CN102040334A - 显示器设备用玻璃板、显示器设备用平板玻璃及其制造工艺 - Google Patents

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Abstract

一种用于通过浮法工艺制造出最大厚度为1.5mm的显示设备用平板玻璃的方法，其中，平板玻璃所含组分的含量以基于下列氧化物的摩尔百分数表示时为67％～75％的SiO2、0％～4％的Al2O3、7％～15％的Na2O、1％～9％的K2O、6％～14％的MgO以及0％～1.5％的ZrO2，且SiO2和Al2O3的总含量为71％～75％、Na2O和K2O的总含量Na2O+K2O为12％～20％，并且若含有CaO，则CaO的含量少于1％。

Description

显示器设备用玻璃板、显示器设备用平板玻璃及其制造工艺
技术领域
本发明涉及一种用于例如显示器设备，典型地用于诸如移动电话、个人数字助理(PDA)等移动设备或是诸如触摸面板等小型显示器设备的玻璃覆片、玻璃基材的玻璃板，本发明还涉及一种用于制造这种玻璃板的平板玻璃以及用于制造这种平板玻璃、玻璃覆片和显示器设备的方法。
背景技术
近年来，在诸如移动电话和PDA上越来越多地使用玻璃覆片(防护玻璃)来保护显示器和增加美观。
这种便携式数字设备要求重量减轻、厚度变薄。因此，同样也要求用于保护显示器的玻璃覆片很薄。然而，若玻璃覆片的厚度制造地很薄，则其强度会降低，并且若在使用或携带过程中显示器设备掉落，则玻璃覆片本身有时也可能会破碎。因此，便会存在玻璃覆片无法达到保护显示器设备的最初目标的问题。
为了解决上述问题，可以想到提高玻璃覆片的强度，作为此类方法，众人皆知的是在玻璃表面上形成压缩应力层的方法。
作为在玻璃表面上形成压缩应力层的方法，典型的是：空气冷却强化法(物理回火法)，该方法通过空气冷却等方式使加热至接近软化点的玻璃板表面骤冷；以及化学强化法，该方法在比玻璃化转变点低的温度下，通过离子交换，用较大离子半径的碱金属离子(通常是K离子)代替玻璃板表面上的具有较小离子半径的碱金属离子(通常是锂离子、钠离子)。
如上所述，要求玻璃覆片的厚度很薄。若将上述空气冷却强化法应用于薄的玻璃板，则表面与内部间的温差往往无法产生，由此会对形成压缩应力层带来困难，故无法获得所需的高强度性质。因此，一般使用经后一种化学强化法强化的玻璃覆片。
作为此类玻璃覆片，广泛使用经化学强化的纳钙玻璃类玻璃(例如专利文献1)。
还有人提议使用SiO2-Al2O3-Na2O玻璃而不是纳钙玻璃作为玻璃覆片，同时作为这种玻璃的制造工艺，提出了下拉法或溢流下拉法(例如专利文献2)。
专利文献1：JP-A-2007-11210
专利文献2：JP-A-2009-57271
移动设备用玻璃覆片等可能会有起到扬声器等功能的孔，或者是为设计考虑而更希望具有复杂的形状。因此，当对用于玻璃覆片的平板玻璃进行加工以形成用于玻璃覆片的玻璃板时，在很多情况下，用于玻璃覆片的平板玻璃需经过诸如在具有最终形状的玻璃板上钻孔或刻划曲线等复杂的加工。
若在对平板玻璃(所谓未经加工过的平板玻璃)加工时出现碎屑，则也会同时形成潜在破裂。这种在化学强化处理之前的工艺中产生的碎屑从常规上看并不是问题。然而，当对带有在加工过程中与碎屑同时出现的潜在破裂的玻璃板进行化学强化的情况下，若潜在破裂深度在压缩应力层之上，则玻璃板强度的提升可能会不够。而且，若潜在破裂出现在玻璃的内部拉伸应力层，则裂纹会扩大，玻璃会自己破碎。
而且，当在由碎屑形成的玻璃粉末黏附于玻璃板表面的情况下进行化学强化处理时，那个部分就会没有被强化而可能会引起诸如凹陷或翘曲等缺点。也就是说，除了潜在破裂之外，碎屑也可能会引起产品故障，这会导致强度降低。
而且，加工前的基材也越来越大了，以便提高生产率，可能是G4(680×880)尺寸或G5(1100×1300)尺寸。
当对这样大的基材进行加工时，因一侧往往很长，则极有可能会形成较深的潜在破裂。而且，随着基材的增大，基材会变重且很可能凹陷，并且由潜在破裂引起的破损的可能性也倾向于增高。
因此，随着基材尺寸的增加，碎屑的概率也在增加，在基材加工步骤中，玻璃的破损故障可能也会增加。
由于伴随着例如移动设备的轻量化需求，需要降低玻璃覆片的厚度，因而使这种由碎屑引起的问题愈发严重。即，若玻璃覆片的厚度从2mm降至1mm，则强度会降至四分之一，而上述问题也更加严重。
而且，此类玻璃覆片在很多情况下适合用下拉法诸如下拉法或溢流下拉法形成，但这样的方法未必适用于大规模生产。
发明内容
本发明的目的在于解决上述问题。
本发明提供一种用于通过浮法工艺制造出最大厚度为1.5mm的显示设备用平板玻璃的方法(本发明的制造方法)，其中，平板玻璃所含组分的含量以基于下列氧化物的摩尔百分数表示时为67％～75％的SiO2、0％～4％的Al2O3、7％～15％的Na2O、1％～9％的K2O、6％～14％的MgO以及0％～1.5％的ZrO2，且SiO2和Al2O3的总含量为71％～75％、Na2O和K2O的总含量Na2O+K2O为12％～20％，并且若含有CaO，则具有少于1％的CaO的含量。
而且，本发明提供上述用于制造出显示设备用平板玻璃的方法，其中，平板玻璃的SiO2的含量为69％～74％。
而且，本发明提供上述用于制造出显示设备用平板玻璃的方法，其中，平板玻璃的Al2O3的含量至少为0％且少于3％。
而且，本发明提供上述用于制造出显示设备用平板玻璃的方法，其中，平板玻璃的MgO的含量为8％～13％。
而且，本发明提供上述用于制造出显示设备用平板玻璃的方法，其中，平板玻璃的Na2O+K2O的总含量高于13.5％。
而且，本发明提供上述用于制造显示设备用平板玻璃的方法，其中，当平板玻璃包含CaO、SrO、BaO和ZrO2中的至少一种组分时，这四种组分的总含量少于1.5％。
而且，本发明提供上述用于制造出显示设备用平板玻璃的方法，其中，若包含B2O3，则平板玻璃的B2O3的含量少于1％。
而且，本发明提供上述用于制造显示设备用平板玻璃的方法，其中，平板玻璃的粘度为102dPa·s时的温度最高是1650℃。
而且，本发明提供上述用于制造显示设备用平板玻璃的方法，其中，在50～350℃下的平板玻璃的平均线膨胀系数高于86×10-7/℃。
而且，本发明提供一种最大厚度为1.5mm的显示设备用平板玻璃(本发明的平板玻璃)，其中，所含组分的含量以基于下列氧化物的摩尔百分数表示时为67％～75％的SiO2、0％～4％的Al2O3、7％～15％的Na2O、1％～9％的K2O、6％～14％的MgO以及0％～1.5％的ZrO2，且SiO2和Al2O3的总含量为71％～75％、Na2O和K2O的总含量Na2O+K2O为12％～20％，并且若含有CaO，则具有少于1％的CaO的含量。
而且，本发明提供一种显示设备用平板玻璃，其Al2O3的含量至少为0％且少于3％。
而且，本发明提供一种显示设备用平板玻璃，其Na2O+K2O总含量高于13.5％。
而且，本发明提供一种显示设备用平板玻璃，其在50～350℃下的平均线膨胀系数高于86×10-7/℃。
而且，本发明提供一种通过对最大厚度为1mm的玻璃板进行化学强化而得到的显示设备用玻璃板，其中，所含组分的含量以基于下列氧化物的摩尔百分数表示时为67％～75％的SiO2、0％～4％的Al2O3、7％～15％的Na2O、1％～9％的K2O、6％～14％的MgO以及0％～1.5％的ZrO2，且SiO2和Al2O3的总含量为71％～75％、Na2O和K2O的总含量Na2O+K2O为12％～20％，并且若含有CaO，则具有少于1％的CaO的含量。
而且，本发明提供了一种显示设备用玻璃覆片(本发明的玻璃覆片)，其包括用于显示设备的上述玻璃板。
而且，本发明提供了上述玻璃覆片，其中，所述显示设备是移动设备。
而且，本发明提供了上述玻璃覆片，其中，所述显示设备是触摸面板。
而且，本发明提供一种包括显示器和用于保护显示器的玻璃覆片的显示设备，其中，玻璃覆片是本发明的玻璃覆片。
而且，本发明提供一种包括显示器和用于保护显示器的玻璃覆片的移动设备，其中，玻璃覆片是本发明的玻璃覆片。
另外，本发明提供一种包括显示器和用于保护显示器的玻璃覆片的触摸面板，其中，玻璃覆片是本发明的玻璃覆片。
根据本发明，可获得在玻璃加工时不易产生碎屑且能进行化学强化处理的显示设备用薄玻璃板。而且，还可利用浮法工艺来制造这种薄平板玻璃。
而且，可获得不易在化学强化处理之前进行玻璃加工时产生碎屑而导致强度降低且在使用时玻璃自身破坏的可能性降低的用于显示设备的玻璃板和玻璃覆片。
而且，可获得包括这种玻璃覆片的移动设备和触摸面板。
具体实施方式
本发明的显示设备用玻璃板厚度的上限为1mm，在玻璃覆片的情况下，下限通常为0.2mm。若厚度少于0.2mm，即使进行化学强化，从用于实际应用的强度的角度来看可能会产生问题。在玻璃板被用作玻璃基材的情况下，厚度通常至少为0.05mm。
对市售的经化学强化后的纳钙玻璃产品的表面压缩应力进行了测量，测得为555MPa。因此，本发明的显示设备用玻璃板的表面压缩应力S优选至少为550MPa。表面压缩应力S通常最大为800MPa。
而且，为了进行玻璃覆片的制造，玻璃一般经抛光处理，且用于第一步抛光处理的磨粒尺寸通常为100μm。通过使用这种磨粒，认为会形成具有40μm深度的微裂纹(Glass Engineering Handbook(玻璃工程手册)；Masayuki Yamane等著；第一版；朝仓出版社有限公司(Asakura Publishing Co.Ltd.)；1999.07.05；第397页)。
因此，本发明的显示设备用玻璃板的压缩应力层的深度t优选至少40μm。而且，深度t通常最多为70μm。
本发明的显示设备用玻璃板通常可通过对本发明的平板玻璃进行加工获得，例如通过切割、钻孔、抛光等以获得玻璃板并对玻璃板进行化学强化。
化学强化方法并无特别限制，只要在玻璃板表层上的Na2O可在熔融盐中用与K2O进行离子交换即可，，但是，例如可值一提的是将玻璃板浸渍热硝酸钾(KNO3)熔融盐的方法。
在玻璃板上形成具有所需表面压缩应力的化学强化层(表面压缩应力层)的条件会随着玻璃板的厚度的变化而变化，但是，通常将玻璃板在350～550℃下浸渍到KNO3熔融盐中2～20小时。从成本角度看，优选将玻璃板在350～500℃下浸渍2～20小时，更优选浸渍2～10小时。
在进行上述抛光处理的情况下，从生产效率的角度看，优选抛光量较小，通常最多为0.5mm。因此，考虑将本发明的平板玻璃的厚度控制为最多1.5mm、即相当于本发明的显示设备用玻璃板的最大厚度，且通常最多为1.3mm。
本发明的用于制造平板玻璃的方法并无特别限制。例如，通过以下步骤制造平板玻璃：将各种原料适量混合；加热到大约1400～1600℃以使其熔融；接着通过搅拌等使熔融物消泡、均一；利用公知的浮法工艺、下拉法或冲压法将熔融物制成板形状；使板状玻璃退火；以及将板状玻璃按所需尺寸切割。本发明的平板玻璃通常是经本发明的制造方法制造而得的。
经本发明的制造方法制造出的平板玻璃的玻璃产品称作本发明的玻璃，且在下文对这种玻璃的性质和组成进行描述。本发明的玻璃是本发明的平板玻璃的玻璃产品，以及本发明的经上述玻璃板化学强化以形成显示设备用玻璃板的玻璃产品。
由于在本发明的制造方法中采用浮法工艺，因而通常使用熔融槽。
因此，本发明的玻璃的粘度为102dPa·s时的温度T2优选为最高是1650℃。若超过1650℃，则很难将玻璃熔融，产生诸如易于形成碎粒碎石(stone)等缺陷，或是用于熔融玻璃也比较昂贵。因而优选最高1620℃，通常最高1600℃。
而且，在本发明的玻璃的粘度为104dPa·s时的温度T4优选为最高是1190℃。若超过1190℃，则很难形成玻璃。因而通常最高1180℃。
本发明的玻璃的失透温度优选最高是(T4+10℃)。否则，若通过浮法工艺形成玻璃，则会出现失透，且很难形成玻璃。失透温度更优选最高是T4。在此，失透温度意味着当玻璃被保持在该温度下15小时后在失透会发生沉淀时的最高温度。
本发明的玻璃的比重优选最大为2.5。若比重超过2.5，则显示设备的重量减少便会不充分。
在50～350℃下的本发明的玻璃的平均线膨胀系数优选为80×10-7～130×10-7/℃，通常高于86×10-7/℃。
以下，使用含量描述本发明的玻璃的组成，除非另外说明，含量都用摩尔百分数表示。
SiO2是一种用来构成玻璃基体的组分，所以是必须的。而且，SiO2还是在玻璃加工过程中减少碎屑的组分。若SiO2的含量少于67％，则玻璃的稳定性以及耐候性或耐碎性便会降低。通常SiO2的含量至少为69％。若SiO2的含量超过75％，则玻璃的粘度会增大，而且熔融性质会显著降低。通常SiO2的含量最多为74％。
Al2O3虽然不是必要的，但Al2O3是可提高离子交换水平和耐碎性的组分，最高含量可达4％。若Al2O3的含量超过4％，则玻璃的粘度会很高，难以进行均一性熔融。因而Al2O3的含量通常少于3％或少于6质量％。在含有Al2O3的情况下，其含量优选为至少1％。
若SiO2和Al2O3的总含量SiO2+Al2O3超过75％，则在高温下的玻璃的粘度会增加，难以进行熔融。通常SiO2+Al2O3的总含量最多为74％。若SiO2+Al2O3的总含量少于71％，则耐碎性会降低。通常SiO2+Al2O3的总含量至少为72％。
Na2O是用于通过离子交换来形成表面压缩应力层和用于提高玻璃熔融性质的组分，是必要的。若Na2O的含量少于7％，则很难通过离子交换来形成所需的表面压缩应力层。通常Na2O的含量至少为8％。若Na2O含量超过15％，则耐候性会降低。Na2O的含量优选最多为13％。
K2O是用于提高熔融性质和用于在化学强化中提高离子交换率以获得所需表面压缩应力和应力层深的组分，是必要的。若K2O的含量少于1％，则玻璃的熔融性质会降低，或者离子交换率会降低。K2O的含量优选至少为3％，通常至少为4％。若K2O的含量超过9％，则耐候性会降低。K2O的含量优选至多为7％，通常至多为6％。
若Na2O和K2O的总含量Na2O+K2O少于12％，则无法获得所需的离子交换特性。Na2O和K2O的总含量至少为13％，通常高于13.5％或高于15.5质量％。若Na2O+K2O的总含量超过20％，则玻璃的化学耐久性例如耐候性会降低。Na2O和K2O的总含量优选至多为18％，通常至多为17％。
MgO是会降低离子交换率或耐碎性的组分，但MgO是可提高熔融性质的组分，因而是必要的。若MgO的含量少于6％，则粘度会增加，进而降低熔融性质。MgO的含量优选至少为8％，通常至少为10％。若MgO的含量超过14％，则玻璃倾向于失透。MgO的含量优选至多为13％，通常至多为12％。
ZrO2虽不是必要的，但ZrO2的含量最多为1.5％以降低在高温下的粘度或增加表面压缩应力。若ZrO2的含量超过1.5％，则ZrO2可能残留在玻璃中作为碎粒碎石。而且，抗碎性也会降低。在含有ZrO2的情况下，其含量通常至少为0.2％。
本发明的玻璃主要含有上述组分，但在不损害本发明目的的范围内，还可以包含其他组分。若含有这些组分，则这些组分的总含量优选至多为5％，通常至多为3％。以下，对上述其他组分进行说明。
在某些情况下，最多可含例如2％的ZnO以提高在高温下玻璃的熔融性质，但ZnO的含量优选最多为1％。在通过浮法工艺制造玻璃的情况下，ZnO的含量优选最多为0.5％。若ZnO的含量超过0.5％，则ZnO会在通过浮法工艺制造玻璃时发生还原，并且会导致产品缺陷。因而通常不含ZnO。
在某些情况下，最多可含例如少于1％的B2O3以提高在高温下的熔融性质或玻璃强度。若B2O3的含量至少1％，则难以获得均一的玻璃且难以形成玻璃，或是使耐碎性降低。因而通常不含B2O3。
由于TiO2会改变玻璃中Fe离子(Fe2+、Fe3+)的氧化还原态，由此改变可见光透射率，并且玻璃会被着色，若含有TiO2，则TiO2的含量优选最多1％，且通常不含TiO2。
Li2O是降低应变点因而使应力释放的组分，其结果是，无法获得稳定的表面压缩应力层。因此，玻璃优选不含Li2O。即使含有Li2O，含量也优选少于1％，更优选最多0.05％，特别优选少于0.01％。
而且，在化学强化处理中，有时Li2O会洗脱到硝酸盐例如KNO3中，若用含Li的硝酸盐进行化学强化处理，则表面压缩应力会显著降低。也就是说，本发明人通过采用不含Li的KNO3、含0.005质量％的Li的KNO3、含0.01质量％的Li的KNO3以及含0.04质量％的Li的KNO3在450℃的条件下对后述的实施例20进行6小时的化学强化，其结果是，发现即使采用含0.005质量％的Li的硝酸盐也会使表面压缩应力显著降低。因此，从上述观点来看，优选不含Li2O。
CaO改善在高温下的熔融性质或使玻璃不易失透，并最多可含少于1％的CaO。若CaO的含量达最多的1％，则离子交换率或耐碎性会降低。
可根据情况需要含有SrO，但由于与MgO和CaO相比会对降低离子交换率产生很大影响，因此SrO的含量优选少于1％。
BaO在碱土金属氧化物中对降低离子交换率产生最大的影响，因而优选不含BaO，即使含有，BaO的含量也要少于1％。
在含有SrO或BaO的情况下，SrO和BaO的总含量优选最多1％，更优选少于0.3％。
在含有CaO、SrO、BaO和ZrO2中的至少一种氧化物的情况下，这四个组分的总含量优选少于1.5％。若这四个组分的总含量至少为1.5％，则离子交换率会降低。通常这四个组分的总含量最多为1％。
作为在对玻璃进行熔融时的澄清剂，可适量含有SO3、氯化物或氟化物。然而，为了增加诸如触摸板这样的显示设备的可视性，优选尽可能在原料中减少诸如Fe2O3、NiO或Cr2O3那样在可见光范围内具有吸收性的杂质的污染物，且每种的含量优选最多为0.15％，更优选最多为0.05％，均是用质量百分数表示。
实施例
以下，参照实施例对本发明进行进一步详细的描述。但是应当理解，本发明并不仅限于这些实施例。
在表1～表3中所示的实施例1～12和实施例20～22中，适当地选择常用的玻璃原料诸如氧化物、氢氧化物、碳酸盐和硝酸盐，以具有表中所表示的SiO2～K2O组成(以摩尔百分数表示)，称量以制得400g的玻璃，除此之外，尽管未在上述组成中示出，将以SO3计0.2质量％的硫酸钠加入原料中，并将诸原料混合。接着，将原料混合物放入铂坩锅中，将铂坩锅放入1600℃下的电阻热型电炉，将原料熔融3小时，使其精制、均一化并浇铸到模具中，在预定温度下退火以获得玻璃块料。将所述玻璃块料切割、抛光，最终对两个表面都进行镜面抛光以获得尺寸为40mm×40mm×0.9mm厚的板形玻璃。
在表3所示的实施例23中，使用另行准备的纳钙玻璃，并在表2和表3所示的实施例13～19中，不进行这种玻璃的熔融等等。
实施例1～19是本发明的实施例，而实施例20～23是比较例。
而且，将与表1～表3中用摩尔百分数表示的组成相对应的用质量百分数表示的组成示于表4～表6。
示出了所获得的玻璃的玻璃化转变温度Tg(单位：℃)、粘度成为102dPa·s时的温度T2(单位：℃)、粘度成为104dPa·s时的温度T4(单位：℃)、比重ρ、在50～350℃下的平均线膨胀系数α(单位×10-7/℃)以及失透温度Td(单位：℃)
带*的值是根据由组成或估计值计算而得的值，同样适用于诸如后述的F等其他测量数据。而且，失透温度根据在某一温度(X℃)下保持15小时时玻璃是否失透来测定，若玻璃未在X℃下失透，则将结果用Td＜X表示。
而且，如下所述使用Vickers硬度测试仪对每种玻璃的50％开裂负载F(单位：kg)进行测定。
而且，用#1000的磨粒对上述板形玻璃抛光300μm或更多，再用氧化铈抛光以使表面成为镜面。而且，为了通过在镜抛光表面上加工以消除应变，通过电阻型电炉将玻璃加热至Tg+50℃，并在该温度下保持1小时，接着以0.5℃/分钟的速率降至室温。以能使温度在1小时达到Tg的升温速度升温。
使用经过上述处理后的样品来测定裂纹现象。也就是说，在40～75％的湿度、20～28℃的温度的空气中，当将Vi cker s硬度测定仪的负载逐步从0.025kg、0.05kg、0.1kg、0.2kg、0.3kg、0.5kg、1kg改变到2kg时，在每种负载下用Vickers压头冲压10个点，并计算从冲压位点的四个角落形成的裂纹的数量(最多40个)。从图表中读出形成20个裂纹的负载以作为50％开裂负载F。
F优选至少为0.2kg，更优选至少为0.6kg。
在实施例5、20～23中，通过使用由JOYO工程有限公司制造的“玻璃划线器(GLASS SCRIBER)”来进行划线测试，并且如下所述对碎屑开始负载f(单位：N)进行测定。
以与在进行F测定的实施例相同的方法准备进行划线测试的测定例。
在划线测试中，使用130°金刚石轮状切割器，而负载逐步从8.6N向26.6N改变，在实施例中进行划线，评估碎屑现象。将出现碎屑时的最小负载作为碎屑开始负载f。
在作为本发明的实施例的实施例5的玻璃中，上述F大到0.86kg，在15.8N的高负载下会首次出现碎屑，而在作为比较例的实施例20～23的任意一个的玻璃中，F小到0.03～0.13kg，在小到12.2N的负载下就会出现碎屑。因此，发现可根据50％开裂负载来评估碎屑现象。
如下所述对实施例1～12、20以及23的任意一个的板形玻璃进行化学强化。也就是说，通过在400℃下将这种玻璃浸渍到KNO3中10小时来进行化学强化处理。在每种玻璃中，通过由Orihara Seisakusho公司制造的表面应力计FSM-6000来测定表面压缩应力S(单位：MPa)和压缩应力层的深度t(单位：μm)。将结果示于表中。作为由表中得到的结论，本发明的每个实施例的玻璃具有至少550MPa的表面压缩应力和至少40μm的应力层深度，并且还发现形成所需的压缩应力层。
表1
  Ex.   1   2   3   4   5   6   7   8   9
  SiO2   69.6   71.1   71.0   71.7   71.3   71.3   71.6   70.9   67.9
  Al2O3   3.0   2.0   2.0   2.0   2.0   2.0   2.0   2.0   3.3
  MgO   12.0   11.5   11.0   10.5   10.4   11.8   11.8   10.6   12.8
  CaO   0.3   0.3   0.3   0.3   0.3   0.3   0.3   0.3   0.3
  SrO   0.03   0.03   0.03   0.03   0.03   0.03   0.03   0.03   0.03
  BaO   0.02   0.02   0.02   0.02   0.02   0.02   0.02   0.02   0.02
  ZrO2   0.5   0.5   1.0   0.5   0.5   0.5   0.5   1.5   1.2
  Na2O   8.7   8.6   8.7   9.7   10.8   8.6   8.6   8.7   8.8
  K2O   5.9   5.9   5.9   5.2   4.6   5.4   5.1   5.9   5.7
  Si+Al   72.6   73.1   73.0   73.7   73.3   73.3   73.6   72.9   71.2
  Tg   582   572   572   560   548   576   574   582   603
  T2   1600*   1589   1602   1600*   1569   1601*   1604*   1600*   1580*
  T4   1164*   1154   1164   1153*   1127   1159*   1161*   1166*   1158*
  ρ   2.451   2.443   2.456   2.440   2.440   2.437   2.436   2.469   2.483
  S   595   551   576   569   598   574   578   601   665
  t   48   51   48   46   45   44   43   47   39
  α   94   92   90   94   96   90   87   89   89
  Td   ＜1160   ＜1160   ＜1160   ＜1150   ＜1050   ＜1150   ＜1150   ＜1160   ＜1150
  F   1.3   1.2   0.51   0.46   0.86   0.91   1.2   0.33   0.27
  f   -   -   -   -   15.8   -   -   -   -
表2
Ex. 10 11 12 13 14 15 16 17 18
  SiO2   67.2   68.8   68.7   69.8   71.6   74.8   75.0   75.0   75.0
  Al2O3   3.9   2.7   2.9   2.9   2.0   0   0   0   0
  MgO   13.5   13.0   12.5   11.9   10.5   10.5   8.9   6.8   6.6
  CaO   0.3   0.3   0.8   0.3   0   0   0   0   0
  SrO   0.03   0.03   0.03   0   0   0   0   0   0
  BaO   0.02   0.02   0.02   0   0   0   0   0   0
  ZrO2   0.7   0.7   0.7   0.5   0.5   0   0   0   0
  Na2O   8.7   8.7   8.7   8.7   10.9   9.9   15.0   12.6   15.0
  K2O   5.7   5.7   5.6   5.9   4.6   4.7   1.1   5.6   3.4
  Si+Al   71.1   71.5   71.6   72.7   73.6   74.8   75.0   75.0   75.0
  Tg   603   585   587   582*   547*   556*   540*   500*   500*
  T2   1586   1584   1580*   1599*   1575*   1600*   1559*   1594*   1571*
  T4   1160   1155   1150*   1163*   1131*   1139*   1086*   1122*   1095*
  ρ   2.474   2.464   2.467   2.45*   2.44*   2.41*   2.41*   2.41*   2.41*
  S   660   626   628   595*   614*   600*   748*   550*   661*
  t   40   42   40   49*   46*   53*   45*   64*   58*
  α   90   89   89   94*   96*   87*   91*   99*   99*
  Td   ＜1150   ＜1150   ＜1150   ＜1160*   ＜1050*   -   -   -   -
  F   0.28   0.33   0.38   0.9*   0.86*   1*   1*   1*   1*
  f   -   -   -   -   15.8*   -   -   -   -
表3
  Ex   19   20   21   22   23
  SiO2   69.9   64.5   67.8   67.3   72
  Al2O3   2.5   6.0   2.7   1.7   1.1
  B2O3   0   0   3.0   0.1   0
  MgO   13.6   11.0   10.4   15.0   5.5
  CaO   0   0   0   0   8.6
  SrO   0   0   0   0   0
  BaO   0   0   0   0   0
  ZrO2   0   2.5   0   0   0
  Na2O   7.7   12.0   12.0   9.9   12.6
  K2O   6.3   4.0   4.0   6.0   0.2
  Si+Al   72.4   70.5   70.5   69.0   73.1
  Tg   598*   620   548*   555*   588
  T2   1600*   1575   1508*   1479*   1510
  T4   1163*   1168   1052*   1060*   1052
  ρ   2.43*   2.525   2.427*   2.467*   2.49
  S   550*   946   765*   540*   713
  t   56*   34   56*   58*   10
  α   87*   91   89*   94*   86
  Td   -   ＜1140   -   -   -
  F   0.8*   0.13   0.03   0.13   0.12
  f   -   12.2   12.2   12.2   12.2
表4
  Ex.   1   2   3   4   5   6   7   8   9
  SiO2   68.1   69.9   69.3   68.8   70.4   70.3   70.3   70.7   65.9
  Al2O3   5.0   3.3   3.3   3.3   3.3   3.3   3.3   3.4   5.5
  MgO   7.8   7.6   7.2   6.9   6.9   6.9   7.8   7.8   8.3
  CaO   0.3   0.3   0.3   0.3   0.3   0.3   0.3   0.3   0.3
  SrO   0.1   0.1   0.1   0.1   0.1   0.1   0.1   0.1   0.05
  BaO   0.1   0.1   0.1   0.1   0.1   0.1   0.1   0.1   0.05
  ZrO2   1.0   1.0   2.0   3.0   1.0   1.0   1.0   1.0   2.4
  Na2O   8.7   8.8   8.8   8.7   9.9   11.0   8.8   8.8   8.8
  K2O   9.0   9.1   9.0   8.9   8.0   7.1   8.3   7.9   8.6
表5
  Ex.   10   11   12   13   14   15   16   17   18
  SiO2   65.5   67.5   67.3   68.3   70.5   75.2   76.4   74.0   74.8
  Al2O3   6.4   4.5   4.8   4.8   3.4   0   0   0   0
  MgO   8.8   8.6   8.2   7.8   6.9   7.1   6.1   4.5   4.4
  CaO   0.3   0.3   0.7   0.3   0   0   0   0   0
  SrO   0.1   0.1   0.1   0   0   0   0   0   0
  BaO   0.1   0.1   0.1   0   0   0   0   0   0
  ZrO2   1.4   1.4   1.4   1.0   1.0   0   0   0   0
  Na2O   8.8   .8   8.8   8.8   11.0   10.3   15.8   12.9   15.4
  K2O   8.7   8.8   8.7   9.0   7.1   7.4   1.7   8.7   5.3
表6
  Ex.   19   20   21   22   23
  SiO2   69.2   60.9   66.7   67.1   72.8
  Al2O3   4.2   9.6   4.6   2.8   1.9
  B2O3   0   0   3.4   0.1   0
  MgO   9.0   7.0   6.9   10.1   3.7
  CaO   0   0   0   0   8.1
  SrO   0   0   0   0   0
  BaO   0   0   0   0   0
  ZrO2   0   4.8   0   0   0
  Na2O   7.9   11.7   12.2   10.2   13.1
  K2O   9.7   5.9   6.2   9.4   0.3
本发明还可以应用于显示设备的玻璃覆片及其产品等。
2009年10月20日提交出的日本专利申请2009-241524号的说明书、权利要求书及摘要的全部内容参照结合于本发明。

Claims (17)

1.一种用于通过浮法工艺制造最大厚度为1.5mm的显示设备用平板玻璃的方法，其特征在于，所述平板玻璃所含组分的含量以基于下列氧化物的摩尔百分数表示时为67％～75％的SiO2、0％～4％的Al2O3、7％～15％的Na2O、1％～9％的K2O、6％～14％的MgO以及0％～1.5％的ZrO2，且SiO2和Al2O3的总含量为71％～75％、Na2O和K2O的总含量Na2O+K2O为12％～20％，且若含有CaO，则CaO的含量少于1％。
2.如权利要求1所述的用于制造显示设备用平板玻璃的方法，其特征在于，所述平板玻璃的所述SiO2的含量为69％～74％。
3.如权利要求1或2所述的用于制造显示设备用平板玻璃的方法，其特征在于，所述平板玻璃的所述Al2O3的含量为至少为0％且少于3％。
4.如权利要求1或2或3所述的用于制造显示设备用平板玻璃的方法，其特征在于，所述平板玻璃的所述MgO的含量为8％～13％。
5.如权利要求1至4中任一项所述的用于制造显示设备用平板玻璃的方法，其特征在于，所述平板玻璃的Na2O+K2O总含量高于13.5％。
6.如权利要求1至5中任一项所述的用于制造显示设备用平板玻璃的方法，其特征在于，当所述平板玻璃包含CaO、SrO、BaO和ZrO2中的至少一种组分时，这四种组分的总含量少于1.5％。
7.如权利要求1至6中任一项所述的用于制造显示设备用平板玻璃的方法，其特征在于，若含有B2O3，则所述平板玻璃的B2O3的含量少于1％。
8.如权利要求1至7中任一项所述的用于制造显示设备用平板玻璃的方法，其特征在于，在所述平板玻璃的所述粘度为102dPa·s时的温度最高为1650℃。
9.如权利要求1至8中任一项所述的用于制造显示设备用平板玻璃的方法，其特征在于，在50～350℃下所述平板玻璃的平均线膨胀系数高于86×10-7/℃。
10.一种最大厚度为1.5mm的显示设备用平板玻璃，其特征在于，以基于下列氧化物的摩尔百分数表示时为，包含：67％～75％的SiO2、0％～4％的Al2O3、7％～15％的Na2O、1％～9％的K2O、6％～14％的MgO以及0％～1.5％的ZrO2，且SiO2和Al2O3的总含量为71％～75％、Na2O和K2O的总含量Na2O+K2O为12％～20％，并且若含有CaO，则CaO的含量少于1％的。
11.如权利要求10所述的显示设备用平板玻璃，其特征在于，Al2O3的含量至少为0％且少于3％。
12.如权利要求10或11所述的显示设备用平板玻璃，其特征在于，Na2O+K2O的总含量高于13.5％。
13.如权利要求10或11或12所述的显示设备用平板玻璃，其特征在于，在50～350℃下平均线膨胀系数高于86×10-7/℃的。
14.一种通过对最大厚度为1mm的玻璃板进行化学强化而获得的显示设备用玻璃板，其特征在于，以基于下列氧化物的摩尔百分数表示时为，包含：67％～75％的SiO2、0％～4％的Al2O3、7％～15％的Na2O、1％～9％的K2O、6％～14％的MgO以及0％～1.5％的ZrO2，且SiO2和Al2O3的总含量为71％～75％、Na2O和K2O的总含量Na2O+K2O为12％～20％，并且若含有CaO，则CaO的含量少于1％。
15.一种显示设备用玻璃覆片，其特征在于，包括如权利要求14所述的显示设备用玻璃板。
16.如权利要求15所述的玻璃覆片，其特征在于，所述显示设备是移动设备。
17.如权利要求15所述的玻璃覆片，其特征在于，所述显示设备是触摸面板。
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