CN102050463A - 一种含介孔的Beta分子筛及其硅化制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种含介孔的Beta分子筛及其硅化制备方法,其中的制备方法包括:焙烧后的H-Beta分子筛在酸溶液中进行脱铝;将脱铝的样品与模板剂-硅源溶液混合,进行晶化;经过滤,干燥,焙烧后得到产品。本发明的产品特别适用于催化烷基化反应或其他大分子反应。
Description
技术领域
本发明涉及一种含介孔的Beta分子筛及其硅化制备方法。
背景技术
Beta分子筛是一种具有三维孔道、十二元环结构的微孔分子筛。Beta分子筛独特的拓扑结构以及良好的热和水热稳定性,使其在烷基化、加氢裂化、临氢异构、加氢精制、烃类裂解等方面表现出优异的催化性能。Beta分子筛独特的手性孔道结构以及良好的疏水性,使其在手性有机分子合成和分离方面表现出重要的应用价值。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种含介孔的Beta分子筛的硅化制备方法以及由该方法所获得的产品。
本发明的方法包括:
(1)焙烧后的H-Beta分子筛在酸溶液中进行脱铝;
(2)将步骤(1)制备的样品与模板剂-硅源溶液混合,进行晶化,混合体系中,SiO2与Al2O3的摩尔比为30~100∶1;
(3)将步骤(2)制备的样品过滤,干燥,焙烧。占
步骤(2)中,硅源中的SiO2占混合体系中SiO2总摩尔量的1~70%。
步骤(1)中,所述的酸可以是无机酸,优选为硫酸、硝酸或盐酸,酸浓度为0.05~0.5mol/L;也可以是有机酸,优选为醋酸、草酸、丙三酸或柠檬酸,酸浓度为0.05~1.0mol/L。
步骤(1)中,分子筛与酸溶液的质量比为1∶5~40。
步骤(1)中,脱铝温度优选为70~100℃,脱铝时间优选为1~5小时。
步骤(2)中的模板剂优选为四乙基氢氧化铵(TEAOH)和/或四乙基溴化铵。
步骤(2)中的硅源优选为无机硅溶胶或四乙氧基硅烷(TEOS)。
步骤(2)的混合体系中,以SiO2的总摩尔量为1计,模板剂的用量为0.05~0.5。
步骤(2)的混合体系中,以SiO2的总摩尔量为1计,H2O的量为4~10。
步骤(2)中,晶化温度优选为120~150℃,晶化时间优选为36~72小时。
步骤(2)中,优选在进行晶化之前,先在25~60℃下搅拌1~5小时。
步骤(2)中,晶化方式可采用转动晶化或静态晶化。
本发明还提供了由上述方法所获得的产品,该产品具有Beta分子筛的XRD特征峰,N2吸附-脱附等温曲线中有滞后环,Si/Al2摩尔比为30~100,外表面富硅。
所述产品中的介孔孔径为3~5nm。
所述外表面富硅是指分子筛骨架中的铝元素不是均匀分布,多数铝集中于分子筛体相中心(核层),分子筛体相外层(壳层)少铝或无铝。
本发明的产品特别适用于催化烷基化反应或其他大分子反应。
与现有技术相比,本发明具有以下特点:
(1)本发明的方法适用于制备硅铝比在30~100范围内的Beta分子筛,过高或过低均不能达到本发明的技术效果。
(2)将Beta分子筛原粉经过或不经过酸洗、已焙分子筛不经酸洗,进行富硅,均不能达到本发明的技术效果。
(3)与酸洗脱铝法制备的介孔Beta分子筛相比,本发明的产品表现出不同的介孔分布,并且结晶度提高,B酸/L酸比值提高,扫描透射电镜-能量色散X射线荧光光谱(STEM-EDS)结果表明本发明的产品呈现外表面富硅的特点。
(4)以1,3,5-三异丙苯(TIPB)裂化探针反应评价富硅分子筛的外表面酸性中心的活性,结果表明本发明产品的外表面酸性有较大变化。
附图说明
图1是实施例1样品的X射线衍射谱图,其中a为Beta原粉,b为H-Beta-DAl-0.05,c为H-Beta-DAl-0.05-Cry。
图2是实施例1样品的N2吸附-脱附等温曲线,其中a为H-Beta-DAl-0.05,b为H-Beta-DAl-0.05-Cry。
图3是实施例1样品的孔分布曲线,其中aH-Beta-DAl-0.05,b为H-Beta-DAl-0.05-Cry。
图4是实施例1样品的能谱,其中a为Beta原粉,bH-Beta-DAl-0.05-Cry。
图5是实施例2样品的X射线衍射谱图,其中a为Beta原粉,b为H-Beta-DAl-0.1,c为H-Beta-DAl-0.1-Cry。
图6是实施例2样品的N2吸附-脱附等温曲线,其中a为H-Beta-DAl-0.1,b为H-Beta-DAl-0.1-Cry。
图7是实施例2样品的的孔分布曲线,其中a H-Beta-DAl-0.1,b为H-Beta-DAl-0.1-Cry。
图8是实施例2样品的能谱,其中a为Beta原粉,bH-Beta-DAl-0.1-Cry。
图9是实施例3样品的X射线衍射谱图,其中a为Beta原粉,b为H-Beta-DAl-0.4,c为H-Beta-DAl-0.4-Cry。
图10是实施例3样品的N2吸附-脱附等温曲线,其中a为H-Beta-DAl-0.4,b为H-Beta-DAl-0.4-Cry。
图11是实施例3样品的孔分布曲线,其中a为H-Beta-DAl-0.4,b为H-Beta-DAl-0.4-Cry。
图12是实施例3样品的能谱,其中a为Beta原粉,bH-Beta-DAl-0.4-Cry。
图13是比较例1样品的X射线衍射谱图,其中a为Beta原粉,b为原粉Beta-Cry。
图14是比较例2样品的X射线衍射谱图,其中a为Beta原粉,b为H-Beta,c为H-Beta-Cry。
图15是比较例3样品的X射线衍射谱图,其中a为Beta原粉,b为原粉Beta-DAl-0.05,c为原粉Beta-DAl-0.05-Cry。
具体实施方式
以下通过实施例进一步说明本发明。实施例中,以1,3,5-三异丙苯(TIPB)裂化探针反应评价分子筛的外表面酸性中心的活性,采用脉冲反应器,温度280℃,原料0.5μLTIPB,0.05g催化剂,产品在色谱Varian3800上进行分析。X射线衍射谱使用日本理学D/MAX-IIIA型X射线衍射仪,Cu-Kα靶。分子筛的孔分布曲线根据BJH模型计算得到。分子筛中铝元素的含量和分布由扫描透射电镜-能量色散X射线荧光光谱(STEM-EDS)测定。
实施例1
称取8克H-Beta分子筛(Si/Al2=29.29,相对结晶度70.7%),放入三口烧瓶中,加入240ml HNO3水溶液,其摩尔浓度为0.05M,在搅拌回流情况下升温至80℃,在80℃条件下,加热搅拌回流并酸洗4小时。停止搅拌,将产品静置10分钟,然后将其过滤、洗涤3次,80℃干燥10h。样品记为H-Beta-DAl-0.05。将该样品加入TEAOH-TEOS的体系中,体系组成为SiO2/Al2O3=32,TEAOH/SiO2=0.15,硅源中的SiO2占SiO2总摩尔量的8.5%,H2O/SiO2=4.2,搅拌2小时,混合均匀,然后将混合体系放入密闭的晶化釜中,120℃晶化36h。将富硅产物过滤、洗涤、干燥和焙烧。分子筛编号为HBeta-DAl-0.05-Cry。
图1可以看出样品b和c均具有Beta分子筛的特征峰。
图2和图3表明,经脱铝和富硅后的样品H-Beta-DAl-0.05-Cry表现出不同的介孔分布。
图4表明,与H-Beta分子筛比较,经富硅后的样品H-Beta-DAl-0.05-Cry表现出外表面富硅的特点。H-Beta和H-Beta-DAL-0.05-Cry分子筛的TIPB转化率分别为93.06%和76.76%。
分子筛的物化表征数据见表1,酸性数据见表2。
从以上物化表征数据可以看出,较脱铝样品H-Beta-DAl-0.05,富硅样品H-Beta-DAl-0.05-Cry的结晶度有较大提高(Δ结晶度=15.3),Si/Al2为31.53(ΔSi/Al2=1.94),N2吸附-脱附等温曲线出现了滞后环,B酸/L酸比值有较大提高。
实施例2
称取8克H-Beta分子筛(Si/Al2=29.29,相对结晶度70.7%),放入三口烧瓶中,加入240ml柠檬酸水溶液,其摩尔浓度为0.1M,在搅拌回流情况下升温至80℃,在80℃条件下,加热搅拌回流并酸洗3小时。停止搅拌,将产品静置10分钟,然后将其过滤、洗涤3次、80℃干燥12h。样品记为H-Beta-DAl-0.1。将该样品加入TEAOH-SiO2的体系中,体系组成为SiO2/Al2O3=52,TEAOH/SiO2=0.15,硅源中的SiO2占SiO2总摩尔量的43.7%,H2O/Si=4.2搅拌2小时,混合均匀,然后将混合体系放入密闭的晶化釜中,140℃晶化48h。将富硅产物过滤、洗涤、干燥和焙烧。分子筛编号为HBeta-DAl-0.1-Cry。
图5表明b和c样品均具有Beta分子筛的特征峰。
图6和图7表明,经脱铝和富硅的样品H-Beta-DAl-0.1-Cry表现出不同的介孔分布。
图8表明,与H-Beta分子筛比较,经富硅后的样品H-Beta-DAl-0.05-Cry表现出外表面富硅的特点。H-Beta和H-Beta-DAL-0.1-Cry分子筛的TIPB转化率分别为93.06%和68.39%。
分子筛的物化表征数据见表1,酸性数据见表2。
从以上物化表征数据可以看出,较脱铝样品H-Beta-DAl-0.1,富硅样品H-Beta-DAl-0.1-Cry的结晶度有所提高(Δ结晶度=13),硅铝比为53.65(ΔSi/Al2=1.52),N2吸附-脱附等温曲线出现了较大的滞后环,B酸/L酸比值有所提高。
实施例3
称取8克H-Beta分子筛(Si/Al2=29.29,相对结晶度70.7%),放入三口烧瓶中,加入240mlHNO3水溶液,其摩尔浓度为0.4M,在搅拌回流情况下升温至80℃,在80℃条件下,加热搅拌回流并酸洗2小时。停止搅拌,将产品静置10分钟,然后将其过滤、洗涤、烘干。样品记为H-Beta-DAl-0.4。将该样品加入四乙基溴化铵TEABr-TEAOH-TEOS的体系中,体系组成为Si/Al2=82,TEABr/SiO2=0.20,TEAOH/SiO2=0.10,硅源中的SiO2占SiO2总摩尔量的64.3%,H2O/Si=4.2,搅拌2小时,混合均匀,然后将混合体系放入密闭的晶化釜中,150℃晶化72h。将富硅产物过滤、洗涤、干燥和焙烧。分子筛编号为HBeta-DAl-0.4-Cry。
图9表明b和c样品均具有Beta分子筛的特征峰。
图10和图11表明,经脱铝和富硅的样品H-Beta-DAl-0.4-Cry表现出不同的介孔分布。
图12表明,与H-Beta分子筛比较,经富硅后的样品H-Beta-DAl-0.05-Cry表现出外表面富硅的特点。H-Beta和H-Beta-DAL-0.4-Cry分子筛的TIPB转化率分别为93.06%和43.56%。
分子筛的物化表征数据见表1,酸性数据见表2。
从以上物化表征数据可以看出,较脱铝样品H-Beta-DAl-0.4,二次晶化样品H-Beta-DAl-0.4-Cry的结晶度略有提高(Δ结晶度=5.1),硅铝比为80.02(ΔSi/Al2=1.23),N2吸附-脱附等温曲线出现了明显的滞后环,B酸/L酸比值提高不大。
比较例1
称取8克原粉Beta分子筛(Si/Al2=29.29,相对结晶度93.83%),加入到TEAOH-TEOS的体系中,体系组成为Si/Al2=31,TEAOH/SiO2=0.15,硅源中的SiO2占SiO2总摩尔量的5.5%,H2O/Si=4.2,搅拌2小时,混合均匀,然后将混合体系放入密闭的晶化釜中,130℃晶化36h。将富硅产物过滤、洗涤、干燥和焙烧。分子筛编号为原粉Beta-Cry。
图13表明a和b样品均具有Beta分子筛的特征峰。
分子筛的物化表征数据见表1,酸性数据见表2。
从以上物化表征数据可以看出,原粉Beta-Cry的结晶度(Δ结晶度=-16.7)下降,硅铝比(ΔSi/Al2=1.5)变化不大,孔分布(等温曲线和微分孔分布曲线未列出)和酸性数据变化不大。H-Beta和Beta-Cry分子筛的TIPB转化率分别为93.06%和88.34%。
比较例2
称取8克H-Beta分子筛(Si/Al2=29.29,相对结晶度70.7%),加入到TEAOH-TEOS的体系中,体系组成为Si/Al2=31,TEAOH/SiO2=0.15,硅源中的SiO2占SiO2总摩尔量的5.5%,H2O/Si=4.2,搅拌2小时,混合均匀,然后将混合体系放入密闭的晶化釜中,140℃晶化48h。将富硅产物过滤、洗涤、干燥和焙烧。分子筛编号为H-Beta-Cry。
图14表明b和c样品均具有Beta分子筛的特征峰。
分子筛的物化表征数据见表1,酸性数据见表2。
从以上物化表征数据可以看出,H-Beta-Cry的结晶度(Δ结晶度=31.3)和硅铝比(ΔSi/Al2=1.76)提高,孔分布(等温曲线和微分孔分布曲线未列出)数据变化不大,酸性数据B/L值降低。H-Beta和H-Beta-Cry分子筛的TIPB转化率分别为93.06%和91.65%。
比较例3
称取8克原粉Beta分子筛(Si/Al2=29.29,相对结晶度93.83%),放入三口烧瓶中,加入240ml HNO3水溶液,其摩尔浓度为0.05M,在搅拌回流情况下升温至80℃,在80℃条件下,加热搅拌回流并酸洗4小时。停止搅拌,将产品静置10分钟,然后将其过滤、洗涤、烘干。样品记为原粉Beta-DAl-0.05。将该样品加入TEAOH-TEOS的体系中,体系组成为Si/Al2=32,TEAOH/SiO2=0.15,硅源中的SiO2占SiO2总摩尔量的5.5%,H2O/Si=4.2,搅拌2小时,混合均匀,然后将混合体系放入密闭的晶化釜中,150℃晶化72h。将富硅产物过滤、洗涤、干燥和焙烧。分子筛编号为原粉Beta-DAl-0.05-Cry。
图15表明b和c样品均具有Beta分子筛的特征峰。
分子筛的物化表征数据见表1,酸性数据见表2。
从以上物化表征数据可以看出,原粉Beta-Cry的结晶度(Δ结晶度=5.1)和硅铝比(ΔSi/Al2=1.50)提高,孔分布(等温曲线和微分孔分布曲线未列出)数据变化不大,弱酸性数据B/L值降低(200℃),中强酸性数据B/L值有所提高(350℃)。H-Beta和Beta-DAL-0.05-Cry分子筛的TIPB转化率分别为93.06%和89.98%。
表1
表2
Claims (15)
1.一种含介孔的Beta分子筛的硅化制备方法,包括:
(1)焙烧后的H-Beta分子筛在酸溶液中进行脱铝;
(2)将步骤(1)制备的样品与模板剂-硅源溶液混合,进行晶化,混合体系中,SiO2与Al2O3的摩尔比为30~100∶1;
(3)将步骤(2)制备的样品过滤,干燥,焙烧。
2.按照权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(2)中,硅源中的SiO2占混合体系中SiO2总摩尔量的1~70%。
3.按照权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(1)中,脱铝温度为70~100℃,脱铝时间为1~5小时。
4.按照权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(1)中,所述酸为硫酸、硝酸或盐酸,酸浓度为0.05~0.5mol/L。
5.按照权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(1)中,所述酸为醋酸、草酸、丙三酸或柠檬酸,酸浓度为0.05~1.0mol/L。
6.按照权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(1)中,分子筛与酸溶液的质量比为1∶5~40。
7.按照权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(2)中的硅源为无机硅溶胶或四乙氧基硅烷。
8.按照权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(2)中的模板剂为四乙基氢氧化铵和/或四乙基溴化铵。
9.按照权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(2)的混合体系中,以SiO2的总摩尔量为1计,模板剂的用量为0.05~0.5。
10.按照权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(2)的混合体系中,以SiO2的总摩尔量为1计,H2O的量为4~10。
11.按照权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(2)中,晶化温度为120~150℃,晶化时间为36~72小时。
12.按照权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(2)中,在进行晶化之前,先在25~60℃下搅拌1~5小时。
13.按照权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(2)中,晶化方式可采用转动晶化或静态晶化。
14.由权利要求1~13中任一方法获得的产品,其特征在于,具有Beta分子筛的XRD特征峰,N2吸附-脱附等温曲线中有滞后环,Si/Al2摩尔比为30~100,外表面富硅。
15.按照权利要求14所述的产品,其特征在于,产品中的介孔孔径为3~5nm。
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