
印刷版 灵敏度 mJ/cm2
PP-01；对比例 108
PP-02；本发明 110
PP-03；本发明 102
PP-04；本发明 106
PP-05；本发明 108
PP-06；本发明 108
PP-07；本发明 147
PP-08；本发明 149
PP-09；本发明 136
PP-10；本发明 136
PP-11；本发明 131
PP-12；本发明 136
PP-13；本发明 132
表10中的结果表明，用本发明的印刷版，即包含所述含苯并
Figure 364101DEST_PATH_IMAGE047
嗪基团的化合物的印刷版获得的灵敏度类似于现有技术的印刷版（不含苯并
Figure 558191DEST_PATH_IMAGE047
嗪化合物的印刷版）的灵敏度。
IV.包含根据结构（III）、（V）或（VII）的苯并
Figure 910675DEST_PATH_IMAGE047
嗪化合物的试样和印刷版前体
1.试样TS-14至TS-20的制备
根据与实施例1中相同的程序制备试样TS-14至TS-20。试样TS-14至TS-20中各成分的以克/平方米计的干涂层重量显示在表11中。
表11：试样TS-14至TS-20的成分
Figure 853223DEST_PATH_IMAGE049
（1）见上表4和5。
（2）结晶紫，可购自CIBA-GEIGY。
（3）TEGOGLIDE 410是聚硅氧烷和聚(环氧烷)的共聚物，可购自TEGO CHEMIE SERVICE GmbH。
2.化学耐受性试验的结果
根据与实施例1中所述相同的程序在烘焙的试样TS-14至TS-20上进行化学耐受性试验。结果列在表12中。
表12：化学耐受性试验的结果
试样 RCL* (%)
TS-14,对比例 100
TS-15,本发明 37
TS-16,本发明 18
TS-17,本发明 7
TS-18,本发明 18
TS-19,本发明 25
TS-20,本发明 30
*：相对涂层损失：见上文
结果表明，所述含苯并
Figure 353474DEST_PATH_IMAGE050
嗪基团的化合物造成烘焙后的涂层的化学耐受性的实质改进。
3. 耐磨性试验
通过耐磨性试验测量印刷版的机械耐受性。如下测试烘焙的试样TS-14（对比例）和TS-16和TS-17（都是本发明的实施例）的耐磨性。
六个直径15毫米的圆形橡胶（硬度75 Shore A）印模同时与试样接触旋转，各具有9.5 N载荷且同时涂层是湿的（每接触面积4毫升软化水）。对各试样施加50个试验周期，各试验周期由在100 rpm旋转速度下的25秒接触和1秒无接触（以允许软化水再覆盖接触区）构成。
以此方式测试试样TS-14、TS-16和TS-17各五个样品，导致总共30个接触区域受到磨损。
如下进行所造成的试样接触区的磨损的定量评估。在旋转接触磨损之前和之后用HP Scanjet 5590P（可购自HP）扫描各个受到磨损的30个接触区。切断自动曝光和颜色调节参数设置，相反通过手动设置下列曝光参数值：对高亮处、阴影和中间影调而言，分别为“0”、“-69”和“0”。将所得图像转换成8位灰度图像（0至255的灰度值，由此0代表“黑色”，255代表“白色”）。由测得的涂层灰度值变化计算涂层磨损：
相对涂层磨损(RCW, %) =  [(旋转磨损后的灰度值/旋转磨损前的灰度值)-1] X 100
烘焙试样TS-14、TS-16和TS-17的结果列在表13中。
表13：磨损试验的结果
试样 RCW* (%)
TS-14,对比例 21.4
TS-16,本发明 17.4
TS-17,本发明 12.6
*相对涂层磨损，见上文
结果表明，所述含苯并
Figure 321562DEST_PATH_IMAGE050
嗪基团的化合物显著改进烘焙后的试样的耐磨性。
4.印刷版前体PPP-14和17的制备
通过首先在上述载体S-01上涂覆溶解在下列溶剂的混合物中的如表14中规定的涂层溶液，制造印刷版前体PPP-14和PPP-17：53体积%四氢呋喃、20体积%Dowanol PM（1-甲氧基-2-丙醇，可购自DOW CHEMICAL Company）和27体积%γ-丁内酯。该涂层溶液以20微米的湿涂层厚度施加，随后在135℃干燥3分钟。
表14：PPP-14和PPP-17的第一涂层的组成
  PPP-14, 对比例 PPP-17, 本发明
成分* 克/平方米 克/平方米
对比聚合物1 (1) 0.660 -
结晶紫(2) 0.010 0.010
Tegoglide 410 (3) 0.001 0.001
本发明的聚合物8 (1) - 0.660
1) 见上表4和5；
2) 结晶紫，可购自CIBA-GEIGY；
3) TEGOGLIDE 410是聚硅氧烷和聚(环氧烷)的共聚物，可购自TEGO CHEMIE SERVICE GmbH。
随后，在该涂布的载体上施加含有溶解在下列溶剂的混合物中的如上表9（实施例1）中规定的成分的第二涂层溶液：50 体积%MEK、50 体积%Dowanol PM，其是可购自DOW CHEMICAL Company的1-甲氧基-2-丙醇。该第二涂层溶液以16微米的湿涂层厚度施加，随后在125℃干燥3分钟。
5.成像和加工.
在加工过的版上以1x1像素棋盘图案具有52%点面积覆盖率（用可购自GretagMacbeth AG的GretagMacbeth D19C密度计测得）时的能量密度测定灵敏度。灵敏度结果列在表15中。
表15：灵敏度结果.
印刷版 灵敏度 mJ/cm2
PP-14,对比例 103
PP-17,本发明 108
表15中的结果表明，本发明的印刷版，即包含所述含苯并
Figure 794131DEST_PATH_IMAGE050
嗪基团的化合物的印刷版，获得的灵敏度类似于现有技术的印刷版（不含苯并
Figure 642002DEST_PATH_IMAGE050
嗪化合物的印刷版）的灵敏度。

Claims (15)

1.正性工作的平版印刷版前体，其在具有亲水表面或带有亲水层的载体上包含包括红外吸收剂和含苯并
Figure 2010800269732100001DEST_PATH_IMAGE001
嗪基团的化合物的热和/或光敏涂层。
2.根据权利要求1的印刷版前体，其中所述含苯并
Figure 817532DEST_PATH_IMAGE001
嗪基团的化合物是碱溶性树脂。
3.根据权利要求2的印刷版前体，其中该碱溶性树脂包含衍生自根据下列结构（V）的单体的单体单元：
Figure 796989DEST_PATH_IMAGE002
其中
R3至R6代表氢，卤素，、任选取代的直链、支链或环状烷基、芳烷基、杂-芳烷基、(二)烷基胺、芳基、杂芳基或包含烯键式不饱和的可聚合基团的结构部分，和/或它们的组合；
相邻R3至R5每一可代表形成一个或多个环状结构所必需的原子；且
条件是R3至R6中的至少一个代表或包含包括烯键式不饱和的可聚合基团的结构部分。
4.根据权利要求3的印刷版前体，其中所述烯键式不饱和的可聚合基团由下式表示：
其中
X代表氧、硫或任选取代的氮；
m代表0、1或大于1的整数；且
R7代表氢、烷基、烷氧基、羧酸或酯基团；且
*代表所述烯键式不饱和的可聚合基团经此连接至结构（V）所用的键。
5.根据前述权利要求2-4任一项的印刷版前体，其中该碱溶性树脂包含0.5至10摩尔%的所述根据结构（V）的单体单元。
6.根据前述权利要求2-5任一项的印刷版前体，其中该碱溶性树脂进一步包含选自丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺或马来酰亚胺或包括磺酰胺基团的单体单元的单体单元。
7.根据前述权利要求2-6任一项的印刷版前体，其中该碱溶性树脂进一步包含包括–NRj-SO2-、-SO2-NRk-所示的磺酰胺基团的单体单元，其中Rj和Rk各自独立地代表氢、任选取代的烷基、烷酰基、烯基、炔基、环烷基、杂环、芳基、杂芳基、芳烷基、杂芳烷基或它们的组合。
8.根据权利要求7的印刷版前体，其中该碱溶性树脂包含50至80摩尔%的包括磺酰胺基团的单体单元。
9.根据权利要求1的印刷版前体，其中所述含苯并
Figure 2010800269732100001DEST_PATH_IMAGE005
嗪基团的化合物由下列结构之一表示：
Figure 34252DEST_PATH_IMAGE006
其中
Q和Q’独立地代表任选取代的烷叉基或杂-烷叉基、任选取代的氮、氧、砜、亚砜、羰基、硫醚、硫醇或氧化膦基团；
R10代表氢或任选取代的烷基、脂环族烷基、芳烷基、芳基或杂芳基；
R11、R12和R13独立地代表氢、卤素或任选取代的烷基、脂环族烷基、芳烷基、芳基或杂芳基；且
n和n’独立地代表1至4的整数。
10.根据权利要求9的印刷版前体，其中所述含苯并嗪基团的化合物以0.01克/平方米至1克/平方米的量存在于该涂层中。
11.根据前述权利要求任一项的印刷版前体，其中该涂层包含两层，第一层包含所述含苯并嗪基团的化合物，位于所述第一层上的第二层包含酚醛树脂。
12.制造正性工作的平版印刷版的方法，包括下列步骤：
a) 使根据前述权利要求任一项的热敏平版印刷版前体依图像暴露在热和/或红外线下；
b) 用含水碱性显影剂将所述依图像曝光的前体显影以溶解曝光的区域；
c) 烘焙所得的版。
13.包含衍生自根据下列结构的单体的单体单元的碱溶性树脂：
Figure 62754DEST_PATH_IMAGE009
其中
R1代表任选取代的苯并
Figure 323971DEST_PATH_IMAGE007
嗪基团；
R2代表氢或任选取代的烷基、烷氧基、羧酸或酯基团；
X代表任选取代的氮、氧或硫；
m代表0、1或大于1的整数。
14.根据权利要求13的碱溶性树脂，进一步包含选自丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺或马来酰亚胺或包括磺酰胺基团的单体单元的单体单元。
15.根据权利要求14的碱溶性树脂，进一步包含包括磺酰胺基团的单体单元。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104402778A (zh) * 2014-12-03 2015-03-11 山东本元功能材料有限公司 一种苄磺酰胺取代的丙烯酰胺衍生物
CN105824192A (zh) * 2016-04-05 2016-08-03 浙江康尔达新材料股份有限公司 一种红外敏感组合物及利用该组合物制得的印版前体
TWI643879B (zh) * 2016-12-30 2018-12-11 廣東生益科技股份有限公司 一種含有苯並惡嗪的樹脂組合物的製備方法及由其製成的預浸料和層壓板

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2933278B1 (en) 2014-04-17 2018-08-22 Agfa Nv (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
ES2617557T3 (es) 2014-05-15 2017-06-19 Agfa Graphics Nv Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica
EP2955198B8 (en) 2014-06-13 2018-01-03 Agfa Nv Ethylene/vinyl acetal-copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
EP2963496B1 (en) 2014-06-30 2017-04-05 Agfa Graphics NV A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers
JP6439557B2 (ja) * 2015-04-06 2018-12-19 Jsr株式会社 特定構造を有する化合物およびこれを含む感光性組成物
EP3130465B1 (en) 2015-08-12 2020-05-13 Agfa Nv Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
JP2019200244A (ja) * 2018-05-14 2019-11-21 三菱瓦斯化学株式会社 リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法
US11650503B2 (en) * 2018-08-02 2023-05-16 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Hard mask-forming composition and method for manufacturing electronic component

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1392060A (zh) * 2001-06-20 2003-01-22 富士胶片株式会社 平版印刷板前体和平版印刷板的生产方法
US20040068084A1 (en) * 2002-10-03 2004-04-08 Kuen-Yuan Hwang Azaoxa heterocyclic compound and method of preparing the same
EP1621338A1 (en) * 2004-07-27 2006-02-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1826001A1 (en) * 2006-02-28 2007-08-29 Agfa Graphics N.V. A heat-sensitive positive-working lithographic printing plate precursor

Family Cites Families (60)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1447963B2 (de) 1965-11-24 1972-09-07 KaIIe AG, 6202 Wiesbaden Biebnch Verfahren zur herstellung einer offsetdruckform aus einem vorsensibilisierten druckplattenmaterial
US4045232A (en) 1973-11-12 1977-08-30 Topar Products Corporation Printing ink composition
US5163368B1 (en) 1988-08-19 1999-08-24 Presstek Inc Printing apparatus with image error correction and ink regulation control
CA2016687A1 (en) 1989-05-31 1990-11-30 Agfa-Gevaert Naamloze Vennootschap Dyes and dye-donor elements for use in thermal dye sublimation transfer
US4981517A (en) 1989-06-12 1991-01-01 Desanto Jr Ronald F Printing ink emulsion
DE4007428A1 (de) 1990-03-09 1991-09-12 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE4027301A1 (de) 1990-08-29 1992-03-05 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
US5174205B1 (en) 1991-01-09 1999-10-05 Presstek Inc Controller for spark discharge imaging
US5372915A (en) 1993-05-19 1994-12-13 Eastman Kodak Company Method of making a lithographic printing plate containing a resole resin and a novolac resin in the radiation sensitive layer
DE4445820A1 (de) 1994-12-21 1996-06-27 Hoechst Ag Verfahren zum Entwickeln bestrahlter, strahlungsempfindlicher Aufzeichnungsmaterialien
US5972556A (en) * 1995-09-14 1999-10-26 Agfa-Gevaert N.V. Thermographic and photothermographic materials for producing lithographic printing elements and processes therefor
US5641608A (en) 1995-10-23 1997-06-24 Macdermid, Incorporated Direct imaging process for forming resist pattern on a surface and use thereof in fabricating printing plates
CA2225567C (en) 1996-04-23 2003-01-21 Horsell Graphic Industries Limited Heat-sensitive composition and method of making a lithographic printing form with it
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
EP0864420B2 (en) 1997-03-11 2005-11-16 Agfa-Gevaert Heat-sensitive imaging element for making positive working printing plates
JP2002510404A (ja) 1997-07-05 2002-04-02 コダック・ポリクローム・グラフィックス・カンパニー・リミテッド パターン形成方法および放射線感受性材料
JP3779444B2 (ja) 1997-07-28 2006-05-31 富士写真フイルム株式会社 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
GB9722861D0 (en) 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms
EP0901902A3 (en) 1997-09-12 1999-03-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition for use with an infrared laser
GB9722862D0 (en) 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern formation
DE19803564A1 (de) 1998-01-30 1999-08-05 Agfa Gevaert Ag Polymere mit Einheiten aus N-substituiertem Maleimid und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen
DE69925053T2 (de) 1998-02-04 2006-03-02 Mitsubishi Chemical Corp. Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes
EP0950517B1 (en) 1998-04-15 2001-10-04 Agfa-Gevaert N.V. A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
EP0950518B1 (en) 1998-04-15 2002-01-23 Agfa-Gevaert N.V. A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
GB9811813D0 (en) 1998-06-03 1998-07-29 Horsell Graphic Ind Ltd Polymeric compounds
US6352811B1 (en) 1998-06-23 2002-03-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
DE19834746A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
ATE318705T1 (de) 1998-08-24 2006-03-15 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliche harzzusammensetzung und flachdruckplatte
DE69906818T2 (de) 1998-11-16 2004-02-26 Mitsubishi Chemical Corp. Positiv-arbeitende photo-empfindliche lithographische druckplatte und verfahren zu ihrer herstellung
US6140392A (en) 1998-11-30 2000-10-31 Flint Ink Corporation Printing inks
DE69909734T2 (de) 1999-02-02 2004-04-15 Agfa-Gevaert Verfahren zur Herstellung positiv arbeitender Druckplatten
JP3996305B2 (ja) 1999-02-15 2007-10-24 富士フイルム株式会社 ポジ型平版印刷用材料
US6602645B1 (en) 1999-05-21 2003-08-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition and planographic printing plate base using same
JP4480812B2 (ja) 1999-07-27 2010-06-16 富士フイルム株式会社 感光又は感熱性ポジ型平版印刷版原版、および製版方法
US6706466B1 (en) 1999-08-03 2004-03-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6251559B1 (en) 1999-08-03 2001-06-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings
EP1093934B1 (en) 1999-10-19 2004-02-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition and planographic printing plate using the same
DE60224114T2 (de) 2002-03-06 2008-12-04 Agfa Graphics N.V. Verfahren zum Entwickeln eines wärmeempfindlichen lithographischen Druckplattenvorläufers mit einer Gummilösung
DE60224642T2 (de) 2002-04-26 2009-01-15 Agfa Graphics N.V. Negativ-arbeitender thermischer Flachdruckplattenvorläufer, der einen Aluminiumträger mit einer glatten Oberfläche enthält
DE60304528T2 (de) 2002-09-19 2006-12-07 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Lithographischer Druckplattenvorläufer
CN100439120C (zh) 2002-10-04 2008-12-03 爱克发印艺公司 制造平版印刷版前体的方法
EP1551643B1 (en) 2002-10-04 2008-01-09 Agfa Graphics N.V. Method of making a lithographic printing plate precursor
DE60315692T2 (de) 2002-10-04 2008-06-05 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur herstellung eines lithographischen druckplattenvorläufers
EP1554347B1 (en) 2002-10-15 2007-05-30 Agfa Graphics N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
DE60320436T2 (de) 2002-10-15 2009-05-14 Agfa Graphics N.V. Polymer für wärmeempfindliche lithographische druckplattenvorläufer
EP1554324B1 (en) 2002-10-15 2008-05-28 Agfa Graphics N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
WO2004035310A1 (en) 2002-10-15 2004-04-29 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
DE602004008224T2 (de) 2003-02-11 2008-05-15 Agfa Graphics N.V. Wärmeempfindlicher lithographischer druckplattenvorläufer
DE60324032D1 (de) 2003-07-17 2008-11-20 Kodak Graphic Comm Gmbh Verfahren zum behandeln von bilderzeugungsmaterialien
DE60330201D1 (de) 2003-08-13 2009-12-31 Agfa Graphics Nv Verfahren zum Nacheinbrennen lithographischer Druckplatten
EP1506858A3 (en) 2003-08-13 2005-10-12 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
ATE533089T1 (de) 2004-05-19 2011-11-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer fotopolymer- druckplatte
EP1614540B1 (en) 2004-07-08 2008-09-17 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
EP1614538B1 (en) 2004-07-08 2009-03-04 Agfa Graphics N.V. Method for making a negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor.
EP1614539B1 (en) 2004-07-08 2008-09-17 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
CN1984778B (zh) 2004-07-08 2010-12-29 爱克发印艺公司 阴片热敏平版印刷版前体的制备方法
JP4449079B2 (ja) 2005-02-21 2010-04-14 株式会社カシオ日立モバイルコミュニケーションズ マルチモード発信制御方法及びマルチモード移動通信装置
TWI295288B (en) * 2006-08-17 2008-04-01 Univ Nat Chunghsing New route for the synthesis of benzoxazine
JP5032362B2 (ja) 2007-03-12 2012-09-26 ローム アンド ハース カンパニー ヒドロキシフェニルアクリレート系モノマーおよびポリマー
US20090264317A1 (en) * 2008-04-18 2009-10-22 University Of Massachusetts Functionalized nanostructure, methods of manufacture thereof and articles comprising the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1392060A (zh) * 2001-06-20 2003-01-22 富士胶片株式会社 平版印刷板前体和平版印刷板的生产方法
US20040068084A1 (en) * 2002-10-03 2004-04-08 Kuen-Yuan Hwang Azaoxa heterocyclic compound and method of preparing the same
EP1621338A1 (en) * 2004-07-27 2006-02-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1826001A1 (en) * 2006-02-28 2007-08-29 Agfa Graphics N.V. A heat-sensitive positive-working lithographic printing plate precursor

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104402778A (zh) * 2014-12-03 2015-03-11 山东本元功能材料有限公司 一种苄磺酰胺取代的丙烯酰胺衍生物
WO2016086762A1 (zh) * 2014-12-03 2016-06-09 青岛蓝帆新材料有限公司 一种苄磺酰胺取代的丙烯酰胺衍生物
CN104402778B (zh) * 2014-12-03 2017-04-05 青岛蓝帆新材料有限公司 一种苄磺酰胺取代的丙烯酰胺衍生物
CN105824192A (zh) * 2016-04-05 2016-08-03 浙江康尔达新材料股份有限公司 一种红外敏感组合物及利用该组合物制得的印版前体
TWI643879B (zh) * 2016-12-30 2018-12-11 廣東生益科技股份有限公司 一種含有苯並惡嗪的樹脂組合物的製備方法及由其製成的預浸料和層壓板
US11180617B2 (en) 2016-12-30 2021-11-23 Shengyi Technology Co., Ltd. Method for preparing benzoxazine-containing resin composition, and prepreg and laminate made therefrom

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