CN102368933A

CN102368933A - 烹调装置和烹调装置的控制方法

Info

Publication number: CN102368933A
Application number: CN2010800143240A
Authority: CN
Inventors: 白彩玄; 李廷镐; 李容守; 李承灿; 金亮卿; 白丞祚
Original assignee: LG Electronics Inc
Current assignee: LG Electronics Inc
Priority date: 2009-04-20
Filing date: 2010-03-08
Publication date: 2012-03-07
Anticipated expiration: 2030-03-08
Also published as: KR101411074B1; EP2421416A2; US20100264126A1; EP2421416B1; US8569660B2; WO2010123202A2; EP2421416A4; KR20100115443A; EP3539427A1; WO2010123202A3; CN102368933B

Abstract

一种烹调装置，包括：加热源；输入单元，配置成输入用以清理腔体的所述加热源的多种运行模式；控制单元，配置成根据经由所述输入单元输入的模式使所述加热源运行；其中，所述输入单元包括选择单元，配置选择所述多种运行模式中的具体模式。

Description

烹调装置和烹调装置的控制方法

技术领域

本公开文件涉及一种烹调装置和烹调装置的控制方法。

背景技术

通常而言，烹调装置是一种使用加热源烹调或加热食物的设备。

烹调装置的例子可以包括用以限定烹调食物的烹调室的腔体、加热烹调室中任意食物的成分的加热源、被开启和关闭以使用户能向烹调室放入食物和从烹调室取出食物的门。

在将放入烹调室的食物烹调完成后，剩余食物粘附在腔体的内壁上，因此需要清理腔体内部。

发明内容

技术问题

实施例提供一种烹调装置和烹调装置的控制方法。

解决问题的技术方案

在一个实施例中，烹调装置可以包括：加热源；输入单元，配置成输入所述加热源的多种运行模式，其中，所述多种运行模式中的至少一种是用以清理烹调装置腔体的清理模式；以及控制单元，配置成根据经由所述输入单元输入的运行模式使所述加热源运行；其中，所述输入单元包括选择单元，配置成允许用户选择所述多种运行模式中的具体模式。

在另一个实施例中，该烹调装置可以包括：腔体，配置成限定烹调室；加热源，配置成产生清理所述腔体的热量；输入单元，配置成至少在所述加热源清理所述腔体的第一运行模式和所述加热源烹调所述腔体中食物的第二运行模式之间选择；以及控制单元，配置成根据所述第一运行模式或第二运行模式控制所述加热源的运行；其中，在所述腔体的内表面上设置有包括基于磷酸盐的成分的搪瓷涂层。

在一个实施例中，烹调装置的控制方法可以包括：接收用以清理所述烹调装置的腔体的多种清理模式中的一种的标识；接收启动信号；根据与所接收到的清理模式相关联的预先定义的参数，开始所述加热源的运行；以及当所述加热源的运行时间达到根据所接收到的清理模式的预先定义的运行停止时间时，停止所述加热源的运行。

在附图和以下的说明书阐述了一个或多个实施例的细节。其他特征将从说明书、附图和权利要求中变得明显。

本发明的有益效果

根据实施例，腔体内部容易清理的状态得以维持，并且当最优清理状态显示在告警单元上时，用户能知道最优清理定时。因此，腔体能被很容易地清理。

附图说明

图1是根据本发明第一实施例的烹调装置的透视图；

图2是图1所示的烹调装置的方框图；

图3是示出了根据本发明第一实施例的烹调装置的控制方法的流程图；

图4是示出了根据本发明实施例的在第一模式中温度随时间变化的曲线图；

图5是示出了根据本发明实施例的在第二模式中温度随时间变化的曲线图；

图6是示出了根据本发明实施例的在第三模式中温度随时间变化的曲线图；

图7是示出了根据本发明实施例的基于普通搪瓷和包括基于磷酸盐的成分的搪瓷的清理性能对水温的测量曲线图；

图8是示出了根据本发明实施例的基于普通搪瓷和包括基于磷酸盐的成分的搪瓷的清理性能对渗透时间的测量曲线图；

图9是根据本发明第二实施例的烹调装置的示意图；

图10是图9所示的喷嘴的截面图；

图11是示出了根据本发明第二实施例的烹调装置的控制方法的流程图；

图12是示出了根据本发明第三实施例的在第二模式下温度随时间变化的曲线图。

具体实施方式

现在详细参考本公开文件的实施例，其示例在附图中示出。

在以下优选实施例的描述中，参考构成实施例一部分的附图，并且，通过示意的方式展示了可以实施本发明的具体的优选实施例。对这些实施例进行了足够详细的描述，使得本领预技术人员能够实施本发明，并且可以理解的是，也可以使用其他实施例，并且在不脱离本发明的精神或范围的情况下，可以进行逻辑结构、化学、电学和化学改变。为了避免对本领域技术人员实施本发明而言避免不必要的细节，说明书中可以省略本领域技术人员已知的某种信息。因此，以下详细的描述并不用于限制，本发明的范围只由所附权利要求来限定。

图1是根据本发明第一实施例的烹调装置的透视图，图2是图1所示的烹调装置的方框图。图1显示根据本发明实施例的烹调装置1的门14处于打开的状态。

参考图1和图2，实施例的烹调装置1包括用以限定烹调装置的外形的外壳10、设置在外壳10中的腔体11、用以打开和关闭腔体11的门14。由腔体11的五个壁和门14的表面可以限定烹调室，该门14在有效关闭时形成腔体11的第六个壁。搪瓷涂层12可以设置在烹调室的内表面。在烹调装置中还可以包括用以加热放入腔体11中的食物的加热源16，18，以及设置在外壳10的一侧能使用户操控烹调装置的控制面板30。

烹调装置1进一步包括用以检测腔体11的内部温度的温度检测单元52(图2)，用以控制烹调装置1整体运行的控制单元50(图2)，以及用以存储烹调装置1的运行条件以及指令的存储单元56(图2)，该指令在由控制单元50执行时会使烹调装置执行本发明的方法的各个步骤。

更详细地，上端加热器16可以设置在腔体11的上侧，下端加热器18可以设置在腔体11的下侧。用以排放热空气到腔体11中的对流组件40可以设置在腔体11的后侧。

上端和下端加热器16和18可以设置在腔体11的内部或外部。在所示出的实施例中，加热源包括多个加热器16，18。然而，可选地，该加热源可以进一步包括磁控管(magnetron)或超声单元。也就是说，该加热器并不限于特定类型的设备或特定数量的设备。

如图2所示，对流组件40可以包括对流加热器42和用以将对流加热器42产生的热量引导到腔体11中的对流风扇44。

控制面板30可以包括用以输入运行条件的控制单元31和用以可听见地和/或可视地通知用户烹调装置1的运行状态的通知单元35。

输入单元31可以包括用以选择加热源16，18的运行模式清理腔体11的内部或烹调腔体11中的食物的选择单元32，以及用以启动所选择的模式的启动按钮33。

用以清理腔体11的运行模式(在下文中，称为加热源的“清理模式”)可以包括多种模式，例如第一、第二和第三清理模式。该清理模式可以根据腔体的污染程度进行分类。

腔体11的污染程度可由用户确定。也就是说，根据用户的确定可选择具体的清理模式。举例来讲，当腔体11的污染程度最小时，第一模式可能有利于清理腔体11。当腔体11的污染程度中等时，第二模式可能有利于清理。当腔体11的污染程度很大时，第三模式可能有利于清理。

进一步地，清理模式的选择可根据用户按压选择单元32的次数来确定。也就是说，当用户按压选择单元32一次时，选择第一模式。当用户另外按压选择单元32一次(总共两次)时，选择第二模式。此外，当用户再多按压选择单元32一次(总共三次)时，选择第三模式。

尽管在此描述的示例性实施例中是根据选择单元32的按压次数来选择清理模式，但本发明并不限于这种方式。例如，可以设置对应于各清理模式的多个选择按钮。也就是说，当有三种清理模式时，可设置三种选择按钮。可替代地，可以根据用户将选择单元32保持在按压状态下的时间量来选择清理模式。例如，当用户按压选择单元32并保持一秒时，选择第一模式。当用户按压选择单元32并保持两秒时，选择第二模式。当用户按压选择单元32并保持三秒时，选择第三模式。选择清理模式的其他结构、设备或方法也是可接受的。

在一个实施例中，当用户选择了错误的清理模式时，用户可以释放按压力并且随后例如如上所描述的选择修正的清理模式。

例如，通知单元35可以通知用户清理腔体11时刻到达(给定的清理模式完成后)，或在给定的清理模式需要用户动作前剩余的某个时间量。从通知单元35发出的信息可以是视觉信息或声学信息。例如，通知单元35可以是显示单元、发光二极管、扬声器、和/或振动设备。通知单元35并不特别限定于在此描述的实施例。

存储单元56可以存储指令，该指令在由控制单元50执行时使得装置1执行本发明的方法的各个步骤。存储单元56还可以存储运行条件和针对各清理模式的加热源的定时(timing)。例如，在第一模式中清理定时可以是5分钟，在第二模式中是20分钟，在第三模式中是30分钟。这些定时值可以存储在存储单元56中。然而，定时值并不限于在此描述的数值。

同时，搪瓷涂层12可以形成在腔体11的内表面上。搪瓷涂层12可以包括基于磷酸盐的成分(phosphate-based ingredient)，例如五氧化二磷(P₂O₅)。包括五氧化二磷的基于磷酸盐的成分提高了抗腐蚀性、抗锈蚀性以及高温下的抗氧化作用，因此能容易地去除在烹调过程中粘附在腔体11的搪瓷涂层12上的污染物质。搪瓷涂层12可以包括30％或更少的基于磷酸盐的成分(例如五氧化二磷)，优选地，五氧化二磷的含量为20％或更少。

以下将描述烹调装置1的控制方法。

图3是示出了根据本发明第一实施例的烹调装置的控制方法的流程图。图4是示出了根据本发明实施例的在第一模式中温度随时间变化的曲线图。图5是示出了根据本发明实施例的在第二模式中温度随时间变化的曲线图。图6是示出了根据本发明实施例的在第三模式中温度随时间变化的曲线图。

参考图3到图6，由供水单元将用以清理的水供应到腔体中(S1)。例如，用户可以使用喷雾器将水喷淋到烹调室的搪瓷涂层12上，用户可以将水倾倒到腔体的底面上，或用户可以大致地将水洒到烹调室的搪瓷涂层12上。

进一步地，用户可以通过使用选择单元32选择用以清理的加热源的运行模式(S2)。在本实施例中，清理模式与烹调模式截然不同，尽管二者都使用加热源。

根据该实施例，控制单元50确定是否接收到了启动信号(S3)。一旦接收到了启动信号，控制单元50确定由温度检测单元52检测的温度是否等于或大于第一参考温度T1(S4)。在该实施例中，第一参考温度T1是有利于例如通过使用布料擦拭腔体11表面来清理腔体11内部的温度。例如，第一参考温度可以是50℃。第一参考温度也可以是对用户而言安全的温度，也就是说，该温度对于用户使用布料擦拭腔体11的搪瓷涂层12而言是安全的。

当检测的温度等于或大于第一参考温度T1时，用户不需要进一步加热腔体11即能清理腔体11的内部。因此，当检测的温度等于或大于第一参考温度T1时，控制单元50使得通知单元35产生信号，显示例如该腔体准备被清理(S21)。

另一方面，如果检测的温度小于第一参考温度T1，则控制单元50确定所选择的模式是否是第一模式(S5)。

如果所选择的模式是第一模式，则控制单元50可以根据第一模式的运行条件打开加热源(S6)。进一步地，当加热源开始运行时，计时器54可以运行以在加热源关闭前计算预定时间量。

例如，在根据第一(或任意)模式运行期间，上端、下端和对流加热器中的至少一个可以持续地运行或可以重复地打开和关闭。此外，当对流加热器运行时，对流风扇可以随其运行。

当加热源运行时，腔体11的内部温度可能升高，如图4所示。

在加热源运行期间，控制单元50可以确定由温度检测单元检测的温度是否满足或超过第一参考温度T1(S7)。这一操作S7可以用以确定加热源是否应该关闭。

在示例性的实施例中，如果检测的温度达到第一参考温度T1，则控制单元50可以执行命令以关闭加热源(S8)。

进一步地，控制单元50可以确定由计时器54从运行开始计算的时间是否达到第一参考时间t1(S9)。例如，第一参考时间t1可以是例如如上所述的5分钟。

此时，即使关闭加热源，由于加热源上保留的热量，腔体的内部温度仍然会升高。然而，如果关闭加热器，例如当温度检测器检测到的内部温度是第一参考温度T1或已经超过第一参考温度T1时，在加热器的操作终止后S8，腔体11中的温度不会显著升高超过第一参考温度T1。这样，用户的安全得以保障。

在示例性的实施例中，当测量的时间达到第一参考时间t1时，控制单元50可以使通知单元35产生信号以显示已经达到参考时间t1(S21)。产生信号以显示参考时间t1届满的原因可以是为了告警用户或提醒用户在腔体中的水完全蒸发前开始擦拭腔体11的内部。

同时，在S5中，如果确定不选择第一模式，则确定是否选择第二模式(S10)。如果选择第二模式，则控制单元50根据第二模式的运行条件使加热源运行(S11)。进一步地，当加热源开始运行时，计时器54运行以测量从打开加热器时起的时间长度。

当加热源以第二模式运行时，腔体11的内部温度可能升高，如图5所示。在加热源运行期间，控制单元50可以确定由温度检测单元检测的温度是否达到第二参考温度T2(S12)。第二参考温度T2可以与第一参考温度T1相同，也可以不同。

在S12中，如果确定腔体11的温度等于或大于第二参考温度T2，则控制单元50可以停止加热源(S13)的运行。也就是说，加热源可以被关闭。

在加热源停止运行后经过了预定时间dt1时，控制单元50可以使加热源运行以将腔体11的内部温度维持在第二参考温度T2(S14)。

更详细地讲，当加热源停止运行时，腔体11的内部温度最初会由于保留在加热源上的热量升高，然而之后腔体11的内部温度将开始降低。

为了将腔体的内部温度维持在第二参考温度T2，控制单元50可以控制上端加热源16、下端加热源18和对流加热器42和对流风扇44中的至少一个重复打开和关闭。可以理解的是，当对流加热器42运行时，对流风扇44也可以运行。

接下来，控制单元50确定由计时器54检测的时间是否达到第二参考时间t2(S15)。第二参考时间t2可以是如上所述的20分钟。

当测量的时间达到第二参考时间t2时，控制单元50控制通知单元35产生显示开始清理腔体11的内表面的时间已经达到的信号(S21)。清理可通过擦拭腔体11的内表面完成。如前所述，产生信号以显示参考时间t2届满的原因可以是为了告警用户或提醒用户在腔体中的水完全蒸发前开始擦拭腔体11的内部。

同时，在S10中，当确定不选择第二模式时，控制单元50在第三模式的预设运行条件下使加热源运行(S16)。当加热源开始运行时，计时器54运行以计算在第三模式下的时间。

当加热源运行时，腔体11的内部温度可能升高，如图6所示。在加热源运行期间，控制单元50确定由温度检测单元52检测的温度是否达到第三参考温度T3(S17)。此处，第三参考温度T3例如可以是100℃。

如果检测的温度达到第三参考温度T3，则控制单元50可以停止加热源的运行(S18)。

接下来，控制单元50可以使对流风扇44(如果烹调装置1中存在对流风扇44)运行，以降低腔体11的内部温度。对流风扇(如果存在)可以持续运行，或可以重复地打开和关闭。

接下来，控制单元50确定由计时器54检测的时间是否达到第三参考时间t3(S20)。例如，第三参考时间t3可以是例如如上所述的30分钟。

当测量的时间达到第三参考时间t3时，控制单元50控制通知单元35产生显示开始清理腔体11内表面的时间已经达到的信号(S21)。清理可通过擦拭腔体11的内部完成。如前所述，产生信号以显示参考时间t3届满的原因可以是为了告警用户或提醒用户在腔体中的水完全蒸发前开始擦拭腔体11的内部。

此时当有信号表示开始清理腔体11内表面的时间(例如最优清理时间)已经达到时，腔体11的内部温度可以与第一参考温度T1相同。

如上所述，当检测的温度达到每一模式下的参考温度时，加热源停止运行。此外，当计时器54达到为每一模式建立的预设时间时，控制单元50控制通知单元35产生显示开始清理腔体11的内表面的时间已经达到的信号(S21)。

也就是说，从腔体内部温度达到参考温度的点到有信号显示开始清理腔体11内表面的时间已经达到的点之间有一个时间延迟(S21)。该时间延迟的理由是为了允许腔体11中的水渗透到腔体11中的污染物质。基于这个理由，该时间延迟可称为渗透时间。

根据在此描述的实施例，腔体内部容易清理的状态能够维持一段时间。此外，通过通知单元35可通知用户开始清理(例如，擦拭)的时间已经达到。因此，腔体11容易被清理。

图7是示出了根据本发明实施例的基于普通搪瓷和包括基于磷酸盐的成分的搪瓷的清理性能对水温的测量曲线图。图8是示出了根据本发明实施例的基于普通搪瓷和包括基于磷酸盐的成分的搪瓷的清理性能对渗透时间的测量曲线图。

图7和图8示出了使用对流加热器42和对流风扇44在腔体11内部温度为230℃下烹调鸡1.5小时的测试结果。此外，在图7中，渗透时间是3分钟。在图8中，水温(腔体温度)是20℃。

参考图7，对于普通搪瓷(B)，不管在什么温度下，即使是用户使用湿布擦拭300次，污染物质也不能完全去除。对于包括基于磷酸盐的成分的搪瓷(A)，能够注意到，用湿布擦拭的次数随温度升高而减少。

参考图8，对于普通搪瓷(B)，不管渗透时间是多少，即使用户用湿布擦拭300次，污染物也不能完全去除。对于包括基于磷酸盐的成分的搪瓷(A)，能够注意到，用湿布擦拭的次数随渗透时间增加而减少。

因此，在该实施例中，当包括基于磷酸盐的成分的搪瓷(A)应用于腔体时，清理性能能够得到提升。

图9是根据第二实施例的烹调装置2的示意图。图10是图9所示的喷嘴66的截面图。

除用以清理的水是自动供应到腔体11外，第二实施例和第一实施例相同。因此，在此仅描述第二实施例的特有特征。此外，相似的附图标记指代相似部件。

为了便于示意，在图9中示出了不具有上端加热器或下端加热器或对流加热器和对流风扇的烹调装置2。参考图9和图10，烹调装置2包括用以限定烹调室的腔体11、用以在其中存储待供应到腔体11的水的水箱61、用以加热从水箱61供应的水的加热单元63、用以将在加热单元63中加热的水供应到腔体11中的喷嘴66、用以将在水箱61中存储的水供应到加热单元63的第一泵62以及用以将在加热单元63中的加热的水供应到喷嘴66的第二泵64。

水箱61、第一泵62、加热单元63、第二泵64以及喷嘴66限定用以自动将水供应到腔体11中的供水单元。尽管图中未示出，但是水箱61可连接至供水管，或水箱61能够可拆卸地耦接至烹调装置2以便水箱能被远端水源充满，例如来自厨房水龙头的水。

喷嘴66可以位于腔体的内部上侧以便均匀地将水散布在腔体11中。喷嘴66可暴露在腔体11的内部。进一步地，喷嘴66可以可旋转地耦接至连接到第二泵64的管65。本发明并不限于图9所示的实施例示出的结构。

参考图10，喷嘴66可以设置在腔体11内部，带有能引入水的空间67和用以排放水的多个排放孔68。在该实施例中，排放孔68沿着空间67的外边缘的切线从空间67的外边缘延伸。

因此，在该实施例中，当喷嘴66可旋转地安装到管65(图9)时，响应于从排放孔68喷洒的水的力，喷嘴66可以旋转。

图11是示出了根据本发明第二实施例的烹调装置的控制方法的流程图。参考图11，使用选择单元32选择加热模式(S31)。接下来，控制单元50确定是否接收启动信号(S32)。

当接收到启动信号时，控制单元50确定由温度检测单元52检测的温度是否等于或大于第一参考温度T1(S33)。

如果检测的温度等于或大于第一参考温度T1，则该流程转入操作S36，因为没必要进一步加热腔体11。也即是说，通知单元35产生显示清理腔体11表面的时间已经达到的信号(S36)。

另一方面，如果检测的温度小于第一参考温度T1，则控制单元50响应于所选择的模式自动将水供应到腔体11中(S34)。

此时，在各清理模式中，供水量可进行不同设置。也就是说，在污染程度高的第三模式中的供水量可以大于在第一模式中的供水量。在第二模式中的供水量可以小于第三模式，但大于第一模式。

进一步地，控制单元50控制加热源响应于所选择的模式而运行(S35)。进一步地，当清理定时达到最优清理定时时，控制单元50控制通知单元产生显示最优清理定时的信号(S36)。此时，由于加热源的运行和响应于所选择的模式开始清理的最优时间与第一实施例相同，将省略其细节描述。

因此，一旦用以通知用户开始清理腔体11内表面的信号已经产生，则用户开始清理腔体11的内表面。

根据该实施例，由于水被自动供应到腔体11中，用户的便利性得以提高。

虽然在该实施例中，响应于所选择的模式，水会自动供应到腔体中，但本发明并不限于此。也就是说，可以在选择单元32上额外地设置供水按钮(未示出)。如果设置了该供水按钮，则用户能调整供应到腔体11的水量。例如，供水量可根据用户按压供水按钮的次数而变化。当选择的水供应按钮时，从水供应方面而言，水是自动地供应到腔体中，但是从用户选择水供应按钮的方面而言，是手工方式。也就是说，可理解的是，水是通过手工方式供应到腔体中。当然，响应于所选择的清理模式，可以自动向腔体11供应预设水量。

图12是示出了根据本发明第三实施例的在第二模式下温度随时间变化的曲线图。除在加热源停止运行后确定重启时间的方法外，第三实施例与第一实施例相同。因此，在该实施例中，将仅描述该实施例的该特征。

参考图3到图12，当选择第二模式时，控制单元根据第二模式的运行条件使加热源运行。当加热源运行时，腔体11的内部温度可能升高，如图12所示。

在加热源运行期间，控制单元50确定由温度检测单元52检测的温度是否达到第二参考温度T2。当检测的温度达到第二参考温度T2时，控制单元50停止加热源的运行。

当加热源停止运行时，腔体11的内部温度最终将随着时间推移而降低。此时，控制单元50确定腔体11的内部温度是否达到第二参考温度T2。

如果腔体11的内部温度达到第二参考温度T2，则控制单元50控制加热源的运行使得腔体11的内部温度维持在第二参考温度T2。也就是说，控制上端加器、下端加热器以及对流加热器和风扇中的至少一个重复地打开和关闭。

接下来，控制单元50确定由计时器54检测的时间是否达到第二参考时间t2。当检测的时间达到第二参考时间t2时，控制单元50控制通知单元35产生显示最优清理定时的信号。

尽管已参考本发明的多个示例性的实施例对实施例进行了描述，但应当理解的是，本领域技术人员能够想出的多种其他修改和实施例将落入本公开文件的原则的精神和范围之内。特别地，在本公开文件、附图和所附权利要求的范围内，可以对组件和/或组合排列的设置进行多种变化和修改。

除了对组件和/或设置的变化和修改外，对本领域技术人员而言，其他可替代的使用也是显而易见的。

Claims

1.一种烹调装置，包括：

加热源；

输入单元，配置成输入所述加热源的多种运行模式，其中，所述多种运行模式中的至少一种是用以清理烹调装置腔体的清理模式；以及

控制单元，配置成根据经由所述输入单元输入的运行模式使所述加热源运行；

其中，所述输入单元包括选择单元，配置成允许用户选择所述多种运行模式中的具体模式。

2.根据权利要求1的烹调装置，其中，所述输入单元进一步包括启动按钮，配置成启动所选择的具体模式。

3.根据权利要求1的烹调装置，其中，所述多种运行模式中的具体模式是根据所述选择单元的按压次数或所述选择单元保持被按压的时间量来选择的。

4.根据权利要求1的烹调装置，其中，所述选择单元包括多个对应于各运行模式的选择按钮。

5.根据权利要求1的烹调装置，进一步包括用以根据所选择的运行模式显示时间的通知单元。

6.根据权利要求5的烹调装置，其中，针对所述多种运行模式中的每一种模式，从所述加热源开始运行的时间点到所述通知单元产生信号的时间点之间的时间量不同。

7.根据权利要求5的烹调装置，其中，由所述通知单元产生的信号是可视信号或声学信号。

8.根据权利要求1的烹调装置，其中，所述加热源用以加热所述腔体中的水以便清理所述腔体。

9.一种烹调装置，包括：

腔体，配置成限定烹调室；

加热源，配置成产生清理所述腔体的热量；

输入单元，配置成至少在所述加热源清理所述腔体的第一运行模式和所述加热源烹调所述腔体中食物的第二运行模式之间选择；以及

控制单元，配置成根据所述第一运行模式或第二运行模式控制所述加热源的运行；

其中，在所述腔体的内表面上设置有包括基于磷酸盐的成分的搪瓷涂层。

10.根据权利要求9的烹调装置，其中，所述基于磷酸盐的成分是五氧化二磷(P₂O₅)。

11.根据权利要求9的烹调装置，进一步包括用以分别根据所述第一运行模式或第二运行模式显示腔体清理时间或腔体烹调时间的通知单元。

12.根据权利要求11的烹调装置，其中，用以清理腔体的所述加热源的第一运行模式包括多种运行模式，并且

其中，针对所述多种运行模式中的每一种模式，从所述加热源开始运行的时间点到所述通知单元产生信号的时间点之间的时间不同。

13.一种烹调装置的控制方法，包括：

接收用以清理所述烹调装置的腔体的多种清理模式中的一种的标识；

接收启动信号；

根据与所接收到的清理模式相关联的预先定义的参数，开始所述加热源的运行；以及

当所述加热源的运行时间达到根据所接收到的清理模式的预先定义的运行停止时间时，停止所述加热源的运行。

14.根据权利要求13的控制方法，进一步包括：

确定在停止所述加热源的运行后是否经过了对应于所接收到的清理模式的参考时间；以及确定在停止所述加热源的运行后已经经过了对应于所接收到的清理模式的参考时间后，产生信号。

15.根据权利要求14的控制方法，其中，与所述多种清理模式中的每一种模式相关联的参考时间不同于与所述多种清理模式中的其他种模式相关联的参考时间。

16.根据权利要求14的控制方法，其中，当所述腔体的内部温度达到与所接收到的清理模式相关联的参考温度时，停止所述加热源的运行。

17.根据权利要求14的控制方法，其中，在至少一种清理模式中，在所述加热源停止运行后，所述加热源维持停止状态直到经过了所述参考时间。

18.根据权利要求14的控制方法，其中，在至少一种清理模式中，所述加热源运行为使得当所述加热源停止运行时的腔体温度得以维持直到所述加热源停止运行后经过了所述参考时间。

19.根据权利要求18的控制方法，其中，所述加热源重复打开和关闭直到经过了所述参考时间。

20.根据权利要求14的控制方法，其中，在至少一种清理模式中，所述加热源停止运行后，当所述腔体的当前温度达到所述加热源停止运行时的温度时，所述加热源运行为维持所述腔体的当前温度，直到经过了所述参考时间。

21.根据权利要求20的控制方法，其中，所述加热源重复打开和关闭，直到经过了所述参考时间。

22.根据权利要求14的控制方法，其中，在至少一种清理模式中，在用于确定自模式开始时间起是否经过了参考时间的运行中，通过风扇冷却所述腔体的内部。

23.根据权利要求14的控制方法，其中，在所述加热源运行前，自动将水供应到所述腔体中。

24.根据权利要求14的控制方法，其中，在所述加热源运行前，通过手动方式将水供应到所述腔体中。