TWI487588B - 用於補償離軸焦點畸變的方法和設備 - Google Patents

Description

用於補償離軸焦點畸變的方法和設備

本發明係有關於一種用於補償離軸(off-axis)焦點(focal spot)畸變的方法和設備，該畸變係在使用掃描器及透鏡藉由直接寫入燒蝕(direct write ablation)之方式在一基板中形成細線條結構時產生。特別是關於在該透鏡之掃描區域上焦點像差之修正以控制一被燒蝕線條圖樣之寬度。本發明特別適用於在玻璃、聚合物、金屬、或其他平面基板上之材料的薄膜或層之高解析度、細線條圖案化。

藉由利用射束掃描器以及聚焦透鏡之雷射燒蝕以對平面基板進行刻記或圖案化之技術極其普遍，且許多不同之配置可資運用以執行此動作。

所使用之雷射涵蓋了波長從位於193奈米(nm)之DUV(deep ultra violet；深紫外線)到10.6微米(μm)之FIR(far infra-red；遠紅外線)的幾乎所有普遍可取得之雷射，其脈衝長度從飛秒(femto-second；千萬億分之一秒)到連續波(CW)運作之範圍中，且平均功率的範圍介於幾分之一瓦(Watt)到數百瓦的等級。

雷射光束掃描器單元通常係以由電流計(galvanometer)或其他馬達所驅動之雙軸式振鏡(dual axis oscillating mirror)為基礎，其條件係必須能在一二維區域上進行刻記或圖案化。只需要在單一軸上掃描之情況通常係使用旋轉式多面鏡(rotating polygonal mirror)。

其利用各種不同之透鏡以將射束聚焦於基板表面之上。透鏡之種類包括普通的單件式透鏡到複雜的多構件透鏡。該等透鏡可以放置於掃描器單元之前或之後。就放置於掃描器單元之後的情形而言，其通常使用一遠心式(telecentric)透鏡。

所有這些掃描光學系統之一共同特徵在於：在一平面基板表面上離開掃描區域中心之離軸點處產生的焦點品質，相對於在掃描區域中心之軸上產生者，就最小尺寸和最佳形狀而言，經常是較差的。此等離軸焦點畸變效應係由於雷射光束以某個角度通過掃描透鏡構件時所導致的像差。此畸變效應在透鏡掃描區域之邊緣更形嚴重。

一主要之掃描透鏡像差問題係像域彎曲(field curvature)。此種情況下，相對於軸上之點，在離軸點可獲得的最小焦點出現於距透鏡不同之距離處。此意味形成於平面基板離軸點之焦點與形成於軸上者具有不同直徑之現象導致掃描區域上功率和能量密度之變異。這種像差可以藉由對掃描器單元以一種動態控制可變伸縮鏡組(telescope)之形式加入一額外之軸而輕易地加以修正。此單元改變射束之準直度(collimation)並使得進入透鏡之射束發散或收斂而讓焦點距透鏡之距離得以被控制。藉由此種方法，其可以使得最佳射束焦點被配置成在遠及其邊緣上所有點之掃描區域內精確地與一平面基板之表面交疊。此種像域平化技術係眾所習知的，且可以動態修正像域彎曲之適當設備亦是不難取得。

然而，尚有其他嚴重之離軸透鏡像差問題無法被輕易地解決。此等問題係當射束自像域中央移動至邊緣時造成焦點形狀畸變之像差。其最簡單之形式中，此等像差相對於像域中央而言在像域邊緣導致高斯分佈焦點直徑之增加。在其較為常見之形式中，此等像差由於形成一彗星狀尾部而造成離軸焦點形狀之畸變。功率或能量密度分佈可能嚴重地背離高斯式分佈(Gaussian distribution)。此等焦點畸變像差之主要影響在於其使得雷射光束功率或脈衝能量分散於一較大之區域，因而相較於軸上之焦點而言降低了離軸焦點之峰值功率或峰值脈衝能量密度。

材料之雷射燒蝕處理在雷射功率或能量密度上一般而言均具有一明確定義之閾值，因此在材料之薄膜或層中燒蝕之任何線條結構之寬度均取決於功率或能量密度位準等於該燒蝕閾值時之焦點直徑。故而導致雷射功率或能量分散於一較大區域或是偏離高斯分佈而在分佈圖形之兩翼具有過大能量或功率位準之任何透鏡像差均將造成焦點上之峰值功率或能量密度降低，並可能致使燒蝕閾值所設定之焦點直徑之大小改變以及燒蝕線條結構寬度上相對之變化。取決於相較於峰值功率或能量密度之燒蝕閾值之等級，此種線條寬度之變化可以是增加或減少。在最壞之情況下，其燒蝕閾功率或能量密度等級接近峰值數值之水準，且就從最大到最小功率或能量密度所允許之變異度而言其處理區間極為微小，則焦點峰值功率或能量密度之任何顯著減少均可以致使峰值位準滑落至燒蝕閾值以下而無法燒蝕任何線條。

對於諸如印刷電路板(printed circuit board)、觸控式螢幕(touch screen)、顯示器、感測器(sensor)、太陽能面板以及其他微電子裝置之薄膜或厚膜式功能裝置內之高解析度線條結構而言，燒蝕結構寬度之精確控制對於確保可靠之運作係居於最重要之地位。在此情況下，其需要一種用以克服離軸之無法修正透鏡像差之方法。加入更多構件至透鏡可以降低離軸畸變效應並顯著地改善透鏡之效能，但此種辦法巨幅地增加系統複雜度和成本，且並未完全解決問題。

本說明書揭示之發明旨在提出一種替代性方式以補償出現於標準掃描透鏡中之離軸、焦點畸變像差。

依據本發明之一第一特色，其提出一種用於補償離軸焦點畸變的設備，該畸變係在使用掃描器及透鏡藉由直接寫入雷射燒蝕之方式在一基板中形成細線條結構時產生，該設備包含：一雷射單元，用以提供一雷射光束；一掃描器單元，用以在一基板上自一在軸(on-axis)位置掃描該雷射光束至離軸位置；一聚焦透鏡，用以聚焦該雷射光束至該基板上；功率改變裝置，用以改變雷射輸出功率或脈衝能量；以及一控制器單元，用以控制該功率改變裝置以依據相對於該在軸位置之焦點位置動態地改變該雷射輸出功率或脈衝能量，而使得位於該點之燒蝕線條結構之寬度維持實質上相同於位於一在軸點之寬度。

依據本發明之一第二特色，其提出一種用於補償離軸焦點畸變的方法，該畸變係在使用掃描器及透鏡藉由直接寫入雷射燒蝕之方式在一基板中形成細線條結構時產生，該方法包含：提供一雷射光束；在一基板上自一在軸位置掃描該雷射光束至離軸位置；聚焦該雷射光束至該基板上；以及依據相對於該在軸位置之焦點位置動態地改變雷射輸出功率或脈衝能量，以使得位於該點之燒蝕線條結構之寬度維持實質上相同於位於一在軸點上之寬度。

本發明係有關於一種包含一雷射單元、一雷射光束掃描器單元和一雷射光束聚焦透鏡之系統之運作。此系統可以用以在平面基板上以燒蝕之方式寫入細線條於材料之薄膜或其他層之中。用於雷射處理之適當材料實例包含透明導電氧化物(例如，氧化銦錫(Indium-tin oxide；ITO)、SnO₂ 、ZnO等等)之薄層、金屬、例如非結晶矽(α-Si)、微結晶矽(micro-crystalline silicon；μ c-Si)、多結晶矽(poly-crystalline silicon；poly-Si)、硫化銅銦鎵(copper-indium-gallium-sulphide；CIGS)、碲化鎘(cadmium telluride；CdTe)等之無機半導體、有機半導體、有機發光二極體(organic light emitting diodes；OLEDs)等等，以及聚合物之較厚層和可用於印刷電路板(PCB)之合成樹脂。

此雷射可以運作於從193奈米深紫外線到10.6微米遠紅外線範圍中的任何波長。其可以是脈衝形式且運作於任何調變式、Q型開關(Q-switched)或鎖模(mode-locked)脈衝模式。或者，該雷射可以是連續(CW)形式而運作於連續式、調變連續式或超高重複率準連續模式(quasi-continuous mode)。雷射光束掃描器單元可以在單軸或雙軸方向移動雷射光束，且可以是振鏡或旋轉式多面鏡之形式。雷射光束聚焦透鏡可以之任何簡單或複雜形式，且可以置放於掃描器單元之前或之後。

所揭示設備之一重要特徵在於該裝置使得其可以改變掃描區域內離開基軸之點上的雷射功率或脈衝能量密度，由透鏡引發於該處之光學畸變效應致使基板上之焦點面積增加，從而使得峰值功率或能量密度降低且在基板材料層中燒蝕之線條結構寬度值產生變化而不同於在透鏡基軸上之點所獲得之值。

當雷射光束於掃描範圍內被漸次掃描時，其可以動態地改變雷射輸出功率或脈衝能量，使得掃描區域內所有點上的射束功率或能量被維持於預定之數值。

在較佳實施例中，每一離軸點上之雷射光束功率或脈衝能量相較於在軸位置處之改變量得以使點上之燒蝕線條結構寬度完全或實質上地被回復至透鏡基軸上之點所獲得之數值。

本發明構想二種主要方法用以改變雷射功率或脈衝能量。其一，一聲光式(acousto-optic)或光電式(electro-optic)雷射光束調變器單元被放置於雷射輸出孔之後。此方式適用於所有內含適當傳導式調變器之雷射形式，但最適用於CW或是準CW式雷射。其極易於取得波長範圍從266奈米到10.6微米的此種設備。另一種用以調變雷射輸出的方法適用於Q型開關二極體激發式固態雷射，其具有適當之電子機能，可以藉由一系列適當之電氣脈衝自外部觸發，個別電氣脈衝之能量位準可以利用改變觸發脈衝之寬度而加以控制。其很容易取得運作於355奈米、532奈米以及1.06微米波長的此種雷射。

無論採用何種方法改變雷射輸出功率或脈衝能量，均必須以一系列適當之電子信號動態地驅動該裝置，該等電子信號與掃描區域中每一點所需之功率或脈衝能量之特定數值相關。顯而可知，其必須決定任一離軸點所需之雷射功率或脈衝能量變異，以將燒蝕線條之寬度回復至與在軸之情況相同。在一較佳之配置方式中，其可以藉由在一測試樣本的整個掃描範圍中配合運作於固定功率或脈衝能量之雷射製作一參考細線圖樣，而後在選定的離軸位置量測燒蝕線條寬度之變異(相較於在軸上之處)。此等量測繼而被用以形成一校準資料集之基礎，其被加入掃描器控制軟體，並於後續被用來驅動控制雷射輸出功率或脈衝能量之裝置，以調整射束聚焦中之能量或功率，從而在掃描區域內維持固定之線條寬度。

對一特定薄膜樣本決定正確之校準資料集可能需要多次測試樣本產生之重複程序，因為線條寬度對雷射功率或能量密度之相關性可能是一正相關或一負相關函數，且兩種情況均不太可能呈線性。因此，為了使線條寬度完全維持固定而對功率或脈衝能量所需改變之最終程度最好以實驗決定。

從以下之說明以及本說明書後附之申請專利範圍，本發明之其他較佳及選擇性特徵將趨於明顯。

圖1

圖1顯示本發明可以適用的一種雷射及掃描器系統之一實例。發自一雷射之一射束11在一伸縮鏡組12中被擴大，並繼而藉由裝配於一電流計馬達14之一反射鏡13在一範圍內之角度產生偏轉。裝配於一第二電流計馬達16之一第二反射鏡15在一正交於上述第一反射鏡13的方向上之一範圍內之角度偏轉該射束。一掃描透鏡17接受該射束並將其聚焦至一平面基板18以形成一小焦點19。此圖顯示一2軸掃描器在一平面基板18的表面上二條彼此正交之軸上移動焦點19。藉由將一伺服馬達驅動(未顯示於圖中)加入至伸縮鏡組12中的一個透鏡構件中，可以很容易地使該系統升級成一個三軸系統，其能夠沿著光軸移動焦點19並補償掃描透鏡17之像域彎曲。

圖2

圖2顯示三個理論上的焦點2D形狀的電腦產生圖形，其係產生於一150毫米焦距長度之典型多構件紫外線(355奈米)掃描透鏡像域內的不同點上。該等圖形之形式係所謂的"點圖"，其中十字記號的密度表示功率或能量密度。其中A、B、C三圖分別對應至一在軸點21、一位於25毫米半徑上之點22以及一位於50毫米半徑上之點23。該等圖形清楚地顯示，當射束朝著遠離中心點的方向移動時，焦點之形狀顯著地變差，而能量漸次地自焦點中央移向焦點的周邊區域。

圖3

圖3顯示二個焦點內的理論功率或能量密度分佈概況的電腦產生圖形，其係產生於一150毫米焦距長度之典型多構件紫外線(355奈米)掃描透鏡17之像域內的不同點上。圖形31及32分別是在軸上和40毫米半徑處焦點分佈圖之剖面。該等圖形清楚地顯示，當射束朝著遠離中心點的方向移動時，焦點分佈圖顯著地變差並偏離高斯分佈，而能量漸次地自焦點中央移向焦點的邊翼處。

圖4

圖4顯示一掃描透鏡像域內不同半徑點上三個可能雷射功率或能量密度分佈之簡單表示方式。此例中，其分佈均假設為高斯形式。所有情況中，雷射光束之功率或能量均相同，因此當從在軸上的一點(曲線41)移到軸上與像域邊緣間中途上的一點(曲線42)及最後到一邊緣上的點(曲線43)，其分佈之寬度以及焦點直徑增加，而分佈之峰值數值減少。此圖顯示基於功率或能量密度觀點之燒蝕閾值位準44相當接近分佈圖峰值之情形，其發生於最佳材料燒蝕位準與燒蝕其下基板之閾值間的差異很小之時。在所例示的簡易實例中，其假設燒蝕位準44與功率或能量密度分佈曲線的相交點界定了燒蝕線條結構之寬度。曲線41及42與閾值直線44之交點清楚地顯示出當射束之移動遠離透鏡軸而焦點擴大，峰值功率或能量密度從而減少，超過燒蝕閾值的焦點區域之直徑降低，導致燒蝕線條寬度之減小。

由圖4亦可看出，藉由將雷射光束之功率或能量增加到使得燒蝕閾值位準44上的焦點直徑增加至其在軸數值，可以使燒蝕線條寬度增加至其在軸之數值。該圖同時亦例示極端之情況(曲線43)，其中當射束更遠離透鏡軸而焦點更形擴大，則分佈曲線之峰值跌落燒蝕閾值44，導致不再有材料燒蝕發生之情況。

圖5

圖5顯示在一掃描透鏡17像域中的不同半徑處之點處二個可能雷射功率或能量密度分佈之另一簡單表示方式。此例中，其分佈亦均假設為高斯形式。二個情況中，雷射光束之功率或能量均相同，因此當從在軸上的一點(曲線51)移到一邊緣上的點(曲線52)，其分佈之寬度以及焦點直徑增加，而分佈之峰值數值減少。此圖顯示基於功率或能量密度觀點之燒蝕閾值位準53顯著地低於分佈圖之峰值，其發生於最佳材料燒蝕位準顯著地高於燒蝕其下基板閾值之情況。在所例示的簡單情況中，其假設燒蝕位準與功率或能量密度分佈曲線的相交點界定了燒蝕線條結構之寬度。該圖清楚地顯示出，此種情況下，當射束之移動遠離透鏡軸而焦點擴大，峰值功率或能量密度從而減少，超過燒蝕閾值53的焦點區域之直徑增加，故燒蝕線條結構之寬度亦增加。由圖中同時亦可理解，藉由將雷射光束之功率或能量減少到使得燒蝕閾值位準53上的焦點直徑減少至其在軸數值，可以使燒蝕線條寬度回復至其在軸之數值。

圖6

圖6顯示在一掃描透鏡17像域中的不同半徑處之點上二個可能雷射功率或能量密度分佈之另一簡單表示方式。此例中，在軸點之分佈61假設係高斯形式，但離軸點之分佈62則非高斯形式，且在峰值之一側具有較另一側顯著較高之能量。由於二個位置之雷射光束功率或能量相同，且燒蝕閾值位準63極為接近分佈之峰值，故超過燒蝕閾值之焦點區域之直徑減小，而當射束自軸上移動至一離軸點時，燒蝕線條之寬度減小。由此圖同時亦可理解，藉由將雷射光束之功率或能量增加到使得燒蝕閾值位準63上的焦點直徑回復至其在軸數值，可以使燒蝕線條寬度回復至其在軸之數值。

圖7

圖7顯示一運用任何形式之雷射實施本發明之設備。一雷射系統71發出一射束72通過一調變器73，其中光學傳輸之角度可以被控制。射束擴大伸縮鏡組74調整射束直徑以符合應用之需求。一掃描器單元75具有二正交之移動反射鏡使得射束在二軸上偏轉。一透鏡76將射束聚焦至一平面基板77之表面。掃描器反射鏡被系統主控制器單元78所驅動。此單元輸入一信號至一驅動器單元79，其控制調變器之傳輸角度。主控制器78包含一校準檔案，其內含將二維掃描區域中之每一位置關聯至在該點燒蝕一特定寬度之線條所需雷射功率或能量之資訊。當主控制器78驅動掃描器反射鏡使得射束在該二維掃描區域上移動時，同時亦輸入適當之信號至調變器驅動器79以調整調變器73之傳輸而將燒蝕線條圖樣寬度維持固定。

圖8

圖8顯示另一用以實施本發明之設備，其使用一脈衝雷射且發自雷射之個別脈衝之能量可以藉由調整個別雷射觸發脈衝之寬度而加以控制。一雷射系統81發出一射束82。一射束擴大伸縮鏡組83調整射束直徑以符合應用之需求。一掃描器單元84具有二正交之移動反射鏡使得射束在二軸上偏轉。一透鏡85將射束聚焦至一平面基板86之表面。掃描器反射鏡被系統主控制器單元87所驅動。此單元同時亦將控制信號輸入至一脈衝產生器單元88，其發射出用以觸發Q型開關雷射81之脈衝。主控制器87包含一校準檔案，其內含將二維掃描區域中之每一位置關聯至在該點燒蝕一特定寬度之線條所需雷射功率或能量之資訊。當主控制器87驅動掃描器反射鏡使得射束在該二維掃描區域上移動時，同時亦輸入適當之信號至觸發脈衝產生器88以調整觸發脈衝之寬度以及每一脈衝中之能量，從而使得燒蝕線條圖樣寬度維持固定。

以上所述之配置因此提出一種用於補償離軸焦點畸變誤差的方法，該畸變誤差係在使用雷射掃描透鏡藉由直接寫入雷射燒蝕之方式在平面基板上之材料層中建立細線條結構時產生，使得在整個掃描區域實質上維持該結構之線條寬度，該方法包含：

a.　改變掃描區域中偏離基軸之點之雷射光束功率或脈衝能量，其中由透鏡引起之光學畸變效應導致基板上焦點之面積增大，使得峰值功率或能量密度降低，以及基板上之燒蝕線條結構之寬度產生變化而不同於位於透鏡基軸上之點所獲得之數值；

b.　改變每一離軸點上之雷射光束功率或脈衝能量，其改變之量使得該點上之燒蝕線條結構寬度被完全回復至在該透鏡基軸上之點所獲得之數值；

c.　當雷射光束於掃描範圍內被漸次掃描時，動態地改變雷射輸出功率或脈衝能量，使得掃描區域內所有點上的射束功率或能量被維持於正確之數值以讓燒蝕線條結構之寬度保持固定；以及

d.　在一測試樣本的整個掃描範圍中配合運作於固定功率或脈衝能量之雷射製作一參考細線圖樣，並在選定的離軸位置量測燒蝕線條寬度之變異(相較於在軸上之處)，且利用此等量測構成一校準資料集之基礎，其後續被用來在掃描區域改變能量或功率而使線條寬度維持固定。

所揭示之用以實行此方法之設備包含：

a.　一雷射單元；

b.　雷射光束掃描器單元；

c.　一雷射光束聚焦透鏡；

d.　一調變器，控制該雷射之輸出；

e.　一快速控制系統，其連結該調變器之運作至該雷射焦點在該透鏡之像域內之運動並迅速地改變該雷射之輸出功率或脈衝能量。

11．．．射束

12．．．伸縮鏡組

13．．．反射鏡

14．．．電流計馬達

15．．．反射鏡

16．．．電流計馬達

17．．．掃描透鏡

18．．．平面基板

19．．．焦點

21．．．軸點

22．．．點

23．．．點

31．．．圖形

32．．．圖形

41．．．曲線

42．．．曲線

43．．．曲線

44．．．閾值位準/閾線

51．．．曲線

52．．．曲線

53．．．位準/閾值

61．．．分佈

62．．．分佈

63．．．閾值位準

71．．．雷射系統

72．．．射束

73．．．調變器

74．．．伸縮鏡組

75．．．掃描器單元

76．．．透鏡

77．．．平面基板

78．．．主控制器

79．．．單元

81．．．雷射

82．．．射束

83．．．伸縮鏡組

84．．．單元

85．．．透鏡

86．．．基板

87．．．單元

88．．．產生器

本發明已經藉由範例的方式並參照所附之圖式而進一步地說明，其中：

圖1係一典型2-D掃描器以及相關聚焦透鏡配置之一示意性立體圖；

圖2A、2B和2C顯示對一典型掃描透鏡之焦點所計算出之點點圖(spot diagram)；

圖3A和3B之圖形顯示對一典型掃描透鏡計算出之焦點能量密度分佈概況；

圖4之圖形顯示如何在焦點直徑增加時，燒蝕之線條寬度可以減小；

圖5之圖形顯示如何在焦點直徑增加時，燒蝕之線條寬度可以增加；

圖6之圖形顯示如何在焦點發生畸變時，燒蝕之線條寬度可以減小；

圖7係一用以動態地控制雷射輸出之設備之示意圖；以及

圖8係一用以動態地控制一Q型開關雷射的輸出脈衝能量之設備之示意圖。

71．．．雷射系統

72．．．射束

73．．．調變器

74．．．伸縮鏡組

75．．．掃描器單元

76．．．透鏡

77．．．平面基板

78．．．主控制器

79．．．驅動器單元

Claims (10)

1. 一種用於補償離軸焦點畸變的設備，該畸變係在使用掃描器及透鏡藉由直接寫入雷射燒蝕之方式在一基板中形成細線條結構時產生，該設備包含：一雷射單元，用以提供一雷射光束；一掃描器單元，用以在一基板上自一在軸位置掃描該雷射光束至離軸位置；一聚焦透鏡，用以聚焦該雷射光束至該基板上；功率改變裝置，用以改變雷射之輸出功率或脈衝能量；以及一控制器單元，用以依據實驗決定之參考資料控制該功率改變裝置以依據相對於該在軸位置之焦點位置動態地改變該雷射輸出功率或脈衝能量，而使得位於該點之燒蝕線條結構之寬度維持實質上相同於位於一在軸點之寬度。
2. 如申請專利範圍第1項所述之設備，其中該控制器單元及功率改變裝置係配置以補償該雷射光束在離軸之掃描區域中之點的功率或脈衝能量之改變，其中由該透鏡引起之光學畸變效應導致在該基板上焦點之面積增大，使得峰值功率或能量密度降低，且使得該基板上之燒蝕線條結構之寬度產生變化而不同於位於在軸點所獲得之數值。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之設備，其中該雷射單元包含一調變式、Q型開關或鎖模雷射，以提供一連續或準連續模式雷射光束。
4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之設備，其中該 掃描器單元能夠在一個、二個或三個軸中掃描該雷射光束。
5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之設備，其中該聚焦透鏡係一簡單或複雜形式，且係置放於該掃描器單元之前或之後。
6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之設備，其中該功率改變裝置包含一射束調變器單元，例如聲光式或光電式之形式。
7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之設備，其中該雷射單元包含一Q型開關形式之雷射，且該功率改變裝置包含一電子單元，其經配置以調整施加至雷射腔內之一聲光式或光電式形式的Q型開關之觸發脈衝之寬度。
8. 一種用於補償離軸焦點畸變的方法，該畸變係在使用掃描器及透鏡藉由直接寫入雷射燒蝕之方式在一基板中形成細線條結構時產生，該方法包含以下步驟：提供一雷射光束；在一基板上自一在軸位置掃描該雷射光束至離軸位置；聚焦該雷射光束至該基板上；以及利用實驗決定之參考資料以依據相對於該在軸位置之焦點位置動態地改變該雷射之輸出功率或脈衝能量，以使得位於該點之燒蝕線條結構之寬度維持實質上相同於位於一在軸點上之寬度。
9. 如申請專利範圍第8項所述之方法，其中一控制器單元及功率改變裝置係配置以補償該雷射光束在離軸之掃描 區域中之點的功率或脈衝能量之改變，其中由該透鏡引起之光學畸變效應導致在該基板上焦點之面積增大，使得峰值功率或能量密度降低，且使得該基板上之燒蝕線條結構之寬度產生變化而不同於位於在軸點所獲得之數值。
10. 如申請專利範圍第8項或第9項所述之方法，其中該雷射光束中功率或脈衝能量之改變係依據當該雷射被掃描於一測試基板且運作於實質上固定之功率或脈衝能量時所實驗決定之校準資料。