CN102062976A - 边缘场开关模式液晶显示装置及其制造方法 - Google Patents

边缘场开关模式液晶显示装置及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102062976A
CN102062976A CN2010102110544A CN201010211054A CN102062976A CN 102062976 A CN102062976 A CN 102062976A CN 2010102110544 A CN2010102110544 A CN 2010102110544A CN 201010211054 A CN201010211054 A CN 201010211054A CN 102062976 A CN102062976 A CN 102062976A
Authority
CN
China
Prior art keywords
liquid crystal
electrode
data line
transparent
transparent pixels
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2010102110544A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102062976B (zh
Inventor
孙玉秀
李元姬
崔修荣
徐东瀣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hydis Technologies Co Ltd
Original Assignee
Hydis Technologies Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hydis Technologies Co Ltd filed Critical Hydis Technologies Co Ltd
Publication of CN102062976A publication Critical patent/CN102062976A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102062976B publication Critical patent/CN102062976B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136209—Light shielding layers, e.g. black matrix, incorporated in the active matrix substrate, e.g. structurally associated with the switching element
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133707—Structures for producing distorted electric fields, e.g. bumps, protrusions, recesses, slits in pixel electrodes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134372—Electrodes characterised by their geometrical arrangement for fringe field switching [FFS] where the common electrode is not patterned
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2203/00—Function characteristic
    • G02F2203/02—Function characteristic reflective

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)

Abstract

本发明提供了一种液晶显示器，其包括在像素区内的透明像素电极和透明公共电极以驱动液晶。所述透明公共电极包括多个狭缝，并且配置为开放开关器件的至少一部分以连接单位像素，所述狭缝具有相对于门行5°～10°的角度，并且液晶层的摩擦方向基本上平行于门行方向。因此，可以提供能够去除降低开口率的因素、防止漏光并且进一步提高内部反射的液晶显示器。

Description

边缘场开关模式液晶显示装置及其制造方法
相关申请的交叉引用
本申请要求2009年11月12日提交的第2009-109177号韩国专利申请的优先权，将该申请公开的全部内容通过引用并入此处。
技术领域
本发明涉及一种液晶显示装置(LCD)及其制造方法，更具体地，涉及一种能够去除降低开口率的因素、防止漏光并且进一步提高内部反射的LCD及其制造方法。
背景技术
通常，边缘场开关(FFS)模式LCD被提议用来提高平面内开关(IPS)模式LCD的较低的开口率和透光率。
FFS模式LCD包括公共电极(对向电极)和像素电极，二者由透明导电材料制成，以得到比IPS模式LCD高的开口率和透光率。另外，公共电极与像素电极之间的距离小于上下玻璃基板之间的距离，以便可以在公共电极与像素电极之间形成边缘场。因此，存在于电极上的所有液晶分子也被操作以提供更好的透光率。例如由本申请人提交或颁给本申请人的美国专利第6,256,081号和第6,226,118号、韩国专利注册第653474号等公开了FFS模式LCD的现有技术。
传统的FFS模式LCD具有在数据行和像素电极之间产生串扰的问题以及在像素电极的狭缝的一端处由于液晶的非正常操作而引起的旋转位移的问题。黑色矩阵(BM)覆盖着受串扰和旋转位移影响的重要部分，该部分降低了开口率。而且，随着要求的分辨率越来越高，应该减小单位像素的尺寸。但是，接触孔的尺寸不得小于一定级别，从而开口率会减小。
为了解决这个问题，韩国专利注册第849599号已经提出了一种结构，其中去除了接触孔以提高开口率，并将数据行上的透光率降到最小，且将数据行附近的液晶效率提高到最大。然而，因为上述结构提供了在数据行附近的最大液晶效率，所以邻近数据行的电场会影响邻近那里的像素的液晶，从而导致颜色混合，从而，仍然需要最小的黑色矩阵。而且，因为摩擦是以相对于数据行的预定角度实施的，所以在数据行的一侧附近会由于摩擦失败而引起漏光，并且难以利用内部反射提高外部可见度。
因此，为了去除使传统FFS模式LCD的开口率降低的因素、减少漏光并且提高内部反射，仍需要新型的LCD。
发明内容
本发明旨在提供一种通过相对简单的步骤能够形成没有接触孔的像素区、并且能够最大程度地去除暗区和旋转位移以提高开口率的FFS模式LCD及其制造方法。
本发明还旨在提供一种能够提高开口率、防止漏光并且获得内部反射的FFS模式LCD及其制造方法。
根据本发明的一个方面，提供了一种边缘场开关模式(FFS模式)液晶显示装置(LCD)，该LCD包括：下基板、上基板以及夹在所述上下基板之间的液晶层，所述下基板包括由彼此交叉形成的门行和数据行所限定的单位像素区以及设置在所述门行和数据行的交叉处的开关器件。所述LCD包括：透明像素电极，其设置在所述像素区内；透明公共电极，其设置在所述透明像素电极上并且与所述透明像素电极夹着绝缘层隔开布置，并且具有形成在所述像素区内的多个狭缝，以通过对所述液晶层施加电压而调整透光率。在此，将所述狭缝设置为相对于门行形成5°～10°的角度，液晶层的摩擦方向基本上平行于门行方向，并且所述开关器件的漏极电连接到所述透明像素电极。
在此，所述LCD还包括反射结构，所述反射结构由与所述门行相同的材料形成，并且隔着绝缘层布置在所述数据行下面。
同时，所述反射结构具有比所述数据行的宽度更宽的宽度。
另外，通过确定所述狭缝的角度，使得相邻像素区以轴对称设置，以区分当驱动时液晶时的旋转方向，并且所述LCD可以还包括形成在所述透明像素电极下面的透明辅助电极。
另外，所述透明公共电极可开放开关器件的至少一部分。所述透明公共电极可以完全覆盖所述开关器件。
根据本发明的另一方面，提供了一种制造边缘场开关模式(FFS模式)液晶显示装置(LCD)的方法，所述LCD包括下基板、上基板以及夹在所述上下基板之间的液晶层，所述下基板包括由彼此交叉形成的门行和数据行所限定的单位像素区以及设置在所述门行和数据行的交叉处的开关器件。所述方法包括：形成门行；在所述门行上形成栅极绝缘层和有源层；在所述像素区内形成透明像素电极；在具有所述透明像素电极的最终结构上形成数据行的漏极和源极，其中所述漏极的一部分电连接到所述像素电极的一部分；以及形成透明公共电极，所述透明公共电极设置在所述透明像素电极上并且与所述透明像素电极夹着绝缘层隔开设置，且具有在所述像素区内的多个狭缝，并且配置为开放所述开关器件的至少一部分。
在此，将所述狭缝设置为相对于门行形成5°～10°的角度，并且液晶层的摩擦方向基本上平行于门行方向。
附图说明
通过参照附图详细说明本发明的示例性实施例，使得本发明的上述及其它目的、特征和优点对本领域的普通技术人员而言更加显而易见，在附图中：
图1是表示根据本发明的示例性实施例的形成于FFS模式LCD的下基板处的一部分像素区的平面图；
图2是沿图1中I-I′线的横截面图；
图3A～图3E是按顺序表示形成和叠加各个层的步骤的横截面图；
图4～图6是表示对韩国专利注册第653474号和第849599号与本发明的示例性实施例之间的效果进行比较的平面图和横截面图；
图7是表示在韩国专利注册第849599号与本发明的示例性实施例之间对LCD的内部反射及漏光防止效果进行比较的立体图；
图8和图9表示本发明的其他示例性实施例。
具体实施方式
以下将参考附图详细描述本发明的示例性实施例。虽然结合其示例性实施例图示和描述了本发明，但是本领域的技术人员应明白，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，可以对本发明作出各种修改。
根据本发明的示例性实施例的LCD包括下基板、上基板以及夹在上下基板之间的液晶层。所述下基板包括由彼此交叉形成以对所述液晶层施加电压的电极所限定的多个像素区。
图1是表示根据本发明的示例性实施例的形成于FFS模式LCD的下基板处的一部分像素区的平面图。图2是沿图1中I-I′线的横截面图，以及图3A～图3E是按顺序表示形成和叠加各个层的步骤的横截面图。
下基板100包括由不透明的金属形成并且彼此交叉排列以形成单位像素的门行200a和数据行600。透明像素电极400和透明公共电极800夹着绝缘层700设置在单位像素区内。透明像素电极400例如以板状设置在与数据行600相同的层上，从而开关器件的漏极600b与透明像素电极400的至少一部分重叠，并且与透明像素电极400电连接。在这个结构中，可以去掉形成接触孔的步骤，以便解决由于接触孔形成步骤而不能减少像素尺寸的问题。另外，这种结构能够实现高分辨率。
透明公共电极800具有通过图形化沉积在绝缘层700上的透明导电层而形成的多个狭缝，并且在预定区域内与透明像素电极400重叠。
在门行200a上隔着栅极绝缘层300设有有源层500和源极600a以及漏极600b，以形成薄膜晶体管(TFT)T，所述有源层500中依次沉积有a-Si层和n+a-Si层。漏极600b电连接到透明像素电极400，以对单位像素施加数据信号。
同时，与门行200a的形成一起，由与所述门行相同的材料形成的反射结构200b形成于数据行600的下面。虽然反射结构200b可以由与门行200a的材料不同的材料形成，但是为了简化步骤，反射结构200b优选地由与门行200a相同的材料形成。反射结构200b构造为用来提高内部反射，其功能将在下面描述。
同时，透明公共电极800包括形成在像素区内的多个狭缝，并且开放开关器件的至少一部分。也就是说，当所述单位像素区形成为矩阵时，所述单位像素区全部由透明公共电极800连接，并且部分地开放所述狭缝和所述开关器件，从而减少公共电极的整个阻抗。
同时，所述狭缝被构造为相对于所述门行形成5°～10°的角度，并且液晶层的摩擦方向形成为基本上平行于门行方向。因为液晶层的摩擦方向基本上平行于门行方向，所以可以减少漏光和旋转位移。附着到上下基板的偏光器的轴可以实现为与液晶层的摩擦方向相同。
同时，上基板包括滤色器(未示出)，以呈现出对应于形成在下基板100上的像素区的屏幕的颜色。可以去除或部分地保留数据行600上的黑色矩阵。
接下来，参考图1、图2以及图3A～图3E详细描述根据本发明的示例性实施例的FFS模式LCD的制造方法。
在下基板100上形成包括栅极的门行200a，并且同时形成反射结构200b。也就是说，通过沉积不透明金属层并且将其图形化在下基板100上，使包括栅极的门行200a以及反射结构200b对应着TFT T的形成部而形成在下基板100上。反射结构200b形成于数据行下面。
接下来，在下基板100的整个表面上沉积栅极绝缘层300，以覆盖门行200a和反射结构200b，并且在栅极绝缘层300上依次沉积a-Si层和n+a-Si层。在这种状态中，通过图形化这些层以在所述栅极上的栅极绝缘层300上形成有源层500。
接下来，通过沉积透明导电层并将其图形化，在最终的基板的每个像素区内形成板状透明像素电极400。
接下来，沉积用于源极和漏极的金属层并且随后图形化，以形成包括源极600a和漏极600b的数据行600，构成作为开关器件的TFT T。在此，漏极600b构造为与透明像素电极400的一部分重叠，并与透明像素电极400电连接。
接下来，将由SiNx材料形成的绝缘层700涂敷到具有TFT T的最终结构上，并且随后，形成具有狭缝的透明公共电极800以与透明像素电极400的至少一部分重叠。透明公共电极800具有形成在像素区内的多个狭缝，并且开放TFT T的至少一部分。
接下来，尽管未图示，在上面形成有透明公共电极800的最终的基板的最上层上涂敷取向层，以完成阵列基板的制造。同时，选择性地在上基板上形成滤色器，并且在滤色器上形成取向层。上基板和下基板100夹着液晶层被互相粘合在一起，以完成根据本发明的示例性实施例的FFS模式LCD的制造。当然，在将基板粘合之后，可以将偏光器附到基板的外表面。
下文中，将详细地描述本发明与传统LCD比较的效果。
图4～图6是表示对韩国专利注册第653474号和第849599号与本发明的示例性实施例之间的效果进行比较的平面图和横截面图，解释了根据本发明的LED的诸如在数据行周围的光的内部反射的改善、漏光的防止、旋转位移的防止等效果。图7是表示对韩国专利注册第849599号与本发明的示例性实施例之间的内部反射及漏光防止效果进行比较的立体图。
提供了本发明的示例性实施例，以引起单位像素区的内部反射，从而提高外部可见度。
在示例性实施例中，不仅数据行可以反射，而且在数据行下面利用门行材料形成有反射结构，从而可以由门行进行反射。也就是说，在内部驱动时，由于光发生反射而不能穿过反射结构，所以反射结构起到黑色矩阵BM的作用。另外，当外部驱动时，外部光被数据行、门行、反射结构等的金属反射，以提高外部可见度。
参考图4～图6，图4表示在韩国专利注册第653474号的结构中形成的数据行上的黑色矩阵可以导致不被驱动的暗区和被异常驱动的旋转位移区。在图5中，可认识到，在韩国专利注册第849599号中存在部分地形成有黑色矩阵的区域，并且可以由于摩擦失败而发生漏光。
另一方面，在图6中，反射结构安装于数据行下面，并且黑色矩阵BM未形成在上基板上或仅部分地形成在TFT的形成区域上，提高了开口率并且使内部反射最大化。
另外，摩擦方向设置为相对于门行基本上为0°，以使液晶取向为水平方向，以使所述取向方向基本上垂直于数据行的方向，并且液晶的取向方向设置为相对于上基板和下基板的偏光器的透光轴形成0°或90°的角度。因此，可能未恰当地进行摩擦处理的数据行的一侧上的液晶的主轴与上基板和下基板的偏光器的透光轴或吸光轴一致，从而防止了光从相应区域漏出。
同时，反射结构可以具有大于数据行的宽度W2的宽度W1，使得可以防止邻近像素的颜色发生混合并且进一步提高内部反射。
而且，所述透明公共电极的所述狭缝的末端E1设置在数据行的邻近末端E1的一端S1与所述反射结构的一端S2之间。结果，可以遮挡所述狭缝的末端的旋转位移区。
而且，所述透明像素电极的末端E2设置在所述反射结构的一端S2与数据行的一端S1之间。为了防止光通过位于透明像素电极与反射结构之间的公共电极狭缝漏出，透明像素电极与反射结构可以部分地互相重叠。然而，因为数据行和像素电极形成在相同层上，可能导致在处理期间短路，所以数据行和像素电极可彼此隔开预定距离。
图8表示本发明的另一个示例性实施例。参考图8，透明公共电极的狭缝具有这样的角度，即，使得相邻像素区以轴对称设置。根据上述构造，当驱动液晶时，相近像素的旋转方向可以彼此相反。也就是说，当一个像素和相邻像素的透明公共电极的狭缝的角度关于门行或数据行对称地设置时，并且液晶在被驱动时而顺时针旋转，那么相邻像素的液晶逆时针旋转，以根据视角补偿折射率，防止了色移。
图9表示本发明的另一个示例性实施例。
图9表示一种对图1的LCD增加了单独的步骤的方法。为了方便描述，将仅描述与图1的LCD的不同。
参照图9，在透明像素电极400下面另外形成透明辅助电极900。在形成门行200a和反射结构200b之后，利用透明导电层在像素区内形成透明辅助电极900，以使沿着门行方向的相邻像素区彼此电连接。接下来，执行在图3B之后的步骤(诸如形成栅极绝缘层、形成有源层、形成透明像素电极、形成数据行、形成保护层、形成透明公共电极等一系列步骤)。同时，透明辅助电极900可以具有包括于透明像素电极400中的尺寸。透明辅助电极900起到提高存储电容的作用。
透明辅助电极900的功能是：根据高分辨率所引起的像素尺寸的变化以及每个像素在常规存储电容方面的变化，通过调节透明辅助电极900所提供的辅助存储电容，而保持或提高整个存储电容并且有效地提高图像质量。
如上所述，可以去除像素区内的接触孔，以实现高分辨率。
另外，由于可以使用数据行和门行的金属材料所实现的反射，所以可以提高外部可见度。
而且，因为摩擦处理是相对于门行以0°或大致0°的角度实施，所以可以防止现有技术中的数据行的漏光。
本领域技术人员应当明白，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，可以对本发明的上述实施例作各种修改。因此，本发明意在覆盖落在所附权利要求及其等同方案的范围内的所有这些修改。

Claims (16)

1.一种边缘场开关模式液晶显示装置，其包括下基板、上基板以及夹在所述上下基板之间的液晶层，所述下基板包括由彼此交叉形成的门行和数据行所限定的单位像素区以及布置在所述门行和所述数据行的交叉处的开关器件，所述液晶显示装置包括：
透明像素电极，其布置在所述像素区内；以及
透明公共电极，其布置在所述透明像素电极上并且与所述透明像素电极夹着绝缘层隔开布置，并且具有形成于所述像素区内的多个狭缝，以通过对所述液晶层施加电压而调节透光率，
其中，所述狭缝布置为相对于所述门行形成5°～10°的角度，所述液晶层的摩擦方向基本上平行于门行方向，并且所述开关器件的漏极电连接到所述透明像素电极。
2.根据权利要求1所述的液晶显示装置，还包括反射结构，其由与所述门行相同的材料形成，并且隔着绝缘层而布置于所述数据行下面。
3.根据权利要求2所述的液晶显示装置，其中，所述反射结构具有比所述数据行的宽度更宽的宽度。
4.根据权利要求3所述的液晶显示装置，其中，所述透明公共电极的所述狭缝的末端设置在所述数据行的邻近所述末端的一端与所述反射结构的一端之间。
5.根据权利要求3所述的液晶显示装置，其中，所述透明像素电极的末端设置在所述数据行的邻近所述末端的一端与所述反射结构的一端之间。
6.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其中，通过确定所述狭缝的角度，使得相邻像素区轴对称地布置，以在驱动液晶时区分旋转方向。
7.根据权利要求1所述的液晶显示装置，还包括形成于所述透明像素电极下面的透明辅助电极。
8.根据权利要求1所述的液晶显示装置，所述透明公共电极开放所述开关器件的至少一部分。
9.一种制造边缘场开关模式液晶显示装置的方法，所述液晶显示装置包括下基板、上基板以及夹在所述上下基板之间的液晶层，所述下基板包括由彼此交叉形成的门行和数据行所限定的单位像素区以及设置在所述门行和所述数据行的交叉处的开关器件，所述方法包括：
形成门行；
在所述门行上形成栅极绝缘层和有源层；
在所述像素区内形成透明像素电极；
在具有所述透明像素电极的最终结构上形成所述数据行的漏极和源极，其中所述漏极的一部分电连接到所述像素电极的一部分；以及
形成设置在所述透明像素电极上并且与所述透明像素电极隔着绝缘层隔开设置的透明公共电极，该透明公共电极具有在所述像素区内的多个狭缝，并且被构造为开放所述开关器件的至少一部分。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述狭缝布置为相对于所述门行形成5°～10°的角度，并且所述液晶层的摩擦方向基本上平行于门行方向。
11.根据权利要求9所述的方法，其中，当形成所述门行的时候，在其中形成有所述数据行的区域的下面形成反射结构。
12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述反射结构具有比所述数据行的宽度更宽的宽度。
13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述透明公共电极的所述狭缝的末端设置在所述数据行的邻近所述末端的一端与所述反射结构的一端之间。
14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述透明像素电极的末端设置在所述反射结构的一端与所述数据行的一端之间。
15.根据权利要求9所述的方法，其中，通过确定所述狭缝的角度，使得相邻像素区以轴对称布置，以在驱动液晶时区分旋转方向。
16.根据权利要求9所述的方法，还包括在所述透明像素电极下形成透明辅助电极。
CN201010211054.4A 2009-11-12 2010-06-28 边缘场开关模式液晶显示装置及其制造方法 Active CN102062976B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2009-0109177 2009-11-12
KR1020090109177A KR101182471B1 (ko) 2009-11-12 2009-11-12 에프에프에스 모드 액정표시장치 및 그 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102062976A true CN102062976A (zh) 2011-05-18
CN102062976B CN102062976B (zh) 2015-06-10

Family

ID=43973950

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201010211054.4A Active CN102062976B (zh) 2009-11-12 2010-06-28 边缘场开关模式液晶显示装置及其制造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8724064B2 (zh)
JP (1) JP5529647B2 (zh)
KR (1) KR101182471B1 (zh)
CN (1) CN102062976B (zh)
TW (1) TWI503612B (zh)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102866539A (zh) * 2011-07-05 2013-01-09 上海天马微电子有限公司 液晶显示面板的基板配向方法、液晶显示面板及其基板
WO2013097515A1 (zh) * 2011-12-31 2013-07-04 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、液晶显示装置及取向摩擦方法
CN103901673A (zh) * 2012-12-26 2014-07-02 厦门天马微电子有限公司 边缘场开关模式液晶显示装置的像素单元和阵列基板
CN103985715A (zh) * 2014-04-30 2014-08-13 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其制作方法、液晶显示装置
CN104752440A (zh) * 2015-03-20 2015-07-01 京东方科技集团股份有限公司 一种像素结构、阵列基板及其制造方法
CN105531621A (zh) * 2013-09-13 2016-04-27 株式会社半导体能源研究所 显示装置
CN106873274A (zh) * 2016-12-30 2017-06-20 友达光电股份有限公司 像素结构
CN109581761A (zh) * 2018-12-29 2019-04-05 厦门天马微电子有限公司 一种阵列基板及显示装置

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102135691B (zh) 2010-09-17 2012-05-23 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制造方法和液晶显示器
JP2012073341A (ja) 2010-09-28 2012-04-12 Hitachi Displays Ltd 液晶表示装置
CN102629585B (zh) * 2011-11-17 2014-07-23 京东方科技集团股份有限公司 一种显示装置、薄膜晶体管、阵列基板及其制造方法
KR101992884B1 (ko) * 2011-12-21 2019-06-26 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR20130114998A (ko) 2012-04-10 2013-10-21 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR101420150B1 (ko) * 2012-06-28 2014-07-16 하이디스 테크놀로지 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
JP6002478B2 (ja) * 2012-07-04 2016-10-05 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
JP5767186B2 (ja) 2012-09-28 2015-08-19 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置及び電子機器
JP2014112200A (ja) 2012-11-12 2014-06-19 Mitsubishi Electric Corp Ｔｆｔアレイ基板、それを備える液晶パネルおよびｔｆｔアレイ基板の製造方法
KR102029986B1 (ko) 2012-12-13 2019-10-10 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR101997745B1 (ko) 2013-01-25 2019-07-09 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR102040812B1 (ko) 2013-02-12 2019-11-06 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR20150024646A (ko) 2013-08-27 2015-03-09 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
TW202334724A (zh) 2013-08-28 2023-09-01 日商半導體能源研究所股份有限公司 顯示裝置
KR102401621B1 (ko) * 2015-07-23 2022-05-25 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
JP6892575B2 (ja) * 2016-03-01 2021-06-23 天馬微電子有限公司 液晶表示装置
TWI571686B (zh) * 2016-09-30 2017-02-21 友達光電股份有限公司 畫素電極

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1619395A (zh) * 2003-11-18 2005-05-25 株式会社日立显示器 液晶显示装置
CN1862349A (zh) * 2005-05-10 2006-11-15 三菱电机株式会社 液晶显示装置及其制造方法
US20080204640A1 (en) * 2007-02-22 2008-08-28 Epson Imaging Devices Corporation Liquid crystal device and electronic apparatus
CN101382708A (zh) * 2007-09-04 2009-03-11 株式会社日立显示器 液晶显示装置
CN101446717A (zh) * 2007-11-07 2009-06-03 海帝士科技公司 Ffs模式lcd及其制造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100306799B1 (ko) 1998-05-29 2001-11-30 박종섭 액정표시장치
KR100293811B1 (ko) 1998-05-29 2001-10-26 박종섭 아이피에스모드의액정표시장치
JP4241238B2 (ja) * 2003-08-29 2009-03-18 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置
KR100653474B1 (ko) 2003-09-26 2006-12-04 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 프린지 필드 스위칭 액정표시장치
JP4645488B2 (ja) * 2006-03-15 2011-03-09 ソニー株式会社 液晶装置及び電子機器
KR100849599B1 (ko) 2007-02-05 2008-07-31 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 에프에프에스 모드 액정표시장치
US7847905B2 (en) * 2007-11-07 2010-12-07 Hydis Technologies Co., Ltd. FFS mode LCD and method of manufacturing the same
JP2009180981A (ja) * 2008-01-31 2009-08-13 Mitsubishi Electric Corp アクティブマトリックス基板及びその製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1619395A (zh) * 2003-11-18 2005-05-25 株式会社日立显示器 液晶显示装置
CN1862349A (zh) * 2005-05-10 2006-11-15 三菱电机株式会社 液晶显示装置及其制造方法
US20080204640A1 (en) * 2007-02-22 2008-08-28 Epson Imaging Devices Corporation Liquid crystal device and electronic apparatus
CN101382708A (zh) * 2007-09-04 2009-03-11 株式会社日立显示器 液晶显示装置
CN101446717A (zh) * 2007-11-07 2009-06-03 海帝士科技公司 Ffs模式lcd及其制造方法

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102866539B (zh) * 2011-07-05 2016-03-16 上海天马微电子有限公司 液晶显示面板的基板配向方法、液晶显示面板及其基板
CN102866539A (zh) * 2011-07-05 2013-01-09 上海天马微电子有限公司 液晶显示面板的基板配向方法、液晶显示面板及其基板
WO2013097515A1 (zh) * 2011-12-31 2013-07-04 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、液晶显示装置及取向摩擦方法
CN103901673B (zh) * 2012-12-26 2016-07-06 厦门天马微电子有限公司 边缘场开关模式液晶显示装置的像素单元和阵列基板
CN103901673A (zh) * 2012-12-26 2014-07-02 厦门天马微电子有限公司 边缘场开关模式液晶显示装置的像素单元和阵列基板
US10777585B2 (en) 2013-09-13 2020-09-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
CN110806663A (zh) * 2013-09-13 2020-02-18 株式会社半导体能源研究所 显示装置
US11848331B2 (en) 2013-09-13 2023-12-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
CN105531621A (zh) * 2013-09-13 2016-04-27 株式会社半导体能源研究所 显示装置
US9337214B2 (en) 2013-09-13 2016-05-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
US9748279B2 (en) 2013-09-13 2017-08-29 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
US10559602B2 (en) 2013-09-13 2020-02-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
CN105531621B (zh) * 2013-09-13 2019-11-12 株式会社半导体能源研究所 显示装置
CN103985715B (zh) * 2014-04-30 2016-08-24 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其制作方法、液晶显示装置
US9664971B2 (en) 2014-04-30 2017-05-30 Boe Technology Group Co., Ltd. Array substrate and method for producing the same and liquid crystal display apparatus
WO2015165158A1 (zh) * 2014-04-30 2015-11-05 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其制作方法、液晶显示装置
CN103985715A (zh) * 2014-04-30 2014-08-13 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其制作方法、液晶显示装置
CN104752440B (zh) * 2015-03-20 2017-10-17 京东方科技集团股份有限公司 一种像素结构、阵列基板及其制造方法
CN104752440A (zh) * 2015-03-20 2015-07-01 京东方科技集团股份有限公司 一种像素结构、阵列基板及其制造方法
CN106873274B (zh) * 2016-12-30 2019-09-17 友达光电股份有限公司 像素结构
CN106873274A (zh) * 2016-12-30 2017-06-20 友达光电股份有限公司 像素结构
CN109581761A (zh) * 2018-12-29 2019-04-05 厦门天马微电子有限公司 一种阵列基板及显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN102062976B (zh) 2015-06-10
JP2011107678A (ja) 2011-06-02
KR101182471B1 (ko) 2012-09-12
TW201116908A (en) 2011-05-16
JP5529647B2 (ja) 2014-06-25
US20110109861A1 (en) 2011-05-12
TWI503612B (zh) 2015-10-11
US8724064B2 (en) 2014-05-13
KR20110052228A (ko) 2011-05-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102062976B (zh) 边缘场开关模式液晶显示装置及其制造方法
US7405794B2 (en) Substrate for in-plane switching mode liquid crystal display device with particular common electrodes on two layer levels and method for fabricating the same
CN102914922B (zh) 面内切换模式液晶显示装置
KR100470759B1 (ko) 인-플레인 스위칭 모드 액티브 매트릭스형 액정 표시 장치및 그 제조 방법
CN101419368B (zh) 横向电场型有源矩阵寻址液晶显示装置
US7663723B2 (en) In-plane switching mode liquid crystal display device and fabrication method thereof
CN102809855B (zh) 薄膜晶体管基板及其制造方法
US9269818B2 (en) Array substrate for liquid crystal display device and method for fabricating the same
US7551257B2 (en) In-plane switching mode liquid crystal display device and method of fabricating the same
JP2010271701A (ja) 液晶表示装置
US10520779B2 (en) Liquid crystal display device
JP2003207795A (ja) 液晶表示装置
CN100380215C (zh) 下基板、面内切换模式液晶显示器件及其制造方法
CN1881013A (zh) 液晶显示器件及其制造方法
US7907245B2 (en) In-plane switching mode liquid crystal display capable of improving an aperture ratio and fabrication method thereof
JP2005301226A (ja) 液晶表示装置及びこれに使用する表示板
US20080252836A1 (en) Active matrix subtrate, liquid crystal display panel and method of manufacturing the same
CN100495183C (zh) 液晶显示装置
JP2009288604A (ja) 液晶表示装置、電子機器
KR101101007B1 (ko) 액정표시장치
US20080084528A1 (en) Liquid crystal display device
US20080246908A1 (en) Liquid crystal display device
US7079213B2 (en) Array substrate for in-plane switching mode liquid crystal display and method of fabricating same
JP2008051846A (ja) Ｆｆｓモードの液晶表示パネル
KR20070007606A (ko) 액정표시장치

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant