CN102110788B - 制造有机发光显示设备的方法和有机发光显示设备 - Google Patents
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Abstract
一种制造有机发光显示设备的方法，该方法包括如下步骤：在基板形成第一电极；在基板和第一电极上形成像素限定层(PDL)，所述PDL包括暴露第一电极的预定的区域的开口；在PDL上和PDL的开口的内部形成电荷传输层；在电荷传输层上执行疏水加工；在电荷传输层上执行亲水加工，使得电荷传输层的与开口对应的部分制成亲水的；在电荷传输层上形成有机发光层；形成电连接到有机发光层的第二电极。
Description
技术领域
示例实施例涉及一种制造有机发光设备的方法和一种有机发光显示设备。更具体地讲，示例实施例涉及一种制造有机发光显示设备的方法，通过所述方法容易形成有机发光层。
背景技术
便携式薄膜类型平板显示(FPD)设备已经作为了显示设备的替代。在FPD设备中，电致发光显示设备是具有宽视角、高品质对比度和快的响应时间的自发光显示设备。因此，电致发光显示设备作为下一代显示设备而受到关注。
电致发光显示设备(例如，有机发光显示设备)可包括由例如具有高品质的亮度、驱动电压和响应时间的有机材料形成的发光层。此外，与无机发光显示设备相比，有机发光显示设备可呈现多色的特性。
传统的有机发光显示设备可包括阴极、阳极和有机发光层。当电压施加到阴极和阳极时，有机发光层发射可见光线。
有机发光显示设备可包括用于实现红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)可见光线的子像素，以实现自然色屏幕。在R子像素中形成有机发光层来发射R可见光线，在G子像素中形成有机发光层来发射G可见光线，在B子像素中形成有机发光层来发射B可见光线。
发明内容
实施例涉及一种制造有机发光显示设备的方法以及一种有机发光显示设备，它们基本上解决了由于现有技术的局限性和缺点引起的一种或多种问题。
因此，实施例的特征在于提供一种有机发光显示设备以及一种通过简化有机发光显示设备中的有机发光层的形成工艺的制造有机发光显示设备的方法。
上述至少一个特征和其他特征可通过提供一种制造有机发光显示设备的方法来实现，该方法包括如下步骤：在基板上形成第一电极；在基板和第一电极上形成像素限定层(PDL)，所述像素限定层包括暴露第一电极的预定的区域的开口；在PDL上和PDL的开口的内部形成电荷传输层；在电荷传输层上执行疏水加工；在电荷传输层上执行亲水加工，使得电荷传输层的与开口对应的部分制成亲水的；在电荷传输层上形成有机发光层；形成电连接到有机发光层的第二电极。
可在电荷传输层上形成有机发光层，以分别与开口对应。电荷传输层可包括空穴传输层(HIL)和/或空穴注入层(HIL)。可使用等离子体或紫外线在氟化物气体的气氛下对电荷传输层的表面执行疏水加工。氟化物气体可包括CF4。
执行亲水加工的步骤可包括将紫外光辐射到电荷传输层的与开口对应的区域上。亲水加工可包括提供掩模并使用紫外灯将能量辐射到掩模上的步骤，所述掩模包括分别与开口对应的透射区域。亲水加工可包括使用紫外激光将能量辐射到电荷传输层的与开口对应的表面的区域上的步骤。可通过扫描聚焦为大小与开口对应的紫外激光束来执行亲水加工。亲水加工可包括使电荷传输层的表面的与开口的底表面和侧表面对应的暴露区域是亲水的步骤。可在空气或氮气环境中执行亲水加工。
执行亲水加工的步骤可包括使仅在PDL的开口的内部的电荷传输层的上表面是亲水的。在亲水加工之后，可在围绕开口的PDL的上表面上限定电荷传输层的疏水部分。在每个开口内部的亲水电荷传输层的部分可完全被疏水电荷传输层的部分围绕。可在亲水加工前执行疏水加工。可在电荷传输层的整个上表面上执行疏水加工，并且可仅在电荷传输层的与开口对应的部分上执行亲水加工。可使用喷印方法来形成有机发光层。可通过上述方法来制造有机发光显示设备。
附图说明
通过参照附图进行的对示例性实施例的详细描述，上述和其他特征和优点将对本领域技术人员变得更加明显，其中：
图1A、图1B和图1D至图1H示出了根据实施例的制造有机发光显示设备的方法的步骤的剖视图；
图1C示出了图1B的顶视图；
图2A至图2E示出了根据另一实施例的制造有机发光显示设备的方法的步骤的剖视图。
具体实施方式
于2009年11月30日在韩国知识产权局提交的第10-2009-0117087号名称为“制造有机发光显示设备的方法和有机发光显示设备”(Method ofManufacturing Organic Light Emitting Display Apparatus and Organic LightEmitting Display Apparatus)的韩国专利申请通过引用整体包含于此。
下文将参照附图更充分地描述示例实施例；然而，示例实施例可以用不同的形式来实施，且不应该解释为局限于在这里所提出的实施例。相反，提供这些实施例使得本公开将是彻底和完整的，并将本发明的范围充分地传达给本领域技术人员。
在附图中，为了图示的清晰，会夸大层和区域的尺寸。还应该理解的是，当层或元件被称作“在”另一层或基板“上”时，该层或元件可以直接在另一层或基板上，或者也可以存在中间层。此外，还应该理解的是，当层被称作“在”两层“之间”时，该层可以是这两层之间的唯一一层，或者也可以存在一个或多个中间层。此外，相同的标号始终表示相同的元件。
现在将参照图1A至图1H来详细描述示例实施例的结构和操作。图1A至图1H示出了根据实施例的制造有机发光显示设备的方法的步骤的示图。
参照图1A，第一电极110可形成在基板101上。在第一电极110形成之前，可在基板101上形成薄膜晶体管(未示出)。要注意的是可将根据示例实施例的方法应用到制造有源(AM)有机发光显示设备的方法和/或制造无源(PM)有机发光显示设备的方法。
基板101可由(例如包括SiO2作为主要成分)的透明玻璃材料形成。然而，基板101并不局限于此，其可以由透明塑料材料或金属形成。透明塑料的示例可包括绝缘有机材料，例如，聚醚砜树脂(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚苯二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯撑硫(PPS)、聚芳酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯(PC)、三醋酸纤维素(TAC)和醋酸丙酸纤维素(CAP)中的一种或多种。金属的示例可包括铁(Fe)、铬(Cr)、锰(Mn)、镍(Ni)、钛(Ti)、钼(Mo)、不锈钢(SUS)、因瓦合金(invar alloy)、因柯乃尔合金、可伐合金等中的一种或多种。基板101可按箔形形成。
可在基板101上形成缓冲层(未示出)以使基板101的上表面平滑并防止杂质渗透到基板101中。缓冲层可由例如SiO2和/或SiNx等形成。
可在基板101上形成第一电极110。例如使用光刻可使第一电极110按预定的图案形成。例如，第一电极110的图案可以是条纹线，该条纹线在PM型有机发光显示设备中彼此保持预定的距离。在另一示例中，第一电极110的图案可具有与AM型有机发光显示设备中的子像素对应的形状。
第一电极110可以是反射电极或透射电极。如果第一电极110是反射电极，则反射层可以由Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li、Ca或它们的化合物中一种或多种形成，并且可在第一电极110的反射层上沉积具有高逸出功的附加层，该附加层例如是ITO、IZO、ZnO和In2O3中的一种或多种。如果第一电极110是透射电极，则第一电极110可由具有高逸出功的材料形成，该材料例如是ITO、IZO、ZnO和In2O3等中的一种或多种。
参照图1B，可在第一电极110上形成像素限定层(PDL)120。PDL 120可包括开口120a，开口120a暴露第一电极110。PDL 120可由绝缘材料形成。
图1C示出了图1B的从“X”方向看的顶视图。如图1C所示，PDL 120可在基板101上具有预定的图案，所以开口120a可暴露第一电极110的上表面。例如，PDL 120可以被成形为栅格，所以开口120a可具有按矩阵图案布置的矩形形状。然而，示例实施例并不局限于此，开口120a可具有例如多边形或曲线形的任意适合的形状。
参照图1D，可在基板101上形成电荷传输层131，例如，在PDL 120上和通过开口120a暴露的第一电极110上形成电荷传输层131。也就是说，可在PDL 120的整个表面和通过开口120a暴露的第一电极110的区域上共形地(conformally)形成电荷传输层131，即，可在没有额外的图案化工艺的情况下形成电荷传输层131。
电荷传输层131可包括空穴传输层(HTL)和/或空穴注入层(HIL)。电荷传输层131可仅包括HTL和HIL中的一种，或者同时包括HTL和HIL。如果电荷传输层131同时包括HTL和HIL，可将HIL设置为比HTL更靠近第一电极110。
参照图1E，电荷传输层131的表面可以使用疏水转化加工单元150而制成是疏水的。例如，可使疏水转化加工单元150定位为加工电荷传输层131的整个上表面131a(即，与基板101背对的表面)，所以电荷传输层131的整个上表面131a可以制成为疏水的。
详细来讲，疏水转化加工单元150可以是等离子体设备或者紫外灯。疏水转化加工单元150可采用例如氟化物基反应气体的反应气体。例如，疏水转化加工单元150可采用CF4作为反应气体。当疏水转化加工单元150在CF4的气氛下产生等离子体或紫外线时，CF4分解来产生氟离子，氟离子反过来被吸附到电荷传输层131的上表面131a上。当电荷传输层131的上表面131a与吸附的氟离子结合时，电荷传输层131的上表面131a的表面能被降低而成为疏水表面。
参照图1F，可将电荷传输层131的上表面131a的预定的区域制成为亲水的。详细来讲，可选择地将电荷传输层131的疏水上表面131a的一些部分处理为变成亲水的。进一步详细来讲，可使用掩模，所以电荷传输层131的与PDL 120的开口120a对应(例如叠置)的上表面131a的部分可制成为亲水的。
也就是说，可将掩模170设置在电荷传输层131上方，可将紫外灯160设置在掩模170上方以通过掩模向电荷传输层131的上表面131a的预定区域辐射紫外线。掩模170可具有透射区域171和非透射区域172，透射区域171即向电荷传输层131透射紫外灯160产生的紫外线的区域，非透射区域172即掩模170的不透射紫外线的区域。可以使掩模170定位为使得透射区域171可与开口120a的顶部对应(例如，叠置)，并且使得非透射区域172可与PDL120对应(例如，叠置)。例如，掩模170的透射区域172均可与整个对应的开口120a叠置，从而可使用紫外光对开口120a的底部和侧壁(例如，开口120a的内部的电荷传输层131的部分)上的电荷传输层131的部分(即，图1F中的区域I)进行辐射。相似地，掩模170的非透射区域172均可与PDL 120的整个上表面120b(即，与基板101平行并背对基板101的表面)叠置，以阻挡PDL 120的上表面120b上的电荷传输层131的部分(即，图1F中的区域NI)上的紫外光辐射。
由紫外灯160产生的紫外线透射通过透射区域171，然后到达电荷传输层131。换言之，紫外线到达与开口120a对应的电荷传输层131的表面的区域，即，区域I中。到达电荷传输层131的紫外线将氟离子与区域I中的电荷传输层131的上表面131a分开。
在空气和/或氮气环境中执行亲水加工。由紫外灯160产生的紫外线将空气或氮气离子化，并且空气和氮气的离子被吸附到电荷传输层131的上表面131a上，即，开口120a内部。吸附有空气或氮气的离子的电荷传输层131的上表面131a的部分表现出增加的表面能并变成亲水表面。
因此，暴露第一电极110的开口120a的底表面和开口120a的侧表面上的电荷传输层131的上表面131a的区域被制成为亲水的，以具有亲水特性。形成在PDL 120的上表面120b上的电荷传输层131的上表面131a被制成为疏水的，以具有疏水特性。例如，参照图1C和图1F，每个开口120a的内部表面(即，底表面和侧表面)可以是亲水的，同时围绕开口120a的上表面120b区域(即，与图3中示出的PDL 120对应的区域)可以是疏水的。
参照图1G，可在开口120a内部将有机发光层132形成在电荷传输层131上。例如，可使用喷印方法形成有机发光层132。例如，有机发光层132可包括发出红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)可见光线的有机发光层。
如前所述，电荷传输层131的与开口120a的底表面和侧表面对应的上表面131a的区域是亲水的，同时电荷传输层131的上表面131a的其他区域制成为疏水的。因此，有机发光层132可在开口120a内部形成在电荷传输层131上，例如，仅在开口120a内部形成在电荷传输层131上。换言之，如果有机发光层是亲水的且沉积在开口120a的具有亲水表面的内部，则有机发光层132可容易地仅布置在开口120a中而不延伸到围绕开口120a的疏水表面。也就是说，由于亲水有机发光层132和疏水上表面120b之间的排斥，有机发光层132可不延伸到与PDL 120的上表面120b对应的区域或超出相邻的开口120a。如此，可容易地形成有机发光层132并可防止颜色的混合，从而提高有机发光显示设备的画面质量。
相反，当根据传统方法形成有机发光层时，即，在不设置疏水/亲水表面的情况下形成有机发光层时，相邻的子像素的有机发光层(例如，不同颜色的有机发光层)会彼此混合，从而降低显示设备的颜色纯度和画面质量。具体来讲，当使用喷印方法(即，通过经由喷嘴来沉积溶液的有机发光层的形成)时，会发生相邻子像素中不同层的混合，从而限制了有机发光显示设备的画面质量的提高。
如果有机发光层132发射R可见光线，有机发光层132可包括例如红荧烯、Ir(piq)3、Ir(btp)2(acac)、Eu(dbm)3(phen)、Ru(dtb-bpy)3*2(PF6)、DCM1，DCM2、Eu(TTA)3、丁基-6-(1，1，7，7-四甲基久洛尼定-9-烯基)-4氢吡喃(DCJTB)的红光发射材料，或者例如聚芴聚合物、聚乙烯聚合物等的聚合物有机发光材料。如果有机发光层132发射G可见光线，则有机发光层132可包括例如香豆素6、C545T、DMQA、Ir(ppy)3的绿光发射材料，或者例如聚芴聚合物、聚乙烯聚合物等的聚合物有机发光材料。如果有机发光层132发射B可见光线，则有机发光层132可包括例如噁二唑二聚物染料(Bis-DAPOXP)、螺环化合物(Spiro-DPVBi，Spiro-6P)、三苯胺化合物、二(苯乙烯)胺(DPVBi，DSA)、BCzVBi、苝、TPBe、BCzVB、DPAVBi、DPAVB、BDAVBi、FIrPic的绿光发射材料，或者例如聚芴聚合物、聚乙烯聚合物等的聚合物有机发光材料。
参照图1H，可在有机发光层132上形成第二电极140，以完成有机发光显示设备100的制造。尽管未在图1H中示出，但是还可以在有机发光层132和第二电极140之间形成电子传输层(ETL)或电子注入层(EIL)。第二电极140可具有条纹形状，以与PM型有机发光显示设备中的第一电极110的图案垂直，但是可在AM型有机发光显示设备中将要实现图像的整个有源区域形成。
第二电极140可以是透射电极或反射电极。如果第二电极140是透射电极，则可沉积具有低逸出功的金属，并且由所述金属上的透明导电材料形成辅助电极层或总线电极，以形成第二电极140，所述金属例如是Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li、Ca或者Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li和Ca的化合物，所述透明导电材料例如是ITO、IZO、ZnO和/或In2O3。如果第二电极140是反射电极，则第二电极140可由具有例如是Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li、Ca等具有低逸出功的金属形成。在示例实施例中，第一电极110可以是阳极，第二电极140可以是阴极。可选择地，第一电极110可以是阴极，第二电极140可以是阳极。
尽管未在图1H中示出，可将密封构件设置为面对基板101的表面。密封构件使有机发光层132免受外界潮湿、氧气等，并且可由透明材料形成。密封构件可由玻璃、塑料形成，或者是多种有机材料和无机材料的叠置结构，以保护有机发光层132。
在示例实施例的方法中，可在基板101的整个表面上形成电荷传输层131，并且可将电荷传输层131的整个上表面制成疏水的。接下来，将其上将要形成有机发光层132的电荷传输层131的上表面的预定的区域制成亲水的。因此，可在预定的区域中容易地形成有机发光层132。换言之，可防止有机发光层132混合到相邻的子像素中，从而提高有机发光显示设备100的画面质量。
对电荷传输层131的与有机发光层132直接接触的上表面的区域进行加工，即，用紫外灯进行处理来形成亲水表面，以在所述区域中有效地形成有机发光层132。防止在对电荷传输层131的上表面加工的步骤中损坏第一电极110。结果，提高了有机发光显示设备100的画面质量。
图2A至图2E示出了根据另一实施例的制造有机发光显示设备的方法的步骤的剖视图。为方便起见，将不再重复对相同元件的描述。
参照图2A，可在基板201上形成第一电极210、PDL 220和电荷传输层231。更详细地讲，在基板201上形成第一电极210，并在第一电极210上形成PDL 220。PDL 220可具有开口220a，开口220a暴露第一电极210。
可形成电荷传输层231。可在PDL 220的整个表面上以及通过开口220a暴露的第一电极210的区域上形成电荷传输层231。换言之，可在没有额外的图案化工艺的情况下形成电荷传输层231。电荷传输层231可包括HTL和/或HIL。
基板201、第一电极210、PDL 220和电荷传输层231的结构和材料可与参照图1A至图1H在前面描述的在前实施例的基板101、第一电极110、PDL210和电荷传输层131分别相同。因此，将不再重复对它们的详细描述。
参照图2B，可使用疏水转化加工单元250将电荷传输层231制成疏水的。在此，可将电荷传输层231的整个表面制成疏水的。
疏水转化加工单元250可以是等离子体设备或者紫外灯。疏水加工需要反应气体，因此使用氟化物作为反应气体。更详细地讲，将CF4用作反应气体。当疏水转化加工单元250在CF4的环境下产生等离子体或紫外线时，诸如CF4的反应气体被分解来产生氟离子，并且氟离子被吸附到电荷传输层231的表面上。其上吸附有氟离子的电荷传输层的表面与氟离子结合并由此具有低表面能并变为疏水表面。要注意的是，疏水转化加工单元250与参照图1E在前描述的疏水转化加工单元150相同。
参照图2C，可将电荷传输层231的上表面的预定的区域制成亲水的。更详细地讲，将电荷传输层231的与PDL 220的开口220a对应的表面区域制成亲水的。
可使用紫外激光束260在不用额外的掩模的情况下执行亲水加工。换言之，紫外激光束260可仅聚焦并辐射在电荷传输层231的大小与开口220a对应(例如，叠置)的上表面的区域上，以执行亲水加工。在此，如果使用单一的紫外激光源，则可扫描单一的紫外激光源来将紫外激光束260分别辐射到开口220a中。然而，示例实施例并不局限于此，例如，可使用多个紫外激光源来辐射紫外激光束260。到达电荷传输层231的紫外激光束260将电荷传输层231的表面与氟离子的结合分开。
可在空气或氮气的气氛中执行亲水加工。紫外激光束260将空气或氮气离子化，并且空气或氮气的离子被吸附到电荷传输层231的上表面上，即，被吸附到氟离子与上表面分离的区域中。因此，其上吸附有空气/氮气离子的电荷传输层231的上表面具有增加的表面能并变为亲水表面。
结果，可将与暴露第一电极210的开口220a的底表面以及开口220a的侧表面对应(例如，叠置)的电荷传输层231的上表面的区域制成为具有亲水特性。可将与PDL 220的上表面对应(例如，叠置)的电荷传输层的上表面的区域制成为具有疏水特性。
参照图2D，可将有机发光层232形成在电荷传输层231上。在此，可使用喷印方法形成有机发光层232。
如上所述，可将与开口220a的底表面和侧表面对应的电荷传输层231的表面的区域制成亲水的，并可将电荷传输层231的表面的其他区域制成疏水的，从而在多个开口220a中分别形成有机发光层232。换言之，可在不超出PDL 220的上表面而到达相邻的开口220a的情况下容易地分别在开口220a中布置有机发光层232，即，对应子像素来布置有机发光层232。因此，可容易地按照期望的图案形成有机发光层232，从而提高有机发光显示设备的画面质量。
参照图2E，可在有机发光层232上形成第二电极240，以完成有机发光显示设备200的制造。尽管未在图2E中示出，但是还可在有机发光层232和第二电极240之间形成ETL或EIL。
可将密封构件(未示出)设置为面对基板201的表面。密封构件可保护有机发光层232免受外界潮湿或氧气，并且可由透明材料制成。密封构件可由玻璃、塑料形成，或者可以是多种有机材料和无机材料的堆叠结构，以保护有机发光层232。
如上所述，在根据示例实施例的制造有机发光显示设备的方法中，可容易地在期望的子像素中形成有机发光层而不与相邻的子像素混合。因此，可提高有机发光显示器的画面质量。
在此公开了示例性实施例，尽管使用了特定的术语，但是这些术语仅仅以上位的和描述性的含义而被使用和解释，而非出于限制的目的。因此，本领域的普通技术人员应该理解，在不脱离由权利要求书描述的本发明的精神和范围的情况下，可以做出各种形式和细节上的改变。
Claims (16)
1.一种制造有机发光显示设备的方法，所述方法包括如下步骤：
在基板上形成第一电极；
在基板和第一电极上形成像素限定层，所述像素限定层包括暴露第一电极的预定的区域的开口；
在像素限定层上和像素限定层的开口的内部形成电荷传输层；
在电荷传输层上执行疏水加工；
在电荷传输层上执行亲水加工，使得电荷传输层的与开口对应的部分制成亲水的；
在电荷传输层上形成有机发光层；
形成电连接到有机发光层的第二电极，
其中，在亲水加工之前执行疏水加工，在电荷传输层的整个上表面上执行疏水加工，并且仅在电荷传输层的与开口对应的部分上执行亲水加工。
2.如权利要求1所述的方法，其中，将有机发光层形成在所述开口内部。
3.如权利要求1所述的方法，其中，电荷传输层包括空穴传输层和空穴注入层中的至少一种。
4.如权利要求1所述的方法，其中，执行疏水加工的步骤包括在氟基气体的气氛下使用等离子体或紫外灯。
5.如权利要求4所述的方法，其中，氟化物基气体是CF4。
6.如权利要求1所述的方法，其中，执行亲水加工的步骤包括将紫外光辐射到电荷传输层的与开口对应的区域上。
7.如权利要求6所述的方法，其中，执行亲水加工的步骤还包括在空气或氮气的气氛中使用紫外光。
8.如权利要求7所述的方法，其中，执行亲水加工的工艺还包括：
提供掩模，所述掩模具有分别与开口对应的透射区域；
使用紫外灯通过掩模辐射紫外光。
9.如权利要求7所述的方法，其中，将紫外光辐射到电荷传输层的与开口对应的区域的步骤包括使用紫外激光。
10.如权利要求9所述的方法，其中，通过扫描聚焦为大小与开口对应的紫外激光束来执行亲水加工。
11.如权利要求1所述的方法，其中，亲水加工包括使所述开口的底表面和侧表面上的电荷传输层的部分是亲水的的步骤。
12.如权利要求1所述的方法，其中，执行亲水加工的步骤包括仅使在像素限定层的开口的内部的电荷传输层的上表面是亲水的。
13.如权利要求12所述的方法，其中，在亲水加工之后，在围绕开口的像素限定层的上表面上限定电荷传输层的疏水部分。
14.如权利要求13所述的方法，其中，在每个开口内部的亲水的电荷传输层的部分完全被疏水的电荷传输层的部分围绕。
15.如权利要求1所述的方法，其中，使用喷印方法来形成有机发光层。
16.一种按照权利要求1的方法制造的有机发光显示设备。
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| US9444050B2 (en) * | 2013-01-17 | 2016-09-13 | Kateeva, Inc. | High resolution organic light-emitting diode devices, displays, and related method |
| US9614191B2 (en) | 2013-01-17 | 2017-04-04 | Kateeva, Inc. | High resolution organic light-emitting diode devices, displays, and related methods |
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| CN103972262B (zh) * | 2013-11-19 | 2017-06-06 | 厦门天马微电子有限公司 | 一种有机发光显示装置及其制造方法 |
| KR101727241B1 (ko) * | 2014-10-10 | 2017-04-14 | 포항공과대학교 산학협력단 | 친수성 및 소수성 패턴 형성 장치 및 이를 이용한 친수성 및 소수성 패턴 형성 방법 |
| KR102552276B1 (ko) | 2015-02-24 | 2023-07-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
| CN104733505B (zh) * | 2015-03-19 | 2017-11-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发光显示器的像素界定层及其制作方法 |
| KR102377490B1 (ko) | 2015-03-24 | 2022-03-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
| CN104992945A (zh) * | 2015-05-28 | 2015-10-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及其制作方法以及显示装置 |
| CN107359254B (zh) * | 2016-12-12 | 2019-02-01 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 印刷显示器件及其制备方法和应用 |
| KR102576997B1 (ko) * | 2017-12-29 | 2023-09-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 디스플레이 장치 및 제조 방법 |
| CN110231755B (zh) | 2018-04-26 | 2020-06-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光阻组合物、像素界定层、其制备方法及应用 |
| US20200180026A1 (en) * | 2018-12-06 | 2020-06-11 | Ge Aviation Systems Llc | Apparatus and method for addative manufacturing |
| CN110622317B (zh) * | 2019-05-16 | 2022-12-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板、制造显示基板的方法和显示设备 |
| CN110265451B (zh) * | 2019-06-25 | 2021-11-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及制造方法、显示装置 |
| US20240138171A1 (en) * | 2022-10-25 | 2024-04-25 | Taizhou Guanyu Technology Co., Ltd. | Organic light emitting element |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1499902A (zh) * | 2002-11-04 | 2004-05-26 | ����Sdi��ʽ���� | 有机电致发光显示器及其制造方法 |
| CN101219596A (zh) * | 2004-05-12 | 2008-07-16 | 精工爱普生株式会社 | 液滴喷出装置、以及电光学装置及其制造方法、电子仪器 |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1393389B1 (en) * | 2001-05-23 | 2018-12-05 | Flexenable Limited | Laser patterning of devices |
| JP3698138B2 (ja) | 2001-12-26 | 2005-09-21 | セイコーエプソン株式会社 | 撥水化処理の方法、薄膜形成方法及びこの方法を用いた有機ｅｌ装置の製造方法、有機ｅｌ装置、電子機器 |
| EP1338431A3 (en) | 2002-02-08 | 2003-10-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Visible image receiving material having surface hydrophilicity |
| JP2003323983A (ja) * | 2002-02-26 | 2003-11-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 有機電界発光素子 |
| JP2004055159A (ja) | 2002-07-16 | 2004-02-19 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 有機ｅｌ素子の製造方法および有機ｅｌ表示装置 |
| JP2004095850A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機トランジスタ |
| JP2004177793A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Seiko Epson Corp | 微細構造物の製造方法およびこの微細構造物の製造方法を用いて製造された自発光素子、光学素子、デバイス並びにこのデバイスを備えた電子機器 |
| JP3923038B2 (ja) * | 2003-09-18 | 2007-05-30 | 株式会社東芝 | 有機ｅｌ発光表示装置及びその製造方法 |
| KR101146977B1 (ko) * | 2005-02-07 | 2012-05-22 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 전도성 유무기 복합체 조성물 및 이를 포함하는 유기 전계발광 소자 |
| JP2006216873A (ja) * | 2005-02-07 | 2006-08-17 | Seiko Epson Corp | パターニング方法、電子デバイス、発光素子、カラーフィルタ及びパターニング装置 |
| JP4876415B2 (ja) | 2005-03-29 | 2012-02-15 | セイコーエプソン株式会社 | 有機ｅｌ装置の製造方法、デバイスの製造方法 |
| JP2006313652A (ja) * | 2005-05-06 | 2006-11-16 | Casio Comput Co Ltd | 表示装置の製造方法 |
| JP2007044582A (ja) | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Seiko Epson Corp | 表面処理方法、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置 |
| JP4857688B2 (ja) | 2005-09-29 | 2012-01-18 | カシオ計算機株式会社 | 表示装置及びその製造方法 |
| JP4904903B2 (ja) * | 2006-04-20 | 2012-03-28 | 大日本印刷株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
| JP2008153159A (ja) * | 2006-12-20 | 2008-07-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 |
| DE102007029915B4 (de) * | 2006-12-20 | 2017-03-30 | Lg Display Co., Ltd. | Organisches Elektrolumineszenzbauteil und Verfahren zum Herstellen desselben |
| KR101319306B1 (ko) | 2006-12-20 | 2013-10-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광 소자의 제조방법 |
| JP4235673B2 (ja) * | 2007-07-17 | 2009-03-11 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体の製造方法 |
| JP2009087781A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Dainippon Printing Co Ltd | エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 |
-
2009
- 2009-11-30 KR KR1020090117087A patent/KR101097319B1/ko not_active IP Right Cessation
-
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Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1499902A (zh) * | 2002-11-04 | 2004-05-26 | ����Sdi��ʽ���� | 有机电致发光显示器及其制造方法 |
| CN101219596A (zh) * | 2004-05-12 | 2008-07-16 | 精工爱普生株式会社 | 液滴喷出装置、以及电光学装置及其制造方法、电子仪器 |
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