JP2003316023A - 平版印刷版の処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 長期間のランニング処理によっても赤
外線感光層成分に由来するカスの付着がなく、インキ着
肉不良や地汚れ等が発生することなく、現像液中にヘド
ロが少なく、安定に処理することができ、かつ画像部に
キズが入りにくい平版印刷版の処理方法を提供するこ
と。 【解決手段】 支持体上に赤外線感光層を有する
平版印刷版を画像露光後、アルカリ現像液を用いて現像
処理する処理方法において、現像開始時の該アルカリ現
像液が非還元糖とアルカリ可溶性樹脂を含有することを
特徴とする平版印刷版の処理方法。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、赤外線感光層を有
する平版印刷版の処理方法に関する。 【０００２】 【従来の技術】赤外線レーザー用平版印刷版の製版工程
では、赤外線感光層成分を現像浴で現像液に溶解させ、
次いで水洗、ガム引きを自動現像機によって行うのが一
般的である。版の処理量の増大に伴い、現像浴中では感
光層成分の濃度が増大し、これに伴って感光層成分がカ
スとして沈殿したり、現像液に溶解しきれず、版上にカ
スとなって付着し、インキ着肉不良や地汚れ等が発生す
ることがしばしば起こった。この問題を解決するために
は、高アルカリ性の現像液を用い、かつよりアルカリ性
の高い現像補充液を用いることも提案されているが、ア
ルカリ活性度の変化が大きいため現像安定性が十分でな
く、特に長期間のランニング処理においては問題が大き
かった。また種々の界面活性剤が検討されているが、十
分ではなかった。上記インキ着肉不良や地汚れの発生を
防止することを目的として、特開平８−１７１２１４号
公報には、珪酸塩とアルカリ可溶性樹脂を含有する水系
アルカリ現像液が提案されているが、現像液中にヘドロ
が発生しやすく、またポジ型赤外線感光層を有する平版
印刷版に使用すると画像部にキズが入りやすいという問
題があった。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、長期間のランニング処理によっても赤外線感光層成
分に由来するカスの付着がなく、インキ着肉不良や地汚
れ等が発生することなく、現像液中にヘドロが少なく、
安定に処理することができ、かつ画像部にキズが入りに
くい平版印刷版の処理方法を提供することにある。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題を
解決すべく鋭意研究した結果、画像露光した感熱性平版
印刷版を、非還元糖と一定量のアルカリ可溶性樹脂を含
むアルカリ現像液で処理することにより、版にカスの付
着がなく、インキ着肉不良や地汚れ等が発生することな
く、また現像液中にヘドロが発生せず、安定に処理でき
ることを見出した。すなわち本発明は、支持体上に赤外
線感光層を有する平版印刷版を画像露光後、アルカリ現
像液を用いて現像処理する処理方法において、現像開始
時の該アルカリ現像液が非還元糖とアルカリ可溶性樹脂
を含有することを特徴とする平版印刷版の処理方法、に
関する。非還元糖とアルカリ可溶性樹脂を含むアルカリ
現像液を使用することにより、赤外線感光層の非画像部
に含まれる樹脂との親和性が増加し、効果を奏すると考
えられる。すなわち、ポジ型赤外線感光層は露光により
疎水性が解除されてアルカリ可溶化するが、本発明では
アルカリ可溶性樹脂及び非還元糖を有するアルカリ現像
液を使用することにより、更に赤外線感光層の現像性、
分散性が高まってカス付着が防止され、汚れ性も良好と
なると考えられる。また感光層画像部のキズは画像部
（未露光部）へのアルカリ現像液の浸透に起因すると考
えられるが、アルカリ可溶性樹脂及び非還元糖を有する
アルカリ現像液の使用により未露光部へのアルカリ現像
液の浸透性が抑制されるためと思われる。 【０００５】 【発明の実施の形態】以下本発明の赤外線感光層を有す
る平版印刷版（以下ＰＳ版と称する）の処理方法につい
て詳細に説明する。 （アルカリ現像液）本発明の方法において使用されるア
ルカリ現像液は、現像開始時において、少なくとも一種
の非還元糖と少なくとも一種のアルカリ可溶性樹脂を含
有することを特徴とする。このような現像液にはアルカ
リ金属の珪酸を含まないことが好ましい。現像液中にヘ
ドロが発生しやすく、また画像部にキズがつきやすいか
らである。このような現像液としては、少なくとも一つ
の塩基、緩衝剤、及び任意に界面活性剤を含有すること
が好ましい。また、かかる現像液には更に、現像安定化
剤等の後述する添加剤を本発明の効果を奏する範囲内で
添加することができる。以下、本発明において使用され
るアルカリ現像液の各成分について説明する。 【０００６】[アルカリ可溶性樹脂]アルカリ現像液に添
加されるアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、ノボラ
ック樹脂、水酸基やカルボキシル基等のアルカリ可溶性
基を有するビニル系樹脂が挙げられる。また、現像処理
する平版印刷版の赤外線感光層中に含まれているアルカ
リ可溶性樹脂と同じアルカリ可溶性樹脂を使用すること
がより好ましい。このような樹脂を使用することによ
り、赤外線感光層中の成分の現像性及び分散性が高ま
り、より高い本発明の効果を奏すると考えられる。本発
明に用いられるノボラック樹脂としては、フェノール類
とホルムアルデヒド又はケトンを酸触媒の存在下で縮合
して得られる樹脂が挙げられ、該フェノール類として
は、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾ
ール、ｐ−クレゾール、３,５−キシレノール、２,４−
キシレノール、２,５−キシレノール、カルバクロー
ル、チモール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノ
ン、ピロガロール、プロログルシン等が挙げられ、アル
デヒドとしては、ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フルフラ
ール等が挙げられる。これらのうち好ましいものはホル
ムアルデヒド及びベンズアルデヒドである。また、ケト
ンとしてはアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられ
る。 【０００７】上記フェノール類化合物は単独で又は２種
以上組み合わせてホルムアルデヒド又はケトンと縮合し
樹脂を得ることができる。これらのうち好ましいノボラ
ック樹脂は、フェノール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾ
ール及びｐ−クレゾールから選ばれる少なくとも1種と
ホルムアルデヒドとを共重縮合して得られる樹脂であ
り、例えば、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−
クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、ｏ−クレゾール・
ホルムアルデヒド樹脂、フェノール・ｐ−クレゾール・
ホルムアルデヒド共重合体樹脂、ｍ−クレゾール・ｐ−
クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、ｏ−ク
レゾール・ｐ−クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合
体樹脂、フェノール・ｍ−クレゾール・ｐ−クレゾール
・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、フェノール・ｏ−
クレゾール・ｐ−クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮
合体樹脂が挙げられる。更に上記のノボラック樹脂のう
ち、フェノール・ｍ−クレゾール・ｐ−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂が好ましい。また、ピロガロール・
アセトン樹脂も好ましい。上記ノボラック樹脂は単独で
用いてもよいし、また２種以上組合わせて用いてもよ
い。 【０００８】上記ノボラック樹脂の分子量（ポリスチレ
ン標準）としては、重量平均分子量Ｍｗが２.０×１０³
〜２.０×１０⁴で、数平均分子量Ｍｎが７.０×１０²〜
５.０×１０³の範囲内の値であることが好ましく、更
に、好ましくは、Ｍｗが３.０×１０³〜６.０×１０³、
Ｍｎが７.７×１０²〜１.２×１０³の範囲内の値であ
る。本発明におけるノボラック樹脂の分子量の測定は、
ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法）
によって行う。 【０００９】水酸基やカルボキシル基等のアルカリ可溶
性基を有するビニル系樹脂としては、例えば、下記一般
式(Ｘ)〜(ＸＶ)の少なくとも１つの構造単位を含む重合
体が挙げられる。 【００１０】 【化１】 【００１１】一般式（Ｘ）〜一般式（ＸＶ）において、
Ｒ^AおよびＲ^Bはそれぞれ水素原子、アルキル基又はカル
ボキシル基を表し、好ましくは水素原子である。Ｒ^Cは
水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、好まし
くは水素原子又はメチル基、エチル基等のアルキル基で
ある。Ｒ^D、Ｒ^Eは水素原子、アルキル基、アリール基又
はアラルキル基を表し、好ましくは水素原子である。Ａ
¹は窒素原子又は酸素原子と芳香族炭素原子とを連結す
る、置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、ｍ
は０〜１０の整数を表し、Ｂ¹は置換基を有していても
よいフェニレン基又は置換基を有してもよいナフチレン
基を表す。 【００１２】本発明に用いられる上記フェノール性水酸
基を有するビニル系重合体としては、共重合体型の構造
を有するものが好ましく、前記一般式(Ｘ)〜一般式(Ｘ
Ｖ)でそれぞれ示される構造単位と共重合させる単量体
としては、例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレ
ン、ブタジエン、イソプレン等のエチレン系不飽和オレ
フィン類、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ
−メチルスチレン、ｐ−クロロスチレン等のスチレン
類、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸
類、例えば、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸
等の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えば、アクリル酸
メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−ｎ−ブチル、
アクリル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル
酸−２−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロ
ロアクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル
酸エチル、メタクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族
モノカルボン酸のエステル類、例えば、アクリロニトリ
ル、メタアクリロニトリル等のニトリル類、例えば、ア
クリルアミド等のアミド類、例えば、アクリルアニリ
ド、p−クロロアクリルアニリド、ｍ−ニトロアクリル
アニリド、ｍ−メトキシアクリルアニリド等のアニリド
類、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾ
エ酸ビニル、酢酸ビニル等のビニルエステル類、例え
ば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イ
ソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニルエー
テル等のビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデンク
ロライド、ビニリデンシアナイド、例えば、１−メチル
−１−メトキシエチレン、１,１−ジメトキシエチレ
ン、１,２−ジメトキシエチレン、１,１一ジメトキシカ
ルボニルエチレン、１−メチル−１−ニトロエチレン等
のエチレン誘導体類、例えば、Ｎ−ビニルピロール、Ｎ
−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルインドール、Ｎ−ビ
ニルピロリデン、Ｎ−ビニルピロリドン等のＮ−ビニル
系単量体がある。これらのビニル系単量体は、不飽和二
重結合が開裂した構造で高分子化合物中に存在する。 【００１３】上記の単量体のうち脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。これらの単量体は、本発明に
用いられる重合体中にブロックまたはランダムのいずれ
かの状態で結合していてもよい。 【００１４】アルカリ可溶性樹脂はアルカリ現像液中に
０.０２〜１.０質量％含有させるのが好ましく、更に
０.０３〜０.０９質量％含有させるのがより好ましい。
アルカリ可溶性樹脂は、少なすぎると、カスの防止に効
果がなく、多すぎるとかえってカスの原因となる。 【００１５】[非還元糖]本発明において使用されるアル
カリ現像液には非還元糖を含む。かかる非還元糖とは、
遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さ
ない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型
少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体および
糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、
何れも本発明に好適に用いられる。トレハロース型少糖
類には、サッカロースやトレハロースがあり、配糖体と
しては、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油
配糖体などが挙げられる。また糖アルコールとしては
Ｄ,Ｌ−アラビット、リビット、キシリット、Ｄ,Ｌ−ソ
ルビット、Ｄ,Ｌ−マンニット、Ｄ,Ｌ−イジット、Ｄ,
Ｌ−タリット、ズリシットおよびアロズルシットなどが
挙げられる。更に二糖類の水素添加で得られるマルチト
ールおよびオリゴ糖の水素添加で得られる還元体（還元
水あめ）が好適に用いられる。これらの中で本発明に好
ましい非還元糖は糖アルコールとサッカロースであり、
特にＤ−ソルビット、サッカロース、還元水あめが適度
なｐＨ領域に緩衝作用があることと、低価格であること
で好ましい。 【００１６】これらの非還元糖は、単独もしくは二種以
上を組み合わせて使用でき、それらの現像液中に占める
割合は０.１〜３０質量％が好ましく、更に好ましく
は、１〜２０質量％である。この範囲以下では十分な緩
衝作用が得られず、またこの範囲以上の濃度では、高濃
縮化し難く、また原価アップの問題が出てくる。尚、還
元糖を塩基と組み合わせて使用した場合、経時的に褐色
に変色し、ｐＨも徐々に下がり、よって現像性が低下す
るという問題点がある。 【００１７】[塩基]非還元糖に組み合わせる塩基として
は従来より知られているアルカリ剤が使用できる。例え
ば、水酸化ナトリウム、同カリウム、同リチウム、燐酸
三ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、燐酸二ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、硼酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウムなどの無機アルカリ剤が挙げ
られる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、ト
リメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、
トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプ
ロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルア
ミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジ
イソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジ
アミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わ
せて用いられる。これらの中で好ましいのは水酸化ナト
リウム、同カリウムである。その理由は、非還元糖に対
するこれらの量を調整することにより広いｐＨ領域でｐ
Ｈ調整が可能となるためである。また、燐酸三ナトリウ
ム、同カリウム、炭酸ナトリウム、同カリウムなどもそ
れ自身に緩衝作用があるので好ましい。これらのアルカ
リ剤は現像液のｐＨを９.０〜１３.５の範囲になるよう
に添加され、その添加量は所望のｐＨ、非還元糖の種類
と添加量によって決められるが、より好ましいｐＨ範囲
は１０.０〜１３.２である。 【００１８】本発明における現像液には更に、糖類以外
の弱酸と強塩基からなるアルカリ性緩衝液が併用でき
る。かかる緩衝液として用いられる弱酸としては、解離
定数（ｐＫa）が１０.０〜１３.２のものが好ましい。
このような弱酸としては、Pergamon Press社発行のIONI
SATION CONSTANTS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUT
ION などに記載されているものから選ばれ、例えば２,
２,３,３-テトラフルオロプロパノール-1（ｐＫa １２.
７４）、トリフルオロエタノール（同１２.３７）、ト
リクロロエタノール（同１２.２４）などのアルコール
類、ピリジン−２−アルデヒド（同１２.６８）、ピリ
ジン−４−アルデヒド（同１２.０５）などのアルデヒ
ド類、サリチル酸（同１３.０）、３-ヒドロキシ-２-ナ
フトエ酸（同１２.８４）、カテコール（同１２.６）、
没食子酸（同１２.４）、スルホサリチル酸（同１１.
７）、３,４-ジヒドロキシスルホン酸（同１２.２）、
３,４-ジヒドロキシ安息香酸（同１１.９４）、１,２,
４-トリヒドロキシベンゼン（同１１.８２）、ハイドロ
キノン（同１１.５６）、ピロガロール（同１１.３
４）、ｏ−クレゾール（同１０.３３）、レゾルシノー
ル（同１１.２７）、ｐ−クレゾール（同１０.２７）、
ｍ−クレゾール（同１０.０９）などのフェノール性水
酸基を有する化合物、 【００１９】２−ブタノンオキシム（同１２.４５）、
アセトキシム（同１２.４２）、1,2-シクロヘプタンジ
オンヂオキシム（同１２.３）、２-ヒドロキシベンズア
ルデヒドオキシム（同１２.１０）、ジメチルグリオキ
シム（同１１.９）、エタンジアミド ジオキシム（同１
１.３７）、アセトフェノンオキシム（同１１.３５）な
どのオキシム類、アデノシン（同１２.５６）、イノシ
ン（同１２.５）、グアニン（同１２.３）、シトシン
（同１２.２）、ヒポキサンチン（同１２.１）、キサン
チン（同１１.９）などの核酸関連物質、他に、ジエチ
ルアミノメチルホスホン酸（同１２.３２）、１-アミノ
-３,３,３-トリフルオロ安息香酸（同１２.２９）、イ
ソプロピリデンジホスホン酸（同１２.１０）、１,１-
エチリデンジホスホン酸（同１１.５４）、１,１-エチ
リデンジホスホン酸1-ヒドロキシ（同１１.５２）、ベ
ンズイミダゾール（同１２.８６）、チオベンズアミド
（同１２.８）、ピコリンチオアミド（同１２.５５）、
バルビツル酸（同１２.５）などの弱酸が挙げられる。 【００２０】これらの弱酸の中で好ましいのは、スルホ
サリチル酸、サリチル酸である。これらの弱酸に組み合
わせる塩基としては、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウムおよび同リチウムが好適に用いられる。
これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わ
せて用いられる。上記の各種アルカリ剤は濃度および組
み合わせによりｐＨを好ましい範囲内に調整して使用さ
れる。 【００２１】［界面活性剤］本発明における現像液に
は、現像性の促進や現像カスの分散および印刷版画像部
の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々界面活性
剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤として
は、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界
面活性剤が挙げられる。界面活性剤の好ましい例として
は、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエ
チレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエ
チレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリ
セリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エ
ステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル
類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ
糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタ
ン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビト
ール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂
肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル
類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチ
レングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノ
ールアミド類、Ｎ,Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキル
アミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエ
タノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオ
キシドなどの非イオン性界面活性剤、 【００２２】脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキ
シアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、
ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホ
ン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキ
ルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩
類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテ
ル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリンナトリウム
塩、Ｎ−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム
塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキ
ルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステ
ル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリ
オキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫
酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エス
テル塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合物の部分鹸
化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合物の部分鹸
化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類な
どのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類、テトラ
ブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩
類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチ
レンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤、カ
ルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタ
イン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類などの
両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げた界面活性剤の
中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキシメチ
レン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレンなど
のポリオキシアルキレンに読み替えることもでき、それ
らの界面活性剤もまた包含される。 【００２３】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。上記の
界面活性剤は、単独もしくは２種以上を組み合わせて使
用することができ、現像液中に０.００１〜１０質量
％、より好ましくは０.０１〜５質量％の範囲で添加さ
れる。 【００２４】［現像安定化剤］本発明における現像液に
は、種々の現像安定化剤が添加することができる。それ
らの好ましい例として、特開平６−２８２０７９号公報
記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加物、
テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどのテトラア
ルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロ
マイドなどのホスホニウム塩およびジフェニルヨードニ
ウムクロライドなどのヨードニウム塩が好ましい例とし
て挙げられる。更には、特開昭５０−５１３２４号公報
記載のアニオン界面活性剤または両性界面活性剤、また
特開昭５５−９５９４６号公報記載の水溶性カチオニッ
クポリマー、特開昭５６−１４２５２８号公報に記載さ
れている水溶性の両性高分子電解質がある。更に、特開
昭５９−８４２４１号公報のアルキレングリコールが付
加された有機ホウ素化合物、特開昭６０−１１１２４６
号公報記載のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレ
ンブロック重合型の水溶性界面活性剤、特開昭６０−１
２９７５０号公報のポリオキシエチレン・ポリオキシプ
ロピレンを置換したアルキレンジアミン化合物、特開昭
６１−２１５５５４号公報記載の重量平均分子量３００
以上のポリエチレングリコール、特開昭６３−１７５８
５８号公報のカチオン性基を有する含フッ素界面活性
剤、特開平２−３９１５７号公報の酸またはアルコール
に４モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水
溶性エチレンオキシド付加化合物と、水溶性ポリアルキ
レン化合物などが挙げられる。 【００２５】［有機溶剤］現像液には更に必要により有
機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤としては、水に対
する溶解度が約１０質量％以下のものが適しており、好
ましくは５質量％以下のものから選ばれる。例えば、１
−フェニルエタノール、２−フェニルエタノール、３−
フェニル−１−プロパノール、４−フェニル−１−ブタ
ノール、４−フェニル−２−ブタノール、２−フェニル
−１−ブタノール、２−フェノキシエタノール、２−ベ
ンジルオキシエタノール、ｏ−メトキシベンジルアルコ
ール、ｍ−メトキシベンジルアルコール、ｐ−メトキシ
ベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキ
サノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチル
シクロヘキサノールおよび４−メチルシクロヘキサノー
ル、Ｎ−フェニルエタノールアミンおよびＮ−フェニル
ジエタノールアミンなどを挙げることができる。有機溶
剤の含有量は使用液の総重量に対して０.１〜５質量％
である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係
があり、有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の量は
増加させることが好ましい。これは界面活性剤の量が少
なく、有機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全に溶
解せず、従って、良好な現像性の確保が期待できなくな
るからである。 【００２６】［還元剤］本発明における現像液には更に
還元剤を加えることができる。これは印刷版の汚れを防
止するものであり、特に感光性ジアゾニウム塩化合物を
含むネガ型感光性平版印刷版を現像する際に有効であ
る。好ましい有機還元剤としては、チオサリチル酸、ハ
イドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシ
ン、２−メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フ
ェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化
合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤として
は、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素
酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸な
どの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム
塩などを挙げることができる。これらの還元剤のうち汚
れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。これ
らの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、０.
０５〜５質量％の範囲で含有される。 【００２７】［有機カルボン酸］本発明における現像液
には更に有機カルボン酸を加えることもできる。好まし
い有機カルボン酸は炭素原子数６〜２０の脂肪族カルボ
ン酸および芳香族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸
の具体的な例としては、カプロン酸、エナンチル酸、カ
プリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸お
よびステアリン酸などがあり、特に好ましいのは炭素数
８〜１２のアルカン酸である。また炭素鎖中に二重結合
を有する不飽和脂肪酸でも、枝分かれした炭素鎖のもの
でもよい。芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナフ
タレン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置換
された化合物で、具体的には、ｏ−クロロ安息香酸、ｐ
−クロロ安息香酸、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒド
ロキシ安息香酸、ｏ−アミノ安息香酸、ｐ−アミノ安息
香酸、２,４−ジヒドロキシ安息香酸、２,５−ジヒドロ
キシ安息香酸、２,６−ジヒドロキシ安息香酸、２,３−
ジヒドロキシ安息香酸、３,５−ジヒドロキシ安息香
酸、没食子酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３−
ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−ナ
フトエ酸、１−ナフトエ酸、２−ナフトエ酸などがある
がヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。上記脂肪族
および芳香族カルボン酸は水溶性を高めるためにナトリ
ウム塩やカリウム塩またはアンモニウム塩として用いる
のが好ましい。本発明で用いる現像液の有機カルボン酸
の含有量は格別な制限はないが、０.１質量％より低い
と効果が十分でなく、また１０質量％以上ではそれ以上
の効果の改善が計れないばかりか、別の添加剤を併用す
る時に溶解を妨げることがある。従って、好ましい添加
量は使用時の現像液に対して０.１〜１０質量％であ
り、より好ましくは０.５〜４質量％である。 【００２８】［その他］本発明における現像液には、更
に必要に応じて、防腐剤、着色剤、増粘剤、消泡剤およ
び硬水軟化剤などを含有させることもできる。硬水軟化
剤としては例えば、ポリ燐酸およびそのナトリウム塩、
カリウム塩およびアンモニウム塩、エチレンジアミンテ
トラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチ
レンテトラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレン
ジアミントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、１,２−ジアミ
ノシクロヘキサンテトラ酢酸および１,３−ジアミノ−
２−プロパノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン
酸およびそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアン
モニウム塩、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、エチ
レンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレ
ントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、トリエチ
レンテトラミンヘキサ（メチレンホスホン酸）、ヒドロ
キシエチルエチレンジアミントリ（メチレンホスホン
酸）および１−ヒドロキシエタン−１,１−ジホスホン
酸やそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニ
ウム塩を挙げることができる。 【００２９】このような硬水軟化剤はそのキレート化力
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値
が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に０.０１〜５質量％、より好ましくは０.０１〜０.
５質量％の範囲である。この範囲より少ない添加量では
所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲より
多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてく
る。現像液の残余の成分は水である。本発明における現
像液は、使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液と
しておき、使用時に水で希釈するようにしておくことが
運搬上有利である。この場合の濃縮度は各成分が分離や
析出を起こさない程度が適当である。 【００３０】（ＰＳ版）本発明の処理方法で処理される
ＰＳ版は、赤外線レーザー等により画像を形成するポジ
型又はネガ型の赤外線感光層を有する平版印刷版であ
る。 【００３１】初めにポジ型赤外線感光層を有する平版印
刷版について説明する。本発明の処理方法を適用し得る
ポジ型赤外線感光層を有する平版印刷版は、赤外線吸収
染料等を含有する感光層を有する平版印刷版であれば、
特にその構成が限定されるものではないが、以下に、典
型的な構成を説明する。ポジ型赤外線感光層を有する平
版印刷版は、支持体上に赤外線感光層である画像形成層
を有し、さらに必要に応じて他の層を有してなり、画像
形成層は（Ａ）赤外線吸収染料を含み、さらに（Ｂ）ア
ルカリ可溶性高分子化合物を含み、任意に（Ｃ）アルカ
リ可溶性高分子化合物と相溶させて該アルカリ可溶性高
分子化合物のアルカリ水溶液への溶解性を低下させると
ともに、加熱により該溶解性低下作用が減少する化合
物、（Ｄ）環状酸無水物などを含有してもよい。以下
に、各構成成分について簡単に説明する。 【００３２】−（Ａ）赤外線吸収染料− 画像形成層に用いられる赤外線吸収染料は、赤外光を吸
収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、赤外線
吸収染料として知られる種々の染料を用いることができ
る。赤外線吸収染料としては、市販の染料又は文献（例
えば、「染料便覧」、有機合成化学協会編集、昭和４５
年刊）に記載の公知のものが挙げられ、例えば、アゾ染
料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキ
ノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、
カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シ
アニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属
チオレート錯体等の染料が挙げられる。これらの染料の
うち赤外光、もしくは近赤外光を吸収するものが、赤外
光もしくは近赤外光を発光するレーザの利用に適する点
で特に好ましい。 【００３３】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する染料として、例えば、特開昭５８−１２５２４６
号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８
２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載のシアニン
染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８
１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載のメ
チン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−
２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５
９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭
６０−６３７４４号等に記載のナフトキノン染料、特開
昭５８−１１２７９２号等に記載のスクワリリウム色
素、英国特許４３４，８７５号明細書に記載のシアニン
染料、米国特許５，３８０，６３５号明細書に記載のジ
ヒドロペリミジンスクアリリウム染料等が好適に挙げら
れる。 【００３４】また、染料として米国特許第５，１５６，
９３８号明細書に記載の近赤外吸収増感剤も好ましく、
米国特許第３，８８１，９２４号明細書に記載の置換さ
れたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７
−１４２６４５（米国特許第４，３２７，１６９号明細
書）に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８
−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−
４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２
４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６
１号に記載のピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６
１４６号に記載のシアニン色素、米国特許第４，２８
３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリウム
塩等、特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号に
記載のピリリウム化合物、市販品としては、Epolight I
II-１７８、Epolight III-１３０、Epolight III-１２
５、Epolight IV−６２Ａ（エポリン社製）等も好まし
い。さらに、米国特許第4,756,993 号明細書に記載の式
（Ｉ）、（II）で表される近赤外線吸収染料も好適なも
のとして挙げることができる。上記のうち、シアニン色
素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオ
レート錯体がより好ましい。 【００３５】さらに具体的に、下記一般式（Ｇ）で表さ
れる化合物を挙げることができる。 【００３６】 【化２】 【００３７】前記一般式（Ｇ）中、Ｒ²¹〜Ｒ²⁴は、それ
ぞれ独立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭
素数１〜１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基を表し、Ｒ²¹と
Ｒ²²、Ｒ²³とＲ²⁴はそれぞれ結合して環構造を形成して
いてもよい。Ｒ²¹〜Ｒ²⁴としては、例えば、水素原子、
メチル基、エチル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチ
ル基、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げ
られ、これらの基は、さらに置換基を有していてもよ
い。ここで、置換基としては、例えば、ハロゲン原子、
カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、
カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸エス
テル等が挙げられる。 【００３８】式中、Ｒ²⁵〜Ｒ³⁰は、それぞれ独立に置換
基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基を表
し、前記Ｒ²⁵〜Ｒ³⁰としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチル基、ビニル
基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、これら
の基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置
換基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、
ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル
基、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げ
られる。 【００３９】式中、Ｒ³¹〜Ｒ³³は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
１〜８のアルキル基を表し、前記Ｒ³²は、前記Ｒ³¹又は
Ｒ³³と結合して環構造を形成していてもよく、ｍ＞２の
場合は、複数のＲ³²同士が結合して環構造を形成してい
てもよい。前記Ｒ³¹〜Ｒ³³としては、例えば、塩素原
子、シクロヘキシル基、Ｒ³²同士が結合してなるシクロ
ペンチル環、シクロヘキシル環等が挙げられ、これらの
基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置換
基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニ
トロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル基、
カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げられ
る。また、ｍは１〜８の整数を表し、中でも１〜３が好
ましい。 【００４０】式中、Ｒ³⁴〜Ｒ³⁵は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
１〜８のアルキル基を表し、前記Ｒ³⁴は、Ｒ³⁵と結合し
て環構造を形成していてもよく、ｍ＞２の場合は、複数
のＲ³⁴同士が結合して環構造を形成していてもよい。前
記Ｒ³⁴〜Ｒ³⁵としては、例えば、塩素原子、シクロヘキ
シル基、Ｒ³⁴同士が結合してなるシクロペンチル環、シ
クロヘキシル環等が挙げられ、これらの基は、さらに置
換基を有していてもよい。ここで、置換基としては、例
えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリ
ル基、スルホニル基、カルボキシル基、カルボン酸エス
テル、スルホン酸エステル等が挙げられる。また、ｍ
は、１〜８の整数を表し、中でも、１〜３が好ましい。 【００４１】一般式（Ｇ）中、Ｘ^-は、アニオンを表
し、例えば、過塩素酸、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン
酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、５−ニト
ロ−Ｏ−トルエンスルホン酸、５−スルホサリチル酸、
２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸、２，４，６−ト
リメチルベンゼンスルホン酸、２−ニトロベンゼンスル
ホン酸、３−クロロベンゼンスルホン酸、３−ブロモベ
ンゼンスルホン酸、２−フルオロカプリルナフタレンス
ルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、１−ナフトー
ル−５−スルホン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−
５−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸及びパラトルエン
スルホン酸等が挙げられる。中でも、六フッ化リン酸、
トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、２，５−ジメ
チルベンゼンスルホン酸等のアルキル芳香族スルホン酸
が好ましい。 【００４２】前記一般式（Ｇ）で表される化合物のなか
でも、具体的には、以下に示す化合物が好適に用いられ
るが、本発明においては、これらに限られるものではな
い。 【００４３】 【化３】【００４４】上記のような赤外線吸収染料の含有量とし
ては、画像形成層の全固形分質量に対して0.０１〜５０
質量％が好ましく、0.１〜１０質量％がより好ましく、
さらに0.５〜１０質量％が最も好ましい。前記含有量が
0.０１質量％未満であると、感度が低くなることがあ
り、５０質量％を超えると、画像形成層の均一性が低下
し、その耐久性が劣化することがある。 【００４５】−(Ｂ)アルカリ可溶性高分子化合物− 使用可能なアルカリ可溶性高分子化合物（以下、
「(Ｂ）成分」ということがある。）としては、下記
（１）〜（３）の酸性基を主鎖及び／又は側鎖の構造中
に有するアルカリ水可溶性の高分子化合物を用いること
ができる。 （１）フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ） （２）スルホンアミド基（−ＳＯ₂ＮＨ−Ｒ） （３）置換スルホンアミド系酸基（以下、「活性イミド
基」という。） 〔−ＳＯ₂ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂Ｒ、−ＣＯＮ
ＨＳＯ₂Ｒ〕 前記（１）〜（３）中、Ａｒは置換基を有していてもよ
い２価のアリール連結基を表し、Ｒは、置換基を有して
いてもよい炭化水素基を表す。以下に、その具体例を示
すが、本発明においては、これらに限定されるものでは
ない。 【００４６】（１）フェノール基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、フェノールとホルム
アルデヒドとの縮重合体、ｍ−クレゾールとホルムアル
デヒドとの縮重合体、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒ
ドとの縮重合体、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムア
ルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール（ｍ
−、ｐ−又はｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい。）とホ
ルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂又はピ
ロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができ
る。さらに、フェノール基を側鎖に有するモノマーを重
合させた高分子化合物を挙げることもできる。 【００４７】側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子
化合物としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽
和結合をそれぞれ１つ以上有する低分子化合物からなる
重合性モノマーを単独重合、或いは、該重合性モノマー
に他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化
合物が挙げられる。フェノール基を側鎖に有するモノマ
ーとしては、フェノール基を側鎖に有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。 【００４８】具体的には、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）
アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アク
リルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メタクリル
アミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルア
ミド、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒド
ロキシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニル
アクリレート、ｏ−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｐ−ヒド
ロキシフェニルメタクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレ
ン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレ
ート、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリ
レート、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルメタク
リレート等を好適に挙げることができる。 【００４９】前記フェノール基を有するアルカリ可溶性
高分子化合物の質量平均分子量としては、5.０×１０²
〜2.０×１０⁵のものが、数平均分子量としては、2.０
×１０ ²〜1.０×１０⁵のものが、画像形成性の点で好ま
しい。また、フェノール基を有するアルカリ可溶性高分
子化合物は、単独での使用のみならず、２種類以上を組
合わせて使用してもよい。組合わせる場合には、米国特
許第４１２３２７９号明細書に記載されているような、
ｔ−ブチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体
や、オクチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合
体のような、炭素数３〜８のアルキル基を置換基として
有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体を併
用してもよい。これらの縮重合体も、質量平均分子量が
5.０×１０²〜2.０×１０⁵のもの、数平均分子量が2.０
×１０²〜1.０×１０⁵のものが好ましい。 【００５０】（２）スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性高分子化合物としては、例えば、スルホンアミド
基を有する化合物を主たるモノマー構成単位とする重合
体、即ち、単独重合体又は前記モノマー構成単位に他の
重合性モノマーを共重合させた共重合体を挙げることが
できる。スルホンアミド基を有する重合性モノマーとし
ては、１分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水素
原子が結合したスルホンアミド基−ＳＯ₂ −ＮＨ−と、
重合可能な不飽和結合とを、それぞれ１以上有する低分
子化合物からなるモノマーが挙げられる。中でも、アク
リロイル基、アリル基又はビニロキシ基と、置換或いは
モノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ
基と、を有する低分子化合物が好ましい。前記低分子化
合物としては、例えば、下記一般式（ａ）〜（ｅ）で表
される化合物が挙げられるが、本発明においては、これ
らに限定されるものではない。 【００５１】 【化４】 【００５２】一般式（ａ）〜（ｅ）中、Ｘ¹、Ｘ²は、そ
れぞれ独立に酸素原子又はＮＲ⁷を表す。Ｒ¹、Ｒ⁴は、
それぞれ独立に水素原子又はＣＨ₃を表す。Ｒ²、Ｒ⁵、
Ｒ⁹、Ｒ¹²、Ｒ¹⁶は、それぞれ独立に置換基を有してい
てもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキ
レン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。
Ｒ³、Ｒ⁷、Ｒ¹³は、それぞれ独立に水素原子、置換基を
有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。ま
た、Ｒ⁶、Ｒ¹⁷は、それぞれ独立に置換基を有していて
もよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を表す。Ｒ⁸、Ｒ^{1 0}、Ｒ
¹⁴は、それぞれ独立に水素原子又はＣＨ₃を表す。
Ｒ¹¹、Ｒ¹⁵は、それぞれ独立に単結合又は置換基を有し
ていてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロア
ルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。
Ｙ¹、Ｙ²はそれぞれ独立に単結合又はＣＯを表す。 【００５３】中でもｍ−アミノスルホニルフェニルメタ
クリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。 【００５４】（３）活性イミド基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、活性イミド基を有す
る化合物を主たるモノマー構成単位とする重合体を挙げ
ることができる。活性イミド基を有する化合物を主たる
モノマー構成単位とする重合体としては、１分子中に、
下記式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和結
合とをそれぞれ１以上有する低分子化合物からなるモノ
マーを単独重合、或いは、該モノマーに他の重合性モノ
マーを共重合させて得られる高分子化合物を挙げること
ができる。 【００５５】 【化５】 【００５６】このような化合物としては、具体的には、
Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適
に挙げることができる。さらに、上記のほか、前記フェ
ノール基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を
有する重合性モノマー、及び活性イミド基を有する重合
性モノマーのうちのいずれか２種類以上を重合させた高
分子化合物、或いは、これら２種以上の重合性モノマー
にさらに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高
分子化合物も好適に挙げられる。 【００５７】フェノール基を有する重合性モノマー（Ｍ
１）に、スルホンアミド基を有する重合性モノマー（Ｍ
２）及び／又は活性イミド基を有する重合性モノマー
（Ｍ３）を共重合させる場合の配合比（Ｍ１：Ｍ２及び
／又はＭ３；質量比）としては、５０：５０〜５：９５
が好ましく、４０：６０〜１０：９０がより好ましい。 【００５８】アルカリ可溶性高分子化合物が、前記酸性
基（１）〜（３）より選ばれるいずれかを有するモノマ
ー構成単位と、他の重合性モノマーの構成単位とから構
成される共重合体である場合、該共重合体中に、前記酸
性基（１）〜（３）より選ばれるいずれかを有するモノ
マー構成単位を１０モル％以上含むことが好ましく、２
０モル％以上含むことがより好ましい。前記モノマー構
成単位の含有量が、１０モル％未満であると、十分なア
ルカリ可溶性が得られずに、現像ラチチュードが狭くな
ることがある。前記共重合体の合成方法としては、従来
より公知のグラフト共重合法、ブロック共重合法、ラン
ダム共重合法等を用いることができる。 【００５９】前記酸性基（１）〜（３）より選ばれるい
ずれかを有するモノマーを構成単位とする重合性モノマ
ーと共重合させる。他の重合性モノマーとしては、例え
ば、下記（ａ）〜（ｌ）に挙げるモノマーを挙げること
ができるが、本発明においては、これらに限定されるも
のではない。 【００６０】（ａ）２−ヒドロキエチルアクリレート又
は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸
基を有するアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステ
ル類。 （ｂ）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 （ｃ）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。 【００６１】（ｄ）アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリ
ルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロ
ヘキシルアクリるアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフ
ェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアク
リルアミド等のアクリルアミド、又はメタクリルアミ
ド。 （ｅ）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 （ｆ）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 （ｇ）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等とスチレン類。 【００６２】（ｈ）メチルビニルケトン、エチルビニル
ケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン
等のビニルケトン類。 （ｉ）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジェ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 （ｊ）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 （ｋ）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、
Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタ
クリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリ
ルアミド等の不飽和イミド。 （ｌ）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸等の不飽和カルボン酸。 【００６３】前記アルカリ水可溶性高分子化合物として
は、単独重合体、共重合体に関わらず、膜強度の点で、
質量平均分子量が２０００以上、数平均分子量が５００
以上のものが好ましく、質量平均分子量が５０００〜３
０００００、数平均分子量が８００〜２５００００であ
り、分散度（質量平均分子量／数平均分子量）が1.１〜
１０のものがより好ましい。また、前記アルカリ可溶性
高分子化合物が、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、
クレゾール−アルデヒド樹脂等である場合には、質量平
均分子量が５００〜２００００であって、数平均分子量
が２００〜１００００のものが好ましい。 【００６４】前記アルカリ水可溶性高分子化合物の含有
量としては、画像形成層の全固形分質量に対して３０〜
９９質量％が好ましく、４０〜９５質量％がより好まし
く、５０〜９０質量％が最も好ましい。前記含有量が、
３０質量％未満であると、画像形成層の耐久性が低下す
ることがあり、９９質量％を越えると、感度、耐久性が
低下することがある。また、前記高分子化合物は、１種
類のみを用いても、２種類以上を組合わせて用いてもよ
い。 【００６５】−（Ｃ）前記アルカリ可溶性高分子化合物
と相溶させて該アルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ
水溶液への溶解性を低下させるとともに、加熱により該
溶解性低下作用が減少する化合物− この（Ｃ）成分は、分子内に存在する水素結合性の官能
基の働きにより、前記（Ｂ）アルカリ可溶性高分子化合
物との相溶性が良好であり、均一な画像形成層用塗布液
を形成しうるとともに、アルカリ可溶性高分子化合物と
の相互作用により、該アルカリ可溶性高分子化合物のア
ルカリ可溶性を抑制する機能（溶解性抑制作用）を有す
る化合物を指す。 【００６６】また、加熱によりアルカリ可溶性高分子化
合物に対する前記溶解性抑制作用は消滅するが、この赤
外線吸収剤自体が加熱により分解する化合物である場合
には、分解に十分なエネルギーが、レーザー出力や照射
時間等の諸条件により付与されないと、アルカリ可溶性
高分子化合物の溶解性抑制作用を十分に低下させること
ができず、感度が低下するおそれがある。このため、
（Ｃ）成分の熱分解温度としては、１５０°Ｃ以上が好
ましい。 【００６７】（Ｃ）成分としては、前記（Ｂ）アルカリ
可溶性高分子化合物との相互作用を考慮して、例えば、
スルホン化合物、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ア
ミド化合物等の前記アルカリ可溶性高分子化合物と相互
作用しうる化合物の中から適宜選択することができる。
（Ｃ）成分と前記（Ｂ）アルカリ可溶性高分子化合物と
の配合比（Ｃ／Ｂ）としては、一般に１／９９〜２５／
７５が好ましい。 【００６８】−（Ｄ）環状酸無水物− 上記画像形成層には、さらに環状酸無水物を使用しても
よい。該環状酸無水物は、その構造内にカルボン酸無水
物のカルボニル基と共役する結合を有し、そのカルボニ
ル基の安定性を増すことで分解速度を制御し、保存経時
において適当な速度で分解して酸を発生する。そのた
め、保存経時での現像性劣化を抑え、現像性を長期間安
定に維持しうる。前記環状酸無水物としては、下記一般
式（Ｈ）又は（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。 【００６９】 【化６】 【００７０】一般式（Ｈ）中、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²はそれぞれ独
立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素原子
数１〜１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基、カルボニル基、カ
ルボキシ基もしくはカルボン酸エステルを表す。なお、
Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²は互いに連結して環構造を形成してもよい。
前記Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²としては、例えば水素原子、又は炭素原
子数１〜１２の無置換のアルキル基、アリール基、アル
ケニル基、シクロアルキル基などが好適に挙げられ、具
体的には水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、
ドデシル基、ナフチル基、ビニル基、アリル基、シクロ
ヘキシル基などが挙げられ、これらの基は、さらに置換
基を有していてもよい。Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²が互いに連結して環
構造を形成する場合、その環状基としては、例えばフェ
ニレン基、ナフチレン基、シクロヘキセン基、シクロペ
ンテン基などが挙げられる。前記置換基としては、例え
ばハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボニル基、スルホ
ン酸エステル、ニトロ基、ニトリル基などが挙げられ
る。 【００７１】一般式（Ｉ）中、Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴、Ｒ⁴⁵、Ｒ⁴⁶
は、それぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ基、塩素など
のハロゲン原子、ニトロ基、ニトリル基、又は置換基を
有していてもよい炭素年始数１〜１２のアルキル基、ア
ルケニル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、アリー
ル基、カルボニル基、カルボキシ基もしくはカルボン酸
エステル基などを表す。前記Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴、Ｒ⁴⁵、Ｒ⁴⁶と
しては、例えば水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１
〜１２の無置換のアルキル基、アルケニル基、炭素原子
数６〜１２のアリール基などが好適に挙げられ、具体的
にはメチル基、ビニル基、フェニル基、アリル基などが
挙げられる。これらの基はさらに置換基を有していても
よい。前記置換基としては、例えばハロゲン原子、ヒド
ロキシ基、カルボニル基、スルホン酸エステル、ニトロ
基、ニトリル基、カルボキシ基などが挙げられる。 【００７２】環状酸無水物として、例えば無水フタル
酸、３，４，５，６−テトラヒドロ無水フタル酸、テト
ラクロロ無水フタル酸、３−ヒドロキシ無水フタル酸、
３−メチル無水フタル酸、３−フェニル無水フタル酸、
無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイ
ン酸、フェニル無水マレイン酸、ジメチル無水マレイン
酸、ジクロロ無水マレイン酸、クロロ無水マレイン酸な
どが好適に挙げられる。環状酸無水物の含有量として
は、画像形成層の全固形分含量に対して0.５〜２０質量
％が好ましく、１〜１５質量％がより好ましく、１〜１
０質量％が最も好ましい。前記含有量が0.５質量％未満
であると現像性の維持効果が不十分となることがあり、
２０質量％を超えると画像を形成できないことがある。 【００７３】−その他の成分− 上記画像形成層には、必要に応じて、さらに種々の添加
剤を添加することができる。例えば、感度を向上させる
目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類、ス
ルホニル化合物類等の公知の添加剤を併用することもで
きる。前記環状酸無水物としては、米国特許第４，１１
５，１２８号明細書に記載のテトラヒドロ無水フタル
酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドオキシ
−Δ⁴−テトラヒドロ無水フタル酸、α−フェニル無水
マレイン酸、無水コハク酸、無水プロメリット酸などが
挙げられる。フェノール類としては、ビスフェノール
Ａ、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、
２，４，４′−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，
３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキ
シベンゾフェノン、４，４′，４″−トリヒドロキシト
リフェニルメタン、４，４′，３″，４″−テトラヒド
ロキシ−３，５，３′，５′−テトラメチルトリフェニ
ルメタンなどが挙げられる。 【００７４】前記有機酸類としては、、特開昭６０−８
８９４２号公報、特開平２−９６７５５号公報などに記
載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキ
ル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカル
ボン酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホ
ン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスル
フィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニル
ホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安
息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、
３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、４−シクロヘキセン−２，２−ジカルボン酸、エル
カ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸
などが挙げられる。スルホニル化合物類としては、例え
ばビスヒドロキシフェニルスルホン、メチルフェニルス
ルホン、ジフェニルジスルホンなどが挙げられる。前記
他の環状酸無水物、フェノール類、有機酸類又はスルホ
ニル化合物類の添加量としては、画像形成層の全固形分
質量に対し、0.０５〜２０質量％が好ましく、0.１〜１
５質量％がより好ましく、0.１〜１０質量％が最も好ま
しい。 【００７５】また、現像条件に対する処理性の安定性を
拡げる目的で、特開昭６２−２５１７４０号公報、特開
平３−２０８５１４号公報等に記載の非イオン界面活性
剤、特開昭５９−１２１０４４号、特開平４−１３１４
９号公報等に記載の両性界面活性剤、ＥＰ９５０５１７
号公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特
開平１１−２８８０９３号公報に記載されているような
フッ素含有のモノマー共重合体を添加することができ
る。非イオン界面活性剤としては、例えばソルビタント
リステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビ
タントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリ
オキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げられ
る。両性界面活性剤としては、例えばアルキルジ（アミ
ノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシ
ン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−
ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ−テト
ラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば商品名：アモー
ゲンＫ、第１工業（株）製）などが挙げられる。シロキ
サン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアル
キレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例
として（株）チッソ社製、ＤＢＥ−２２４、ＤＢＥ−６
２１、ＤＢＥ−７１２、ＤＢＰ−７３２、ＤＢＰ−５３
４、独Ｔｅｇｏ社製、Tego Glide 100等のポリアルキレ
ンオキシド変性シリコーンを挙げることができる。前記
非イオン界面活性剤又は両性界面活性剤の使用量として
は、画像形成層の全固形分質量に対し、0.０５〜１５質
量％が好ましく、0.１〜５質量％がより好ましい。 【００７６】前記画像形成層には、露光による加熱後、
直ちに可視像を得るための焼き出し剤や画像着色剤とし
ての染料や顔料を加えることができる。前記焼き出し剤
としては、例えば、露光による加熱によって酸を発生す
る化合物と塩を形成しうる有機染料との組合せが挙げら
れる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、特開昭
５３−８１２８号の各公報に記載の、ｏ−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染
料との組合せ、特開昭５３−３６２２３号、特開昭５４
−７４７２８号、特開昭６０−３６２６号、特開昭６１
−１４３７４８号、特開昭６１−１５１６４４号及び特
開昭６３−５８４４０号の各公報に記載の、トリハロメ
チル化合物と塩形成性有機染料との組合せ、が挙げられ
る。前記トリハロメチル化合物として、オキサゾール系
化合物とトリアジン系化合物があり、いずれも経時安定
性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。前記画像着色
剤としては、例えば、前記塩形成性有機染料以外に、他
の染料を用いることができ、例えば、油溶性染料、塩基
性染料が好適に挙げられる。 【００７７】具体的には、オイルイエロー＃１０１、オ
イルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイル
グリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６
０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイ
ルブラックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業
（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイ
オレット（Ｃ．Ｉ．４２５５５）、メチルバイオレット
（Ｃ．Ｉ．４２５３５）、エチルバイオレット、ローダ
ミンＢ（Ｃ．Ｉ．１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリー
ン（Ｃ．Ｉ．４２０００）、メチレンブルー（Ｃ．Ｉ．
５２０１５）等を挙げることができる。また、特開昭６
２−２９３２４７号公報に記載の染料は、特に好まし
い。前記各種染料の添加量としては、画像形成層の全固
形分質量に対し、0.０１〜１０質量％が好ましく、0.１
〜３質量％がより好ましい。 【００７８】また、必要に応じて、その塗膜に柔軟性等
を付与する目的で、可塑剤を添加することができる。可
塑剤としては、例えばブチルフタリル、ポリエチレング
リコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、ア
クリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマーな
どが挙げられる。 【００７９】さらに必要に応じて、以下の種々添加剤を
添加することができる。例えば、オニウム塩、ｏ−キノ
ンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スル
ホン酸エステル化合物等の、熱分解性で、未分解状態で
はアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低
下させる化合物を併用することができる。該化合物の添
加は、画像部の現像液への溶解阻止能の向上を図る点で
好ましい。前記オニウム塩としては、例えばジアゾニウ
ム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム
塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩
などが挙げられる。中でも、例えばS.I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974), T.S.Bal et al,
Polymer, 21, 423 (1980), 特開昭５−１５８２３０号
公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，
０５５号、同４，０６９，０５６号、特開平３−１４０
１４０号に記載のアンモニウム塩、D. C. Necker et a
l, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C. S. Wen et a
l, The Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, O
ct (1988)、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，
０６９，０５６号に記載のホスホニウム塩、J. V. Criv
elloet et al. Macromolecules, 10(6), 1307 (1977)、
Chem. & Eng. News, Nov. 28, p.31 (1988)、欧州特許
第１０４，１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同
第４１０，２０１号、特開平２−１５０８４８号、特開
平２−２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、 【００８０】J. V. Crivello et al, Polymer J. 17, 7
3 (1985)、J. V. Crivello et al, J.Org. Chem., 43,
3055 (1978)、W. R, Watt et al, J. Polymer Sci., Po
lymerChem. Ed., 22, 1789 (1984)、J. V. Crivello et
al, Polymer bull., 14, 279 (1985)、J. V. Crivello
et al, Macromolecules, 14(5), 1141 (1981), J.V.Cr
ivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed.,
17. 2877 (1979), 欧州特許第３７０，６９３号、同２
３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４
２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同３，９０
２，１１４号、同４１０，２０１号、同３９９，０４９
号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４
号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，
６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５
８１号に記載のスルホニウム塩、 【００８１】J. V. Crivello et al, Macromolecules,
10(6), 1307 (1977), J.V. Crivelloet al, J. Polymer
Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979)に記載の
セレノニウム塩、C. S. Wen et al, The Proc. Conf. R
ad. Curing ASIA, p.478, Tokyo, Oct (1988)に記載の
アルソニウム塩などが挙げられる。上記のうち、ジアゾ
ニウム塩が好ましく、中でも、特開平５−１５８２３０
号公報に記載のものがより好ましい。 【００８２】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、５
−スルホサチリル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン酸、２
−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスル
ホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−メトキ
シ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸などを挙げることが
できる。中でも、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナ
フタレンスルホン酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸などのアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。 【００８３】前記ｏ−キノンジアジド化合物としては、
少なくとも１個のｏ−キノンジアジド基を有する化合物
で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものが挙げら
れ、種々の構造の化合物を用いることができる。前記ｏ
−キノンジアジドは、熱分解により結着剤の溶解抑制能
を喪失し、且つｏ−キノンジアジド自身がアルカリ可溶
性の物質に変化する、両効果により平版印刷版原版の溶
解性を助ける。 【００８４】上記のようなｏ−キノンジアジド化合物と
しては、例えば、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティ
ブ・システムズ」（John Wiley & Sons. Inc.）第３３
９〜３５２頁に記載の化合物が使用可能であるが、中で
も、種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物又は芳香族アミ
ノ化合物と反応させたｏ−キノンジアジドのスルホン酸
エステル又はスルホン酸アミドが好ましい。また、特開
昭４３−２８４０３号公報に記載の、ベンゾキノン
（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又は、米国
特許第３，０４６，１２０号、同第３，１８８，２１０
号に記載のベンゾキノン−（１，２）−ジアジドスルホ
ン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジ
ド−５−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂とのエステルも好ましい。 【００８５】さらに、ナフトキノン−（１，２）−ジア
ジド−４−スルホン酸クロライドとフェノールホルムア
ルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステル、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド
−４−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン
樹脂とのエステルも好ましい。その他、例えば特開昭４
７−５３０３号、特開昭４８−６３８０２号、特開昭４
８−６３８０３号、特開昭４８−９６５７５号、特開昭
４９−３８７０１号、特開昭４８−１３３５４号、特公
昭４１−１１２２２号、特公昭４５−９６１０号、特公
昭４９−１７４８１号、米国特許第２，７９７，２１３
号、同ぢ３，４５４，４００号、同第３，５４４，３２
３号、同第３，５７３，９１７号、同第３，６７４，４
９５号、同第３，７８５，８２５号、英国特許第１，２
２７，６０２号、同第１，２５１，３４５号、同第１，
２６７，００５号、同第１，３２９，８８８号、同第
１，３３０，９３２号、ドイツ特許第８５４、８９０号
などに記載のものも有用である。これらの化合物は単独
でも、数種を組み合わせて混合物として使用してもよ
い。前記オニウム塩、ｏ−キノンジアジド化合物、芳香
族スルホン酸エステル等の添加量としては、画像形成層
の全固形分質量に対し、0.１〜５０質量％が好ましく、
0.５〜３０質量％がより好ましく、0.５〜２０質量％が
最も好ましい。 【００８６】その他、画像のディスクリミネーションの
強化や表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特
開２０００−１８７３１８号公報に記載されているよう
な、分子中に炭素数３〜２０のパーフルオロアルキル基
を２又は３個有する（メタ）アクリレート単量体を重合
成分とする重合体を併用することが好ましい。添加量と
しては画像形成層の全固形分質量に対し、0.１〜１０質
量％が好ましく、より好ましくは0.５〜５質量％であ
る。また、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面
の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもでき
る。具体的には、米国特許第６１１７９１３号明細書に
開示されているような長鎖アルキルカルボン酸のエステ
ルなどを挙げることができる。その添加量として好まし
いのは、画像形成層の全固形分質量に対し0.１〜１０質
量％であり、より好ましくは0.５〜５質量％である。ま
た、画像形成層の溶解性を調節する目的で種々の溶解抑
制剤を含んでもよい。溶解抑制剤としては、特開平１１
−１１９４１８号公報に記載されるようなジスルホン化
合物又はスルホン化合物が好適に用いられ、具体例とし
て4,4'-ビスヒドロキシフェニルスルホンを用いること
が好ましい。その添加量として好ましいのは、画像形成
層の全固形分質量に対し0.０５〜２０質量％であり、よ
り好ましくは0.５〜１０質量％である。 【００８７】上記ポジ型赤外線感光層を有する平版印刷
版の具体例として、特願２０００−３７８５０７号に開
示されるような画像形成層を２層構造のポジ型赤外線感
光層とした平版印刷版原版も挙げられる。即ちこのポジ
型赤外線感光層は積層構造を有し、表面（露光面）に近
い位置に設けられている赤外線感光層と、支持体に近い
側に設けられいるアルカリ可溶性高分子化合物を含有す
る下層とを有することを特徴とする。該感光層と下層の
双方に或いは一方に、上述してきた(A)赤外線吸収染
料、(B)アルカリ可溶性高分子化合物、(C)アルカリ可溶
性高分子化合物と相溶させて該アルカリ可溶性高分子化
合物のアルカリ水溶液への溶解性を低下させるととも
に、加熱により該溶解性低下作用が減少する化合物、そ
の他の成分を含有させることができる。 【００８８】下層で用いられるアルカリ可溶性高分子化
合物としては、アクリル樹脂が、緩衝作用を有する有機
化合物と塩基とを主成分とするアルカリ現像液に対して
下層の溶解性を良好に保持し得るため、現像時の画像形
成の観点から好ましい。さらにこのアクリル樹脂として
スルホアミド基を有するものが特に好ましい。また、赤
外線感光層で用いられるアルカリ可溶性高分子化合物と
しては、未露光部では強い水素結合性を生起し、露光部
においては、一部の水素結合が容易に解除される点など
からフェノール性水酸基を有する樹脂が望ましい。更に
好ましくはノボラック樹脂である。赤外線吸収染料は、
赤外線感光層のみならず、下層にも添加することができ
る。下層に赤外線吸収染料を添加することで下層も感光
層として機能させることができる。下層に赤外線吸収染
料を添加する場合には、上部の感光層におけるのと互い
に同じ物を用いてもよく、また異なる物を用いてもよ
い。その他の添加剤は下層のみに含有させてもよいし、
感光層のみに含有させてもよく、更に両方の層に含有さ
せてもよい。 【００８９】平版印刷版原版の画像形成層（上記２層構
造も含む）は、上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支
持体上に塗布することができる。溶媒として、例えばエ
チレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチル
ケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２
−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−
メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタ
ン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセト
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチル
ウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン、α−ブチロラクトン、トルエンなどが
挙げられるが、これらに限定されるものではない。前記
溶媒は単独でも２種以上を混合してもよい。 【００９０】画像形成層を２層構造とする場合、赤外線
感光層に用いるアルカリ可溶性高分子化合物と下層に用
いるアルカリ可溶性高分子化合物に対して溶解性の異な
るものを選ぶことが好ましい。つまり、下層を塗布した
後、それに隣接して上層である赤外線感光層を塗布する
際、最上層の塗布溶剤として下層のアルカリ可溶性高分
子化合物を溶解させうる溶剤を用いると、層界面での混
合が無視できなくなり、極端な場合、重層にならず均一
な単一層になってしまう場合がある。このため、上部の
赤外線感光層を塗布するのに用いる溶剤は、下層に含ま
れるアルカリ可溶性高分子化合物に対する貧溶剤である
ことが好ましい。 【００９１】画像形成層を塗布する場合の溶媒中の上記
成分の全固形分濃度は、一般的に１〜１０質量％が好ま
しい。また、支持体上に塗布、乾燥して設けられる画像
形成層の乾燥塗布量（固形分）としては、一般的に0.５
〜5.０ｇ／ｍ²が好ましい。２層構造とする場合には、
赤外線感光層は０．０５〜１．０ｇ／ｍ²であり、下層
は０．３〜３．０ｇ／ｍ²であることが好ましい。塗布
量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、
画像形成層の皮膜特性は低下する。支持体上に塗布する
方法としては、公知の種々の方法の中から適宜選択でき
るが、例えばバーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗
布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、
グレード塗布、ロール塗布などを挙げることができる。
画像形成層用塗布液中には、塗布性を良化する目的で界
面活性剤、例えば特開昭６２−１７０９５０号公報に記
載のフッ素系界面活性剤などを添加することができる。
その添加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し
て0.０１〜１質量％が好ましく、0.０５〜0.５質量％が
より好ましい。 【００９２】−支持体− 上記ポジ型赤外線感光層を有する平版印刷版の支持体と
しては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板
状物が挙げられ、例えば、紙、プラスチック（例えば、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど）が
ラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、
亜鉛、銅など）、プラスチックフィルム（例えば二酢酸
セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタールなど）、上記のごとき金属がラミネー
トもしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィル
ムなどが含まれる。支持体としては、ポリエステルフィ
ルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安
定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好
ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及
びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金
板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着
されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合
金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、
マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チ
タンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々１０質
量％以下である。特に好適なアルミニウムは、純アルミ
ニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精練技術
上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するもの
でもよい。このようにアルミニウム板はその組成が特定
されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミ
ニウム板を適宜に利用することができる。アルミニウム
板の厚みはおよそ０．１mm〜０．６mm程度、好ましくは
０．１５mm〜０．４mm、特に好ましくは０．２mm〜０．
３mmである。 【００９３】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処
理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、
種々の方法により行なわれるが、例えば機械的に粗面化
する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び
化学的に表面を選択溶解させる方法により行なわれる。
機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブ
ラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いるこ
とができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸
又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法があ
る。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されて
いるように両者を組み合わせた方法も利用することがで
きる。 【００９４】本発明において、上記支持体は塩酸電解粗
面化処理を施すことが好ましい。塩酸電解粗面化処理と
は、塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的に粗面化処
理することを意味し、塩酸水溶液中で、交流、高周波交
流、三角波交流又は直流により電解を行う方法がある。
一般的には、塩酸を含有する水溶液中でアルミニウム板
に対向する電極との間に交流を加えて電気化学的に粗面
化処理する。塩酸化合物の濃度は、１．０ｇ／リットル
から飽和限界まで採用することができ、好ましくは５〜
１００ｇ／リットルの範囲であり、より好ましくは５〜
２０ｇ／リットルの範囲である。好ましい化合物は、塩
化アルミニウム、塩酸、塩化ナトリウム、塩化アンモニ
ウム又は塩化マグネシウムからなる塩酸イオンを含有す
るもので、これらを単独又は組み合わせて使用する。ま
た、その他の塩酸イオンと組み合わせてもよい。さらに
塩酸電解液にアルミニウム塩を２０〜１５０ｇ／リット
ルの量で混合することが好ましい。また、必要に応じ、
硫酸、燐酸、ホウ酸、アンモニウム塩などを添加しても
差し支えない。塩酸を主体とする電解液の液温は、通常
１０〜６０℃、好ましくは３０〜５５℃の範囲である。 【００９５】塩酸を主体とする水溶液中で、電気化学的
な粗面化に用いる交流電流波形としては、特公昭４８−
２８１２３号公報に記載のような正弦波や、特開昭５５
−２５３８１号公報に記載のように正弦波交流をサイリ
スタで位相制御したもの、特開昭５２−５８６０２号公
報に記載されているような特殊な波形などがあり、設備
的にＤＵＴＹ比１：１の矩形波交流を用いることが好ま
しい。また、交流以外に特開昭５１−４２６０５号、特
開平１−１４１０９４号公報に記載のように直流を用い
ることもできる。 【００９６】塩酸を主体とする水溶液中で交流電圧を用
いて電気化学的に粗面化処理する方法において、電流密
度は１０〜２００Ａ／dm²の範囲が好ましく、電気量は
１〜１０００Ｃ／dm²の範囲が好ましく，１０〜８００
Ｃ／dm²の範囲がより好ましい。周波数は５０Ｈｚ以上
が好ましく、６０〜５００Ｈｚの範囲がより好ましい。
上記の塩酸電解粗面化処理に、他の粗面化処理、例えば
機械的に粗面化する方法を組み合わせてもよい。 【００９７】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高める
ために、陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽
極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮
膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的に硫
酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用
いられる。中でも硫酸による陽極酸化処理が挙げられ
る。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜
決められる。 【００９８】陽極酸化の条件は用いられる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が１〜８０質量％溶液、液温は５〜７０℃、電
流密度５〜６０Ａ／dm²、電圧１〜１００V、電解時間１
０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の
量は１．０ｇ／ｍ²より少ないと耐刷性が不十分であっ
たり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印
刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」
が生じ易くなる。陽極酸化処理が施された後、アルミニ
ウム表面は必要により親水化処理が施される。親水化処
理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同第
３，１８１，４６１号、同第３，２８０，７３４号及び
第３，９０２，７３４号に開示されているようなアルカ
リ金属シリケート（例えばケイ酸ナトリウム水溶液）法
がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウ
ム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に
特公昭３６−２２０６３号公報に開示されているフッ化
ジルコン酸カリウム及び米国特許第３，２７６，８６８
号、同第４，１５３，４６１号、同第４，６８９，２７
２号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処
理する方法などが用いられる。 【００９９】ポジ型赤外線感光層を有する平版印刷版
は、支持体上に画像形成層を積層して設けたものである
が、必要に応じて支持体上に下塗り層を設けることがで
きる。下塗り層に用いる成分としては、種々の有機化合
物が挙げられ、例えばカルボキシメチルセルロース、デ
キストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン
酸などのアミノ基を有するホスホン酸類；置換基を有し
ていてもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン
酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレ
ンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホ
スホン酸；置換基を有していてもよいフェニルリン酸、
ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸な
どの有機リン酸；置換基を有していてもよいフェニルホ
スフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィ
ン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン
酸；グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類；トリエ
タノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有する
アミンの塩酸塩などが挙げられる。前記有機化合物は、
１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いても
よい。また、前述したジアゾニウム塩を下塗りすること
も好ましい態様である。 【０１００】また、下塗り層としては、下記一般式
（Ｊ）で表される構成単位を有する有機高分子化合物の
少なくとも１種を含む有機下塗り層も好ましい。 【０１０１】 【化７】 【０１０２】一般式（Ｊ）中、Ｒ⁵¹は水素原子、ハロゲ
ン原子又はアルキル基を表し、Ｒ⁵²及びＲ⁵³は、それぞ
れ独立に水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、−
ＯＲ⁵⁴、−ＣＯＯＲ⁵⁵、−ＣＯＮＨＲ⁵⁶、−ＣＯＲ⁵⁷又
は−ＣＮを表し、前記Ｒ⁵²及びＲ⁵³は互いに結合して環
構造を形成してもよい。ここで、Ｒ⁵⁴〜Ｒ⁵⁷はそれぞれ
独立にアルキル基又はアリール基を表す。Ｘは水素原
子、金属原子、−ＮＲ⁵⁸Ｒ⁵⁹Ｒ⁶⁰Ｒ⁶¹を表す。ここでＲ
⁵⁸〜Ｒ⁶¹はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、置換
アルキル基、アリール基又は置換アリール基を表し、Ｒ
⁵⁸及びＲ⁵⁹は互いに結合して環構造を形成してもよい。
ｍは１〜３の整数を表す。下塗り層の乾燥塗布量として
は２〜２００ｍｇ／ｍ²が好ましく、５〜１００ｍｇ／
ｍ²がより好ましい。この乾燥塗布量が２ｍｇ／ｍ²未満
であると十分な膜性が得られないことがある。一方２０
０ｍｇ／ｍ²を超えて塗布しても、それ以上の効果を得
ることはできない。 【０１０３】上記下塗り層は下記方法により設けること
ができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチ
ルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶
剤に前記有機化合物を溶解させた下塗り層用溶液をアル
ミニウム板などの支持体上に塗布、乾燥して設ける方法
と、水又はメタノール、エタノール、エチルエチルケト
ンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に前記有機
化合物を溶解させた下塗り層用溶液に、アルミニウム板
などの支持体を浸漬して前記有機化合物を吸着させ、そ
の後水等で洗浄、乾燥して設ける方法である。 【０１０４】前者の方法では、前記有機化合物の0.００
５〜１０質量％濃度の下塗り層用溶液を用いることが好
ましい。一方、後者の方法では、下塗り層用溶液の前記
有機化合物の濃度としては、0.０１〜２０質量％が好ま
しく、0.０５〜５質量％がより好ましい。また、浸漬温
度としては２０〜９０℃が好ましく、２５〜５０℃がよ
り好ましい。浸漬時間としては0.１秒〜２０分が好まし
く、２秒〜１分がより好ましい。下塗り層用溶液はアン
モニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基
性物質や塩酸、リン酸などの酸性物質を用いてｐＨ１〜
１２の範囲に調整することもできる。また、調子再現性
改良を目的として黄色染料を追加することもできる。 【０１０５】上記ポジ型赤外線感光層を有する平版印刷
版は赤外線レーザーで記録することができる。前記赤外
線レーザーとしては波長７００〜１２００ｎｍの赤外線
を放射するレーザーが好ましく、同波長範囲の赤外線を
放射する固体レーザー又は半導体レーザーがより好まし
い。 【０１０６】次に、本発明の処理方法が適用されるネガ
型赤外線感光層を有する平版印刷版について説明する。
本発明の方法は赤外線レーザによる書き込み可能なすべ
てのネガ型平版印刷版原版、即ち、赤外線レーザ照射部
が硬化して画像部を形成するネガ型の感光層を有する平
版印刷版版であれば、いずれのものにも適用することが
できる。このようなネガ型赤外線感光層の１つとして、
光重合層が挙げられる。光重合層には、（Ａ）赤外線吸
収剤と（Ｂ）ラジカル発生剤（ラジカル重合開始剤）と
発生したラジカルにより重合反応を起こして硬化する
（Ｃ）ラジカル重合性化合物とを含有し、好ましくは
（Ｄ）バインダーポリマーを含有する。赤外線吸収剤が
吸収した赤外線を熱に変換し、この際発生した熱によ
り、オニウム塩等のラジカル重合開始剤が分解し、ラジ
カルを発生する。ラジカル重合性化合物は、少なくとも
一個のエチレン性不飽和二重結合を有し、末端エチレン
性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有
する化合物から選ばれ、発生したラジカルにより連鎖的
に重合反応が生起し、硬化する。 【０１０７】また、ネガ型赤外線感光層の他の態様とし
ては、酸架橋層が挙げられる。酸架橋層には、（Ｅ）光
又は熱により酸を発生する化合物（以下、酸発生剤と称
する）と、（Ｆ）発生した酸により架橋する化合物（以
下、架橋剤と称する）とを含有し、さらに、これらを含
有する層を形成するための、酸の存在下で架橋剤と反応
しうる（Ｇ）アルカリ可溶性ポリマーを含む。この酸架
橋層においては、光照射又は加熱により、酸発生剤が分
解して発生した酸が、架橋剤の働きを促進し、架橋剤同
士あるいは架橋剤とバインダーポリマーとの間で強固な
架橋構造が形成され、これにより、アルカリ可溶性が低
下して、現像剤に不溶となる。このとき、赤外線レーザ
のエネルギーを効率よく使用するため、感光層中には
（Ａ）赤外線吸収剤が配合される。 【０１０８】ネガ型平版印刷版原版の赤外線感光層に用
いられる各化合物について以下に述べる。［（Ａ）赤外
線吸収剤］赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換
する機能を有している。この際発生した熱により、ラジ
カル発生剤や酸発生剤が分解し、ラジカルや酸を発生す
る。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長７
６０ｎｍから１２００ｎｍに吸収極大を有する染料又は
顔料である。 【０１０９】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、例えば、特開平１０−３９５０９号公報の段落番
号［００５０］〜［００５１］に記載のものを挙げるこ
とができる。これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、シ
アニン色素が好ましく、特に下記一般式（Ｋ）で示され
るシアニン色素が最も好ましい。 【０１１０】 【化８】 【０１１１】一般式（Ｋ）中、Ｘ¹は、ハロゲン原子、
またはＸ²−Ｌ¹を示す。ここで、Ｘ²は酸素原子また
は、硫黄原子を示し、Ｌ¹は、炭素原子数１〜１２の炭
化水素基を示す。Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、炭
素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。感光層塗布液の
保存安定性から、Ｒ¹およびＲ²は、炭素原子数２個以上
の炭化水素基であることが好ましく、さらに、Ｒ¹とＲ²
とは互いに結合し、５員環または６員環を形成している
ことが特に好ましい。Ａｒ¹、Ａｒ²は、それぞれ同じで
も異なっていても良く、置換基を有していても良い芳香
族炭化水素基を示す。Ｙ¹、Ｙ²は、それぞれ同じでも異
なっていても良く、硫黄原子または炭素原子数１２個以
下のジアルキルメチレン基を示す。Ｒ ³、Ｒ⁴は、それぞ
れ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても
良い炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好まし
い置換基としては、炭素原子数１２個以下のアルコキシ
基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ⁵、
Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸は、それぞれ同じでも異なっていて
も良く、水素原子または炭素原子数１２個以下の炭化水
素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子で
ある。また、Ｚ^1-は、対アニオンを示す。ただし、Ｒ¹
〜Ｒ⁸のいずれかにスルホ基が置換されている場合は、
Ｚ^1-は必要ない。好ましいＺ^1-は、感光層塗布液の保存
安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラ
フルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェート
イオン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましく
は、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイ
オン、およびアリールスルホン酸イオンである。 【０１１２】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（Ｋ）で示されるシアニン色素の具体例として
は、特願平１１−３１０６２３号明細書の段落番号［０
０１７］〜［００１９］に記載されたものを挙げること
ができる。 【０１１３】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、
「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年
刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年
刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）
に記載されている顔料が利用できる。 【０１１４】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。これらの顔料の詳細
は、特開平１０−３９５０９号公報の段落番号［００５
２］〜［００５４］に詳細に記載されており、これらを
本発明にも適用することができる。これらの顔料のうち
好ましいものはカーボンブラックである。 【０１１５】ネガ型赤外線感光層中における、上述の染
料又は顔料の含有量としては、感光層の全固形分重量に
対し、０．０１〜５０質量％が好ましく、０．１〜１０
質量％がより好ましく、さらに染料の場合には、０．５
〜１０質量％が最も好ましく、顔料の場合には、１．０
〜１０質量％が最も好ましい。前記含有量が、０．０１
質量％未満であると、感度が低くなることがあり、５０
質量％を超えると、平版印刷用原版とした場合の非画像
部に汚れが発生することがある。 【０１１６】［（Ｂ）ラジカルを発生する化合物］本発
明において好適に用いられるネガ型赤外線感光層中のラ
ジカルを発生する化合物としては、オニウム塩が挙げら
れ、具体的には、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、ス
ルホニウム塩である。これらのオニウム塩は酸発生剤と
しての機能も有するが、後述するラジカル重合性化合物
と併用する際には、ラジカル重合の開始剤として機能す
る。本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下
記一般式（Ｌ）〜（Ｎ）で表されるオニウム塩である。 【０１１７】 【化９】 【０１１８】式（Ｌ）中、Ａｒ¹¹とＡｒ¹²は、それぞれ
独立に、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以
下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有す
る場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニト
ロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数
１２個以下のアルコキシ基、または炭素原子数１２個以
下のアリールオキシ基が挙げられる。Ｚ^11-はハロゲン
イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオ
ン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホ
ン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、
好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフ
ェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンであ
る。 【０１１９】式（Ｍ)中、Ａｒ²¹は、置換基を有してい
ても良い炭素原子数２０個以下のアリール基を示す。好
ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素
原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下
のアルコキシ基、炭素原子数１２個以下のアリールオキ
シ基、炭素原子数１２個以下のアルキルアミノ基、炭素
原子数１２個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数１
２個以下のアリールアミノ基または、炭素原子数１２個
以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Ｚ^{21 -}はＺ^11-
と同義の対イオンを表す。 【０１２０】式（Ｎ）中、Ｒ³¹、Ｒ³²及びＲ³³は、それ
ぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していて
も良い炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ま
しい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原
子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下の
アルコキシ基、または炭素原子数１２個以下のアリール
オキシ基が挙げられる。Ｚ^31-はＺ^11-と同義の対イオン
を表す。 【０１２１】本発明において、好適に用いることのでき
るオニウム塩の具体例としては、特願平１１−３１０６
２３号明細書の段落番号［００３０］〜［００３３］に
記載されたものを挙げることができる。 【０１２２】本発明において用いられるオニウム塩は、
極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましく、
さらに３６０ｎｍ以下であることが好ましい。このよう
に吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版
原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。 【０１２３】これらのオニウム塩は、感光層塗布液の全
固形分に対し０．１〜５０質量％、好ましくは０．５〜
３０質量％、特に好ましくは１〜２０質量％の割合で感
光層塗布液中に添加することができる。添加量が０．１
質量％未満であると感度が低くなり、また５０質量％を
越えると印刷時非画像部に汚れが発生する。これらのオ
ニウム塩は、１種のみを用いても良いし、２種以上を併
用しても良い。また、これらのオニウム塩は他の成分と
同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加
してもよい。 【０１２４】［（Ｃ）ラジカル重合性化合物］ラジカル
重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二
重結合を有するラジカル重合性化合物であり、末端エチ
レン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以
上有する化合物から選ばれる。この様な化合物群は当該
産業分野において広く知られるものであり、本発明にお
いてはこれらを特に限定無く用いる事ができる。これら
は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、
３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならび
にそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー
およびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸
（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、ク
ロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、その
エステル類、アミド類があげられ、好ましくは、不飽和
カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのア
ミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ
基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カル
ボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能イソ
シアネート類、エポキシ類との付加反応物、単官能もし
くは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適
に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基等
の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルま
たはアミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール
類、アミン類およびチオール類との付加反応物、さら
に、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有
する不飽和カルボン酸エステルまたはアミド類と、単官
能もしくは多官能のアルコール類、アミン類およびチオ
ール類との置換反応物も好適である。また、別の例とし
て、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホ
ン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用する事も
可能である。 【０１２５】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物である
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、イタコン
酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エス
テル、マレイン酸エステルの具体例は、特願平１１−３
１０６２３号明細書の段落番号［００３７］〜［００４
２］に記載されており、これらを本発明にも適用するこ
とができる。 【０１２６】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭４６−２７９２６、特公昭５１−４７３３４、特開
昭５７−１９６２３１号各公報記載の脂肪族アルコール
系エステル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９−
５２４１、特開平２−２２６１４９号各公報記載の芳香
族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号公報
記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。 【０１２７】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。 【０１２８】その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。 【０１２９】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４
８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式で示される水酸基を含有するビニルモノ
マーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基
を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。 ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ'）ＯＨ （ただし、ＲおよびＲ'は、ＨまたはＣＨ₃を示す。） 【０１３０】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号各公報に記
載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭
５８−４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公
昭６２−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号各公
報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化
合物類も好適である。 【０１３１】さらに、特開昭６３−２７７６５３号、特
開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号
各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド
構造を有するラジカル重合性化合物類を用いても良い。 【０１３２】これらのラジカル重合性化合物について、
どの様な構造を用いるか、単独で使用するか併用する
か、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終
的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設定でき
る。例えば、次のような観点から選択される。感度の点
では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好まし
く、多くの場合、２官能以上がこのましい。また、画像
部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以
上のものが良く、さらに、異なる官能数・異なる重合性
基を有する化合物（例えば、アクリル酸エステル系化合
物、メタクリル酸エステル系化合物、スチレン系化合物
等）を組み合わせて用いることで、感光性と強度の両方
を調節する方法も有効である。これらの観点から、ラジ
カル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの場合、組
成物全成分に対して５〜８０質量％、好ましくは２０〜
７５質量％である。また、これらは単独で用いても２種
以上併用してもよい。そのほか、ラジカル重合性化合物
の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、か
ぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構
造、配合、添加量を任意に選択できる。 【０１３３】［（Ｄ）バインダーポリマー］本発明にお
けるネガ型赤外線感光層には、さらにバインダーポリマ
ーを使用する。バインダーポリマーとしては線状有機ポ
リマーを用いることが好ましい。このような「線状有機
ポリマー」としては、どれを使用しても構わない。好ま
しくは水現像あるいは弱アルカリ水現像を可能とするた
めに、水あるいは弱アルカリ水可溶性または膨潤性であ
る線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマー
は、感光層を形成するための皮膜形成剤としてだけでな
く、水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤としての
用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機ポ
リマーを用いると水現像が可能になる。このような線状
有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラ
ジカル重合体、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公
昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特
公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７２３号、
特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号
に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合
体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロト
ン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マ
レイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン
酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水
酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものな
どが有用である。 【０１３４】特にこれらの中で、ベンジル基またはアリ
ル基と、カルボキシル基を側鎖に有する（メタ）アクリ
ル樹脂が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れてお
り、好適である。 【０１３５】また、特公平７−１２００４号、特公平７
−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平
８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開
昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、
特願平１０−１１６２３２号各公報等に記載される酸基
を含有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、
強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利であ
る。 【０１３６】さらにこの他に水溶性線状有機ポリマーと
して、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド
等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにア
ルコール可溶性ナイロンや２，２−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリ
エーテル等も有用である。 【０１３７】本発明で使用されるポリマーの重量平均分
子量については好ましくは５０００以上であり、さらに
好ましくは１万〜３０万の範囲であり、数平均分子量に
ついては好ましくは１０００以上であり、さらに好まし
くは２０００〜２５万の範囲である。多分散度（重量平
均分子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、さらに
好ましくは１．１〜１０の範囲である。 【０１３８】これらのポリマーは、ランダムポリマー、
ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい
が、ランダムポリマーであることが好ましい。本発明で
使用されるポリマーは従来公知の方法により合成でき
る。本発明で使用されるポリマーを合成する際に用いら
れるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸
化物開始剤等公知の化合物が使用できる。 【０１３９】本発明で使用されるバインダーポリマーは
単独で用いても混合して用いてもよい。これらポリマー
は、感光層塗布液の全固形分に対し２０〜９５質量％、
好ましくは３０〜９０質量％の割合で感光層中に添加さ
れる。添加量が２０質量％未満の場合は、画像形成した
際、画像部の強度が不足する。また添加量が９５質量％
を越える場合は、画像形成されない。またラジカル重合
可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と線状
有機ポリマーは、重量比で１／９〜７／３の範囲とする
のが好ましい。 【０１４０】次に、酸架橋層の構成成分について説明す
る。ここで用いられる赤外線吸収剤は、前記光重合層に
おいて説明した（Ａ）赤外線吸収剤と同様のものを用い
ることができる。好ましい含有量は、感光層の全固形分
重量に対し、０．０１〜５０質量％が好ましく、０．１
〜１０質量％がより好ましく、さらに染料の場合には、
０．５〜１０質量％が最も好ましく、顔料の場合には、
１．０〜１０質量％が最も好ましい。前記含有量が、
０．０１質量％未満であると、感度が低くなることがあ
り、５０質量％を超えると、平版印刷用原版とした場合
の非画像部に汚れが発生することがある。 【０１４１】［（Ｅ）酸発生剤]本実施の形態におい
て、熱により分解して酸を発生する酸発生剤は、２００
〜５００ｎｍの波長領域の光を照射する又は１００℃以
上に加熱することにより、酸を発生する化合物をいう。
前記酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光
ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色
剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知
の酸発生剤等、熱分解して酸を発生しうる、公知の化合
物及びそれらの混合物等が挙げられる。例えば、Ｓ．
Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃ
ｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂ
ａｌ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１
９８０）に記載のジアゾニウム塩や本願出願人が先に提
出した特願平１１−３３２９６３号明細書の段落番号
〔０１０１〕〜〔０１０３〕に列記された化合物などが
挙げられる。これらの酸発生剤のうち、下記一般式
（Ｏ）〜（Ｓ）で表される化合物が好ましい。 【０１４２】 【化１０】 【０１４３】前記一般式（Ｏ）〜（Ｓ）中、Ｒ¹、Ｒ²、
Ｒ⁴及びＲ⁵は、同一でも異なっていてもよく、置換基を
有していてもよい炭素数２０以下の炭化水素基を表す。
Ｒ³は、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素
数１０以下の炭化水素基又は炭素数１０以下のアルコキ
シ基を表す。Ａｒ¹、Ａｒ²は、同一でも異なっていても
よく、置換基を有していてもよい炭素数２０以下のアリ
ール基を表す。Ｒ⁶は、置換基を有していてもよい炭素
数２０以下の２価の炭化水素基を表す。ｎは、０〜４の
整数を表す。前記一般式（Ｏ）〜（Ｓ）中、Ｒ¹、Ｒ²、
Ｒ⁴及びＲ⁵は、炭素数１〜１４の炭化水素基が好まし
い。 【０１４４】前記一般式（Ｏ）〜（Ｓ）で表される酸発
生剤の好ましい態様は、本発明者らが先に提案した特願
平１１−３２０９９７号明細書段落番号[０１９７]〜
[０２２２]に詳細に記載されている。これらの化合物
は、例えば、特開平２−１０００５４号、特開平２−１
０００５５号に記載の方法により合成することができ
る。 【０１４５】また、（Ｅ）酸発生剤として、ハロゲン化
物やスルホン酸等を対イオンとするオニウム塩も挙げる
ことができ、中でも、下記一般式（Ｔ）〜（Ｖ）で表さ
れるヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩
のいずれかの構造式を有するものを好適に挙げることが
できる。 【０１４６】 【化１１】【０１４７】前記一般式（Ｔ）〜（Ｖ）中、Ｘ^-は、ハ
ロゲン化物イオン、ＣｌＯ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-、ＢＦ
₄ ^-又はＲ⁷ＳＯ₃ ^-を表し、ここで、Ｒ⁷は、置換基を有し
ていてもよい炭素数２０以下の炭化水素基を表す。Ａｒ
³、Ａｒ⁴は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよ
い炭素数２０以下のアリール基を表す。Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ ¹⁰
は、置換基を有していてもよい炭素数１８以下の炭化水
素基を表す。このようなオニウム塩は、特開平１０−３
９５０９号公報段落番号[００１０]〜[００３５]に一般
式（Ｉ）〜（III）の化合物として記載されている。 【０１４８】酸発生剤の添加量としては、感光層の全固
形分重量に対し０．０１〜５０質量％が好ましく、０．
１〜２５質量％がより好ましく、０. ５〜２０質量％が
最も好ましい。前記添加量が、０．０１質量％未満であ
ると、画像が得られないことがあり、５０質量％を超え
ると、平版印刷用原版とした時の印刷時において非画像
部に汚れが発生することがある。上述の酸発生剤は単独
で使用してもよいし、２種以上を組合わせて使用しても
よい。 【０１４９】[（Ｆ）架橋剤]次に、架橋剤について説明
する。架橋剤としては、以下のものが挙げられる。 （ｉ）ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基
で置換された芳香族化合物 （ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル
基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物 （iii）エポキシ化合物 【０１５０】以下、前記（ｉ）〜（iii）の化合物につ
いて詳述する。前記（ｉ）ヒドロキシメチル基若しくは
アルコキシメチル基で置換された芳香族化合物として
は、例えば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基
若しくはアルコキシメチル基でポリ置換されている芳香
族化合物又は複素環化合物が挙げられる。但し、レゾー
ル樹脂として知られるフェノール類とアルデヒド類とを
塩基性条件下で縮重合させた樹脂状の化合物も含まれ
る。ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基でポリ
置換された芳香族化合物又は複素環化合物のうち、中で
も、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチル基
又はアルコキシメチル基を有する化合物が好ましい。ま
た、アルコキシメチル基でポリ置換された芳香族化合物
又は複素環化合物では、中でも、アルコキシメチル基が
炭素数１８以下の化合物が好ましく、下記一般式（１）
〜（４）で表される化合物がより好ましい。 【０１５１】 【化１２】 【０１５２】 【化１３】 【０１５３】前記一般式（１）〜（４）中、Ｌ₁〜Ｌ
₈は、それぞれ独立に、メトキシメチル、エトキシメチ
ル等の、炭素数１８以下のアルコキシ基で置換されたヒ
ドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を表す。これ
らの架橋剤は、架橋効率が高く、耐刷性を向上できる点
で好ましい。 【０１５４】（ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アル
コキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有
する化合物としては、欧州特許公開（以下、「ＥＰ−
Ａ」と示す。）第０，１３３，２１６号、西独特許第
３，６３４，６７１号、同第３，７１１，２６４号に記
載の、単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアルデ
ヒド縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、ＥＰ
−Ａ第０，２１２，４８２号明細書に記載のアルコキシ
置換化合物等が挙げられる。なかでも、例えば、少なく
とも２個の遊離Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキ
シメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する
メラミン−ホルムアルデヒド誘導体が好ましく、Ｎ−ア
ルコキシメチル誘導体が最も好ましい。 【０１５５】(iii) エポキシ化合物としては、１以上の
エポキシ基を有する、モノマー、ダイマー、オリゴマ
ー、ポリマー状のエポキシ化合物が挙げられ、例えば、
ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの反応生成
物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド樹脂とエピ
クロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられる。その
他、米国特許第４，０２６，７０５号、英国特許第１，
５３９，１９２号の各明細書に記載され、使用されてい
るエポキシ樹脂を挙げることができる。 【０１５６】架橋剤として、前記（ｉ）〜（iii）の化
合物を用いる場合の添加量としては、感光層の全固形分
重量に対し５〜８０質量％が好ましく、１０〜７５質量
％がより好ましく、２０〜７０質量％が最も好ましい。
前記添加量が、５質量％未満であると、得られる画像記
録材料の感光層の耐久性が低下することがあり、８０質
量％を超えると、保存時の安定性が低下することがあ
る。 【０１５７】本発明においては、架橋剤として、（iv）
下記一般式（５）で表されるフェノール誘導体も好適に
使用することができる。 【０１５８】 【化１４】【０１５９】前記一般式（５）中、Ａｒ¹は、置換基を
有していてもよい芳香族炭化水素環を表す。原料の入手
性の点で、前記芳香族炭化水素環としては、ベンゼン
環、ナフタレン環又はアントラセン環が好ましい。ま
た、その置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１２以
下の炭化水素基、炭素数１２以下のアルコキシ基、炭素
数１２以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、ト
リフルオロメチル基等が好ましい。 【０１６０】上記のうち、高感度化が可能である点で、
Ａｒ¹としては、置換基を有していないベンゼン環、ナ
フタレン環、或いは、ハロゲン原子、炭素数６以下の炭
化水素基、炭素数６以下のアルコキシ基、炭素数６以下
のアルキルチオ基又はニトロ基等を置換基として有する
ベンゼン環又はナフタレン環がより好ましい。 【０１６１】[(Ｇ)アルカリ水可溶性高分子化合物]上記
架橋層に使用可能なアルカリ水可溶性高分子化合物とし
ては、ノボラック樹脂や側鎖にヒドロキシアリール基を
有するポリマー等が挙げられる。前記ノボラック樹脂と
しては、フェノール類とアルデヒド類を酸性条件下で縮
合させた樹脂が挙げられる。 【０１６２】中でも、例えば、フェノールとホルムアル
デヒドから得られるノボラック樹脂、ｍ−クレゾールと
ホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｐ−ク
レゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹
脂、ｏ−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノ
ボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒド
から得られるノボラック樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾー
ルとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、フ
ェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，ｏ−又はｍ−／ｐ
−，ｍ−／ｏ−，ｏ−／ｐ−混合のいずれでもよい）の
混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂
や、フェノールとパラホルムアルデヒドとを原料とし、
触媒を使用せず密閉状態で高圧下、反応させて得られる
オルソ結合率の高い高分子量ノボラック樹脂等が好まし
い。前記ノボラック樹脂は、重量平均分子量が８００〜
３００，０００で、数平均分子量が４００〜６０，００
０のものの中から、目的に応じて好適なものを選択して
用いればよい。 【０１６３】また、前記側鎖にヒドロキシアリール基を
有するポリマーも好ましく、該ポリマー中のヒドロキシ
アリール基としては、ＯＨ基が１以上結合したアリール
基が挙げられる。前記アリール基としては、例えば、フ
ェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナント
レニル基等が挙げられ、中でも、入手の容易性及び物性
の観点から、フェニル基又はナフチル基が好ましい。本
実施の形態に使用可能な、側鎖にヒドロキシアリール基
を有するポリマーとしては、例えば、下記一般式（Ｗ）
〜（Ｚ）で表される構成単位のうちのいずれか１種を含
むポリマーを挙げることができる。但し、本発明におい
ては、これらに限定されるものではない。 【０１６４】 【化１５】 【０１６５】一般式（Ｗ）〜（Ｚ）中、Ｒ¹¹は、水素原
子又はメチル基を表す。Ｒ¹²及びＲ ¹³は、同じでも異な
っていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１０
以下の炭化水素基、炭素数１０以下のアルコキシ基又は
炭素数１０以下のアリールオキシ基を表す。また、Ｒ¹²
とＲ¹³が結合、縮環してベンゼン環やシクロヘキサン環
を形成していてもよい。Ｒ¹⁴は、単結合又は炭素数２０
以下の２価の炭化水素基を表す。Ｒ¹⁵は、単結合又は炭
素数２０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｒ¹⁶は、単結
合又は炭素数１０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｘ¹
は、単結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステ
ル結合又はアミド結合を表す。ｐは、１〜４の整数を表
す。ｑ及びｒは、それぞれ独立に０〜３の整数を表す。 【０１６６】これらのアルカリ可溶性高分子としては、
本発明者らが先に提案した特願平１１−３２０９９７号
明細書段落番号[０１３０]〜[０１６３]に詳細に記載さ
れている。本実施の形態に使用可能なアルカリ水可溶性
高分子化合物は、１種類のみで使用してもよいし、２種
類以上を組合わせて使用してもよい。アルカリ水可溶性
高分子化合物の添加量としては、感光層の全固形分に対
し５〜９５質量％が好ましく、１０〜９５質量％がより
好ましく、２０〜９０質量％が最も好ましい。アルカリ
水可溶性樹脂の添加量が、５質量％未満であると、感光
層の耐久性が劣化することがあり、９５質量％を超える
と、画像形成されないことがある。 【０１６７】また、本発明の方法が適用できる他の公知
の記録材料としては、特開平８−２７６５５８号公報に
記載のフェノール誘導体を含有するネガ型画像記録材
料、特開平７−３０６５２８号公報に記載のジアゾニウ
ム化合物を含有するネガ型記録材料、特開平１０−２０
３０３７号公報に記載されている環内に不飽和結合を有
する複素環基を有するポリマーを用いた、酸触媒による
架橋反応を利用したネガ型画像形成材料などが挙げら
れ、これらに記載の感光層を本発明に係るネガ型赤外線
感光層としての酸架橋層に適用することができる。 【０１６８】［その他の成分］本発明では、さらに必要
に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。
例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色
剤として使用することができる。また、フタロシアニン
系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンな
どの顔料も好適に用いることができる。また、感光層は
光重合層である場合、塗布液の調製中あるいは保存中に
おいてラジカル重合可能なエチレン性不飽和二重結合を
有する化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱
重合防止剤を添加することが望ましい。 【０１６９】本発明において、上記ネガ型赤外線感光層
塗布液中には、現像条件に対する処理の安定性を広げる
ため、特開昭６２−２５１７４０号や特開平３−２０８
５１４号に記載されているような非イオン界面活性剤、
特開昭５９−１２１０４４号、特開平４−１３１４９号
に記載されているような両性界面活性剤を添加すること
ができる。 【０１７０】上述したようなネガ型赤外線感光層を有す
る平版印刷版を製造するには、通常、感光層塗布液に必
要な上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗
布すればよい。ここで使用する溶媒としては、エチレン
ジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プ
ロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メト
キシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳
酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレ
ア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ス
ルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げ
ることができるがこれに限定されるものではない。これ
らの溶媒は単独又は混合して使用される。溶媒中の上記
成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、好ましくは１
〜５０質量％である。 【０１７１】また塗布、乾燥後に得られる支持体上のネ
ガ型感光層塗布量（固形分）は、用途によって異なる
が、一般的に０．５〜５．０ｇ／ｍ²が好ましい。塗布
する方法としては、種々の方法を用いることができる
が、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗
布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、
ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗
布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になる
が、画像記録の機能を果たす赤外線感光層の皮膜特性は
低下する。 【０１７２】［支持体］上記ネガ型赤外線感光層を有す
る平版印刷版において、感光層を塗布可能な支持体とし
ては、寸度的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラ
スチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例え
ば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィル
ム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プ
ロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セル
ロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上記の如
き金属がラミネート若しくは蒸着された紙又はプラスチ
ックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体として
は、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が挙げら
れる。用いられるアルミニウム板の厚みは、およそ０．
１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度である。 【０１７３】アルミニウム板は表面に粗面化処理等の表
面処理を行い、ネガ型感光層を塗布して平版印刷版原版
とすることが出来る。アルミニウム板を粗面化するに先
立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例え
ば界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などに
よる脱脂処理が行われる。次に、アルミニウム板の表面
は粗面化処理されるが、その方法としては、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法がある。機械
的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラス
ト研磨法、バフ研磨法などと称せられる公知の方法を用
いることが出来る。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開
示されているように両者を組み合わせた方法も利用する
ことが出来る。 【０１７４】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高める
ために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極
酸化処理に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を
形成するものならばいかなるものでも使用することがで
き、一般には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそ
れらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解
質の種類によって適宜決められる。 【０１７５】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が１〜８０％溶液、液温は５〜７０℃、電流密
度５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１
０秒〜５分の範囲にあれば適当である。陽極酸化皮膜の
量は１．０ｇ／ｍ²以上が好適であるが、より好ましく
は２．０〜６．０ｇ／ｍ²の範囲である。陽極酸化皮膜
が１．０ｇ／ｍ²未満であると耐刷性が不十分であった
り、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷
時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が
生じ易くなる。なお、このような陽極酸化処理は平板印
刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線
の裏回りにより、裏面にも０．０１〜３ｇ／ｍ²の陽極
酸化皮膜が形成されるのが一般的である。 【０１７６】陽極酸化処理を施された後、アルミニウム
表面は必要により親水化処理が施される。親水化処理と
しては、米国特許第 2,714,066号、第 3,181,461号、第
3,280,734号および第 3,902,734号に開示されているよ
うなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナトリウム
水溶液）法がある。この方法に於いては、支持体がケイ
酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理されるかまたは電解処
理される。他に、特公昭３６−２２０６３号公報に開示
されている弗化ジルコン酸カリウムおよび米国特許第
3,276,868号、第 4,153,461号および第 4,689,272号に
開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する
方法などが用いられる。 【０１７７】〔有機下塗層〕上記ネガ型感光層を有する
平版印刷版において、アルミニウム板には感光層を塗設
する前に必要に応じて有機下塗層もしくは中間層が設け
られる。この有機下塗層に用いられる有機化合物として
は例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリ
ン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などの
アミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよい
フェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホ
スホン酸グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸お
よびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換
基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、ア
ルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、
置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチル
ホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホ
スフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−ア
ラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミン
の塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩
などから選ばれるが、二種以上混合して用いてもよい。 【０１７８】前記下塗層塗布溶液は、アンモニア、トリ
エチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１
〜１２の範囲で使用することもできる。また、感光性平
版印刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加する
こともできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２〜２
００ｍｇ／ｍ²が適当であり、好ましくは５〜１００ｍ
ｇ／ｍ²である。上記の被覆量が２ｍｇ／ｍ²より少ない
と汚れ防止等の本来の目的に十分な効果が得られない。
また、２００ｍｇ／ｍ²より大きいと耐刷が低下する。 【０１７９】なお，支持体と感光層との密着性を高める
ための中間層を設けてもよい。密着性の向上のために
は、一般に中間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミニウ
ムに吸着するリン酸化合物等からなっている。中間層の
厚さは任意であり、露光した時に、上層の感光層と均一
な結合形成反応を行い得る厚みでなければならない。通
常、乾燥固体で約１〜１００mg／ｍ²の塗布割合がよ
く、５〜４０mg／ｍ²が特に良好である。中間層中にお
けるジアゾ樹脂の使用割合は、３０〜１００質量％、好
ましくは６０〜１００質量％である。 【０１８０】〔バックコート層〕本発明において用いら
れる現像液および補充液はアルカリ強度が比較的高いの
で、裏面からの酸化アルミニウムの溶出を抑えるために
バックコート層を有することが好ましい。このようなバ
ックコート層としては、例えば特開平５−４５８８５号
公報、特願平４−５７９０２号および特願平４−１８９
４４８号に詳しく記載されているものを用いることがで
きる。 【０１８１】(露光、現像および後処理)本発明のＰＳ版
は赤外線ランプ、サーマルヘッド、赤外線レーザー等で
画像記録を行う。波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤
外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーにより
画像露光されることが好ましい。レーザーの出力は１０
０ｍＷ以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マル
チビームレーザデバイスを用いることが好ましい。ま
た、１画素あたりの露光時間は２０μ秒以内であること
が好ましい。記録材料に照射されるエネルギーは１０〜
３００ｍＪ／ｃｍ²であることが好ましい。かかる現像
処理されたＰＳ版は水洗水、界面活性剤等を含有するリ
ンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を主成分とするフ
ィニッシャーや保護ガム液で後処理を施される。ＰＳ版
の後処理には、これらの処理を種々組み合わせて用いる
ことができる。近年、製版・印刷業界では製版作業の合
理化および標準化のため、ＰＳ版用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、ＰＳ版を搬送する装置と、各処理液槽
およびスプレ−装置からなり、露光済みのＰＳ版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
−ノズルから吹き付けて現像および後処理するものであ
る。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中
ガイドロ−ルなどによってＰＳ版を浸漬搬送させて現像
処理する方法や、現像後一定量の少量の水洗水を版面に
供給して水洗し、その廃水を現像液原液の希釈水として
再利用する方法も知られている。このような自動処理に
おいては、各処理液に処理量や稼動時間等に応じてそれ
ぞれの補充液を補充しながら処理することができる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。このような処理によって得ら
れた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚
の印刷に用いられる。 【０１８２】 【実施例】以下実施例を以て本発明を詳細に説明する。 実施例１ 次にＰＳ版Ａを以下のようにして作成した。 （共重合体１の合成）撹拌機、冷却管及び滴下ロートを
備えた５００ｍｌ三ツロフラスコにメタクリル酸３１.
０ｇ（０.３６モル）、クロロギ酸エチル３９.１ｇ
（０.３６モル）及びアセトニトリル２００ｍｌを入
れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。この混合
物にトリエチルアミン３６.４ｇ（０.３６モル）を約１
時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後、氷
水浴をとり去り、室温下で３０分間混合物を撹拌した。 【０１８３】この反応混合物に、ｐ−アミノベンゼンス
ルホンアミド５１.７ｇ（０.３０モル）を加え、油浴に
て７０℃に温めながら混合物を１時間攪拌した。反応終
了後、この混合物を水１リットルに水を攪拌しながら投
入し、得られた混合物を３０分間攪拌した。この混合物
をろ過して析出物を取り出し、これを水５００ｍｌでス
ラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られた固体
を乾燥することにより、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフ
ェニル）メタクリルアミドの白色固体が得られた（収量
４６.９ｇ）。 【０１８４】次に、攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備
えた２０ｍｍｌ三ツロフラスコに、Ｎ−（ｐ−アミノス
ルホニルフェニル）メタクリルアミド４.６１ｇ（０.０
１９２モル）、メタクリル酸エチル２.９４ｇ（０.０２
５８モル）、アクリロニトリル０.８０ｇ（０.０１５モ
ル）及びＮ,Ｎ−ジメチルアセトアミド２０ｇを入れ、
湯水浴により６５℃に加熱しながら混合物を攪拌した。
この混合物に「Ｖ−６５」（和光純薬（株）製）０.１
１５ｇを加え、６５℃に保ちながら窒素気流下２時間、
混合物を撹枠した。この反応混合物に、更にＮ−（ｐ−
アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド４.６１
ｇ、メタクリル酸エチル２.９４ｇ、アクリロニトリル
０.８０ｇ、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド及び「Ｖ−６
５」０.１５ｇの混合物を２時間かけて滴下ロートによ
り滴下した。滴下終了後、更に６５℃で２時間、得られ
た混合物を攪拌した。反応終了後、メタノール４０ｇを
混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水２リットル
にこの水を撹拌しながら投入し、３０分混合物を撹拌し
た後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することによ
り１５ｇの白色固体（共重合体１）を得た。ゲルパーミ
エーショーンクロマトグラフィーによりこの共重合体１
の重量平均分子量（ポリスチレン標準）を測定したとこ
ろ５３,０００であった。 【０１８５】（支持体の作成）厚みが０.３ｍｍである
アルミニウム板（材質１０５６）をトリクロロエチレン
で洗浄して、脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッ
シュのパミス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、
水でよく洗浄した。このアルミニウム板を４５℃の２５
％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチング
を行い、水洗後、更に２０％硝酸に２０秒間浸漬し、水
洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ
／ｍ²であった。次に、このアルミニウム板を７％硫酸
を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ²で３ｇ／ｍ²の直
流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し乾燥し、更に、珪酸
ナトリウム２.５質量％水溶液で３０℃で１０秒間、親
水化処理し、下記下塗り液ａを塗布し、塗膜を８０℃で
１５秒間乾燥して下塗り層を形成した支持体１を得た。
乾燥後の前記下塗り層の塗膜の被覆量は、１５ｍｇ／ｍ
²であった。 【０１８６】下塗り液ａ ・下記に示す化合物 ０.３ ｇ ・メタノール １００ ｇ ・水 １ ｇ 【０１８７】 【化１６】 【０１８８】得られた支持体の下塗り層上に、以下の感
光液ａを、その塗布量が１.８ｇ／ｍ²になるよう塗布
し、ポジ型赤外線感光性平版印刷原版（ＰＳ版Ａ）を得
た。これを１００３ｍｍ×８００ｍｍサイズに裁断し、
多数枚を準備した。 【０１８９】感光液ａ ・共重合体１（上述） ０.７５ ｇ ・ｍ,ｐ−クレゾールノボラック（Ｐ−１）（ｍ，ｐ比：６／４、重量平均分子 量３,５００、未反応クレゾール０.５質量％含有） ０.２５ ｇ ・ｐ−トルエンスルホン酸 ０.００３ ｇ ・テトラヒドロ無水フタル酸 ０.０３ ｇ ・シアニン染料Ａ（下記構造） ０.０１７ ｇ ・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対イオンを１−ナフタレンスルホン酸アニオ ンにした染料 ０.０１５ ｇ ・メガファックＦ−１７７ ０.０５ ｇ （大日本インキ化学工業（株）製、フッ素系界面活性剤） ・γ−ブチロラクトン １０ ｇ ・メチルエチルケトン １０ ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール １ ｇ 【０１９０】 【化１７】 シアニン染料Ａ 【０１９１】得られたＰＳ版Ａを、出力５００ｍＷ、波
長８３０ｎｍ、ビーム径１７μｍ（１／ｅ²）の半導体
レーザを用いて、主走査速度５ｍ／秒にて露光した。次
に、浸漬型現像槽を有する自動現像機の現像処理槽に、
下記組成のアルカリ現像処理液ａ（ｐＨ約１３）を２０
リットル仕込み、３０℃に保温した。第二浴目には、水
道水を８リットル、第三浴目には、ＦＰ−２Ｗ（富士写
真フイルム（株）製）：水＝１：１希釈したフィニッシ
ングガム液を８リットル仕込んだ。 【０１９２】下記現像補充液ａを用いて後述するように
評価した。なお、感度はステップタブレットではなく、
基準細線（８μｍ）の線巾を測定することで調べたが、
変化は見られなかった。現像液ａ ・Ｄ−ソルビット ４.２ 質量％ ・水酸化カリウム １.１ 質量％ ・パイオニンＣ−１５８Ｇ（竹本油脂社製両性界面活性剤） ０.１３ 質量％ ・オルフィンＡＫ−０２(日信化学社製ノニオン性界面活性剤）０.０１ 質量％ ・Ｐ−１ ０.０８ 質量％ ・水 ９４.４８ 質量％ 【０１９３】現像補充液ａ ・Ｄ−ソルビット ３４ 質量％ ・水酸化カリウム １.５ 質量％ ・パイオニンＣ−１５８Ｇ（竹本油脂社製両性界面活性剤） ０.１ 質量％ ・オルフィンＡＫ−０２（日信化学社製ノニオン性界面活性剤） ０.００２ 質量％ ・水 ９４.９９８ 質量％ 【０１９４】（評価方法）基準細線（８μ）の線幅を測
定し、その値をＰＳ版Ａの現像液ａで現像した時の感度
と定義し、処理中にもこの感度が一定になるように上記
の現像補充液ａ（ｐＨ約１３.２）を補充した。この様
な条件の下でＰＳ版Ａを一日当たり５０版づつ、２ヶ月
間処理した後、現像槽から現像液を抜き取ったところ、
現像槽にはカスやヘドロの発生は見られなかった。ま
た、得られた平版印刷版をオフセット印刷機スプリント
２５（小森印刷機製造（株）製）にセットし、印刷を行
ったところ、汚れがなく美しい印刷物が得られた。次
に、現像液ａおよび現像補充液ａそれぞれ約２０ｌをポ
リエチレン性の瓶に詰め、４５℃の恒温槽に１ヶ月間保
管したが、外観に変化はなく、現像性も調製時とほとん
ど変わらなかった。 【０１９５】実施例２ 実施例１で作成した支持体１上に下記感光液ｂを塗布
し、赤外線感光性平版印刷版原版Ｂを作成した。感光液ｂ Ｎ−（４−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド／アクリロニトリル／ メタクリル酸メチル（Ｐ−２）（３６／３４／３０重量平均分子量５００００） １．８９６ｇ クレゾールノボラック（ｍ／ｐ＝６／４ 重量平均分子量４５００、残存モノマ ー０．８ｗｔ％） ０．２３７ｇ シアニン染料Ａ ０．１０９ｇ ４，４'−ビスヒドロキシフェニルスルホン ０．０６３ｇ 無水テトラヒドロフタル酸 ０．１９０ｇ ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００８ｇ エチルバイオレットの対イオンを６−ヒドロキシナフタレンスルホンに変えたも の ０．０５ｇ フッ素系界面活性剤（Ｆ１７６、大日本インキ工業（株）社製）０．０３５ｇ メチルエチルケトン ２６．６ｇ １−メトキシ−２−プロパノール １３．６ｇ γ−ブチロラクトン １３．８ｇ 得られたＰＳ版Ｂを、実施例１に記載の現像液において
アルカリ可溶性樹脂Ｐ−１をＰ−２に変えた現像液及び
実施例１に記載の現像補充液を用いて実施例１と同様に
現像処理を行い、評価を行った。 【０１９６】実施例３ （支持体の作成）厚さ０．０３ｍｍのアルミニウム板を
ナイロンブラシと４００メッシュのパミストンの水懸濁
液を用いその表面を砂目立てした後、水洗した。１０％
水酸化ナトリウムに６０℃で４０秒間浸せきしてエッチ
ングした後、流水で水洗後２０％硝酸で中和洗浄、水洗
した。これをＶA ＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番
波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で１６０クーロン／
ｄｍ²の陽極電気量で電解粗面化処理を行った。その表
面粗さを測定したところ、０．６μｍ（Ｒａ表示）であ
った。引き続いて３０％の硝酸水溶液中に浸せきし５５
℃で１分間デスマットした後、２０％硝酸水溶液中で、
電流密度２Ａ／ｄｍ²のおいて厚さが２．７ｇ／ｍ²にな
るように陽極酸化し、基板を調製した。 【０１９７】（親水層の形成）このように処理された基
板の表面に下記組成の親水層塗布液を塗布し、８０℃、
３０秒間乾燥して、支持体２を得た。乾燥後の皮膜量は
２０ｍｇ／ｍ²であった。 【０１９８】親水層塗布液組成 ・βアラニン ０．１０ ｇ ・メタノール １００ ｇ 【０１９９】（赤外線感光層の形成）架橋剤［ＫＺ−９］の合成 １−［α−メチル−α−（４−ヒドロキシフェニル）エ
チル］−４−［α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）エチル］ベンゼンを、水酸化カリウム水溶液中で、
ホルマリンと反応させた。反応溶液を硫酸で酸性とし晶
析させ、さらにメタノールから再結晶することにより、
下記構造の架橋剤［ＫＺ−９］を得た。逆相ＨＰＬＣに
より純度を測定したところ、９２％であった。 【０２００】 【化１８】 【０２０１】バインダーポリマー［ＢＰ−１］の入手 丸善石油化学（株）製のポリ（ｐ−ヒドロキシスチレ
ン）、マルカ リンカーＭ Ｓ−４Ｐ（商品名）を入手
し、［ＢＰ−１］とした。 【０２０２】次に、下記赤外線感光層塗布液［Ｐ］を調
製し、この溶液を、上記の親水層を形成した支持体２上
に塗布し、１００℃で１分間乾燥して赤外線感光層を形
成し、ネガ型平版印刷版原版Ｃを得た。乾燥後の被覆量
は１．５ｇ／ｍ²であった。塗布液［Ｐ］に用いた酸発
生剤［ＳＨ−１］および赤外線吸収剤［ＩＫ−１］の構
造を以下に示す。 【０２０３】 赤外線感光層塗布液［Ｐ］ ・酸発生剤［ＳＨ−１］ ０．３ ｇ ・架橋剤［ＫＺ−９］ ０．５ ｇ ・バインダーポリマー［ＢＰ−１］（Ｐ−３） １．５ ｇ ・赤外線吸収剤［ＩＫ−１］ ０．０７ ｇ ・ＡＩＺＥＮ ＳＰＩＬＯＮ ＢＬＵＥ Ｃ−ＲＨ ０．０３５ ｇ （保土ヶ谷化学（株）製） ・フッ素系界面活性剤 ０．０１ ｇ （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） ・無水フタル酸 ０．０５ ｇ ・メチルエチルケトン １２ ｇ ・メチルアルコール １０ ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ４ ｇ ・３−メトキシ−１−プロパノール ４ ｇ 【０２０４】 【化１９】 【０２０５】得られたＰＳ版Ｃを、出力５００ｍＷ、波
長８３０ｎｍ、ビーム径１７μｍ（１／ｅ²）の半導体
レーザを用いて、主走査速度５ｍ／秒にて露光した。次
に、浸漬型現像槽を有する自動現像機の現像処理槽に、
下記組成のアルカリ現像処理液ｃを２０リットル仕込
み、３０℃に保温した。第二浴目には、水道水を８リッ
トル、第三浴目には、ＦＮ−６（富士写真フイルム
（株）製）：水＝１：１希釈したフィニッシングガム液
を８リットル仕込んだ。その後、下記現像補充液ｃを用
いて、実施例１と同様に処理し、実施例１と同様に評価
した。 【０２０６】現像液ｃ ・Ｄ−ソルビット ４.２ 質量％ ・水酸化カリウム １.１ 質量％ ・Ｐ−３ ２.０ 質量％ ・水 ９２.５ 質量％現像補充液ｃ ・Ｄ−ソルビット ５.５ 質量％ ・水酸化カリウム １.２ 質量％ ・水 ９３.３ 質量％ 【０２０７】（比較例１）実施例１のＰＳ版Ａを、現像
液としてアルカリ可溶性樹脂（Ｐ−１）を含まない他は
実施例１と同じ現像液を使用して実施例１と同様に処理
し、評価を行った。 （比較例２）実施例２のＰＳ版Ｂを、現像液としてアル
カリ可溶性樹脂（Ｐ−２）を含まない他は実施例１と同
じ現像液を使用して実施例１と同様に処理し、評価を行
った。 【０２０８】（比較例３）実施例２のＰＳ版Ｂを、下記
比較現像液及び補充液を用いて処理し、実施例１と同様
に評価した。比較現像液 Ａ珪酸カリウム（ＳｉＯ₂：２６質量％、Ｋ₂Ｏ：１３質量％） ５０質量部 水酸化カリウム １０質量部 フェノールとｍ−、ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの共縮合樹脂（フ ェノール、ｍ−クレゾール及びｐ−クレゾールの仕込みモル比が１０：５４：３ ６、重量平均分子量４８００） ５質量部 水 ６２０質量部現像補充液 Ａ珪酸カリウム（ＳｉＯ₂：２６質量％、Ｋ₂Ｏ：１３質量％） ６０質量部 水酸化カリウム ２０質量部 水 ３５０質量部 【０２０９】実施例１〜３及び比較例１〜３の結果を下
記表１に示す。 表１ ^*1：画像濃度の部分的低下が見られた場合、キズありと
評価した。 【０２１０】 【発明の効果】本発明の平版印刷版の処理方法を用いる
ことにより、着肉性、汚れ性、カス分散性に優れ、ヘド
ロの発生が少なく、画像部にキズをつけにくい。長期間
のランニング処理によっても赤外線感光層成分に由来す
るカスの付着がなく、インキ着肉不良や地汚れ等が発生
することなく、現像液中にヘドロが少なく、安定に処理
することができ、かつ画像部にキズが入りにくい印刷版
を提供することができる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 支持体上に赤外線感光層を有する平版印
   刷版を画像露光後、アルカリ現像液を用いて現像処理す
   る処理方法において、現像開始時の該アルカリ現像液が
   非還元糖とアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴と
   する平版印刷版の処理方法。