CN102057323A - 制造电色装置的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明构思在电色装置制造中利用激光图案化/切割，其用于制造期间的任何地方且视为电色装置可制造性、产率、功能性的适当必要手段，同时整合激光切割以确保保护装置有源层，进而保证长期可靠性。设想激光直接移除(剥离)部件层材料而图案化电色装置的部件层。本发明包括制造电色装置的方法，包含一或多个聚焦激光图案化步骤。为最少化激光剥离材料再沉积和微粒形成在装置表面，可实行：(1)在装置材料的激光剥离附近用真空抽吸及/或惰性气体喷射以移除聚焦激光图案化产生的剥离材料；(2)空间上隔开各层边缘及在沉积上层前图案化下层；及(3)激光图案化步骤由直接聚焦在沉积层上方的激光束、导引穿过透明基板的激光束或二者组合来进行。
Description
技术领域
本发明大体上涉及电色装置，且特别是涉及制造电色装置的方法，包括激光图案化/切割。
背景技术
电色装置是响应施加至装置的电压而改变光(和热)传输性质的装置。电色装置可制作成电性切换透明状态与半透明状态(其中穿透光为彩色)。另外，一些过渡金属氢化物电色装置可制作成切换透明与反射状态。电色装置可应用到许多产品，包括建筑窗、后视镜和用于博物馆展示箱的防护玻璃。当其应用到建筑窗时，电色装置的保证寿命需至少十年，最好为三十年或以上。然而，电色装置接触大气的氧和水会降低装置性能及缩短装置寿命。因此，电色装置需设计成能承受周围氧化剂的不利作用。
建筑窗一般是中空玻璃单元(IGU)形式。IGU包含两片间隔且四边密封的玻璃板。其内部空间填充如氩气之类的惰性气体，以提供隔热。当电色装置应用到IGU时，电色装置制造在外部玻璃板(朝户外的板)上并置于其内表面。IGU内的惰性环境不会影响电色装置的性能。但若IGU密封失败，则仍需保护电色装置以对抗周围氧化剂。
图1示出现有技术的电色装置100。参见授予Zieba等人的美国专利号5,995,271。装置100包含玻璃基板110、下透明导电氧化物(transparent conductive oxide，TCO)层120、阴极130、固态电解质140、反电极150、上TCO层160、保护涂层170、第一电触点180(至下TCO层120)和第二电触点190(至上TCO层160)。另外，扩散阻障层(未示出)可以设在玻璃基板110与下TCO层120之间，以减少离子从玻璃基板扩散到TCO层，反之亦然。注意图1示出的电色装置的部件层未按比例绘制。例如，典型的玻璃基板厚度达毫米级，且电色装置一般覆盖如建筑玻璃或后视镜完全露出的区域。其它基板材料也可采用，例如诸如聚酰亚胺(polyimide，PI)、聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)和聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate，PEN)之类的塑料。典型的部件层厚度列于下表。
| 部件层 | 厚度(微米) |
| 下TCO层 | 0.1至1.0 |
| 阴极 | 0.1至1.0 |
| 固态电解质 | 0.005至0.5 |
| 反电极 | 0.1至1.0 |
| 上TCO层 | 0.1至1.0 |
| 扩散阻障层 | 0.1至1.0 |
例如，迫使离子(如锂或氢离子)从反电极150经由(非导电)固态电解质140而至阴极130能使从透明状态切换成彩色状态。反电极150为离子存储膜，阴极130具有电色性以提供预定的光传输性质变化。如果反电极150经“阳极赋色”使得层因离子脱嵌而从透明变成彩色时，也可当作电色层。在此情况下，阴极变成反电极。结合二电极的作用也可产生更大对比。电色装置的机能详述在“Granquvist，C.-G.，Nature Materials，v5，n2，Feb.2006，p 89-90”。为使装置正常运作，下TCO层120和阴极130必须与反电极150和上TCO层160电隔离。通过第一和第二电触点180、190电接触外部驱动电路。
可从图1清楚看出，装置100需图案化五个有源装置层120-160。这种图案化可运用常规的基于物理/阴影遮蔽的蚀刻技术来完成。使用传统蚀刻技术和物理屏蔽有许多缺点，尤其是在大规模制造(high volume manufacturing，HVM)方面。例如，使用物理屏蔽会：(1)大幅增加HVM和大面积比例化所需的投资额；(2)增加拥有成本(耗材屏蔽费用、清洁、化学品等)；(3)因需要对准而降低产量；以及(4)因屏蔽易破裂而转变成电色装置的缺陷(如色中心和保护层内的针孔)，导致产率损失。由于保护层含有针孔让氧化剂抵达装置的有源层，因此最终将造成电色装置失效。若IGU密封不当使得大气氧化剂漏进单元，则密封在IGU内的电色装置会发生上述问题。如此保护层内含针孔缺陷的装置的寿命将无法达到预期的数十年之久。在HVM工艺中，使用物理屏蔽(普遍用于传统和当前的电色装置制造技术)将引起更大的复杂度和更高的制造成本。复杂度和成本是因为需要制造极精密屏蔽及使用(自动化)管理系统来对准和再生屏蔽所致。由众所周知用于硅基集成电路产业的光蚀刻工艺可推测这种成本和复杂度。此外，维修屏蔽及由于增加对准步骤而限制产量也会增加成本。随着比例化制造更大面积的基板，工艺适应越发困难，成本也越来越高。再者，物理屏蔽本身的可利用性和性能局限性限制了比例化制造更大的基板。这对需有无数形状和尺寸的建筑窗应用尤其明显。因此，需要有成本高效、弹性且与大规模制造适应的电色装置制造方法。另外，鉴于与基于屏蔽的蚀刻制造步骤相关的产率问题，仍然需要用来图案化电色装置的许多部件层的改进方法。
如图1所示，利用激光切割技术来图案化五个有源装置层120-160。参见授予Hichwa等人的美国专利证书号5,724,175。然而Hichwa等人的激光切割方法由于在激光剥离被切割的沟槽壁上的材料的过程中出现再沉积而污染有源电色层的暴露出的边缘。污染会降低电色装置的性能。另外，在激光剥离过程中产生微粒并且这些微粒沉积在装置表面。涂覆保护涂层时，表面存有微粒会在涂层内形成针孔。保护涂层内的针孔将使装置接触周围氧化剂，以致装置提早失效。因此，需要一种不会降低电色装置性能的激光切割工艺。
总之，需要改进的用于电色装置的图案化方法及需要改善图案化方法与电色装置制造的整合。
发明内容
本发明的概念和方法藉由消除及/或最少化使用传统屏蔽来降低大规模制造电色装置的成本和复杂度，进而提升大规模、高产量的产品制造及将产品制作在大面积基板上的可制造性。这有效降低广泛市场应用性的成本及提高产率。如此还能确保装置有源层受长期保护而免遭环境氧化剂作用。根据本发明的诸方面，达成这些和其它优点的方式是利用激光图案化/切割来满足一些或所有的图案化需求，同时整合激光切割以确保装置有源层受到保护，进而保证长期的可靠性。设想采用激光直接移除(剥离)部件层材料而图案化电色装置的部件层。这样，本发明想到将激光图案化整合于制造方法视为电色装置可制造性、产率、功能性和长期可靠度的适当必要手段。这包括制造电色装置的方法，包含以下步骤：(1)在透明基板上沉积第一透明导电层，随后沉积阴极；(2)图案化阴极；(3)沉积电解质层，随后沉积反电极层，接着沉积第二透明导电层；(4)聚焦激光图案化电解质层、反电极层和透明导电层；(5)沉积扩散阻障层；以及(6)形成分离的电触点至第一透明导电层和第二透明导电层。(2)中的图案化步骤也可为聚焦激光图案化工艺。在此方法中，激光图案化第一透明导电层和阴极层是在沉积及激光图案化其余层之前进行，如此可免除由于透明导电材料和阴极材料再沉积至其余层表面而对其余层造成的任何污染。另外，聚焦激光图案化期间，可移除聚焦激光图案化产生的剥离材料。一般而言，实行如空间上隔开上、下层边缘及/或在沉积上层之前图案化下层等策略，可最少化激光剥离造成剥离材料再沉积和微粒污染。
另一制造电色装置的方法包括以下步骤：(1)顺序地在基板上沉积电色装置的多个层，第一层为第一透明导电层，最后一层为第二透明导电层；(2)聚焦激光图案化各层，其中所述图案化将基板上的各电色装置隔开并暴露出第一透明导电层的表面以供制作电触点；(3)在聚焦激光图案化期间，移除由聚焦激光图案化产生的剥离材料；(4)沉积扩散阻障层；以及(5)形成分离的电触点至第一透明导电层和第二透明导电层。
在上述方法中，在用激光图案化工艺剥离材料时，移除材料的方式可为：在非常接近激光剥离位置处进行真空抽吸，及/或喷射惰性气体遍及装置的激光剥离附近的表面。此外，(冷却的)表面可策略性设置靠近剥离区域的焦点(如设置抽吸或气体喷射的地方)，以(通过沉积)取得剥离材料。另外，激光图案化步骤可藉由从上方直接聚焦在沉积层上的激光束、直接穿过透明基板的激光束、或二者组合来进行。
附图说明
本领域普通技术人员在配合参阅本发明的特定实施例详细说明和所附图式后，将更清楚本发明的上述和其它方面与特征，其中：
图1示出现有技术的电色装置；
图2A-2E示出根据本发明一方面的电色装置制造方法实例；
图3A-3E示出本发明另一方面的电色装置制造方法实例；
图4示出根据本发明一方面的制造电色装置时的激光切割及剥离材料移除过程的步骤实例；
图5示出根据本发明另一方面的制造电色装置时的激光切割及剥离材料移除过程的步骤实例；以及
图6示出根据本发明又一方面的制造电色装置时的激光切割及剥离材料移除过程的步骤实例。
具体实施方式
本发明现将参照附图在下面详细描述，附图举例说明本发明的实施例，以让熟悉本领域的人施行本发明。注意，附图和以下实施例不把本发明的范围限定在单一实施例，其它实施例当可交换部分或全部所描述或所图示的组件。再者，本发明的一些组件可部分或完全采用已知部件，且本发明只描述已知部件与本发明相关的部分，已知部件的其它部分则不再赘述，以免混淆本发明。在说明书中，实施例显示单一部件不应视为限制，本发明反当涵盖其它包括多个相同部件的实施例，反之亦然，除非本文另行指明。再者，申请人不意图将说明书或权利要求书中的术语解释成罕见的或特殊的意义，除非本文另行指明。另外，本发明涵盖在此举例的已知部件的现今和未来的已知等价物。
一般而言，本发明想到另一利用激光图案化/切割技术来图案化电色装置结构中部分或所有层的方法。本发明认为降低及/或最少化物理屏蔽的使用对电色装置的制造过程大有帮助，尤其是在大规模制造和大基板方面。激光图案化的一些主要优势为：对产率有正面影响；以及激光容许弹性图案化装置以符合终端市场定义的形状因子，而不需建立昂贵的新物理屏蔽或原罩。激光图案化技术，也称为激光切割，是在半导体与光电产业所熟知。本发明想到利用激光直接移除材料(剥离材料)，以在电色装置中形成图案化部件层。仔细地最佳化及聚焦激光以使经图案化的特征结构的边缘位置准确，并移除层且不损及下层。由于电色装置制作在透明基板上，因此可引导激光穿过基板或至上方来图案化部件层。以大面积基板为例，为缩短图案化工艺时间，一次能使用多个激光来图案化单一基板上的装置。另外，如在此描述的，激光剥离期间实行所述技术，以最少化材料再沉积到电色装置的有源层的露出边缘。这些方式同样可最少化剥离材料微粒沉积于装置的所有表面。
各种类型的激光都可用来执行激光图案化/切割功能，这取决于用于电色装置的材料光吸收特性和厚度。一些能采用的激光器包括高功率二氧化碳(CO2)激光器(如10微米波长)和铷(Nd)掺杂的固态激光器(如波长为1046nm与523nm的具倍频器的Nd:YAG激光器)。可使用多个激光执行激光图案化/切割功能，包括不同波长的激光。剥离深度(装置堆栈结构的被移除的层数)受控于激光功率、聚焦和扫描速度。另外，使用只影响预定层的特定激光波长可明确剥离特定层。激光图案化/切割一般在惰性气体环境或真空下进行。可在剥离位置附近利用真空/抽吸移除剥离装置层产生的残材和气体。另外，可施加惰性气体喷射遍及装置的激光剥离区域内的表面，以移除电色装置附近的残材和气体。又，(冷却的)表面可策略性设置靠近剥离区域的焦点(如设置抽吸或气体喷射的地方)，以(通过沉积)取得剥离材料。(冷却的)表面可以是金属板或其它材料板的表面、或是任何适合激光剥离环境以(通过沉积)取得剥离材料的对象。一般而言，剥离材料不具挥发性，且在室温下会快速沉积于表面。熟悉激光图案化/切割的技术人员应当熟悉选择图案化/切割应用的激光及装配激光工具来施行图案化/切割工艺。
图2A-2E示出根据本发明第一实施例的制造电色装置200的方法。图2A显示沉积在基板210上的五层堆栈结构。基板可为玻璃或塑料。从基板算起，各层分别为下透明导电氧化物(TCO)层220、阴极230、固态电解质240、反电极250和上TCO层260。熟系此技术的人可以已知的沉积技术依序沉积各层。下、上TCO层220、260一般是溅射沉积的铟锡氧化物(ITO)。阴极230和反电极通常是由过渡金属氧化物组成，且一般是以物理气相沉积法沉积而得。固态电解质240通常是由陶瓷/氧化物固态电解质组成，例如氮氧化锂磷和LixSiO2，其可以各种方法沉积而得，包括物理与化学气相沉积法。图2B显示经第一次图案化步骤处理后的堆栈结构。此图案化步骤包括：(1)通过切穿整个堆栈结构向下到基板，以电气分离各装置；以及(2)暴露出下TCO层220的顶表面供制作电触点至下TCO层220。第一次图案化最好由激光图案化工具施行。图2C显示增设的扩散阻障层270，其覆盖整个堆栈结构，包括露出的垂直边缘。扩散阻障层270应为透明、电绝缘，并能保护露出的表面且对诸如氧气(O2)与水(H2O)的周围氧化剂有低渗透率。图2D显示装置的扩散阻障层270已经被图案化而敞开区域272、274分别供制作电触点至下和上TCO层220、260。第二次图案化最好由激光图案化工具施行。最后，图2E显示制作第一电触点280(至下TCO层220)和第二电触点290(至上TCO层260)后的装置。可选地视情况而定，可在基板210与下TCO层220之间增设扩散阻障层(图2未示出)。此扩散阻障层应为透明、电绝缘，并能保护露出的表面且对诸如钠(Na)、硼(B)与锂(Li)(以Li电色装置为例)的离子具低渗透率。
在根据本发明第二实施例制造电色装置的方法中，进行图2A-2C方法后，接着制作电触点穿过阻障层270，而不需敞开阻障层270的触点区域272、274。制作触点的方法是通过让接触材料扩散通过扩散阻障层而构成导电路径。如此最终也形成与图2E相同的装置，除了第一和第二电触点280、290位于扩散阻障层270上，并经由扩散阻障层270分别电接触下、上TCO层220、260(接触材料扩散到扩散阻障层内而引起局部导电)。此方法可应用到扩散阻障层很薄或相当多孔的情况。此情况可发生在实行另一保护电色装置免遭周围氧化剂作用的方法，从而对扩散阻障层的要求较不严格。例如，电色装置可并入低电气绝缘玻璃单元(low-e insulating glass units，IGUs)，其内部密封有惰性气体。
参照图2A-2E所述的本发明第一实施例的方法包括第一次图案化步骤，其切穿堆栈结构的所有五层。当此图案化步骤实行激光图案化/切割时，剥离材料有再沉积至堆栈结构新露出的边缘上的风险。再沉积会造成各层间短路、或污染有源层。倘若再沉积引发问题，则实行本发明的另一方法，该方法在空间上隔开边缘，并在沉积及图案化上层前，图案化一些下导电层，以最少化再沉积。这些方法包括增加一或多个图案化步骤。该方法的一示例为图3A-3E所示的实施例，其中阴极330的边缘在空间上与其上方堆栈结构的各层边缘隔开，且在沉积及图案化上层前，图案化阴极330和下透明导电氧化物层320。
图3A-3E示出根据本发明第三实施例的制造电色装置300的方法。图3A显示沉积在基板310上的二层堆栈结构。从基板算起，各层分别为下透明导电氧化物(TCO)层320和阴极330。熟悉本领域的技术人员可以已知的沉积技术依序沉积各层。图3B显示经第一次图案化步骤处理后的堆栈结构。此图案化步骤包括：(1)切穿堆栈结构下达基板，以电分离各装置；以及(2)露出下TCO层320的顶表面供制作电触点至下TCO层320。第一次图案化最好由激光图案化工具施行。图3C显示增设的另外三层：固态电解质340、反电极350和上TCO层360。熟悉本领域的技术人员可以已知的沉积技术依序沉积各层。图3D显示经第二次图案化步骤处理后的堆栈结构。此图案化步骤包括：(1)电分离反电极350和上TCO层360；以及(2)再次露出下TCO层320的顶表面供制作电触点至下TCO层320。第二次图案化最好由激光图案化工具施行。图3E显示增设扩散阻障层370覆盖整个堆栈结构，包括露出的垂直边缘。此方法过程现按照图2A-2E的第一方法实施例或上述的第二方法实施例继续进行。
图4示出堆栈结构400，具有基板410与相当于上述层120-170的层420-470。利用聚焦于堆栈结构且穿过基板410的激光401和从上方聚焦于堆栈结构的激光402来激光图案化/切割堆栈结构400。激光401起初聚焦于层470；在层遭剥离后，激光焦点往下移到层460，然后移到层450(如图4所示)而形成孔405。激光剥离堆栈结构400的各层时会产生残材403。管子406(显示截面)连接到真空泵/抽吸产生器，且朝方向404沿着管子406移除残材403。根据所需图案、移除层数和部件层光学性质，激光可扫描以一层一层移除材料(若欲移除各层，则需反复扫描同一图案区域)，或者一次扫描整个图案区域及切穿多层。激光402起初聚焦于层470；在层遭剥离后，激光焦点往下移到层460，然后移到层450(如图4所示)而形成孔405。激光剥离堆栈结构400的各层时会产生残材403。管子407(显示截面)连接到真空帮泵/抽吸产生器，且朝方向404沿着管子407移除残材403。激光束402行经管子407；然而管子可依需求而设在激光束的一侧。激光束402如同上述激光束401那样进行扫描。
图5示出堆栈结构500，具有基板510与相当于上述层120-170的层520-570。利用聚焦于堆栈结构且穿过基板510的激光501和从上方聚焦于堆栈结构的激光502来激光图案化/切割堆栈结构500，二激光同时聚焦于同一公共区域。激光一起剥离材料而形成孔505。激光502聚焦于层550，激光501聚焦于层540。激光剥离堆栈结构500的各层时会产生残材503和蒸发材料的气泡599。管子509、508(显示截面)一起构成环状空间，由此朝方向504移除残材503。环状空间连接到真空泵/抽吸产生器。激光束502行经管子508的中间；然而也可用图4的管子取代管子508、509。激光束501、502如同上述激光束401那样进行扫描。
图6示出堆栈结构600，具有基板610与相当于上述层120-170的层620-670。利用从上方聚焦于堆栈结构的激光602来激光图案化/切割堆栈结构600。激光602起初聚焦于层670；在层遭剥离后，激光焦点往下移到层660，然后移到层650(如图6所示)而形成孔605。激光剥离堆栈结构600的各层时会产生残材603和蒸发材料的气泡699。管子695(显示截面)连接惰性气体供应器(如氩气)并朝方向696将惰性气体喷射至堆栈结构600的表面。惰性气体喷射吹走晶片表面各处的激光剥离位置的残材603。在此显示残材是由抽吸管子606收集。但只用惰性气体喷射也能有效移除激光剥离位置的残材及使其离开堆栈结构600的表面。管子606(显示截面)连接到真空泵/抽吸产生器，且朝方向604沿着管子606移除残材603。激光束602如同上述激光束401那样进行扫描。
虽然本发明已以较佳实施例描述如上，然而其并非用以限定本发明，任何具有本领域普通技术的人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，可作各种的更动与润饰，因此本发明的保护范围当以后附的权利要求书所界定的为准。
Claims (15)
1.一种制造电色装置的方法，该方法包含：
在透明基板上沉积第一透明导电层，随后沉积阴极；
图案化所述第一透明导电层和所述阴极；
沉积电解质层，随后沉积反电极层，接着沉积第二透明导电层；
聚焦激光图案化所述电解质层、所述反电极层和所述第二透明导电层；
沉积扩散阻障层；以及
形成分离的电触点至所述第一透明导电层和所述第二透明导电层。
2.如权利要求1所述的方法，其中所述第一次图案化步骤为聚焦激光图案化过程。
3.一种制造电色装置的方法，所述方法包含：
在透明基板上顺序地沉积电色装置的多个层，第一层是第一透明导电层，且最后一层为第二透明导电层；
聚焦激光图案化所述多个层，所述图案化步骤：(1)隔开所述基板上的多个电色装置及(2)露出所述第一透明导电层以供制作电触点；
沉积扩散阻障层；以及
形成分离的电触点至所述第一透明导电层和所述第二透明导电层。
4.如权利要求3所述的方法，其中所述顺序地沉积电色装置的多个层的步骤包含顺序地沉积所述第一透明导电层、阴极层、电解质层、反电极层和所述第二透明导电层。
5.如权利要求1或3所述的方法，还包含在所述形成分离的电触点之前，图案化所述扩散阻障层。
6.如权利要求5所述的方法，其中所述图案化所述扩散阻障层是聚焦激光图案化过程。
7.如权利要求1、2、3或6所述的方法，还包含在所述聚焦激光图案化期间，移除所述聚焦激光图案化所产生的剥离材料。
8.如权利要求7所述的方法，其中所述移除步骤包含在剥离所述沉积层的焦点附近提供沉积表面，以在其上沉积所述剥离材料。
9.如权利要求7所述的方法，其中所述移除步骤包含在所述聚焦激光图案化期间，真空抽吸所述剥离材料。
10.如权利要求9所述的方法，其中所述真空抽吸步骤是藉由抽吸管进行，所述抽吸管设在剥离所述沉积层的焦点附近。
11.如权利要求7所述的方法，其中所述移除步骤包含引导惰性气体喷射遍及所述装置的剥离所述沉积层的焦点附近的表面。
12.如权利要求1、2、3或6所述的方法，其中所述聚焦激光图案化步骤包含引导激光束穿过所述透明基板。
13.如权利要求1、2、3或6所述的方法，其中所述聚焦激光图案化步骤是由多个聚焦激光束进行，且其中所述多个聚焦激光束包括引导穿过所述透明基板的多个激光束和未引导穿过所述透明基板的多个激光束。
14.如权利要求13所述的方法，其中未引导穿过所述透明基板的多个激光束中的一个入射至与引导穿过所述透明基板的多个激光束中的一个相同的区域上。
15.如权利要求13所述的方法，其中未引导穿过所述透明基板的多个激光束中的一个及引导穿过所述透明基板的所述多个激光束中的一个同时入射至相同的区域上。
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Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105324707A (zh) * | 2013-06-12 | 2016-02-10 | 唯景公司 | 用于改进的电接触的透明导电氧化物(tco)薄膜的预处理 |
| CN105917272A (zh) * | 2014-01-02 | 2016-08-31 | 唯景公司 | 薄膜装置和制造 |
| CN106062621A (zh) * | 2014-03-06 | 2016-10-26 | 赛智电致变色公司 | 使用非水性流体从电致变色膜的颗粒去除 |
| US10606142B2 (en) | 2011-12-12 | 2020-03-31 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| CN111051978A (zh) * | 2017-09-12 | 2020-04-21 | Sage电致变色显示有限公司 | 非发光可变透射设备及其形成方法 |
| US10684524B2 (en) | 2010-11-08 | 2020-06-16 | View, Inc. | Electrochromic window fabrication methods |
| US10739658B2 (en) | 2011-12-12 | 2020-08-11 | View, Inc. | Electrochromic laminates |
| US11048137B2 (en) | 2011-12-12 | 2021-06-29 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| CN113960843A (zh) * | 2014-07-03 | 2022-01-21 | 唯景公司 | 窄预沉积激光去除 |
| US12061402B2 (en) | 2011-12-12 | 2024-08-13 | View, Inc. | Narrow pre-deposition laser deletion |
Families Citing this family (61)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9782949B2 (en) | 2008-05-30 | 2017-10-10 | Corning Incorporated | Glass laminated articles and layered articles |
| US8514476B2 (en) | 2008-06-25 | 2013-08-20 | View, Inc. | Multi-pane dynamic window and method for making same |
| US7710671B1 (en) * | 2008-12-12 | 2010-05-04 | Applied Materials, Inc. | Laminated electrically tintable windows |
| US8300298B2 (en) | 2010-04-30 | 2012-10-30 | Soladigm, Inc. | Electrochromic devices |
| US12043890B2 (en) | 2009-03-31 | 2024-07-23 | View, Inc. | Electrochromic devices |
| US8764950B2 (en) | 2010-04-30 | 2014-07-01 | View, Inc. | Electrochromic devices |
| US10156762B2 (en) | 2009-03-31 | 2018-12-18 | View, Inc. | Counter electrode for electrochromic devices |
| US11187954B2 (en) | 2009-03-31 | 2021-11-30 | View, Inc. | Electrochromic cathode materials |
| US10852613B2 (en) | 2009-03-31 | 2020-12-01 | View, Inc. | Counter electrode material for electrochromic devices |
| US9261751B2 (en) | 2010-04-30 | 2016-02-16 | View, Inc. | Electrochromic devices |
| WO2017165834A1 (en) * | 2016-03-25 | 2017-09-28 | View, Inc. | Counter electrode material for electrochromic devices |
| US8582193B2 (en) | 2010-04-30 | 2013-11-12 | View, Inc. | Electrochromic devices |
| US10591795B2 (en) | 2009-03-31 | 2020-03-17 | View, Inc. | Counter electrode for electrochromic devices |
| US8764951B2 (en) | 2010-04-30 | 2014-07-01 | View, Inc. | Electrochromic devices |
| US10261381B2 (en) | 2009-03-31 | 2019-04-16 | View, Inc. | Fabrication of low defectivity electrochromic devices |
| US9664974B2 (en) | 2009-03-31 | 2017-05-30 | View, Inc. | Fabrication of low defectivity electrochromic devices |
| US11314139B2 (en) | 2009-12-22 | 2022-04-26 | View, Inc. | Self-contained EC IGU |
| US10303035B2 (en) | 2009-12-22 | 2019-05-28 | View, Inc. | Self-contained EC IGU |
| US20110174362A1 (en) * | 2010-01-18 | 2011-07-21 | Applied Materials, Inc. | Manufacture of thin film solar cells with high conversion efficiency |
| US9759975B2 (en) | 2010-04-30 | 2017-09-12 | View, Inc. | Electrochromic devices |
| FR2962818B1 (fr) | 2010-07-13 | 2013-03-08 | Saint Gobain | Dispositif electrochimique a proprietes de transmission optique et/ou energetique electrocommandables. |
| US9958750B2 (en) | 2010-11-08 | 2018-05-01 | View, Inc. | Electrochromic window fabrication methods |
| US20120152727A1 (en) | 2010-11-24 | 2012-06-21 | Applied Materials, Inc. | Alkali Metal Deposition System |
| DE102010062140B4 (de) * | 2010-11-29 | 2014-04-03 | Zentrum für Sonnenenergie- und Wasserstoff-Forschung Baden-Württemberg Gemeinnützige Stiftung | Batterieelektrode und Verfahren zum Herstellen derselben, sowie Batterie |
| CN103261960B (zh) | 2010-12-08 | 2017-08-08 | 唯景公司 | 绝缘玻璃装置的改良隔板 |
| US8643933B2 (en) | 2011-12-14 | 2014-02-04 | View, Inc. | Connectors for smart windows |
| US10180606B2 (en) | 2010-12-08 | 2019-01-15 | View, Inc. | Connectors for smart windows |
| US9442339B2 (en) | 2010-12-08 | 2016-09-13 | View, Inc. | Spacers and connectors for insulated glass units |
| US9454055B2 (en) | 2011-03-16 | 2016-09-27 | View, Inc. | Multipurpose controller for multistate windows |
| US10429712B2 (en) | 2012-04-20 | 2019-10-01 | View, Inc. | Angled bus bar |
| US10175549B2 (en) | 2011-03-16 | 2019-01-08 | View, Inc. | Connectors for smart windows |
| CN103636025B (zh) * | 2011-06-17 | 2016-06-22 | 应用材料公司 | 薄膜电池的无掩模制造 |
| EP2742524A4 (en) * | 2011-08-08 | 2015-07-15 | Applied Materials Inc | THIN-LAYER STRUCTURES AND DEVICES WITH INTEGRATED LIGHT AND HEAT LOCKING LAYERS FOR LASER PATTERN REALIZATION |
| US11865632B2 (en) | 2011-12-12 | 2024-01-09 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| SG11201402879XA (en) | 2011-12-12 | 2014-07-30 | View Inc | Thin-film devices and fabrication |
| US20210394489A1 (en) | 2011-12-12 | 2021-12-23 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| US10295880B2 (en) | 2011-12-12 | 2019-05-21 | View, Inc. | Narrow pre-deposition laser deletion |
| US10802371B2 (en) | 2011-12-12 | 2020-10-13 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| US11719039B2 (en) | 2011-12-14 | 2023-08-08 | View, Inc. | Connectors for smart windows |
| FR2986625B1 (fr) * | 2012-02-06 | 2014-11-21 | Saint Gobain | Dispositif electrocommandable |
| US9341912B2 (en) | 2012-03-13 | 2016-05-17 | View, Inc. | Multi-zone EC windows |
| US11635666B2 (en) | 2012-03-13 | 2023-04-25 | View, Inc | Methods of controlling multi-zone tintable windows |
| DE102012208492A1 (de) * | 2012-05-22 | 2013-11-28 | Continental Teves Ag & Co. Ohg | Dehnmessstreifenanordnung |
| US11255120B2 (en) | 2012-05-25 | 2022-02-22 | View, Inc. | Tester and electrical connectors for insulated glass units |
| EP3842613A1 (en) | 2012-08-23 | 2021-06-30 | View, Inc. | Photonic powered electrochromic devices |
| JP6140970B2 (ja) * | 2012-10-12 | 2017-06-07 | 三菱電機株式会社 | 表示装置およびその製造方法 |
| US20140287299A1 (en) * | 2013-03-25 | 2014-09-25 | Apple Inc. | Heat-Debonding Adhesives |
| CN105324708B (zh) | 2013-06-18 | 2020-02-14 | 唯景公司 | 非矩形形状上的电致变色设备 |
| US20150125624A1 (en) * | 2013-11-01 | 2015-05-07 | Tyco Electronics Corporation | Spray Application Process for Three Dimensional Articles |
| US20150153622A1 (en) * | 2013-12-03 | 2015-06-04 | Sage Electrochromics, Inc. | Methods for producing lower electrical isolation in electrochromic films |
| US11891327B2 (en) | 2014-05-02 | 2024-02-06 | View, Inc. | Fabrication of low defectivity electrochromic devices |
| EP3982195A1 (en) | 2014-09-05 | 2022-04-13 | View, Inc. | Counter electrode for electrochromic devices |
| CN116789175A (zh) | 2014-11-26 | 2023-09-22 | 唯景公司 | 用于电致变色装置的对电极 |
| WO2016100075A1 (en) | 2014-12-15 | 2016-06-23 | View, Inc. | Seals for electrochromic windows |
| EP3464210A4 (en) * | 2016-06-01 | 2020-01-08 | View, Inc. | Sacrificial layer for the manufacture of electrochromic devices |
| US11623433B2 (en) | 2016-06-17 | 2023-04-11 | View, Inc. | Mitigating defects in an electrochromic device under a bus bar |
| WO2018152249A1 (en) | 2017-02-16 | 2018-08-23 | View, Inc. | Solar power dynamic glass for heating and cooling buildings |
| CN110337716A (zh) | 2017-02-27 | 2019-10-15 | Sage电致变色显示有限公司 | 包括基板和透明导电层的电气设备及形成电气设备的方法 |
| CN109031836B (zh) * | 2018-09-06 | 2021-06-29 | 江苏天贯碳纳米材料有限公司 | Ito玻璃导电层分割方法及ito导电玻璃 |
| TWI725667B (zh) | 2018-12-28 | 2021-04-21 | 美商塞奇電致變色公司 | 形成電化學裝置之方法 |
| US11797283B2 (en) * | 2019-08-27 | 2023-10-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Application program development and deployment method and apparatus, and computer-readable medium |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2690597A1 (fr) * | 1992-04-27 | 1993-10-29 | Futaba Denshi Kogyo Kk | Procédé de fabrication d'une plaque de câblage à film conducteur transparent. |
| US5585959A (en) * | 1991-07-18 | 1996-12-17 | Ford Motor Company | Low transparency copper oxide coating for electrochromic device |
| US5724175A (en) * | 1997-01-02 | 1998-03-03 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Electrochromic device manufacturing process |
| WO1999017890A1 (en) * | 1997-10-07 | 1999-04-15 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Protective coating materials for electrochromic devices |
| US20020005977A1 (en) * | 1999-06-30 | 2002-01-17 | Guarr Thomas F. | Electrode design for electrochromic devices |
| CN1492274A (zh) * | 2003-08-26 | 2004-04-28 | 广州市光机电工程研究开发中心 | 全固态塑料电致变色器件及其制备方法 |
| CN1535396A (zh) * | 2001-03-07 | 2004-10-06 | 法国圣戈班玻璃厂 | 具有可变光学和/或能量特性的电可控装置 |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4568409A (en) * | 1983-11-17 | 1986-02-04 | Chronar Corp. | Precision marking of layers |
| AU4922485A (en) * | 1984-11-09 | 1986-05-15 | Canadian Patents And Development Limited | Optical interference authenticating device |
| US4626455A (en) * | 1985-01-14 | 1986-12-02 | Owens-Illinois, Inc. | Coextruded multilayer sheet and sleeve label for bottles |
| US4780177A (en) * | 1988-02-05 | 1988-10-25 | General Electric Company | Excimer laser patterning of a novel resist |
| US5432015A (en) * | 1992-05-08 | 1995-07-11 | Westaim Technologies, Inc. | Electroluminescent laminate with thick film dielectric |
| US5824374A (en) | 1996-07-22 | 1998-10-20 | Optical Coating Laboratory, Inc. | In-situ laser patterning of thin film layers during sequential depositing |
| JP3270814B2 (ja) * | 1996-08-27 | 2002-04-02 | 日本板硝子株式会社 | 回折型光学素子の製造方法 |
| US6094292A (en) * | 1997-10-15 | 2000-07-25 | Trustees Of Tufts College | Electrochromic window with high reflectivity modulation |
| US6515787B1 (en) * | 2000-03-07 | 2003-02-04 | Eclipse Energy Systems, Inc. | Electrochromic layer |
| AU2001264879A1 (en) | 2000-05-24 | 2001-12-03 | Schott Donnelly Llc | Electrochromic devices |
| KR20030064808A (ko) | 2000-12-15 | 2003-08-02 | 엑스에스아이엘 테크놀러지 리미티드 | 반도체 재료의 레이저 기계 가공 |
| US20070107776A1 (en) * | 2002-01-25 | 2007-05-17 | Konarka Technologies, Inc., A Delaware Corporation | Photovoltaic powered multimedia greeting cards and smart cards |
| JP4105537B2 (ja) | 2002-12-24 | 2008-06-25 | 株式会社村上開明堂 | エレクトロクロミック素子 |
| JP4195936B2 (ja) * | 2004-03-17 | 2008-12-17 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 拡散性の反射面を持つ反射型調光素子 |
| US7427570B2 (en) * | 2005-09-01 | 2008-09-23 | Micron Technology, Inc. | Porous organosilicate layers, and vapor deposition systems and methods for preparing same |
| US7608308B2 (en) | 2006-04-17 | 2009-10-27 | Imra America, Inc. | P-type semiconductor zinc oxide films process for preparation thereof, and pulsed laser deposition method using transparent substrates |
| US7265891B1 (en) * | 2006-06-20 | 2007-09-04 | Eclipse Energy Systems | Electrochromic device with self-forming ion transfer layer and lithium-fluoro-nitride electrolyte |
| KR100936121B1 (ko) | 2006-09-06 | 2010-01-11 | 주식회사 엘지화학 | 전기변색층 패턴 형성 방법, 이 방법을 이용한 전기변색소자 제조방법 및 전기변색층 패턴을 구비하는 전기변색소자 |
| US20080241425A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | System and method to reduce redeposition of ablated material |
| JP5136978B2 (ja) * | 2007-06-18 | 2013-02-06 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | バッファ層を有する全固体型反射調光エレクトロクロミック素子及びそれを用いた調光部材 |
| US7679810B2 (en) * | 2008-06-30 | 2010-03-16 | Soladigm, Inc. | Electrical characteristics of electrochromic devices |
-
2008
- 2008-06-06 US US12/134,437 patent/US8168265B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-05-22 ES ES09759022.8T patent/ES2564399T3/es active Active
- 2009-05-22 CN CN2009801210201A patent/CN102057323B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-05-22 EP EP09759022.8A patent/EP2294479B1/en not_active Not-in-force
- 2009-05-22 WO PCT/US2009/045025 patent/WO2009148861A2/en active Application Filing
- 2009-05-27 TW TW098117872A patent/TWI479247B/zh not_active IP Right Cessation
-
2012
- 2012-05-01 US US13/461,750 patent/US8693078B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5585959A (en) * | 1991-07-18 | 1996-12-17 | Ford Motor Company | Low transparency copper oxide coating for electrochromic device |
| FR2690597A1 (fr) * | 1992-04-27 | 1993-10-29 | Futaba Denshi Kogyo Kk | Procédé de fabrication d'une plaque de câblage à film conducteur transparent. |
| US5724175A (en) * | 1997-01-02 | 1998-03-03 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Electrochromic device manufacturing process |
| WO1999017890A1 (en) * | 1997-10-07 | 1999-04-15 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Protective coating materials for electrochromic devices |
| US20020005977A1 (en) * | 1999-06-30 | 2002-01-17 | Guarr Thomas F. | Electrode design for electrochromic devices |
| CN1535396A (zh) * | 2001-03-07 | 2004-10-06 | 法国圣戈班玻璃厂 | 具有可变光学和/或能量特性的电可控装置 |
| CN1492274A (zh) * | 2003-08-26 | 2004-04-28 | 广州市光机电工程研究开发中心 | 全固态塑料电致变色器件及其制备方法 |
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11772366B2 (en) | 2010-11-08 | 2023-10-03 | View, Inc. | Electrochromic window fabrication methods |
| US10684524B2 (en) | 2010-11-08 | 2020-06-16 | View, Inc. | Electrochromic window fabrication methods |
| US10739658B2 (en) | 2011-12-12 | 2020-08-11 | View, Inc. | Electrochromic laminates |
| US11953798B2 (en) | 2011-12-12 | 2024-04-09 | View, Inc. | Electrochromic laminates |
| US10606142B2 (en) | 2011-12-12 | 2020-03-31 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| US12061402B2 (en) | 2011-12-12 | 2024-08-13 | View, Inc. | Narrow pre-deposition laser deletion |
| US11048137B2 (en) | 2011-12-12 | 2021-06-29 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| CN105324707A (zh) * | 2013-06-12 | 2016-02-10 | 唯景公司 | 用于改进的电接触的透明导电氧化物(tco)薄膜的预处理 |
| CN111505881A (zh) * | 2013-06-12 | 2020-08-07 | 唯景公司 | 用于改进的电接触的透明导电氧化物(tco)薄膜的预处理 |
| US10656492B2 (en) | 2013-06-12 | 2020-05-19 | View, Inc. | Pretreatment of transparent conductive oxide (TCO) thin films for improved electrical contact |
| US11513411B2 (en) | 2013-06-12 | 2022-11-29 | View, Inc. | Pretreatment of transparent conductive oxide (TCO) thin films for improved electrical contact |
| US12072599B2 (en) | 2013-06-12 | 2024-08-27 | View, Inc. | Pretreatment of transparent conductive oxide (TCO) thin films for improved electrical contact |
| US11762254B2 (en) | 2013-06-12 | 2023-09-19 | View, Inc. | Pretreatment of transparent conductive oxide (TCO) thin films for improved electrical contact |
| CN105917272A (zh) * | 2014-01-02 | 2016-08-31 | 唯景公司 | 薄膜装置和制造 |
| CN106062621A (zh) * | 2014-03-06 | 2016-10-26 | 赛智电致变色公司 | 使用非水性流体从电致变色膜的颗粒去除 |
| CN113960843A (zh) * | 2014-07-03 | 2022-01-21 | 唯景公司 | 窄预沉积激光去除 |
| CN111051978A (zh) * | 2017-09-12 | 2020-04-21 | Sage电致变色显示有限公司 | 非发光可变透射设备及其形成方法 |
| US11714327B2 (en) | 2017-09-12 | 2023-08-01 | Sage Electrochromics, Inc. | Non-light-emitting variable transmission device and a method of forming the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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