CN102066037A - 用于补偿离轴焦点畸变的方法和装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种当使用扫描器和聚焦透镜系统时能够利用激光器精确控制在基材上烧蚀形成的细线结构的宽度的方法和装置。本方法能够通过增加激光束中的激光功率或能量来克服功率或能量密度的减小而动态补偿扫描透镜在离轴点处产生的光学畸变。

Description

用于补偿离轴焦点畸变的方法和装置

技术领域

本发明涉及一种用于补偿当使用扫描器和透镜通过直写烧蚀在基材形成细线结构时产生的离轴焦点畸变的方法和装置，其尤其涉及为控制烧蚀线条图案的宽度而对透镜扫描区域上的焦点象差的校正。本发明尤其适用于在玻璃、聚合物、金属或其他平面基材上的薄膜或薄层上形成高清晰度细线图案。

背景技术

通过使用光束扫描器和聚焦透镜来激光烧蚀以在平状基材上标记或形成图案的技术已广为人知，并且许多不同的方案被用于实施该技术。

可用的激光包括通常可获得的几乎所有激光，其波长范围从193nm的DUV(深紫外线)至10.6μm的FIR(远红外线)，脉冲宽度范围从毫微微秒至连续波(CW)，平均功率范围从几分之一瓦至成百上千瓦。

当需要在二维区域上标记或形成图案时，激光束扫描单元通常是基于由电流计或其他马达驱动的双轴往复偏转反射镜。如果仅需在一个轴上进行扫描，则通常使用旋转式多角反射镜。

很多不同的透镜被用于将光束聚集到基材表面，包括简单的单透镜和复杂的多部件透镜。这些透镜可设于扫描单元之前或之后。在位于扫描单元之后时，通常使用焦阑透镜。

所有这些扫描用光学装置的一个共同特征是在平面基材表面上在远离扫描区域中心的离轴点上产生的焦点的质量问题，在最小尺寸和最佳形状方面，总是比在扫描区域中心的轴上产生的焦点质量要差。这些离轴焦点畸变效应源于激光束以一定的角度透过扫描透镜装置时会在其中发生象差。该畸变效应在透镜扫描区域的最边缘位置处变得格外严重。

其中一种主要的扫描透镜象差是场曲象差。此时，和在轴上获得的最小焦点相比，离轴点上所能获得的最小焦点位于距透镜的不同距离处。这意味着在平面基材离轴点上形成的焦点与在轴上形成的焦点具有不同的直径，进而导致在扫描区域上具有不同的功率和能量密度。通过增加一个附加轴至呈可动态控制的可变望远镜的形式的扫描单元，该象差可以很容易地修正。该单元改变光束的准直并导致进入透镜的光束发散或聚集，从而焦点与透镜的距离可以得到控制。通过该方法，，最优的光束焦点可以如此分布从而其在远至最边缘处的扫描区域上所有点上与平面基材的表面精确地重叠。该平场技术众所周知，并且可动态修正场曲的合适设备很容易获得。

然而，其他严重的离轴透镜象差效应却没那么容易被校正。当光束从区域中心移至最边缘处时，这些象差会导致焦点形状的畸变。其最简单的形式是，这些象差会导致位于区域边沿的正态分布焦点的直径与区域中心相比更大。然而，其更通常的形式是，这些象差会导致离轴焦点的形状畸变成具有像彗星一样的尾巴。其功率或能量密度分布可能严重背离正态分布。这些焦点畸变象差的主要后果是将激光束功率或脉冲能力分布至一个更大的区域上，因此与轴上焦点相比，离轴焦点上的最大功率或最大脉冲能量密度减小。

材料的激光烧蚀过程在激光功率或能量密度方面通常具有明确的阀值，所以，在薄膜或材料层中烧蚀出的线结构的宽度取决于当功率或能量密度与烧蚀开始值相同时的焦点直径。因此，任何导致激光功率或能量在更大的面积上的散布或者导致在分布的侧翼区中能量或功率增加的背离正态分布的情形的透镜烧蚀将会导致焦点处峰值功率或能量密度的减小并且导致由烧蚀阀值设定的水平线处焦点直径的变化和被烧蚀出的线结构宽度的相应变化。根据烧蚀阀值相对于峰值功率或能量密度的水平，该线宽变化可以增加或减少。在最糟糕的情况下，即在烧蚀阀值功率和能量密度水平接近峰值的，且就从最高功率或能量密度至最低功率或能量密度的允许变动方面而言的工艺操作范围很小的情况下，那么在焦点处的最高功率或能量密度的任何显著减小可能导致峰值水平降低至烧蚀阀值之下，进而烧蚀不出线条。

对于基于功能器件比如印刷电路板、触摸屏、显示器、传感器、太阳能板和其他微电子器件中的高分辨率线结构，烧蚀结构宽度的精确控制对保证可靠的工作尤为重要。因此，有必要提供一种用于克服不可修正的离轴透镜象差的方法。增加部件至透镜可以减小离轴畸变效应并能显著改进透镜性能，但是这样的方案显著地增加了系统复杂度和成本，并且无法彻底解决该问题。

本文中所述的本发明寻求提供另一种补偿普通扫描透镜中存在的离轴焦点畸变象差的方法。

发明内容

根据本发明的第一方案，提供了一种用于补偿使用扫描器和透镜在基材上通过直写激光烧蚀形成线结构时所产生的离轴焦点畸变的装置。所述装置包括：用于产生激光束的激光器单元；在基片上从轴上位置到离轴位置用激光束扫描的扫描器单元；用于将激光束集聚至基材上的聚焦透镜；用于改变激光输出功率或脉冲能量的功率改变机构；以及用于控制该功率改变机构以根据焦点相对轴点的位置动态地改变激光输入功率或脉冲能量的控制器单元。

根据本发明的第二方案，提供了一种用于补偿使用扫描器和透镜在基材上通过直写激光烧蚀形成线结构时所产生的离轴焦点畸变的方法。该方法包括如下步骤：提供激光束；在基材上从轴上位置到离轴位置扫描激光束；将激光束聚集至基材上；依据焦点位置相对于轴上的位置动态地改变激光输出功率或脉冲能量。

本发明涉及一种系统的操作，该系统包括激光器单元，激光束扫描单元和激光束聚焦透镜。本系统可用于在平状基材上的薄膜或其他材料层上烧蚀刻写细线条。适用于激光处理的材料例子包括透明的可导氧化物(例如铟锡氧化物(ITO)，SnO2，ZnO等等)、金属、无机半导体(例如非晶硅、微晶体硅(μc-Si)、多晶硅(poly-Si)、铜铟镐硫化物(CIGS)、镉碲化物(CdTe)等)、有机半导体、有机发光二极管(OLED)等的薄层以及更厚的可用于印刷电路板(PCB)的聚合物及树脂层。

该激光器可在从193nm的深紫外线至10.6μm的远红外线之间的任何波长下工作。其可以是脉冲型激光器并可在任何调制、Q开关或波模锁定的脉冲模式下工作。该激光器还可以是连续型激光器(CW)并可在连续、调制连续或者超高重复率的准连续模式下工作。该激光束扫描器单元可以在一个或两个轴上移动激光束，并可以是振荡反射镜扫描器或旋转多角反射镜扫描器。该激光束聚焦透镜可以是任何简单透镜或复杂透镜，并可设于扫描器部件之前或之后。

本装置的一个重要特征是提供这样的机构从而可改变偏离主轴的扫描区域位置处的激光功率或脉冲能量密度，其中，在这些位置上，由透镜引起的光学畸变效应使得基材上的焦点面积增大，从而峰值功率或能量密度减小，并且基材上的材料层上的烧蚀线结构的宽度相比于透镜主轴上点处所获得的数值改变了。

当激光束在整个扫描区内顺序扫描时，激光器的输出功率能够动态地被改变，从而扫描区域内所有点处的光束功率或能量能够保持在理想值上。

优选地，在每个离轴点处相对于轴上位置上的激光束功率或脉冲能量变化量能够正好或充分地将在这些点上的烧蚀线结构的宽度恢复至在透镜主轴点处所获得的宽度值。

可以想到两种主要的方法用于改变激光的功率或脉冲能量。在一种情况下，在激光器的输出孔径后面设置声光或电光形式的激光束调制器单元。该方法适用于各种具有合适的传送调制器的激光器，但是最适用于连续波或类连续波激光器。该设备在266nm至10.6μm波长范围内可以很容易使用。另一种调节激光器输出的方法适用于Q开关二极管触发的固态激光器，该激光器具有能被合适的电脉冲序列从外部触发的电子功能，其中各脉冲的能量值可通过改变触发脉冲的宽度而进行控制。可以很容易获得这些在355nm、532nm和1.06μm波长下工作的激光器。

无论使用那种方法改变激光器的输出功率或脉冲能量，均需要适当的电子信号序列动态地驱动该装置，所述电子信号与扫描区域内各点所需的具体功率或脉冲能量值有关。很明显，希望确定任意离轴点上所需的激光功率或脉冲能量的变化值，从而将烧蚀线条的宽度恢复至与轴上宽度值相同的值。在一个优选方案中，可以使用具有恒定的功率或脉冲能量的激光器在一个试样的整个扫描区域上形成参照细线图案，然后测量选定的离轴点处的烧蚀线宽度的变化(与轴上烧蚀线宽度对比)。这些测量数据然后被用于形成校准数据集的基础，该校准数据集被集成至扫描控制软件中，然后被用于驱动控制激光器输出功率或脉冲能量的装置，以调整光束焦点的功率或能量，从而保持整个扫描区域上的线宽不变。

对于特定薄膜样品的正确校准数据集的确定可能需要重复好几次样品生产，因为线宽对激光器的功率或能量密度的关系可能是正函数或负函数并且在这两种情况下都不太可能是直的。因此，为保持线宽精确地恒定，功率或脉冲能量所需变化到的最终程度最好通过试验来确定。

本发明的其他优选或选择性特征可从以下描述或者附到本说明书的权利要求书中得知。

附图说明

现仅通过举例并参照附图对本申请做进一步描述，其中：

图1是一种典型的二维扫描器及相关的聚焦透镜装置的示意透视图；

图2(A)、2(B)、2(C)示出了计算得到的用于典型扫描透镜的焦点的点图；

图3(A)、3(B)是计算得到的一种典型扫描透镜的焦点能量密度分布图；

图4示出了烧蚀的线条宽度如何因焦点直径增加而减小的图；

图5示出了烧蚀的线条宽度如何因焦点直径增加而增加的图；

图6示出了烧蚀的线条宽度如何因焦点畸变而减小的图；

图7示出了用于动态控制激光器输出的装置的示意图；

图8示出了用于动态控制Q开关激光器的输出脉冲能量的装置的示意图。

具体实施方式

图1

图1示出了一种本发明可适用的激光器和扫描器系统的例子。来自于激光器的光束11在望远镜12中被放大，然后通过与电流计马达14连接的反射镜13偏转一个角度范围。与第二电流计马达16连接的第二反射镜15在与第一反射镜13垂直的方向上使光束偏离一个角度范围。扫描透镜17接收该光束并将其聚集至平状基材18上，形成了一个小焦点19。本图显示了一个二轴扫描器使得焦点19在平状基材18的表面上在两条正交轴上移动。将伺服电动机驱动装置(未示出)加至望远镜12的一个透镜部件上，该系统即能很容易地被升级成能够使焦点19沿着光轴移动并补偿扫描透镜17的场曲的三轴系统。

图2

图2显示出了三个由计算机生成的理论上的焦点二维形状图，该焦点位于具有150mm焦距的典型多部件式紫外线(355)扫描透镜视场的不同点上。该图为所谓的“点图”，图中的十字形的密度表示功率或能量密度。三个图A、B、C分别对应轴上的点21、25mm半径处的点22和50mm半径处的点23。这些图清楚地显示了当光束离开中点时，能量从焦点的中心移至周围区域，焦点形状严重恶化。

图3

图3显示了两个由计算机生成的焦点内的理论功率或能量密度分布图，该焦点位于于具有150mm焦距的典型多部件紫外线(355nm)扫描透镜17的视场中的不同的点上。图31和图32分别为轴上和半径为40mm处的焦点分布截面图。该图清楚地显示了当激光束离开中点时，焦点分布严重恶化并且背离正态分布，且伴随着能量从焦点中心移至焦点的侧翼区。

图4

图4示出了扫描透镜的视场中不同的径向点处的三种可能的激光功率或能量密度分布的简单示意图。此时，所有均假定为正态分布。在各种情况下激光束的功率或能量都相同，因此当激光束从轴上的点(曲线41)移至轴与视场边缘之间半程处的点(曲线42)最后移至最边缘点(曲线43)时，分布宽度及焦点直径增加，进而各分布的峰值减小。该图显示了这样一种情况，即就功率或能量密度而言的烧蚀阀值水平线44相对靠近分布的峰值，该情况发生于最佳材料烧蚀值和位于其下的基材烧蚀阀值之间的差别很小之时。在图示的简单情况中，假定烧蚀水平线44与功率或能量密度分布的交点确定了烧蚀的线结构宽度。曲线41及曲线42与阀值线44的交点清楚地显示了当光束离开透镜轴并且焦点变宽以及峰值功率或能量密度减小时，超过烧蚀阀值的焦点区域的直径减小，这将导致烧蚀线条的宽度减小。

从图4中还可看出，通过增加激光束的功率或能量，如果其增加量可以使得在烧蚀阀值线44处的焦点的半径增加至其轴上值，烧蚀线条的宽度可得到恢复。该图还示出了一种极端情况(曲线43)，此时光束进一步偏离透镜轴，其焦点进一步增大，从而分布曲线的峰值下降至烧蚀阀值44以下，导致了不再发生材料烧蚀的情况下。

图5

图5表示出了扫描透镜17的视场中不同的径向点处的两种可能的激光功率或能量密度分布的另一简单示意图。此时，分布还是被假定为正态分布。在两种情况下激光束的功率或能量相同，从而当激光束从轴上点(曲线51)移至最边缘的点(曲线52)时，分布宽度及焦点直径随之增加，从而分布的峰值减小。该图示出了就功率或能量密度而言的烧蚀阀值53明显低于分布峰值的情况，该情况发生于材料烧蚀最佳值明显高于位于其下的基材的烧蚀阀值之时。在图示的简单情况中，假定烧蚀值与功率或能量密度分布的交点确定了烧蚀线结构的宽度。该图清楚地显示，此时，随着光束偏离透镜轴，焦点变宽，峰值功率或能量密度减小，超过烧蚀阀值53的焦点区的直径增加，从而烧蚀线结构的宽度也增加。从该图还可想到，通过减小激光束中的功率或能量，如果其减少量可使位于烧蚀阀值53处的焦点的直径减小至其轴上的值，烧蚀线的宽度可被恢复至其轴上宽度值。

图6

图6示出了扫描透镜17的视场中不同径向点处的两种可能的激光功率或能量密度分布的另外的简单示意图。此时，轴上点处的分布61被假定为正态分布，但是离轴点处的分布62不再是正态分布，其峰值的一侧比另一侧具有明显更多的能量。由于激光束的功率或能量在两个位置上一样的，并且烧蚀阀值水平线63相对靠近分布的峰值，所以，当光束从轴上点处移至离轴点处时，超过烧蚀阀值的焦点区域的直径减小，进而烧蚀线宽度减小。从该图中还可想到，通过增加激光束中的功率或能量，且如果增加量可以使烧蚀阀值水平线63处的焦点的直径恢复至其轴上点处的焦点的直径值，烧蚀线的宽度可被恢复至其轴上点处的值。

图7

图7示出了一种使用任何类型激光器来实施本发明的装置。激光器系统71发出光束72，光束透过调制器73，所述调制器73中光传播度可被控制。光束扩大望远镜74调整光束直径以符合使用要求。扫描单元75具有两个相互垂直的活动反射镜，从而光束可在两个轴上偏转。透镜76将光束聚集至平状基材77的表面。扫描器反射镜由系统主控制器单元78驱动。该控制器单元向控制调制器的传播度的驱动器单元79发送信号。主控制器单元78具有校准文件，所述校准文件含有将二维扫描区上的每个位置与在该位置为烧蚀具有限定宽度的线条所需的激光功率或能量相关联的信息。当主控制器78驱动扫描器反射镜以使光束在二维扫描区上移动时，它还向调制器驱动器79发送适当的信号以调整调制器73的传播，从而保持烧蚀线条图案的宽度不变。

图8

图8示出了另外一种用于实施本发明的装置，此装置用于使用脉冲激光器，且激光器所发出的各脉冲的能量可以通过调整各个激光器触发脉冲的宽度而得到控制。激光器系统81发出光束82。光束扩大望远镜83调整光束直径以符合使用要求。扫描器单元84具有两个相互垂直的活动反射镜，从而光束在两个轴上偏转。透镜85将光束聚集至平面基片86的表面。扫描器反射镜由系统主控制器单元87驱动。该主控制器单元还向脉冲发生单元88发送控制信号，脉冲发生单元88发出用于触发Q开关激光器81的脉冲。主控制器87具有校准文件，该校准文件具有将二维扫描区内每个位置与在该位置上为烧蚀具有限定宽度的线条所需的激光功率或能量相关联的信息。当主控制器87驱动扫描器反射镜以使光束在二维扫描区上移动时，它还向触发脉冲发生器88发出适当的信号，以调整触发脉冲的宽度及每个脉冲的能量，从而使烧蚀得到的线条图案的宽度保持恒定。

上述装置因此提供了一种补偿离轴焦点畸变错误的方法，该错误发生在使用激光扫描透镜通过直写激光烧蚀在平状基材上的材料层中产生细线条结构之时，本方法可以充分保持整个扫描区域上的结构线条宽度。所述方法包括：

a.改变扫描区上偏离主轴的点处的激光束的功率或脉冲能量，在这些点处，透镜所带来的光学畸变效应使得基材上的焦点面积增大，从而其峰值功率或能量密度减少并且基材上的烧蚀线结构的宽度相比于在透镜主轴上的点的宽度值被改变了。

b.改变在每个离轴点处的激光束的功率或脉冲能量，其改变量正好使在该点处的烧蚀线结构的宽度恢复至在轴上的点处获得的烧蚀线结构宽度值；

c.当激光束在整个扫描区域顺序扫描时，动态地改变激光器的输出功率或脉冲能量，从而扫描区域内所有的点的光束功率或能量保持在正确的数值上，以保持烧蚀线结构的宽度恒定；

d.使用在不变功率或脉冲能量下工作的激光器在样品的整个扫描区域内形成参照的细线图案，并测量被选择的离轴点处的烧蚀线条宽度的变化值(与轴上点的宽度进行比较)，使用这些测量值作为，随后被用于改变扫描区上的功率或能量以保持线条宽度不变的校准数据集的基础。

所述的实施该方法的装置包括：

a.激光器单元；

b.激光束扫描单元；

c.激光束聚集透镜；

d.控制激光器输出的调制器；

e.快速控制系统，该系统将调制器的工作和透镜视场上的激光焦点运动相关联，并快速改变激光输出功能或脉冲能量。

权利要求书(按照条约第19条的修改)

1.一种用于补偿在使用扫描器和透镜在基材上通过直写激光烧蚀形成细线结构时所产生的离轴焦点畸变的装置，所述装置包括：用于产生激光束的激光器单元；在基材上从轴上位置到离轴位置用于激光束扫描的扫描器单元；用于将激光束集聚至基材的聚焦透镜；用于改变激光输出功率或脉冲能量的功率改变机构；以及控制器单元，其用于控制功率改变装置以根据相对于轴上位置的焦点位置动态地改变激光输出功率或脉冲能量从而保持该点处的烧蚀线结构宽度与轴上点处的烧蚀线结构宽度基本上一致。

2.根据要求要求1所述的装置，其特征在于，所述控制器单元和功率改变机构布置成补偿扫描区上离轴点处的激光束的功率或脉冲能量的改变，不然，在所述离轴点上，由透镜引起的光学畸变效应导致基材上的焦点的面积增大，从而其峰值功率或能量密度减小，并且基材上的烧蚀线结构的宽度将因此相比于轴上点处的烧蚀线结构的宽度改变了。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述控制器单元被校准，以根据通过实验所确定的参考数据控制所述功率改变机构。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的装置，其特征在于，所述激光器单元包括调制的、Q开关的或波模锁定的激光器，以产生连续的或准连续形式的激光束。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的装置，其特征在于，所述扫描器单元能够在一个、两个或三个轴上扫描所述激光束。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的装置，其特征在于，所述聚焦透镜为简单或复合透镜，其位于所述扫描器单元的前面或后面。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的装置，其特征在于，所述功率改变机构包括光束调制器单元，例如声光调制器或电光调制器。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的装置，其特征在于，所述激光器单元包括Q开关激光器，并且所述功率改变机构包括用于调整被施加到设于激光器腔内的声光或电光型Q开关的触发脉冲的宽度的电子器件。

9.一种用于补偿在使用扫描器和透镜通过直写激光烧蚀在基材上形成微细线结构时产生的离轴焦点畸变的方法，所述方法包括步骤：提供激光束；在基材上从轴上位置至离轴位置扫描激光束；将激光束聚集到基材；以及根据相对于轴上位置的焦点位置动态改变激光器输出功率或脉冲能量从而保持该点处的烧蚀线结构宽度与轴上点处的烧蚀线结构宽度基本一致。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，控制器单元和功率改变机构布置成补偿扫描区域内的离轴点处的激光束功率或脉冲能量的改变，不然，在所述离轴点处，由透镜引起的光学畸变效应导致基材上的焦点面积增加进而其峰值功率或能量密度减小，并且基材上的烧蚀线结构的宽度将因此与轴上点处的烧蚀线结构的宽度不同。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其特征在于，激光束的功率或脉冲能量依据校准数据做出改变，该校准数据通过在整个试样基材上扫描的同时以基本上恒定的功率或脉冲能量操作激光器的实验来确定。

Claims (12)

1.一种用于补偿在使用扫描器和透镜在基材上通过直写激光烧蚀形成细线结构时所产生的离轴焦点畸变的装置，所述装置包括：用于产生激光束的激光器单元；在基材上从轴上位置到离轴位置用于激光束扫描的扫描器单元；用于将激光束集聚至基材上的聚焦透镜；用于改变激光输出功率或脉冲能量的功率改变机构；以及控制器单元，其用于控制功率改变机构以根据相对于轴上位置的焦点位置动态地改变激光输出功率或脉冲能量。

2.根据要求要求1所述的装置，其特征在于，所述控制器单元和功率改变机构布置成补偿扫描区上离轴点处的激光束的功率或脉冲能量的改变，不然，在所述离轴点处，由透镜引起的光学畸变效应导致基材上的焦点的面积增大，从而其峰值功率或能量密度减小，并且基材上的烧蚀线结构的宽度因此相对于轴上点处的烧蚀线结构的宽度改变了。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述控制器单元和功率改变机构布置成改变每个离轴点处的激光束功率或脉冲能量，其改变量能够使在该点处的烧蚀线结构的宽度与轴上点处的烧蚀线结构的宽度基本保持一致。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的装置，其特征在于，所述控制器单元被校准，以根据通过实验所确定的参考数据控制所述功率改变机构。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的装置，其特征在于，所述激光器单元包括调制的、Q开关的或波模锁定的激光器，以产生连续的或准连续形式的激光束。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的装置，其特征在于，所述扫描器单元能够在一个、两个或三个轴上扫描所述激光束。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的装置，其特征在于，所述聚焦透镜为简单或复合透镜，其位于所述扫描器单元的前面或后面。

8.根据前权利要求1至7中任一项所述的装置，其特征在于，所述功率改变机构包括光束调制器单元，例如声光调制器或电光调制器。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的装置，其特征在于，所述激光器单元包括Q开关型激光器，并且所述功率改变机构包括布置成用于调整施加到设于激光器腔内的声光或电光型Q开关的触发脉冲的宽度的电子器件。

10.一种用于补偿在使用扫描器和透镜通过直写激光烧蚀在基材上形成细线结构时产生的离轴焦点畸变的方法，所述方法包括步骤：提供激光束；在基材上从轴上位置至离轴位置扫描激光束；将激光束聚集到基材上；以及根据相对轴上位置的焦点位置动态地改变激光器输出功率或脉冲能量。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，每个离轴点上的激光束功率或脉冲能量的改变量使在该点处的烧蚀线条结构的宽度与轴上点处的烧蚀线条结构的宽度基本相同。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，激光束的功率或脉冲能量依据校准数据做出改变，该校准数据通过在整个试样基材上扫描的同时以基本上恒定的功率或脉冲能量操作激光器的实验来确定。

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