CN101868113A - 气体喷射系统以及用于运行气体喷射系统的方法 - Google Patents

气体喷射系统以及用于运行气体喷射系统的方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种尤其用于粒子治疗设备的气体喷射系统(2)，其包括将气体导入离子源(4)内的第一管道(8)以及用于两个分开的可导入离子源(4)内的气流的第二和第三管道(10、12)。气流之间非常迅速的转换借助多路转换阀(6)实现。在这里，第二和第三管道(10、12)分别通入多路转换阀(6)的进口(17a)中，以及，第一管道(8)与多路转换阀(6)的出口(17b)连接。多路转换阀(6)可调整为，或将来自第二管道(10)的气流或将来自第三管道(12)的气流经第一管道(8)导入离子源(4)内。

Description

气体喷射系统以及用于运行气体喷射系统的方法
技术领域
本发明涉及一种尤其用于粒子治疗设备的气体喷射系统，以及用于运行这种气体喷射系统的方法。
背景技术
尤其癌症的粒子治疗时，例如由质子或重离子，例如碳离子，产生粒子束。粒子束在加速器中产生，被导向治疗室并经过出口窗进入治疗室。按一种特殊的设计，来自加速器的粒子束可以交替地导向不同的治疗室。在治疗室内要治疗的病人例如定位在病人卧台上以及必要时使之固定不动。
为产生粒子束，加速器含有离子源，例如电子回旋共振离子源(EZR-离子源)。在离子源内产生有规定能量分布的自由离子定向运动。在这里，正电荷离子，如质子或碳离子，理想地用于放射某些特定的肿瘤。其原因在于，它们借助加速器可以具有高的能量，而它们又重新将其能量非常精确地释放到身体组织中。在离子源中产生的粒子在同步加速器环内以超过50MeV/u的能量在一个圆形轨道上循环。因此为治疗提供一种有事先准确规定的能量、聚焦和强度的脉冲式粒子束。
为了产生微粒，在离子源内导入一种应已电离的气体。对于规定的粒子束，要求导入的气体有高度精确和保持恒定的气体流量。为了能在离子源内交替导入取决于治疗而定的不同气体，例如二氧化碳或氢气，为气流设置导入离子源内的独立管道。例如在变换用于产生新粒子束的气流时，首先关闭当前工作气体的气体管道，冲洗系统，以及只有在这种情况下才向离子源内导入另一种气流。
然而形成期望的高度精确的气体流量既困难又费时。流量取决于所选用的气体种类，以及通常在1sccm(每分钟标准立方厘米)以下，对于二氧化碳在溅射离子源中例如约0.002sccm。以及在EZR离子源中例如约0.3sccm。
为了调整在气体管道中的压力并因而调整气体流量，如今使用温度控制的针形阀，借助它们难以精确调整期望的小流量。因为直接测量流量不可能有期望的精度，所以通过测量产生的粒子束和按试-错原理逐渐调整针形阀实施流量的调整。此外，这种阀对温度非常敏感。因此环境温度的变化导致流量波动。由于这一原因，环境温度必须稳定保持在2℃之内。除此之外，在更换构件，例如装在管道中的阀后，要求重新调整系统参数。
发明内容
本发明要解决的技术问题是，能在导入到离子源内的不同气体之间实现尽可能迅速的转换。
按照本发明上述技术问题通过一种尤其用于粒子治疗设备的气体喷射系统得以解决，其包括一个将气体导入离子源内的第一管道、用于两种分开的气流的第二和第三管道以及一个多路转换阀，其中，所述第二和第三管道分别通入多路转换阀的一个进口中，以及其中，第一管道与多路转换阀的一个出口连接，以及，多路转换阀设计为，根据选择将这一个或另一个进口与所述出口连接，从而或将第二管道或将第三管道与第一管道在流动技术上连接起来。
这种气体喷射系统的一个重要的优点在于，由于所述不仅第二管道而且第三管道与之连接的多路转换阀在这些管道之间实现特别迅速的转换，从而轮流地将来自第二管道或来自第三管道的气流，导入第一管道内或离子源内。这种阀的转换时间小于1秒钟，以及在5秒钟之内使第一管道内的气流稳定。因此在几秒钟内形成一个新的恒定的气流量，以及改变粒子束中的离子种类，在工作气体变更时不必清洗系统。
在这里，转换阀是指这样一种阀，它在不混合两种气流的情况下，将这一个或另一个进口轮流在流动技术上与出口相连接。因此可以说在气流之间进行一种数字式转换。
使用这种多路转换阀的另一个优点是只需要一个管道，通过它将不同的气流轮流导入离子源，从而减小空间需求量。
按一项优选的设计，多路转换阀有第二出口，其中，未在流动技术上与第一管道连通的那个管道与第二出口连接。因此没有导入离子源内的气体也尤其连续地从多路转换阀流出，从而形成稳定的气流。
优选地，在第二出口连接泵、尤其真空泵。这意味着，没有在流动技术上通过多路转换阀与用于将气体供入离子源的第一管道连通的那个管道与泵连接，从而将该管道中的气体连续从系统抽出。在这里真空泵模拟抽成真空的离子源。因此，在粒子治疗设备工作时，即使这些气流之一此时恰好没有使用于产生粒子束，也不改变气流的流动参数。当在第二和第三管道内已形成稳定的气流时，则优选地，即使这些气流之一没有导入离子源内，它们也不会中断。这些气流在它们超过例如30分钟未被使用时被切断，为此在多路转换阀前的每个管道内装入一个附加的On-Off阀。在粒子治疗设备工作时，气流连续地或朝离子源的方向流动，或从气体喷射系统流出。因为在这里涉及非常小的处于每分钟几标准微升范围内的气流量，所以气体损失很小。
恰当地，多路转换阀是二位四通阀。这意味着，这种阀有两个进口和两个出口，所以通过阀可以沿两个不同方向平行流动两种气流。当阀转换时，每个进口总是与另一个出口连接，从而改变气体从阀流出的方向。
为了能将两种以上气流导入离子源内，优选地设有一个附加的多位阀，它在流动技术上与多路转换阀的进口之一连接。所述多位阀连接在多路转换阀的上游。进口侧连接第二和第三管道以及至少另一个管道。因此通过多路转换阀的进口之一可以将多种气流交替导入多路转换阀内。
优选地，第二和第三管道至少部分由毛细管，尤其由用于调整体积流量的毛细管构成。系统内的气体基于在离子源内存在的真空度到达离子源。气体通常由具有几bar，例如2bar压力的储气器提供。因此为了形成期望的流量或流率，需要准确和可靠的恒定减压，例如从约2bar降到接近0bar。为达到这一点，并与此同时形成一种与环境影响的关系最小、波动尽可能小的气体体积流量，而采用毛细管。在考虑到高压侧压力(2bar)和低压侧压力(0bar)的条件下，将毛细管的特征，如长度和内径选择为，使得沿毛细管实现期望的压降。在这里，基于高压侧与真空之间恒定的压差，在离子源内的气流保持不变。
玻璃毛细管通常涉及一种被动工作的节流机构，它对外界影响，例如温度波动不敏感。这些毛细管意味着是管道的最狭窄区，以及有一个＜1mm，尤其＜0.5mm的外径，以及有若干分米或几米的长度。毛细管汇入到具有较大直径的附件或管段中，此时通过毛细管形成的气体流量在下游保持恒定。因为在气体喷射系统中的压降通过毛细管调整，所以在阀更换后不必检验调整，也无需精调，也就是说系统的参数调整是能高度重现的。
恰当地，设有控制器，它根据毛细管的几何参数确定通过第一管道输入离子源的气体流量。
为形成气体混合物，优选地至少将两个进口管通入第二管道内，它们尤其经Y形连接器与第二管道连接。要电离的气体往往需要借助一种气体载体，例如一种惰性气体输入离子源内。为了达到两种气体的良好混合，它们的管道在相同的地点通入第二管道内，这在技术上借助Y形连接器实现。
按一种优选的方案，在进口管中分别设截止阀用于在气流混合前切断气流。按另一种优选的方案，在多路转换阀的进口前布设截止阀。类似地，按第三种优选的方案，在多路转换阀与离子源之间布设截止阀。截止阀在粒子治疗设备加速或减速时打开或关闭，由此调整工作气体的提供。当超过30分钟不需要工作气体时，也关闭相应的截止阀，并在工作气体重新利用前约5分钟重新开启截止阀。在工作发生故障时也逐个或成组关闭截止阀，从而切断在气体喷射系统不同管段内的气流。
按一种优选的方案，设置控制器用于中央控制这些阀。在这里中央控制复杂的气体喷射系统，以及有高度的自动化程度和同步化程度。
此外上述技术问题还可以通过一种用于运行尤其粒子治疗设备气体喷射系统的方法得以解决，其中，气体喷射系统有一个多路转换阀，气体从它出发经第一管道导入离子源内，以及其中，在多路转换阀上以这样的方式连接第二管道和第三管道，即，或将来自第二管道的气流或将来自第三管道的气流经第一管道导入离子源内。
针对气体喷射系统列举的优点和优选的设计，同样可以移植到本发明的方法上。
在所述方法中，与是否将来自第二管道或来自第三管道的气体导入离子源无关，均形成一种持续稳定的气流，为此将气体喷射系统优选地控制为，在工作时只要来自第二管道的气流导入离子源内，来自第三管道的气流便经多路转换阀由泵抽吸，而当转换多路转换阀使来自第三管道的气流经第一管道导入离子源内时，则来自第二管道的气流经多路转换阀由泵抽吸。
附图说明
下面借助附图详细说明本发明的实施例。附图中示意性地示出了：
图1表示粒子治疗设备的气体喷射系统，包括一个处于第一位置的多路转换阀；以及
图2表示图1所示的气体喷射系统，包括处于第二位置的多路转换阀。
在不同的附图中相同的附图标记具有同样的含意。
具体实施方式
图1表示气体喷射系统2，它主要包括离子源4和连接在离子源4上游的多路转换阀6，也简称为阀。从多路转换阀6出发，第一管道8导向离子源4，以及第二和第三管道10、12通入阀6。在阀6上通过第四管道14连接真空泵16。在图示的实施例中这些管道8、10、12用不透钢制成。
阀6是一种二位四通阀，也就是说，阀6有四个接头：用于第二和第三管道10、12的两个进口17a，以及用于第一和第四管道8、14的两个出口17b。通过两个进口17a与两个出口17b的连接的组合，形成阀6的两个位置，对此结合图2将予以说明。
在第二管道10上安装一个Y形连接器18，从而使两个进口管道20、22在相同地点通入第二管道10中。通过进口管20从具有小流量减压器的第一压力罐24提供二氧化碳。采用氦作为气体载体，它贮存在另一个具有小流量减压器的压力罐26中，并通过进口管22到达第二管道10中，在进口管22中的氦在Y形连接器18的区域内与二氧化碳混合。两个进口管20、22各有一个针形阀28a、28b、一个用于测量进口管20、22内压力的压力传感器30a、30b、以及一个用于切断来自压力罐24、26的各自气流的截止阀32、34。低压阀28a、28b可以快速调整进口管20、22内的压力。当管道内压力降低时，在流量为1sccm时压力只能缓慢改变。为了加速调整，通过针形阀28a、28b增大取气量。
通过第三管道12可以从具有小流量减压器的另一个压力罐36将氢气导入离子源4，以造成由质子组成的粒子束。在氢气管道内同样装有一个针形阀28c、一个压力传感器30c和一个截止阀38。优选地，如本实施例所示，在多路转换阀6的上游连接一个多位阀40，需要时通过它将另一些气体，例如氧气，经由第三管道12导入离子源4内。
在多路转换阀6与离子源4之间的第一管道8上同样设有一个截止阀42，通过它可以切断多路转换阀6之后的气流。
此外，气体喷射系统2还有一个控制器44，用于至少中央控制截止阀32、34、35、38和42。截止阀32、34、35、38和42的控制，气动地借助于来自具有小流量减压器的压力罐46的压缩空气进行。空气的导入和排出借助数字式操纵的电动阀48实现。
在气体喷射系统2中，气体基于压力罐24、26、36(在它们中本来存在例如约2bar的压力)之间的压力差，向抽成真空的离子源4或向真空泵16输送。为了实现压力从2bar降到近似0bar，规定将在截止阀32、34与Y形连接器18之间的进口管20、22的区段、在Y形连接器18与截止阀35之间第二管道10的区段、以及在压力罐36与截止阀38之间第三管道12的区段，设计成毛细管C1、C2、C3、C4？，尤其玻璃毛细管。毛细管C1、C2、C3、C4的长度和内径选择为，使得能沿毛细管C1、C2、C3、C4实现期望的压降。在这里毛细管C1、C2、C3、C4的长度在微米或米的范围内变化，例如期望的压降在一个约2m长的距离上进行。毛细管C1、C2、C3、C4的外径优选地小于1mm，例如在0.2至0.3mm的范围内，以及内径约小10-1次方以及例如为0.02至0.06mm。
气体喷射系统2设计为，将具有期望流量的氦气和二氧化碳导入离子源4。为防止二氧化碳反流入氦气进口管22内和反之，在氦气截止阀34与Y形连接器18之间设毛细管C1以及在二氧化碳截止阀32与Y形连接器18之间设毛细管C2。毛细管保证在氦气截止阀34侧与Y形连接器18相比更高的压力，从而规定气流方向。
二氧化碳气流经玻璃毛细管C2导向Y形连接器18，并在那里输入氦气中。该毛细管C2的特性以及二氧化碳的压力决定了二氧化碳在氦气内的浓度。在氦气和二氧化碳的流量通过毛细管C1和C2例如分别调整为0.3sccm后，另一个从Y形连接器18至截止阀35的毛细管C3规定用于向离子源4输送气体。
类似地，在氢气压力罐36与截止阀38之间的压力降通过毛细管C4调整。
应当注意，在气体混合物的截止阀35关闭前，必须关闭二氧化碳和氦气截止阀32和34，由此避免气体基于扩散搀杂到压力罐24、26内。
管道10、12的气流导入二位四通阀6中，以及借助阀6决定，是将氦气-二氧化碳气体混合物还是将氢气输入离子源4。图1表示阀6的第一个位置，此时气体混合物从第二管道10经第一管道8输入离子源4内。平行地将来自第三管道12的氢气在阀6后面由真空泵16抽吸，此时借助真空泵16模拟离子源4内的工作条件。通过由真空泵16连续抽吸氢气，可以在通过阀6的转换将氢气导入离子源4之前形成稳定的流动。当来自第三管道12的备用气体，在本例中为氢气，较长时间未利用时，可以关闭相应的截止阀38，将气体损失减少到最低程度。
图2表示阀6的第二个位置，可以看出，在阀6转换后将氢气从第三管道12输入离子源4，而来自第二管道10的氦气-二氧化碳气体混合物被真空泵16抽吸。
正是由于阀6，可以实现气流特别迅速的转换。在转换后，迄今输入离子源4中的工作气体通过真空泵16从系统2引出，而在此期间形成稳定流动的至今的备用气体被导入第一管道8内，并因而导入离子源4内。这种转换过程通常持续约0.5秒钟，并在不到5秒钟的时间后朝离子源4方向的气流便已经稳定化。
因为管道8、10、12和14处于离子源4约24kv的电位，它们用不锈钢制造。在图中用虚线划出的方框表示此高电位区，该区域通过沿管道10和12电绝缘的玻璃毛细管C3和C4确定。鉴于电绝缘，阀6与真空泵16之间的连接也通过玻璃管50实现。
在气体喷射系统2等待期间或需要更换构件时，关闭直接在离子源4前的截止阀42。此外，在流动故障的情况下，此截止阀可利用于快速截止离子源4中的气流。
气体喷射系统2另一个优点是，在维修后可重现气流的调整。因为气流的流量通过管道8、10、12两端的压力差调整，所以更换系统2中任何一个阀不会导致沿管道8、10、12的压力改变。此外，系统2设计为不形成死容积区。
气体喷射系统2和离子源4是图中没有详细示出的粒子治疗设备的组成部分，它用于产生由正电荷微粒组成的粒子束。为了产生离子，工作气体从压力罐24、26或36借助气体喷射系统2导入离子源4的等离子室内，取决于粒子束的类型，或将来自管道10的氦气-二氧化碳气体混合物，或将来自管道12的氢气，变换地输入离子源4内。产生的离子接着在粒子治疗设备的同步加速器环上被磁体置于最终能量超过50MeV/u(在注入能量为7MeV/u时)的状态，最后将离子对准病人要治疗的身体部位。

Claims (14)

1.一种尤其用于粒子治疗设备的气体喷射系统(2)，其包括将气体导入离子源(4)内的第一管道(8)、用于两种分开的气流的第二和第三管道(10、12)、以及多路转换阀(6)，其中，所述第二和第三管道(10、12)分别通入多路转换阀(6)的进口(17a)中，以及其中所述第一管道(8)与多路转换阀(6)的出口(17b)连接，以及，所述多路转换阀(6)设计为，按选择将这一个或另一个进口(17a)与所述出口(17b)连接，从而或将第二管道(10)或将第三管道(12)与所述第一管道(8)在流动技术上连接起来。
2.按照权利要求1所述的气体喷射系统(2)，其中，所述多路转换阀(6)具有第二出口(17b)，以及未在流动技术上与第一管道(8)连通的那个管道(10、12)与该第二出口(17b)连接。
3.按照权利要求2所述的气体喷射系统(2)，其中，在所述第二出口(17b)上连接泵(16)，尤其真空泵。
4.按照前列诸权利要求之一所述的气体喷射系统(2)，其中，所述多路转换阀(6)是二位四通阀。
5.按照权利要求4所述的气体喷射系统(2)，其中，设有附加的多位阀，它在流动技术上与多路转换阀(6)的进口(17a)之一连接。
6.按照前列诸权利要求之一所述的气体喷射系统(2)，其中，所述第二管道(10)和第三管道(12)至少部分由用于调整气体体积流量的毛细管(C1、C2、C3、C4)构成。
7.按照前列诸权利要求之一所述的气体喷射系统(2)，其中，设有控制器(44)，它根据毛细管(C1、C2、C3、C4)的几何参数确定通过第一管道(8)输入离子源(4)的气体流量。
8.按照前列诸权利要求之一所述的气体喷射系统(2)，其中，为了形成气体混合物至少将两个进口管(20、22)通入第二管道(10)内，所述进口管尤其经Y形连接器(18)与第二管道(10)连接。
9.按照权利要求8所述的气体喷射系统(2)，其中，在所述进口管(20、22)中分别设有截止阀(32、34)。
10.按照前列诸权利要求之一所述的气体喷射系统(2)，其中，在多路转换阀(6)的进口(17a)前设有截止阀(35、38)。
11.按照前列诸权利要求之一所述的气体喷射系统(2)，其中，在多路转换阀(6)与离子源(4)之间设有截止阀(42)。
12.按照权利要求8至10之一所述的气体喷射系统(2)，其中，设置控制器(44)用于中央控制截止阀(32、34、35、38、42)。
13.一种用于运行尤其粒子治疗设备的气体喷射系统(2)的方法，其中，所述气体喷射系统(2)具有多路转换阀(6)，气体从该多路转换阀出发经由第一管道(8)导入离子源(4)内，以及其中，在所述多路转换阀(6)上以这样的方式连接第二管道(10)和第三管道(12)，即，或将来自第二管道(10)的气流或将来自第三管道(12)的气流经由第一管道(8)导入离子源(4)内。
14.按照权利要求12所述的方法，其中，将气体喷射系统(2)控制为，在工作时只要来自第二管道(10)的气流导入离子源(4)内，来自第三管道(12)的气流便通过多路转换阀(6)由泵(16)抽吸，而当转换多路转换阀(6)使来自第三管道(12)的气流经由第一管道(8)导入离子源(4)内时，则来自第二管道(10)的气流经多路转换阀(6)由泵(16)抽吸。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102933019B (zh) * 2011-08-10 2016-01-13 上海原子科兴药业有限公司 一种回旋加速器靶室中模拟靶系统
JP6048829B2 (ja) * 2013-09-09 2016-12-21 日新イオン機器株式会社 イオン源
JP2015182351A (ja) * 2014-03-25 2015-10-22 富士フイルム株式会社 積層フィルムの製造方法
JP6879663B2 (ja) * 2014-12-25 2021-06-02 株式会社日立ハイテクサイエンス 荷電粒子ビーム装置
JP6736452B2 (ja) * 2016-10-31 2020-08-05 株式会社東芝 線形加速装置、中性子ビーム生成装置及び粒子線治療装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0488117A1 (en) * 1990-11-26 1992-06-03 Praxair Technology, Inc. Gas flow distribution system
US5703360A (en) * 1996-08-30 1997-12-30 Hewlett-Packard Company Automated calibrant system for use in a liquid separation/mass spectrometry apparatus
JPH11218297A (ja) * 1997-11-14 1999-08-10 Air Prod And Chem Inc ガス制御装置及びガス供給方法
US20030097232A1 (en) * 1994-08-19 2003-05-22 Triad Infusion Products, Inc. Integrated systems for testing and certifying the physical, functional, and electrical performance of IV pumps
US20070062583A1 (en) * 2005-08-22 2007-03-22 Cox David M Device and method for making discrete volumes of a first fluid in contact with a second fluid, which are immiscible with each other
CN1957180A (zh) * 2004-05-25 2007-05-02 英国氧气集团有限公司 泵唧装置的气体提供系统
US20070271997A1 (en) * 2000-01-25 2007-11-29 State Of Oregon Acting By & Through The State Of Higher Education On Behalf Of Portland State Univ. Method and apparatus for sample analysis

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3100965A (en) * 1959-09-29 1963-08-20 Charles M Blackburn Hydraulic power supply
US4259573A (en) * 1979-11-05 1981-03-31 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method of determining small concentrations of chemical compounds by plasma chromatography
JPS599500U (ja) * 1982-07-09 1984-01-21 株式会社日本製鋼所 荷電粒子加速器のイオン源ガス供給装置
US4601211A (en) * 1984-12-12 1986-07-22 The Perkin-Elmer Corporation Multi-port valve in a gas collection system and method of using same
JPH0212748A (ja) * 1988-06-30 1990-01-17 Yokogawa Electric Corp 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置
JPH10132787A (ja) * 1996-11-01 1998-05-22 Shimadzu Corp 液体クロマトグラフ／質量分析装置
JP2000331641A (ja) * 1999-05-19 2000-11-30 Jeol Ltd 大気圧イオン源
US20020190204A1 (en) * 2001-06-04 2002-12-19 Bruker Daltonics, Inc. Systems and method of a gated electrospray interface with variable flow rate for high throughput mass spectrometric analysis
DE10207835C1 (de) * 2002-02-25 2003-06-12 Karlsruhe Forschzent Kanalfunkenquelle zur Erzeugung eines stabil gebündelten Elektronenstrahls
JP3818227B2 (ja) * 2002-07-04 2006-09-06 株式会社日立製作所 イオン源
DE102004052580B4 (de) * 2004-10-29 2008-09-25 Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale Vorrichtung und Verfahren zum Zuführen von Vorstufengasen zu einer Implantationsanlage
DE102005004325A1 (de) * 2005-01-31 2006-08-10 Bruker Daltonik Gmbh Ionenmobilitätsspektrometer und Verfahren zu seinem Betrieb
EP1915214A4 (en) * 2005-08-11 2017-11-08 GlaxoSmithKline LLC Flow reactor method and apparatus
JP5055011B2 (ja) * 2007-04-23 2012-10-24 株式会社日立ハイテクノロジーズ イオン源
JP2009054445A (ja) * 2007-08-28 2009-03-12 Jeol Ltd 質量分析装置の反応ガス導入装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0488117A1 (en) * 1990-11-26 1992-06-03 Praxair Technology, Inc. Gas flow distribution system
US20030097232A1 (en) * 1994-08-19 2003-05-22 Triad Infusion Products, Inc. Integrated systems for testing and certifying the physical, functional, and electrical performance of IV pumps
US5703360A (en) * 1996-08-30 1997-12-30 Hewlett-Packard Company Automated calibrant system for use in a liquid separation/mass spectrometry apparatus
JPH11218297A (ja) * 1997-11-14 1999-08-10 Air Prod And Chem Inc ガス制御装置及びガス供給方法
US20070271997A1 (en) * 2000-01-25 2007-11-29 State Of Oregon Acting By & Through The State Of Higher Education On Behalf Of Portland State Univ. Method and apparatus for sample analysis
CN1957180A (zh) * 2004-05-25 2007-05-02 英国氧气集团有限公司 泵唧装置的气体提供系统
US20070062583A1 (en) * 2005-08-22 2007-03-22 Cox David M Device and method for making discrete volumes of a first fluid in contact with a second fluid, which are immiscible with each other

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