CN101385125A - 曝光方法及装置、维修方法、以及组件制造方法 - Google Patents

曝光方法及装置、维修方法、以及组件制造方法 Download PDF

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Abstract

经由投影光学系统PL及液体1用曝光用光EL使衬底P曝光的曝光方法，具有：第1步骤，在规定动作中、以光学方式观察与上述液体接触的液体接触部的至少一部分的被检测部的状态，将所得到的第1观察信息进行储存；第2步骤，在上述规定动作后，以光学方式观察上述被检测部的状态以获得第2观察信息；以及第3步骤，比较上述第1观察信息与上述第2观察信息，来判定上述被检测部有无异常。

Description

曝光方法及装置、维修方法、以及组件制造方法
技术领域
[0001]本发明涉及经由液体以曝光用光使衬底曝光的曝光技术、使用此曝光技术的曝光装置的维修技术、以及使用该曝光技术的组件制造技术。
背景技术
[0002]半导体组件及液晶显示组件等微组件(电子组件)，是使用将形成于标线片等掩膜上的图案转印至涂有抗蚀剂(光刻胶)等感光材料的晶片等衬底上、利用所谓的光刻法加以制造。在该光刻工序中，为了将掩膜上的图案经由投影光学系统转印至衬底上，使用步进重复(step & repeat)方式的缩小投影型曝光装置(所谓的步进器(stepper))、及步进扫描(step & scan)方式的缩小投影型曝光装置(所谓的扫描步进器(scanning stepper))等的曝光装置。
[0003]在这样的曝光装置中，为了对应伴随着半导体组件等高集成化导致的图案微细化而年年要求提高的分辨率(解析力)的情况，进行了曝光用光的短波长化及投影光学系统的开口数(NA)的增加(大NA化)。然而，曝光用光的短波长化及大NA化虽能提高投影光学系统的分辨率，但却会导致焦深的窄小化，因此如此下去的话焦深将变得过窄，有曝光动作时聚焦欲度不足之虞。
[0004]因此，作为一种实质上缩短曝光波长、且与在空气中相比使焦深扩大的方法，开发了一种利用液浸法的曝光装置(例如，参照专利文献1)。该液浸法将投影光学系统的下面与衬底表面之间充满水或有机溶媒等液体，在形成液浸区域的状态下进行曝光。据此，利用曝光用光在液体中的曝光用光的波长为空气中的1/n倍(n为液体的折射率，例如为1.2～1.6左右)的特性，来提高解像度且能将焦深扩大至约n倍。
[专利文献1]国际公开第99/49504号小册子
[0005]使用上述液浸法进行曝光处理时，一边从规定的液体供应机构将液体供应至投影光学系统与衬底间的液浸区域、一边进行曝光，并以规定的液体回收机构回收该液浸区域的液体。然而，在使用此液浸法的曝光中，抗蚀剂残渣等的微小异物(微粒)有可能附着于与该液体接触的部分，例如附着于液体供应机构及液体回收机构的液体流路等液体接触的部分。此种附着的异物，有可能会在之后的曝光时再次混入液体中而附着于曝光对象的衬底上，成为转印图案的形状不良等缺陷的原因。
[0006]因此，最好是能例如定期地、判断几乎不会导致曝光工序生产率(曝光装置的运转率)降低、在该液体所接触部分的至少一部分是否有可能成为导致形状不良等原因的异物的附着。
[0007]最近，为了提高分辨率与感度等开发出了各种抗蚀剂。此外，有时还会在抗蚀剂上涂布反射防止用、及/或抗蚀剂保护用的表面涂层等，关于这些表面涂层等，还正在新开发出新的材料。然而，在这些材料中，也有些在干式曝光中不会产生问题，但在液浸法的曝光中却有可能在抗蚀剂图案阶段产生形状误差等。如此，在实际经过曝光工序及显影工序后才发现该材料不适合用于液浸法时，该曝光工序等则成为无效而导致组件制造的效率降低。
[0008]另外，当在抗蚀剂、表面涂层膜等有异常(例如膜厚不均)的情形下进行液浸法的曝光时，易因与液体的接触而产生剥离等，有可能在抗蚀剂图案阶段产生形状误差等。因此，在膜状态异常的情形下仍进行液浸曝光时，该曝光工序及后续的工序都有可能成为无效。
发明内容
[0009]本发明鉴于上述情况，其第1目的在于提供一种能有效地判定以液浸法进行曝光的曝光装置中与接触的部分是否有异常，即判定是否有例如可能造成应转印图案的形状不良等原因的异物附着的曝光技术、维修技术及组件制造技术。本发明的第2目的提供一种无需实际进行曝光即能判定曝光对象的衬底状态是否适合液浸法的曝光的曝光技术及组件制造方法。
[0010]本发明第1技术方案是一种曝光方法，其经由光学构件(2)及液体(1)用曝光用光(EL)使衬底(P)曝光，具有:第1步骤(S1、S2)，在规定动作中、以光学方式观察与液体接触的液体接触部至少一部分的被检测部(68A～68D)的状态，将所得到的第1观察信息进行存储；第2步骤(S4、S5)，在规定动作后，以光学方式观察被检测部的状态以获得第2观察信息；以及第3步骤(S6、S7)，比较第1观察信息与第2观察信息，以判定被检测部有无异常。
[0011]根据本发明的第1技术方案，仅需比较曝光前异物未附着状态下的第1观察信息与曝光后的第2观察信息，即能有效率的判定例如是否有超过规定容许范围的异物附着于该被检查部(疏液部)，进而判定是否有异常。本发明第1技术方案的曝光方法，可进一步具有在第3步骤中发现异常时停止曝光动作递第4步骤。据此，即能降低在之后的液浸法的曝光时异物混入液体中的概率。
[0012]本发明第2技术方案是一种曝光方法，其经由光学构件(2)及液体(1)用曝光用光(EL)使衬底(P)曝光，包含:在规定动作中检测涉及上述液体接触的液体接触部(68A～68D，25)的状态的信息；根据上述检测信息、以及涉及上述规定动作前的上述液体接触部的状态的基准信息，检测涉及上述液体接触部的异常的信息。
[0013]本发明第3技术方案是一种曝光装置，其经由光学构件(2)及液体(1)以曝光用光(EL)使衬底(P)曝光，具备:光学装置(ALG，65)，以光学方式观察接触上述液体的液体接触部的至少一部分的被检测部(68A～68D，25)的状态；记忆装置(58)，储存上述光学装置的观察信息；以及控制装置(57，CONT)，比较由上述光学装置(ALG，65)观察上述被检测部多次的观察信息，以判定上述被检测部有无异常。
[0014]本发明第4技术方案是一种曝光装置，其经由光学构件(2)及液体(1)用曝光用光(EL)使衬底(P)曝光，其具备:光学装置(ALG，65)，在规定动作中检测涉及与上述液体接触的液体接触部(68A～68D，25)的状态的信息；以及控制装置(57)，基于上述检测信息、及涉及上述规定动作前的上述液体接触部状态的基准信息，检测涉及上述液体接触部的异常的信息。
[0015]本发明第5技术方案是一种维修方法，其用于维修经由光学构件(2)及液体(1)使衬底(P)曝光的曝光装置，包含:在规定动作中检测涉及与上述液体接触的液体接触部(68A～68D，25)的状态的信息；以及基于上述检测信息、及涉及上述规定动作前的上述液体接触部状态的基准信息，检测涉及上述液体接触部的异常的信息。
[0016]本发明第6技术方案是一种曝光方法，其用曝光用光(EL)经由液体(1)使衬底(P)曝光，包含:第1步骤(步骤2103的一部分)，仅对上述衬底上的部分区域供应上述液体；第2步骤(步骤2103的一部分)，回收在上述第1步骤所供应的上述液体的至少一部分，并检测上述回收的液体状态；第3步骤(步骤2105)，检查上述衬底的膜的状态；以及第4步骤(步骤2104，2106)，基于上述第2步骤与上述第3步骤中的至少一方的检测结果，判定上述衬底有无异常。[00107]根据本发明的第6技术方案，无需实际进行曝光就能容易地判定曝光对象衬底的状态、及该衬底的膜状态是否适合液浸法的曝光。
[0018]本发明第7技术方案是一种曝光方法，其经由光学构件(2)及液体(1)用曝光用光(EL)使衬底(P)曝光，包含:将上述光学构件与物体之间充满液体以形成液浸空间，且回收上述液浸空间的液体；检测涉及上述回收的液体的信息；以及基于上述检测信息来检测涉及上述液体接触的液体接触部的异常的信息。
[0019]本发明第8技术方案是一种曝光装置(EX’)，其用曝光用光(EL)经由液体(1)使衬底(P)曝光，具备:液体供应系统(212，212)，仅对上述衬底(P)上的一部分区域供应上述液体(1)；第1检测器(226)，回收用上述液体供应系统所供应的上述液体，并检测上述回收液体的状态；第2检测器(ALG)，检测上述衬底的膜的状态；以及控制装置(CONT)，基于上述第1检测器及第2检测器的至少一方的检测结果，判定上述衬底有无异常。
[0020]本发明第9技术方案是一种曝光装置，其经由光学构件(2)及液体(1)用曝光用光(EL)使衬底(P)曝光，具备:液浸机构(10，20)，将上述光学构件与物体之间充满液体以形成液浸空间，且回收上述液浸空间的液体；检测装置(226)，检测涉及上述回收液体的信息；以及控制装置(CONT)，基于上述检测信息来检测涉及与上述液体接触的液体接触部的异常的信息。
[0021]本发明第10技术方案是一种组件制造方法，其包含:使用本发明的曝光方法或曝光装置(EX、EX’)使衬底曝光(204)；使曝光后的衬底显影(204)；以及加工显影后的衬底(205)。
[0022]上述本发明各规定要件后所附括号内的符号，虽是对应表示本发明实施方式的附图中的构件，但各符号仅为易于理解本发明而表示发明的要件，本发明并不受限于这些实施方式的构成。
附图说明
[0023]图1表示本发明曝光装置的实施方式的一个例子的部分剖开的概略构成图。
图2是表示图1中的喷嘴构件30的立体图。
图3是仰视图2中的喷嘴构件的透视图。
图4是表示图1中的对准传感器ALG的构成例的图。
图5是表示图1的衬底载台PST及测量载台MST的俯视图。
图6是表示使图1中的测量载台MST内的测量台MTB移动至投影光学系统PL下方的状态的截面图。
图7是表示图1中的衬底载台PST上的衬底保持具PH与投影光学系统PL及对准传感器ALG的相对移动路径例的俯视图。
图8是表示本发明第1实施方式的曝光方法的一个顺序例的流程图。
图9是表示根据本发明第2实施方式的一个曝光装置例的概略构成图。
图10是表示图9所示的喷嘴构件的立体图。
图11是表示在图10所示的第1构件上所形成的液体的供应口及回收口的配置的俯视图。
图12是沿图10的XII-XII线的截面图。
图13是表示图9所示的衬底载台及其上的衬底的俯视图。
图14是表示衬底上的液浸区域所通过的区域的俯视图。
图15是表示本发明第2实施方式的判定衬底膜是否良好的顺序例的流程图。
图16是表示微组件的工序的一个例子的流程图。
附图标记
[0024]1:液体；2:光学元件；10:液体供应机构；11:液体供应部；13、14:供应口；20:液体回收机构；21:液体回收部；24:回收口；25:网状过滤器；26:洗净液供应部；29A～29D:回收口；30:喷嘴构件；31、32:喷嘴构件的第1构件、第2构件；65:喷嘴观察装置；68A～68G:观察对象部；ALG:对准传感器；AR2:液浸区域；CONT:控制装置；EL:曝光用光；M:掩膜；MTB:测量台；MST:测量载台；P:衬底；PL:投影光学系统。
具体实施方式
[0025]《第1实施方式》
以下，参照附图说明本发明的最佳的第1实施方式的一个例子。
图1是表示由本例的扫描型曝光装置(所谓的扫描步进器)所构成的曝光装置的EX的概略构成图，在图1中，曝光装置EX具备:用于支撑形成转印用图案的掩膜M的掩膜载台RST，支撑曝光对象的衬底P的衬底载台PST，以曝光用光EL照明掩膜载台RST所支撑的掩膜M的照明光学系统IL，将利用曝光用光EL照明的掩膜M的图案像投影至衬底载台PST所支撑的衬底P上的投影区域AR1的投影光学系统PL，形成有对准用基准标记等的测量载台MST，统筹控制曝光装置EX全体的动作的控制装置CONT，用于适用液浸法的液浸系统(液浸机构)，以及衬底P对准用的离轴方式的、例如图像处理方式的对准传感器ALG。本例的液浸系统，包含:对衬底P上及测量载台MST上供应液体1的液体供应机构10、回收供应给衬底P上及测量载台MST上的液体1的液体回收机构20。
[0026]曝光装置EX至少在将掩膜M的图案像转印至衬底P上的期间，通过液体供应机构10供应的液体1在衬底P上的部分区域(含投影光学系统PL的投影区域AR1)、或衬底P上的部分区域及其周围区域(局部的)形成液浸区域AR2。具体言之，曝光装置EX采用在投影光学系统PL的像面侧终端部的光学元件(例如底面大致平坦的透镜或平行平面板等)2、与配置在该像面侧的衬底P表面之间充满液体1的局部液浸方式，以通过掩膜M的曝光用光EL，通过经由投影光学系统PL及投影光学系统PL与衬底P间的液体1使衬底P曝光，将掩膜M的图案转印曝光至衬底P。另外，在本例中，使用形成包含从投影光学系统PL射出的曝光用光EL的光路空间的液浸空间的液浸空间形成构件来进行液浸曝光。
[0027]以下，取平行于投影光学系统PL的光轴AX的方向为Z轴，垂直于Z轴的平面内沿掩膜M与衬底P的同步移动方向(扫描方向)为X轴，沿垂直于该扫描方向的方向(非扫描方向)取Y轴来进行说明。另外，绕X轴、Y轴及Z轴(倾斜)的方向分别设为θX、θY、及θZ方向。本文中的衬底，包含例如在硅晶片等的半导体晶片等的基材上涂有感光材(以下，适当的称抗蚀剂)的衬底，所谓的感光膜包含涂有其它保护膜(面涂膜)等各种膜。掩膜包含在衬底上形成缩小投影的组件图案的标线片，例如在玻璃板等的透明板构件上使用铬等遮光膜形成规定的图案。该透射型掩膜，并不限于以遮光膜形成图案的二元掩膜，也包含例如半调型、或空间频率调制型等的移相型掩膜等。在本实施方式中，衬底P使用例如在直径200mm至300mm左右的圆板状半导体晶片上，例如以未图示的涂布显影装置涂以规定厚度(例如20nm左右)的感光性材料的抗蚀剂，并根据需要在其上涂以反射防止膜或面涂膜。
[0028]首先，照明光学系统IL是用曝光用光EL照明掩膜载台RST所支撑的掩膜M，具有:使从未图示的曝光用光源射出的光束照度均匀化的光学积分器、对来自光学积分器的曝光用光EL进行聚光的聚光透镜、中继透镜系统、将由曝光用光EL产生的掩膜M上的照明区域设定为狭缝状的可变视野光阑等。掩膜M上的规定照明区域通过照明光学系统IL以均匀照度分布的曝光用光EL加以照明。从照明光学系统IL射出的曝光用光EL使用例如从水银灯射出的紫外线带的亮线(i线等)、KrF准分子激光(波长248nm)等的远紫外光(DUV光)、或ArF准分子激光(波长193nm)、F2激光(波长157nm)等的真空紫外光(VUV光)等。在本例中，曝光用光EL使用ArF准分子激光。
[0029]另外，掩膜载台RST用于支撑掩膜M，能在未图示的掩膜座上垂直于投影光学系统PL的光轴AX的平面内、即XY平面内进行2维移动及θZ方向的微小旋转。掩膜载台RST，例如以线性马达等的掩膜载台驱动装置RSTD加以驱动。掩膜载台驱动装置RSTD以控制装置CONT加以控制。在掩膜载台RST上设有反射镜55A，在反射镜55A的对向位置设有激光干涉仪56A。实际上，激光干涉仪56A构成为具有3轴以上的测长轴的激光干涉仪系统。掩膜载台RST(掩膜M)的2维方向位置以及旋转角由激光干涉仪56A实时测量，测量结果输出至控制装置CONT。控制装置CONT根据该测量结果驱动掩膜载台驱动装置RSTD，由此进行掩膜载台RST所支撑的掩膜M的移动及定位。另外，反射镜55A不仅是平面镜也可包含角隅棱镜(复归反射器)，或者，也可取代反射镜55A使用例如对掩膜载台RST的端面(侧面)施以镜面加工所形成反射面。
[0030]投影光学系统PL用于将掩膜M的图案以规定投影倍率β(β例如1/4、1/5等的缩小倍率)投影曝光至衬底P上，由包含设于衬底P侧(投影光学系统PL的像面侧)终端部的光学元件2的多个光学元件所构成，这些等光学元件由镜筒PK加以支撑。另外，投影光学系统PL不限于缩小系统，也可以是等倍系统及放大系统的任一个。此外，投影光学系统PL前端部的光学元件2以能装拆(更换)的方式设于镜筒PK，而液浸区域AR2的液体1则接触于光学元件2。虽未图标，投影光学系统PL经由防振机构装载于以3根支柱支撑的镜筒平台，但也可如国际公开第2006/038952号小册子的所公开的，将投影光学系统PL悬吊支撑于投影光学系统PL上方配置的未图标的主框架构件、或前述掩膜基座等。
[0031]在本例中，使用纯水作为液体1。纯水不仅能使ArF准分子激光穿透，例如从水银灯射出的紫外线带的亮线及KrF准分子激光等的远紫外线(DUV光)也能穿透。光学元件2用萤石(CaF2)形成。由于萤石与水的亲和性高，因此能使光学元件2的液体接触面2a大致完全与液体1接触。另外，光学元件2也可以是与水的亲和性高的石英等。
[0032]另外，衬底P的抗蚀剂，作为一个例子是具有排斥液体1的疏液性的抗蚀剂。如前所述，也可根据需要在抗蚀剂上涂布保护用的面涂层。在本例中，将排斥液体1的性质称为疏液性。当液体1为纯水时，所谓疏液性即指疏水性。另外，在衬底载台PST上部固定有例如以真空吸附方式保持衬底P的衬底保持具PH。此外，衬底载台PST具备:控制衬底保持具PH(衬底P)的Z方向位置(聚焦位置)及θX、θY方向的倾斜角的Z载台52，以及支撑此Z载台52并移动的XY载台53，此XY载台53例如为经由空气轴承装载在底座54上的与XY平面平行的导引面上(与投影光学系统PL的像面实质上平行的面)。衬底载台PST(Z载台52及XY载台53)，被例如线性马达等的衬底载台驱动装置PSTD驱动。衬底载台驱动装置PSTD由控制装置CONT控制。在本例中，将衬底保持具形成于能在Z、θX及θY方向可动的台(table)，将其总称为衬底保持具PH。此外，也可将台与衬底保持具分开构成，例如以真空吸附等方式将衬底保持具固定于台。另外，Z载台52，也可例如以衬底保持具PH(台)、以及将此衬底保持具PH(台)驱动于Z、θX及θY方向的致动器(例如音圈马达等)来构成。
[0033]在衬底载台PST上的衬底保持具PH上设有反射镜55B，在反射镜55B的对向位置设有激光干涉仪56B。反射镜55B实际上如图5所示，由X轴反射镜55BX及Y轴反射镜55BY所构成，激光干涉仪56B则由X轴激光干涉仪56BX及Y轴激光干涉仪56BY所构成。回到图1，衬底载台PST上的衬底保持具PH(衬底P)的2维方向位置及旋转角由激光干涉仪56B实时测量，测量结果输出至控制装置CONT。控制装置CONT根据该测量结果来驱动衬底载台驱动装置PSTD，以此进行衬底载台PST所支撑的衬底P的移动及定位。另外，也可将激光干涉仪56B设计成也能测量衬底载台PST的Z轴方向位置、及θX、θY方向的旋转信息，其详细状况例如已公开在特表2001-510577号公报(对应国际公开第1999/28790号小册子)。此外，也可取代反射镜55B，而使用将衬底载台PST或衬底保持具PH的侧面等予以镜面加工所形成的反射镜。
[0034]另外，在衬底保持具PH上，以围绕衬底P的方式设有可更换的环状、平面的疏液性板件97。作为疏液处理，可以例举使用具有疏液性材料的单层或多层的薄膜涂层处理。作为具有疏液性的材料，例如有四氟乙烯(铁氟龙(注册商标))等的氟系树脂材料、丙烯系树脂材料、硅系树脂材料、或聚乙烯等的合成树脂材料。在板件97的上面与衬底保持具PH所保持的衬底P表面大致同高的平坦面。此处，衬底P的边缘与板件97之间虽有0.1～1mm的间隙，但本例中，由于衬底的抗蚀剂为疏液性且液体1具有表面张力，因此几乎不会产生液体1流入该间隙的情形，即使进行衬底P周缘附近的曝光，也能将液体1保持在板件97与投影光学系统PL之间。另外，也可在衬底保持具PH设置用以将流入至板件97与衬底P间的间隙的液体1排出至外部的吸引装置(未图标)。因此，衬底P的抗蚀剂(或面涂层)不一定必须具有疏液性。此外，本例中虽在衬底保持具PH上设有板件97，但也可对围绕衬底P的衬底保持具PH的上面施以疏液处理而形成为平坦面。
[0035][液体的供应及回收机构的说明]
其次，图1的液体供应机构10将规定液体1供应至衬底P上，其具备:可送出液体1的液体供应部11、以及一端部连接于液体供应部11的供应管12。液体供应部11，具备:收容液体1的储液槽、过滤部、以及加压泵等。另外，液体供应装置11不需具备储液槽、过滤部、加压泵等的全部，至少一部分例如可以用设置曝光装置EX的工厂等的设备来代用。
[0036]液体回收机构20回收供应给衬底P上的液体1，具备:可回收液体1的液体回收部21、一端部连接于液体回收部21的回收管22、连结于回收管22的供应管27、以及连接于供应管27的端部供应规定洗净液的洗净液供应部26。在回收管22及供应管27的途中分别设计阀23及28。液体回收部21例如具备真空泵等的真空系统(吸引装置)、以及收容所回收液体1的储液槽等。洗净液供应部26，具备收容洗净液体的储液槽、以及加压泵等。关闭回收管22侧的阀23、打开供应管27侧的阀28，即能从洗净液供应部26经由回收管27将洗净液供应至回收管22。此外，液体回收机构20不需具备真空系统、储液槽等的全部，至少一部分例如可以用设置曝光装置EX的工厂等的设备来代用。
[0037]作为洗净液，可使用不同于液体1的水与稀释剂的混合液、γ-丁丙酯(γ-Butyrolactone)、或异丙醇(IPA)等的溶剂。不过，也可使用液体1来作为该洗净液。另外，也可将来自洗净液供应部26的供应管27连接于与液体供应部11连通的供应管12。在这种情况下，可与液体1的供应流路(例如供应管12等)分开独立的将洗净液供应至液浸区域(液浸空间)。此外，例如将液体供应部11所供应的液体1用作为洗净液的情况下，洗净液供应部26及供应管27并不一定需要设置。
[0038]在投影光学系统PL终端部的光学元件2附近，配置有作为流路形成构件的喷嘴构件30。喷嘴构件30是在衬底P(衬底载台PST)上方围绕光学元件2周围设置的环状构件，经由未图示的支撑构件被支撑于立柱机构(未图示)。在投影光学系统PL的投影区域AR1位于衬底P上的状态，喷嘴构件30具备配置成与该衬底P表面对向的第1供应口13与第2供应口14(参照图3)。另外，喷嘴构件30在其内部具有供应流路82A、82B(参照图3)。供应流路82A的一端连接于第1供应口13，在该供应流路82A的中间，经由供应流路82B连接于第2供应口14(参照图3)，供应流路82A的另一端部则经由供应管12连接于液体供应部11。另外，喷嘴构件30具备配置成与衬底P表面对向的矩形框状回收口24(参照图3)。
[0039]图2是喷嘴构件30的概略立体图。如图2所示，喷嘴构件30是围绕投影光学系统PL终端部的光学元件2周围设置的环状构件，举一例而言，具备第1构件31、与配置在第1构件31上部的第2构件32。第1、第2构件31及32分别为板状构件，在其中央部具有能配置投影光学系统PL(光学元件2)的贯通孔31A及32A。
[0040]图3是从底面(下面)观察图2的喷嘴构件30中、下层的第1构件31的透视图。在图3中，形成于其上的第2构件32的供应流路82A、82B以及连接于供应流路82A的供应管12，用双点链线表示。另外，喷嘴构件30的第1构件31，具备:形成在投影光学系统PL的光学元件2的+X方向侧、将液体1供应至衬底P上的第1供应口13，以及形成在光学元件2的-X方向侧、将液体1供应至衬底P上的第2供应口14。供应口13及14配置成在X方向(衬底P的扫描方向)夹着投影区域AR1。另外，供应口13及14分别是贯通第1构件31的贯通孔，虽在Y方向为细长的矩形，但也可以是从投影区域AR1的中心往外侧扩张的圆弧状等。
[0041]另外，在第1构件31，形成有:配置成围绕投影光学系统PL的光学元件2(投影区域AR1)的矩形(也可是圆形等)框状的回收口24、以及用于连通回收口24与回收管22的回收流路84。回收口24形成于第1构件31底面的槽状凹部，且相对光学元件2设置在比供应口13、14更外侧。供应口13、14与衬底P间的间隙、以及回收口24的与衬底P间的间隙，例如设置成大致相同。此外，还嵌有覆盖回收口24的网状过滤器25(为形成有多个小孔成网眼状的多孔构件)。充满液体1的液浸区域AR2形成在用回收口24所围矩形(亦可以是圆形等)区域的内侧以便覆盖投影区域AR1，且在扫描曝光时局部地形成在衬底P上的一部分(或包含衬底P上的一部分)。
[0042]图2的喷嘴构件30的第1构件31、第2构件32、以及图3的网状过滤器25，分别是由易与液体1亲和的亲液性材料、例如不锈钢(SUS)或钛等所形成。因此，在图1中，液浸区域AR2中的液体1，在通过设于喷嘴构件30的回收口24的网状过滤器25后，经回收流路84及回收管22圆滑地被回收至液体回收部21。此时，在抗蚀剂残渣等异物中，大于网状过滤器25的网眼的异物将会残留在其表面。
[0043]在图3中，本例的液体的回收口24虽为矩形或圆形框状，但也可如双点连线所示，使用由为了在X方向夹着供应口13、14所设置的2个矩形(或圆弧状等)回收口29A及29B、以及为了在Y方向夹着光学元件2所设置的2个矩形(或圆弧状等)回收口29C及29D所构成的回收口，在各回收口29A～29D配置网状过滤器。另外，回收口29A～29D的数量可为任意。此外，也可例如国际公开第2005/122218号小册子所公开的，使用双重的回收口29A～29D与回收口24来回收液浸区域AR2的液体1。进而，也可在供应口13、14配置用于防止液浸区域AR2内的异物进入喷嘴构件30内部的状过滤器。相反地，例如在回收管22内附着异物的可能性低时，并不一定必须设置网状过滤器。
[0044]另外，上述实施方式所使用的喷嘴构件30并不限于上述构造，也可使用例如欧洲专利申请公开第1420298号说明书、国际公开第2004/055803号小册子、国际公开第2004/057589号小册子、国际公开第2004/057590号小册子、国际公开第2005/029559号小册子(对应美国专利申请公开第2006/0231206号)所记载的流路形成构件等。
[0045]另外，在本例中，液体的供应口13、14与回收口24虽设置在同一喷嘴构件30上，但供应口13、14与回收口24也可设于不同构件。此外，在图1中，也可使供应口13及14分别连通于不同的液体供应部，从供应口13及14以能彼此独立控制控制量的状态将液体1供应至液浸区域AR2。另外，供应口13、14也可不与衬底P对向配置。进而，喷嘴构件30的下面虽设定为比投影光学系统PL的下端面(射出面)更接近像面侧(衬底侧)，但也可例如将喷嘴构件30的下面设定为与投影光学系统PL的下端面相同高度(Z位置)。此外，也可将喷嘴构件30的一部分(下端部)以不遮蔽曝光用光EL的方式潜入到投影光学系统PL(光学元件2)的下侧。
[0046]如上所述，图1的喷嘴构件30分别构成液体供应机构10及液体回收机构20的一部分。即，喷嘴构件30是本例的液浸机构的一部分。另外，设于回收管22及供应管27的阀23及28分别开闭回收管22及供应管27的流路，其动作用控制装置CONT控制。在回收管22的流路开放期间，液体回收部21能通过回收口22从液浸区域AR2吸引回收液体1，在阀28为关闭状态下，用阀23封闭回收管22的流路时，即停止经由回收口24吸引回收液体1。之后，通过打开阀28，即能从洗净液供应部26经供应管27、回收管22及网状过滤器25而通过喷嘴构件30的回收口24流过洗净液。另外，也可将液浸机构的一部分、例如至少将喷嘴构件30悬吊支撑于保持投影光学系统PL的主框架(例如含前述镜筒平台)，或不同于主框架的其它框架构件也可。或者，如前所述当投影光学系统PL以悬吊方式支撑时，可与投影光学系统PL一体地悬吊支撑喷嘴构件30，也可与投影光学系统PL分开独立的将喷嘴构件30设于测量框架，若为后者的话，投影光学系统PL可不以悬吊方式支撑。
[0047]在图1中，液体供应部11及洗净液供应部26的液体供应由控制装置CONT控制。控制装置CONT能分别独立控制液体供应部11及洗净液供应部26对衬底P上每单位时间的液体供应量。从液体供应部11送出的液体1经由供应管12及喷嘴构件30的供应流路82A、82B，从喷嘴构件30(第1构件31)下面与衬底P对向设置的供应口13、14(参照图3)被供应至衬底P上。
[0048]另外，液体回收部21的液体回收动作由控制装置CONT控制。控制装置CONT能控制液体回收部21每单位时间的液体回收量。从喷嘴构件30(第1构件31)下面与衬底P对向设置的回收口24经由网状过滤器25回收的衬底P上的液体1经喷嘴构件30的回收流路84及回收管22被回收至液体回收部21。
[0049][对准传感器ALG的说明]
接着，参照图4说明本例的图像处理方式的对准传感器ALG的构成。对准传感器ALG为离轴方式的FIA(Field Image Alignment)系统，在收容光学系统的密封的框体140外部，具备供应宽波长带(例如400～800nm程度)照明光的光源(例如卤素灯)141。从光源141供应的照明光，经聚光光学系统(未图标)及由光纤构成的光导142而被导至框体140内，从光导142的射出端射出的大致可见光带的照明光ILA，经聚光透镜143后射入反射可见光而使红外光透射的分色镜144。被分色镜144反射的照明光ILA，经照明视野光阑145及透镜系统146后射入棱镜147。
[0050]棱镜147具有使上方射入的光线全部透射、而将下方射入的光线全部加以反射的性质，照明光ILA在透射过棱镜147后，经透镜系统148射入到红外光反射板149。红外光反射板149表面形成有指针标记IM，具有背面反射红外光且使可见光透射的特性、形成有红外光反射膜的光透射性衬底。通过红外光反射板149的照明光ILA，透过物镜150照明基P上所形成的对准标记AM(或基准标记等)。
[0051]来自对准标记AM(或基准标记等)因照明光ILA的照射所产生的反射光(含衍射光，也称为ILA)，透射过物镜150、红外光反射板149、透镜系统148，被棱镜147全反射后，经透镜系统151射入到使可见光透射、红外光反射的分色镜152。透射过分色镜152的反射光ILA，经未图示的聚光透镜射入到XY分歧用的半棱镜154，被半棱镜154反射的光在作为X方向用摄像元件的CCD155上形成标记像，而透射过半棱镜154的光则在作为Y方向用的摄像元件的CCD156上形成标记像。
[0052]另外，该对准传感器ALG具备用于照明指针标记IM的光源、射出例如波长为870nm的照明光的LED(发光二极管)157。从LED157射出的红外线带的照明光ILB，经聚光透镜158、分色镜144、照明视野光阑145、透镜系统146、棱镜147及透镜系统148而照明红外光反射板149。被红外光反射板149的红外光反射面反射的照明光ILB，照明形成在红外光反射板149上面的指针标记IM。照明指针标记IM后的照明光ILB，通过透镜系统148、棱镜147、透镜系统151后，被分色镜152反射而在指针标记用摄像元件的CCD153上形成指针标记IM的像。
[0053]X方向及Y方向用的CCD155及156，分别具备在图1的衬底载台PST上对应X方向及Y方向的方向的细长区域2维配置的多个像素，用于X轴及Y轴对准标记的(或基准标记)的位置检测。指针标记用的CCD153具备对应指针标记IM的像例如于框状区域2维配置的多个像素，用于对准标记或基准标记的位置检测时，作为X方向、Y方向位置基准的指针标记的位置检测。CCD155、156、153的摄像信号被供应至数据处理装置57，在标记检测时，数据处理装置57从被供应的摄像信号，检测出被检测标记相对指针标记IM在X方向、Y方向的偏移量，将检测结果送出至图1的控制装置CONT内的对准控制部。
[0054]如以上所述，对准传感器ALG虽被用于被检测标记的位置检测，在本例中，如后所述，用于判定构成曝光装置EX的构件中、利用液浸法进行曝光时有可能接触液体1的部分的液体接触部的至少一部分(观察对象部)是否有异常，而使用由对准传感器ALG所拍摄的被检测部的像的图像数据。即，也将对准传感器ALG用作以光学方式观察观察对象部的状态的装置。作为此用途的摄像元件，可使用X方向及Y方向用的CCD155及156中的任一个。对准传感器ALG的异常判定时的分辨率(此处，对应CCD155(或156)的1像素的物体在物体面的大小)，可例如是数10μm程度，由于对准时的分辨率远细于此，因此不会有问题。
[0055]此时，为进行异常判定所拍摄的图像数据，储存至连接于数据处理装置57的由磁盘装置等所构成的图像存储器58。此外，由于对准传感器ALG的视野在-Z方向，因此由对准传感器ALG进行异常判定的液体接触部为衬底保持具PH(衬底载台PST)上的板件97上面、板件97与衬底P间的区域、衬底P上面、以及测量载台MST上面(后述板件101上面)。另外，在用于吸引流入板件97与衬底P间的槽部的液体的吸引装置的一部分设置在衬底保持具PH内的情况下，该槽部内部(形成有吸引口的部分)也为液体接触部，会有在该内部易残留异物的情形。因此，可例如图7所示，将板件97与衬底P间的区域中，包含以等角度间隔配置的多处(例如4处)区域的区域作为对准传感器ALG的观察对象部68A、68B、68C、68D。
[0056]另外，在本例中，如图1所示，用于检测掩膜M上的对准标记及测量载台MST上对应的规定基准标记的位置的图像处理方式的对准传感器(掩膜对准系统)90(例如，所谓的标线片对准显微镜)配置在掩膜载台RST的上方。对准传感器90可经由投影光学系统PL观察投影光学系统PL像面上的物体(异物等)像。因此，也可使用掩膜侧的对准传感器90，来作为该液体接触部的异常判定之用。另外，也可在投影光学系统PL的侧面附近设置与对准传感器ALG及90不同的例如分光计(例如对被检测部照射宽频带的照明光，并测量不同波长的反射率分布的装置)等的观察装置，以此分光计检测该液体接触部中观察对象部的变化(对应有无异物的反射率分布的变化等)。
[0057]另外，如本例那样使用准分子激光的紫外脉冲光作为曝光用光EL的情况下，例如抗蚀剂残渣中等的异物中有可能会有因该脉冲光的照射而发出荧光(本说明书中包含磷光)。因此，本例的对准传感器ALG(或对准传感器90)也根据需要用作检测该等异物发出的荧光而产生的图像的荧光显微镜。此时，例如在图4的观察用CCD155或156的入射面，设置插拔自由的仅能使检测对象的荧光透射的荧光过滤器，而使用对准传感器ALG作为荧光显微镜时，也可将该荧光过滤器设于CCD155或156的入射面。此外，在本例中，虽然对准传感器(标记检测系统)ALG、90分别为图像处理方式，但并不限于此，也可是例如检测因相干光束的照射而从标记产生的衍射光等其它方式。另外，检测液体接触部状态的光学装置，并不限于对准传感器ALG、90、分光计、荧光显微镜，也可使用例如检测从液体接触部(异物等)产生的散射光的检测系统等。
[0058][测量载台的说明]
在图1中，测量载台MST，具备:Y方向细长的长方形、在X方向驱动的X载台181，例如经由空气轴承装载于其上的调平台188，以及装载于此调平台188上作为测量单元的测量台MTB。作为一例，测量台MTB经由空气轴承装载于调平台188上，但也可将测量台MTB与调平台188一体化。X载台181例如经由空气轴承装载于底座54上能在X方向移动自如。
[0059]图5是表示图1中的衬底载台PST及测量载台MST的俯视图，在此图5中，为了在Y方向(非扫描方向)夹着底座54，与X轴平行地设有X轴固定件186及187，其内面分别于X方向以规定排列配置有多个永久磁铁，在固定件186及187之间分别经由含线圈的移动件182及183，与Y轴方向大致平行地配置有在X方向移动自如的Y轴滑件180。并沿Y轴滑件180在Y方向移动自如地配置衬底载台PST，由衬底载台PST内的移动件、与Y轴滑件180上的固定件(未图示)构成将衬底载台PST在Y方向驱动的Y轴线性马达，由与移动件182及183对应的固定件186及187构成分别将衬底载台PST驱动于X方向的一对X轴线性马达。这些X轴、Y轴线性马达等相当于图1的衬底载台驱动装置PSTD。
[0060]另外，测量载台MST的X载台181经由在固定件186及187之间分别包含线圈的移动件184及185配置成能在X方向移动自如，由移动件184及185及与对应的固定件186及187构成分别将测量载台MST驱动于X方向的一对X轴线性马达。该X轴线性马达等在图1中表示为测量载台驱动装置TSTD。
[0061]在图5中，在X载台181的-X方向端部，以和Y轴大致平行、在Z方向重迭且按顺序对向于内面的方式，固定有截面形状为“コ”字形的固定件167和平板状固定件171，所述固定件167为了在Z方向产生相同磁场而配置有多个永久磁铁，所述固定件171包含大致沿X轴方向卷绕(排列)的线圈，配置于下方固定件167内、于测量台MTB的Y方向分离的2处分别固定有包含沿Y轴卷绕(排列)的线圈的移动件166A及166B，为了在Z方向夹着上方固定件171、在测量台MTB固定有截面形状为“コ”字形的固定件170，所述固定件170配置有在Y方向以规定排列配置的多个永久磁铁。由下方固定件167与移动件166A及166B分别构成将测量台MTB相对X载台181微驱动于X方向及θz方向的X轴音圈马达168A及168B(参照图1)，由上方的固定件171与移动件170构成相对X载台181将测量台MTB驱动于Y方向的Y轴线性马达169。
[0062]另外，在测量台MTB上的-X方向及+Y方向分别固定有X轴反射镜55CX及Y轴反射镜55CY，以和反射镜55CX在-X方向对向的方式配置有X轴激光干涉仪56C。反射镜55CX、55CY在图1中作为反射镜55C显示。激光干涉仪56C是多轴激光干涉仪，由激光干涉仪56C随时测量测量台MTB的X方向位置、及θz方向的旋转角度等。另外，也可取代反射镜55CX、55CY而使用例如对测量载台MST的侧面等施以镜面加工所形成反射面。
[0063]另一方面，在图5中，Y方向位置测量用的激光干涉仪56BY共用于衬底载台PST及测量载台MST。即，X轴的2个激光干涉仪56BX及56C的光轴通过投影光学系统PL的投影区域AR1的中心(本例中与图1的光轴AX一致)与X轴平行，Y轴激光干涉仪56BY的光轴则通过其投影区域的中心(光轴AX)与Y轴平行。因此，通常，为进行扫描曝光，在将衬底载台PST移动至投影光学系统PL的下方时，激光干涉仪56BY的激光束照射于衬底载台PST的反射镜55BY，由激光干涉仪56BY测量衬底载台PST(衬底P)的Y方向位置。此外，例如为测量投影光学系统PL的成像特性等，在将测量载台MST的测量台MTB移动至投影光学系统PL的下方时，激光干涉仪56BY的激光束照射于测量台MTB的反射镜55CY，由激光干涉仪56BY测量测量台MTB的Y方向位置。如此，即能恒以投影光学系统PL的投影区域的中心为基准，高精度地测量衬底载台PST及测量台MTB的位置，并能以高精度减少昂贵的激光干涉仪的数量，降低制造成本。
[0064]此外，沿衬底载台PST用的Y轴线性马达及测量台MTB用的Y轴线性马达169，分别配置有光学方式等的线性编码器(未图标)，在激光干仪56BY的激光束未照射反射镜55BY或55CY的期间，衬底载台PST或测量台MTB的Y方向位置则分别用上述线性编码器来测量。
[0065]回到图1，测量台MTB的2维方向位置及旋转角用激光干涉仪56C及图5的激光干涉仪56BY(或线性编码器)来测量，测量结果被送至控制装置CONT。控制装置CONT根据该测量结果驱动测量载台驱动装置TSTD、线性马达169、以及音圈马达168A、168B，以此进行测量载台MST中的测量台MTB的移动或定位。
[0066]另外，调平台188，具备能分别以例如气缸或音圈马达方式控制Z方向位置的3个Z轴致动器，通常，以调平台188控制测量台MTB的Z方向位置、θx方向、θy方向的角度，以使测量台MTB的上面与投影光学系统PL的像面对焦。因此，在喷嘴构件30附近，设有用以测量投影区域AR1内及其附近的衬底P上面等被检测面的位置的自动聚焦传感器(未图示)，根据此自动聚焦传感器的测量值，由控制装置CONT控制调平台188的动作。再者，虽未图示，还设有用以维持调平台188相对X载台181的X方向、Y方向、θz方向的位置的致动器。
[0067]另外，自动聚焦传感器通过在其多个测量点分别测量被检测面的Z方向位置信息，也检测θx方向、θy方向的倾斜信息(旋转角)，但亦可将该多个测量点的至少一部分设定在液浸区域AR2(或投影区域AR1)内，或者，也可将全部设定在液浸区域AR2的外侧。另外，例如能用激光干涉仪56B、56C测量被检测面的Z轴、θx及θy方向的位置信息时，也可不设置能在衬底P的曝光动作中测量其Z轴方向的位置信息的自动聚焦传感器，也可作成至少在曝光动作中使用激光干涉仪55B、55C的测量结果来进行被检测面于Z轴、θx及θy方向的位置控制。
[0068]本例的测量台MTB，具备用于进行涉及曝光的各种测量的测量器类(测量用构件)。即，测量台MTB具备:固定线线马达169的移动件等及反射镜55C的测量台本体159，以及固定在此上面、例如由石英玻璃等低膨胀率的光透射性材料所构成的板件101。此板件101的全表面形成有以铬膜所形成的遮光膜102(参照图6)，随处设有测量器用的区域、以及特开平5-21314号公报(对应美国专利第5243195号)等所公开的形成有多个基准标记的基准标记区域FM。
[0069]如图5所示，在板件101上的基准标记区域FM，形成有图1的掩膜用对准传感器90用的一对基准标记FM1、FM2、以及衬底用对准传感器ALG用的基准标记FM3。将这些基准标记的位置用对应的对准传感器分别测量，就能测量出投影光学系统PL的投影区域AR1的投影位置与对准传感器ALG的检测位置间的间隔(位置关系)的基准线(base line)量。在此基准线量的测量时，在板件101上也形成液浸区域AR2。
[0070]在板件101上的测量器用区域中，形成有各种测量用开口图案。作为此测量用开口图案，例如有空间像测量用开口图案(例如狭缝状开口图案62X、62Y)、照明不均测量用针孔开口图案、照度测量用开口图案、以及液面像差测量用开口图案等，在这些开口图案底面侧的测量台本体159内，配置有由对应测量器用光学系统及光电传感器构成的测量器。
[0071]该测量器的一个例子，例如是特开昭57-117238号公报(对应美国专利第4465368号说明书)等所公开的照度不均传感器，例如特开2002-14005号公报(对应美国专利申请公开第2002/0041377号说明书)等所公开的用于测量由投影光学系统PL所投影的图案空间像(投影图像)的光强度的空间像测量装置61，例如特开平11-16816号公报(对应美国专利申请公开第2002/0061469号说明书)等所公开的照度监视器，以及例如国际公开第99/60361号小册子(对应欧洲专利第1079223号说明书)等所公开的波面像差测量器。
[0072]另外，在本例中，对应于进行经由投影光学系统PL与液体1由曝光用光EL使衬底P曝光的液浸曝光，在利用曝光用光EL的测量中所使用的上述照度不均传感器、照度监视器、空间像测量器、波面像差测量器等，则经由投影光学系统PL及液体1来接收曝光用光EL。因此，在板件101表面的遮光膜102上，除后述特定区域外，涂有疏液涂层103(参照图6)。
[0073]另外，在图5中，在测量台MTB上，主要具备以光学方式观察图1的喷嘴构件30及光学元件2的状态的喷嘴观察装置65。
图6是表示将图5的测量台MTB移动至投影光学系统PL底面侧的状态的截面图。在该图6中，在X轴的开口图案62X底面侧的测量台本体159上，设有包含聚光透镜63及光电检测器64的空间像测量装置61，光电检测器64的光电转换信号被供应至数据处理装置57。在这种情况下，疏液涂层103上面的大致全面为液浸曝光用液体有可能接触的液体接触部。
[0074]然而，包含设于遮光膜102的开口图案62X(及图5的Y轴用开口图案62Y)的大致圆形区域103a，虽为了使曝光用光EL通过而除去了疏液涂层103，但圆形区域103a也是液体接触部。因此，为了使用空间像测量装置61测量投影光学系统PL的成像特性，而对圆形区域103a供应图1的液体1来作为液浸区域AR2时，若液体1中混入异物的话，该异物特别易于残留在开口图案62X的附近等。因此，在本例中，将该液体接触部中除去了疏液涂层的圆形区域103a内，作为用图1的对准传感器ALG进行异常判定用的一个观察对象部68G。
[0075]另外，在图6中，在遮光膜102上设有开口部102b，包含此开口部102b的圆形区域103b为了使曝光用光EL通过而除去了疏液涂层103。并于开口部102b底面的测量台本体159内，设置了包含由物镜66及2维CCD构成的2维摄像元件67的喷嘴观察装置65。摄像元件67的摄像信号供应至数据处理装置57，将从该摄像信号所得的图像数据储存至图像存储器58。喷嘴观察装置65的分辨率(与摄像元件67的一像素对应的在物体面的物体的大小)，例如设定为小于数10μm程度。
[0076]喷嘴观察装置65的观察对象的液体接触部为喷嘴构件30的底面、供应口13、14内部、回收口24内部(含网状过滤器25)、以及光学元件2的底面，特别是在网状过滤器25有附着异物的可能，因此，例如将网状过滤器25底面作为喷嘴观察装置65的观察对象部。因此，在图6中，喷嘴观察装置65的物镜66的物体面设定于网状过滤器25的底面。另外，在喷嘴观察装置65还设有用来照明被检测物的照明系统(未图标)。
[0077]此外，在本例中，虽将上述多个测量器的至少一个、基准标记、以及喷嘴观察装置65作为测量用构件设置于测量台MTB，但测量用构件的种类、及/或数量等并不限于此。也可设置例如测量投影光学系统PL的透射率的透射率测量器等来作为测量用构件。另外，也可仅将上述测量器或喷嘴观察装置65的一部分设于测量载台MST，而将其它部分设于测量载台MST外部。另外，也将不同于测量用构件的构件，例如用于清扫喷嘴构件30、光学元件2等的清扫构件等装载于测量载台MST。作为此清扫构件，可使用例如具有将液体1或洗净液对喷嘴构件30等喷出的喷射喷嘴的洗净装置等。进而，也可不将测量用构件及清扫构件等设置于测量载台MST。此时，测量载台MST，例如在衬底P的更换时等，为维持前述液浸区域AR2而通过与衬底载台PST的交换，与投影光学系统PL对向配置。另外，亦可将至少一个测量用构件设于衬底载台PST。
[0078][曝光步骤的说明]
如图7所示，于衬底P上区划(设定)有多个照射区域SH。另外，为了便于说明，图7中仅显示部分照射区域SH。在图1所示的曝光装置EX中，控制装置CONT一边监测激光干涉仪56B的输出一边移动衬底载台PST，以相对投影光学系统PL的光轴AX(投影区域AR1)使衬底P沿规定路径前进，并以步进扫描(step & scan)方式顺序地使多个照射区域曝光。即，用曝光装置EX进行的扫描曝光时，在投影光学系统PL的矩形投影区域AR1投影掩膜M的部分图案像，掩膜M相对投影光学系统PL以速度V移动于X方向，与此同步的，衬底P经由衬底载台PST以速度β·V(β为投影倍率)移动于X方向。在衬底P上的一个照射区的曝光结束后，利用衬底P的步进移动，移动至下一照射区的扫描开始位置，然后，以步进扫描方式一边移动衬底P、一边依序进行对各照射区域的扫描曝光处理。
[0079]在衬底P的曝光处理中，控制装置CONT驱动液体供应机构10，进行对衬底P上的液体供应动作。从液体供应机构10的液体供应部11送出的液体1在流通过供应管12后，经形成在喷嘴构件30内部的供应流路82A、82B供应至衬底P上。供应至衬底P上的液体1，配合衬底P的动作流过投影光学系统PL的下面。例如，在一照射区域的曝光中衬底P移动于+X方向时，液体1向与衬底P相同的+X方向、以与衬底P大致相同速度，流过投影光学系统PL的下面。在此状态下，从照明光学系统IL射出、通过掩膜M的曝光用光EL照射至投影光学系统PL的像面侧，据此，掩膜M的图案即透过投影光学系统PL及液浸区域AR2的液体1曝光在衬底P上。控制装置CONT在曝光用光EL照射于投影光学系统PL的像面侧时，即在衬底P的曝光动作中，进行用液体供应机构10对衬底P上的液体1的供应。在曝光动作中持续以液体供应机构10供应液体1而良好的形成液浸区域AR2。另一方面，控制装置CONT在曝光用光EL照射于投影光学系统PL的像面侧时，即在衬底P的曝光动作中，进行用液体回收机构20对衬底P上的液体1的回收。在曝光动作中(曝光用光EL照射于投影光学系统PL的像面侧时)，通过持续进行液体回收机构20对衬底P上的液体1的回收，能抑制液浸区域AR2的扩大。
[0080]在本例中，在曝光动作中，液体供应机构10用供应口13、14同时进行从投影区域AR1的两侧对衬底P上的液体1的供应。据此，从供应口13、14供应至衬底P上的液体1，能良好的扩散至投影光学系统PL终端部的光学元件2的下端面与衬底P之间、以及喷嘴构件30(第1构件31)下面与衬底P之间，形成至少比投影区域AR1大范围的液浸区域AR2。另外，假设供应口13及14连接于其它液体供应部的情况下，也可就扫描方向，将从投影区域AR1前方供应的每单位时间的液体供应量，设定为多于从其相反侧供应的液体供应量。
[0081]另外，在可不在曝光动作中进行液体回收机构20的液体1的回收动作，而在曝光结束后，开放回收管22的流路来回收衬底P上的液体1。举一例而言，可仅在衬底P上的某一照射区域的曝光结束后、至下一照射区域的曝光开始前的部分期间(衬底P的步进移动期间的至少一部分)，用液体回收部21进行衬底P上液体1的回收。
[0082]控制装置CONT在衬底P的曝光中，持续用液体供应机构10进行液体1的供应。通过持续进行液体1的供应，不仅能以液体1良好地将投影光学系统PL与衬底P之间予以充满，也能防止产生液体1的振动(所谓的水锤现象)。以此方式，即能对衬底P的所有照射区域以液浸法进行曝光。
[0083]另外，例如在衬底P的更换中，控制装置CONT使测量载台MST移动至与投影光学系统PL的光学元件2对向的位置，在测量载台MST上形成液浸区域AR2。此时，在使衬底载台PST与测量载台MST接近的状态下移动，通过与一载台的更换将另一载台与光学元件2对向配置，来在衬底载台PST与测量载台MST之间移动液浸区域AR2。控制装置CONT在测量载台MST上形成有液浸区域AR2的状态下，使用装载于测量载台MST的至少一个测量器(测量构件)，进行与曝光相关的测量(例如基准线测量)。关于在衬底载台PST与测量载台MST之间移动液浸区域AR2的动作，以及衬底P更换中的测量载台MST的测量动作的详细情形，已公开在国际公开2005/074014号小册子(对应欧洲专利申请公开第1713113号说明书)、以及国际公开第2006/013806号小册子等。此外，具备衬底载台与测量载台的曝光装置，例如已公开于日本特开平11-135400号公报(对应国际公开第1999/23692号小册子)、特开2000-164504号公报(对应美国专利第6897963号)。此处，在指定国及选择国的国内法令允许的范围下，援用美国专利第6897963号的公开作为本说明书的一部分。
[0084][有无异常判定步骤的说明]
如在上述的曝光步骤中，当图1的衬底P与液浸区域AR2的液体1接触时，会有衬底P的一部分成分溶解至液体1中的情形。例如，作为衬底P上的感光性材料而使用化学增幅型抗蚀剂的情形时，该化学增幅型抗蚀剂包含基底树脂、基底树脂中所含的光酸产生剂(PAG:Photo Acid Generator)以及被称为“Quencher”的胺系物质。当此种抗蚀剂接触液体1时，抗蚀剂的一部分成分，具体而言，其中的PAG及胺系物质等会有溶解至液体1中的情形。另外，在衬底P的基材本身(例如硅衬底)与液体1接触时，也会因构成该基材的不同，而有该基材的部分成分(硅等)溶解至液体1中的可能性。
[0085]这样，接触衬底P后的液体1，有可能包含由衬底P产生的杂质及抗蚀剂残渣等所构成的微粒等的微小异物。另外，液体1亦有可能包含大气中的尘埃及杂质等的微小异物。因此，用液体回收机构20回收的液体1，有可能包含各种杂质等的异物。因此，液体回收部21将回收的液体1排出至外部。另外，亦可将回收后液体1的至少一部分用内部处理装置加以净化后，将该净化后的液体1送会至液体供应部11予以再利用。
[0086]另外，混入液浸区域AR2的液体1中的上述微粒等的异物中，比设于图1中的喷嘴构件30的回收口24的网状过滤器25的网眼大的异物等，有可能附着而残留在包含网状过滤器25表面(外面)等的上述液体接触部。这些残留的异物，有可能在衬底P的曝光时，再次混入液浸区域AR2的液体1。当混入液体1的异物附着于衬底P上时，有可能导致将形成于衬底P的图案产生形状不良等的缺陷。
[0087]因此，本例的曝光装置EX，用下述方式判定液体接触部有无异常，即，在此是否附着于超过液体接触部中预先决定的多个观察对象部(被检测部)的容许范围的异物。以下，参照图8的流程图说明依据本实施方式的曝光方法。
[第1工序]
首先，在曝光工序开始前，用图1的对准传感器ALG及/或图6的喷嘴观察装置65拍摄曝光装置EX的液体接触部中预先设定为观察对象部的部分(S1)，将所得的第1图像数据作为基准观察信息(基准信息)储存于图像存储器58(S2)。此时，在衬底保持具PH上，作为衬底P，例如已装载有曝光对象的一批中起始的涂有抗蚀剂的晶片。
[0088]图7是图1中衬底载台PST的俯视图，在图7中，轨迹60A、60B、60C表示对准传感器ALG相对衬底载台PST上的衬底保持具PH及衬底P的相对移动路径。实际上，对准传感器ALG为静止而衬底载台PST(及测量载台MST)移动，但为便于说明，在图7中用对准传感器ALG在衬底载台PST上相对移动的方式来表示。
[0089]在这种情况下，如以上所述在本例中，设定有包含衬底P与板件97之间异物易附着区域的4个观察对象部68A～68D。另外，观察对象部68A～68D的形状，实际上，与对准传感器ALG的矩形观察视野相同，或将该观察视野于X方向、Y方向连结多个而成的形状。另外，在基准线量的测量时，在图5的衬底保持具PH与测量台MTB连结的状态下，在图7中，对准传感器ALG对于衬底保持具PH沿轨迹60C相对移动，而在图5的基准标记区域FM上移动。此时，投影光学系统PL与板件97或101之间形成有液浸区域AR2，沿该轨迹60C的移动以极高速进行，因此异物有可能沿该轨迹60C残留。因此，在本例中，沿该轨迹60C的板件97上的区域也设定有多处(此处，为2处)的观察对象部68E、68F(形状与观察对象部68A相同)。此外，衬底P边缘附近的照射区域的扫描曝光，由于液浸区域AR在一部分突出于衬底P外侧的情形下移动，因此异物亦有可能堆积在衬底载台PST(板件97)上面。因此，亦可在曝光时液浸区域AR移动的板件97上的区域设定至少一个观察对象部。
[0090]另外，如图6所示，包含测量台MTB上除去了疏液涂层103的开口图案62X的区域，也被设定为对准传感器ALG的观察对象部68G，而喷嘴构件30的网状过滤器25的底面则被设定为喷嘴观察装置65的观察对象部。首先，将图7的衬底保持具PH的观察对象部68A～68F及图6的测量台MTB上的观察对象部68G按顺序移动至对准传感器ALG的视野内，拍摄该等观察对象部68A～68G的像，将所得的第1图像数据分别储存至图像存储器58。其次，将图6的测量台MTB在投影光学系统PL的下方驱动于X方向、Y方向，用喷嘴观察装置65拍摄喷嘴构件30的网状过滤器25底面的大致全面的像，将所得的第1图像数据(此处，为多个图像数据的组合)储存于图像存储器58。
[0091]此时，可沿延长轨迹60C的图5中测量台MTB上的区域再设定观察对象部。另外，除上述观察对象部68A～68G等之外，也可在衬底保持具PH上(含衬底P上)及测量台MTB上设定任意数量、任意大小的观察对象部。就这些观察对象部分别所得的第1图像数据，作为基准观察信息储存至图像存储器58即可。此外，由图7可知，轨迹60A大致沿着在衬底P所区划的多个照射区域SH，近似于曝光时液浸区域AR2的移动路径，但轨迹60B及60C则与曝光时液浸区域AR2的移动路径不同。
[0092][第2工序]
此处，与上述曝光工序的说明同样地，进行衬底P的对准、以及使用液浸法的掩膜M的图案对衬底P的转印曝光(S3)。此时，衬底P与图1的投影光学系统PL的投影区域AR1，例如沿图7的轨迹60A相对移动。另外，实际上，由于掩膜M及衬底P的扫描方向对每一照射区域反转，因此轨迹60A成为更复杂的路径。进而对同一批内规定片数的衬底进行对准及使用液浸法的曝光。在该规定片数衬底的曝光结束后，对下一衬底进行曝光前，拍摄上述观察对象部68A等的像(S4)，将所得的第2图像数据作为被检测观察信息储存于图像存储器58(S5)。
[0093]此时，图7的衬底P的对准(Alignment)用加强型全晶片对准(EGA)方式进行，此方式用对准传感器ALG检测位于从衬底P上选择的多个照射区域内的测量区域69A～69H的对准标记，对检测出的对准标记的位置信息进行统计处理来算出衬底P上各照射区域的位置信息。此EGA方式，已公开于例如日本特开昭61-44429号公报(对应美国专利第4780617号说明书)。此时，为进行衬底P的对准，而使对准传感器ALG相对衬底P沿轨迹60B移动按顺序检测测量区域69A～69H的对准标记时，使用对准传感器ALG顺序地拍摄位于最近位置的观察对象部68A～68D。并将所得到的第2图像数据顺序地储存于图4的图像存储器58。例如，使对准传感器ALG相对的从测量区域69A移动至测量区域69B时，使对准传感器ALG移动至位于其附近位置的观察对象部68A上，即能在几乎不增加对准时间的情形下，获得观察对象部68A～68D的第2图像数据。另外，在本例中，在对准动作中，即在对准标记的检测动作中，虽将多个观察对象部在最近的检测对象的对准标记的检测后，持续加以检测出，但并不限于此，也可例如通过遗传算法等，来决定出检测时间最短的对准标记及观察对象部知检测顺序。
[0094]另外，在该衬底P的曝光前使对准传感器ALG沿轨迹60C相对移动以进行基准线量的测量时，使用对准传感器ALG拍摄位于轨迹60C途中的观察对象部68E、68F的像。进而，在例如使用图6的空间像测量装置61测量投影光学系统PL的成像特性时，先将空间像测量装置61上的观察对象部68G移动至对准传感器ALG的下方，经由对准传感器ALG拍摄观察对象部68G的像。并将以此方式所得的观察对象部68E～68G的第2图像数据依序储存至图像存储器58。
[0095]另外，例如为进行基准线量的测量、或为了将液浸区域AR2从衬底载台PST移动至测量载台MST而将测量台MTB移动至投影光学系统PL下方时，如图6所示，驱动测量台MTB使喷嘴观察装置65在喷嘴构件30的网状过滤器25底面的大致全面移动，以拍摄网状过滤器25的像，将所得到的第2图像数据按顺序储存至图像存储器58。如此，在基准线的测量时或投影光学系统PL的成像特性的测量时等，在加上求得测量台MTB上的观察对象部68G及喷嘴构件30的网状过滤器25的第2图像数据，就能维持曝光工序的高效率。
[0096][第3工序]
其次，在上述第2工序结束后，在图1的控制装置CONT的控制下，图4(图6)的数据处理装置57，就各观察对象部，从图像存储器58分别读出第1工序所得到的第1图像数据与第2工序所得的第2图像数据并加以比较，来特定出该2个图像数据的差异部(S6)。此时的差异部的特定，可通过例如就每一像素数据从第1图像数据减去第2图像数据而极高速地进行。而特定出的差异部，即可视为对应的观察对象部在液浸法曝光时因与液体1的接触而附着的异物。
[0097]于是，数据处理装置57，就每一观察对象部，在特定出的差异部超过规定大小(例如100μm方型)以上的情况下，或差分处理后图像的亮度(绝对值)在规定值以上时，即辨别为发生了异常，并将异常发生位置(发生异常的观察对象部的位置)、差异部数量及大小或亮度的差等的信息(异常内容信息)送出至图1的控制装置CONT(S7)。
另一方面，在该第3工序中，无论哪个观察对象部其差异部皆在容许范围内的情况下，数据处理部57即判定为无异常，将此判定结果送出至控制装置CONT。此时，即直接进行对衬底P的曝光(S8)。然后，再次进行上述第2工序及第3工序。
[0098][第4工序]
其次，在上述第3工序中，从数据处理装置57送出有异常的判定结果及异常内容信息至控制装置CONT时，举一例而言，控制装置CONT即中止对衬底P的曝光(S9)。然后，取代衬底P，而将例如由硅衬底构成的虚拟衬底(覆盖构件)装载至图7的衬底保持具PH上之后，进行液体接触部的洗净(S10)。具体而言，关闭图1的阀23而打开阀28，从洗净液供应部26经供应管27、回收管22、及回收流路84将洗净液供应至喷嘴构件30的回收口24。在将此洗净液供应至衬底保持具PH(板件97)上及测量台MTB上后，将所供应的洗净液用液体回收部21加以回收，由此进行液体接触部的洗净。此时，例如也可先在衬底保持具PH内及测量台MTB内分别设置液体的吸引装置，经由这些吸引装置回收该洗净液。另外，也可通过例如超音波振荡器等使洗净液振动将其供应至板件97或测量台MTB上，也可同时进行洗净液的供应与回收来一边形成液浸区域、一边使衬底载台PST或测量载台MST相对该液浸区域移动。若为后者的情况，可将从液浸区域回收的洗净液中的粒子数，以例如后述粒子计数器加以记数，视该计数来控制洗净动作。再者，也可使用前述测量载台MST的洗净装置来进行液体接触部的洗净。另外，当虚拟衬底为硅衬底等那样具有亲液性的情况下，虚拟衬底的上面(表面)施有疏液处理。作为疏液处理，例如有涂布疏液性材料以形成疏液涂层的涂层处理。作为具有疏液性的材料，例如有氟系化合物、硅化合物、或聚乙烯等的合成树脂。另外，疏液涂层可以是单层膜、也可是由复数所构成的膜。
[0099]之后，再次使用对准传感器ALG及喷嘴观察装置65来获得观察对象部68A～68G等的第2图像数据(S4-S5)，将其与第1图像数据进行比较(S6)来判定有无异常(S7)，在异常消失的时刻进行对衬底P的曝光(S8)。之后，动作即回到第2工序。此外，该第2工序中各观察对象部的第2图像数据的取得、以及进行该第3工序的图像数据的比较的频度可任意设定，可在例如每数批至数10批的曝光时进行。另外，例如根据衬底的膜(抗蚀剂膜及/或顶涂层膜等)的种类等，也可在每1批的曝光或同一批的多个衬底的曝光后进行。另外，也可随着衬底的曝光处理片数的增加，慢慢缩短实施上述第2及第3工序的间隔。另外，在该第1工序取得的各观察对象部的第1图像数据，可定期的予以更新。此时，可定期的实施前述第1工序，例如也可将前述液体接触部的洗净动作后取得的第2图像数据(检测信息)，作为第1图像数据(基准信息)加以储存。
[0100]通过设置上述有无异常的判定步骤，能降低在衬底P附着异物的状态下进行曝光的概率，减少所转印图案的形状不良等的缺陷，因此能使最终制造出的组件的合格率提高。
本例的曝光装置及曝光方法的动作以及优点等，加以整理如下。
A1)在本例中，由于就每一观察对象部比较第1图像数据与第2图像数据，能更为有效判定有无异常、即有效率地判定异常的有无即有可能成为所转印图案的误差的主要原因的异物有无附着。
A2)在本例第3工序发现异常时，通过在该第4工序中止曝光、进行液体接触部的洗净，在下一以液浸法进行曝光时，降低异物混入液体中的概率。此外，在该第3工序中发现异常的观察对象部，例如是图6的测量台MTB的空间像测量装置61上的观察对象部68G等的情况下，或所检测出的异物大小较小、且数量少的情形，即预测即使直接进行曝光异物经由液体附着于衬底P上的可能性较小的情况下，可直接进行衬底P的曝光。
[0102]A3)在本例第3工序中所判定的有无异常，虽是在该观察对象部的有无异物，除此之外，例如亦可在该观察对象部以分光计测量的反射率分布的变化量大时，判定为有异常。
A4)另外，在本例中，为了以光学方式观察观察对象部68A～68G的状态，而使用衬底P上的对准标记位置检测用的图像处理方式的对准传感器ALG。因此，能有效活用对准传感器ALG。
[0103]A5)此外，在上述第2工序中，图7的板件97与衬底P间的观察对象部68A～68G的第2图像数据的取得，与使用对准传感器ALG进行衬底P上的规定多个对准标记的位置检测时一起实施。另外，板件97上的2处观察对象部68E、68F的第2图像数据的取得，在使用对准传感器ALG测量基准线量时实施。因此，曝光工序的效率几乎不会降低。
[0104]另外，观察对象部68A～68D的第2图像数据的取得，亦可与使用对准传感器ALG的对准动作分开实施。此时，当进行液体接触部的异常判定的间隔较长时，曝光工序的效率基本上不下降。
A6)另外，在本例中，由于将设于喷嘴构件30的液体回收口24的网状过滤器25作为观察对象部(液体接触部的一部分)，因此在测量载台MST上的图6的测量台MTB设有喷嘴观察装置65。因此，能以光学方式观察无法用对准传感器ALG观察的液体接触部的状态。此外，亦可将喷嘴观察装置65设于衬底载台PST(衬底保持具PH)。
[0105]A7)在本例中，将图6的测量台MTB上包含除去了疏液涂层103的开口图案62X的圆形区域103a，也设定为对准传感器ALG的观察对象部68G。由于该圆形区域103a在供应液体时易附着异物，因此作为观察对象部是非常适合的。该观察对象部68G及图7的衬底保持具PH上的观察对象部68E、68F的观察时，也可将该等观察对象部移动至投影光学系统PL的投影区域，并预先照射曝光用光EL，以上述荧光显微镜来作为对准传感器ALG。在这种情况下，在观察对象部68E～68G内的异物具有发出荧光的性质时，通过对准传感器ALG检测该荧光，即能容易的检测出异物。
[0106]以此方式检测荧光时，在上述第1工序中，在得到观察对象部68E～68G的第1图像数据时，也可照射曝光用光EL，将对准传感器ALG设定为荧光显微镜。
A8)在本例中，作为以光学方式观察液体接触部的装置，使用对准传感器ALG及喷嘴观察装置65，除此之外，也可使用上述分光计，也可并用分光计与摄像装置。此外，也可使用摄像(图像处理)方式以外的光学传感器来进行液体接触部的光学方式的检测(观察)。
[0107]另外，在上述实施方式中，虽在衬底P的曝光动作后进行观察对象部68A～68D的第2图像数据的取得，但该第2图像数据的取得也可在曝光动作以外的其它动作之后实施。此外，在上述实施方式中，虽着眼于观察对象部中特定出的差异部的大小及/或亮度(差)来判断有无异常，但也可取代其，或与其组合，使用其它特征(例如，差异部的密度等)来判断有无异常。
[0108]此外，在上述实施方式中，虽在第1工序中以衬底保持具PH保持衬底P的状态下取得观察对象部的第1图像数据，但并不限于此，也可例如在以衬底保持具PH保持前述虚拟衬底的状态下取得观察对象部的第1图像数据。此时，可于第1工序及第2工序中，以衬底保持具PH上的观察对象部不包含虚拟衬底及衬底P的方式，设定观察对象部的位置及/或大小等。另外，在上述实施方式中，虽将取得观察对象部的第1图像数据的第1工序，设定为在曝光动作的前一刻实施，但不限于此，亦可与曝光动作无关的取得第1图像数据。例如，可在曝光装置的调整时、或保养维修等时取得第1图像数据。再者，在上述实施方式中，虽将观察对象部的第1图像数据作为基准信息加以储存，但例如在使用前述荧光显微镜检测观察对象部的情形时，由于接收发自有机物等异物的荧光(磷光)，因此可在不使用该基准信息的情形下检测观察对象部的异物。故也可不进行基准信息(第1图像数据)的取得。
[0109]另外，在上述实施方式中，虽作为曝光动作的一部分而进行前述异常判定(及液体接触部的洗净)，但也可与曝光动作分开，例如在维修保养时等独立的进行前述异常判定。此外，在上述实施方式中，虽在多个观察对象部同时进行第2及第3工序，但也可例如对多个观察对象部的一部分，使用与其它观察对象部不同的时序、及/或间隔来实施第2及第3工序。进而，在上述实施方式中，虽在衬底保持具PH(板件97)、喷嘴构件30及测量台MTB等设定了多个观察对象部，但观察对象部的位置及/或数量等，并不限于此，可任意设定。
[0110]《第2实施方式》
接着，参照图9～图15，说明本发明第2实施方式的曝光装置EX’及曝光方法。在以下的说明中，与第1实施方式相同或同等的构成部分赋予相同的符号，并简化或省略其说明。
[0111]图9是表示本例的扫描型曝光装置EX’的概略构成图，在该图9中，曝光装置EX’具备:支撑掩膜M的掩膜载台RST，支撑衬底P的衬底载台PST，被曝光用光EL照明掩膜载台RST所支撑的掩膜M的照明光学系统IL，将用曝光用光EL照明的掩膜M的图案像投影至衬底载台PST所支撑的衬底P的投影光学系统PL，统筹控制曝光装置EX’全体的动作的控制装置CONT，为适用液浸法的液浸系统(液浸机构)，以及检测衬底P上的对准标记以进行衬底P的对准、例如图像处理方式的对准传感器ALG。本例的液浸系统，包含:对衬底P上供应液体1的液体供应机构210，与用于回收供应到衬底P上的液体1的液体回收机构220。曝光装置EX’与第1实施方式同样地、采用局部液浸方式，经由投影光学系统PL与衬底P间的液体1及投影光学系统PL，将通过掩膜M的曝光用光EL照射于衬底P，据此将掩膜M的图案转印曝光至衬底P。
[0112]关于曝光装置EX’所具备的照明光学系统IL、掩膜载台RST、投影光学系统PL的构造，由于与第1实施方式相同因此省略其说明。在本例的曝光装置EX’中，也使用纯水来作为液体1，但与第1实施方式不同的是并不具备测量载台MST，各种测量功能如后所述设于衬底载台。
[0113]衬底载台PST，具备经由衬底保持具(未图示)保持衬底P的Z载台52、以及支撑Z载台52的XY载台53，例如经由空气轴承装载在底座54上而能2维移动。在Z载台52设有反射镜55B，在反射镜55B的对向位置设有激光干涉仪56B。Z载台52(衬底P)的2维方向位置及旋转角用激光干涉仪56B加以实时测量，测量结果输出至控制装置CONT。衬底载台PST例如用线性马达等的衬底载台驱动装置PSTD加以驱动。衬底载台驱动装置PSTD与第1实施方式一样，由控制装置CONT控制以进行衬底载台PST(衬底P)的移动或定位。
[0114]另外，在衬底载台PST(Z载台52)上，以围绕衬底P的方式设有环状的板件257。板件257具有与衬底保持具所保持的衬底P表面大致同高的平坦面257A。此处，衬底P的边缘与板件257之间虽有例如0.1～1mm程度的间隙，但在本例中，由于衬底的抗蚀剂为疏液性(具有排斥液体1的性质)且液体1具有表面张力，因此几乎不会产生液体1流入该间隙的情形，即使进行衬底P周缘附近的曝光时，也能将液体1保持在板件257与投影光学系统PL之间。此外，在例如衬底保持具装备有用以排出流入该间隔的液体的吸引机构的情况下，衬底P的抗蚀剂(或面涂层)不一定必须具有疏液性。
[0115]液体供应机构210将规定液体1供应至衬底P上，其具备:可送出液体1的第1液体供应部211及第2液供应部212，以及一端部分别连接于第1、第2液体供应部211、212的第1、第2供应管211A、212A。各第1、第2液体供应部211、212，分别具备:收容液体1的储液槽及加压泵等。另外，液体供应机构210不需具备储液槽、过滤部、加压泵等的全部，其至少一部分例如可用设置有曝光装置EX’的工厂等的设备来代用。
[0116]液体回收机构220回收供应至衬底P上的液体1，具备:可回收液体1的液体回收部221，以及一端部连接于液体回收部221的回收管222(由第1～第4回收管222A、222B、222C、222D所构成，参照图10)。在回收管222(222A～222D)的途中设有阀224(由第1～第4阀224A、224B、224C、224D所构成，参照图10)。液体回收部221例如具备真空泵等的真空系统(吸引装置)，以及收容所回收液体1的储液槽等。另外，液体回收机构220不需具备真空系统、储液槽等的全部，至少一部分例如可用设置有曝光装置EX’的工厂等的设备来代用。
[0117]此外，在回收管222途中经由分歧管225连结有用以测量微粒子(异物)数的微粒计数器226。微粒计数器226例如从在回收管222中流动的液体中以规定取样率抽出规定容量的液体，对抽出的液体照射激光束，对散射光的图像进行图像处理来测量该液体中的微粒数。所测量的微粒数供应至控制装置CONT。微粒计数器226，可独立的分别设于4个回收管222A～222D，但也可代表性的仅设于1个回收管(例如回收管222A)。在4个回收管222A～222D分别设置微粒计数器226的情况下，例如，可将以4个微粒计数器226所测量的微粒数的平均值作为微粒数的测量值。
[0118]在投影光学系统PL终端部的光学元件2附近，配置有作为流路形成构件的喷嘴构件230。喷嘴构件230是在衬底P(衬底载台PST)上方围绕光学元件2周围设置的环状构件。喷嘴构件30具备配置成与该衬底P表面对向的第1供应口213与第2供应口214(参照图11)。另外，喷嘴构件230在其内部具有供应流路282(282A、282B)。供应流路282A的一端部连接于第1供应口213，另一端部则经由第1供应管211A连接于第1液体供应部211。供应流路282B的一端部连接于第2供应口214，另一端部则经由第2供应管212A连接于第2液体供应部212。另外，喷嘴构件230具备配置在衬底P(衬底载台PST)上方、与该衬底P表面对向的4个回收口223(参照图11)。
[0119]图10是喷嘴构件230的概略立体图。如图10所示，喷嘴构件230是围绕投影光学系统PL终端部的光学元件2周围设置的环状构件，具备第1构件231、配置在第1构件231上部的第2构件232、与配置在第2构件232上部的第3构件233。第1～第3构件231～233分别为板状构件，在其中央部具有能配置投影光学系统PL(光学元件2)的孔部231A～233A。
[0120]图11是表示图10的第1～第3构件231～233中、配置在最下层的第1构件231的图。在图11中，第1构件231具备:形成在投影光学系统PL的-X方向侧、将液体1供应至衬底P上的第1供应口213，以及形成在+X方向侧、将液体1供应至衬底P上的第2供应口214。第1供应口213及214是分别贯通第1构件231的贯通孔，俯视略呈圆弧状。此外，第1构件231，具备:形成在投影光学系统PL的-X方向、-Y方向、+X方向、及+Y方向侧，用于分别回收衬底P上的液体1的第1回收口223A、第2回收口223B、第3回收口223C、以及第4回收口223D。第1～第4回收口223A～223D也分别贯通第1构件231的贯通孔，形成为俯视略呈圆弧状，沿投影光学系统PL的周围以大致等间隔、且相对投影光学系统PL比供应口213、214设置在外侧。供应口213、214与衬底P间的距离、回收口223A～223D与衬底P间的距离设为大致相同。也就是说，供应口213、214的高度位置、回收口223A～223D的高度位置设为大致相同。
[0121]回到图9，喷嘴构件230的内部具有连通于回收口223A～223D(参照图11)的回收流路284(284A、284B、284C、284D)。另外，回收流路284B、284D(未图示)是用于连通图11的扫描方向的回收口223B、223D与图12的回收管222B、22D的流路。回收流路284A～284D的另一端部，经由图10的回收管222A～222D分别连通于液体回部221。在本例中，喷嘴构件230分别构成为液体供应机构210及液体回收机构220的一部分。即，喷嘴构件230为本例的液浸机构的一部分。
[0122]设于图10的第1～第4回收管222A～222D的第1～第4阀224A～224D，是用于分别开关第1～第4回收管222A～222D的流路，其动作受图9的控制装置CONT控制。在回收管222(22A～222D)的流路开放的期间，液体回收机构220能从回收口223(223A～223D)吸引回收液体1，当用阀224(224A～224D)关闭回收管222(22A～222D)的流路时，经由回收口223(223A～223D)的液体1的吸引回收即停止。
[0123]在图9中，第1及第2液体供应部211、212的液体供应动作由控制装置CONT控制。控制装置CONT能分别独立控制第1及第2液体供应部211、212对衬底P上每单位时间的液体供应量。从第1及第2液体供应部211、212送出的液体1，经供应管211A、212A及喷嘴构件230的供应流路282A、282B，从喷嘴构件230(第1构件231)下面与衬底P对向设置的供应口213、214(参照图13)被供应至衬底P上。
[0124]另外，液体回收部221的液体回收动作由控制装置CONT控制。控制装置CONT能控制液体回收部221每单位时间的液体回收量。从喷嘴构件230(第1构件231)下面与衬底P对向设置的回收口223回收的衬底P上的液体1，经喷嘴构件230的回收流路284及回收管222被回收至液体回收部221。相对投影光学系统PL外侧的下面(朝向衬底P侧的面)，由喷嘴构件230中回收口223形成捕捉液体1的规定长度的液体捕捉面(倾斜面)270。捕捉面270施有亲液处理。流出至回收口223外侧的液体1会被捕捉面270捕捉。
[0125]图11是表示形成于图10的喷嘴构件230的第1及第2供应口213、214及第1～第4回收口223A～223D，与投影光学系统PL的投影区域AR1的位置关系的俯视图。在图11中，投影光学系统PL的投影区域AR1设定为以Y方向为长边方向的矩形。充满液体1的液浸区域AR2形成在实质上以4个回收口224A～224D所围大致圆形区域的内侧而包含投影区域AR1，且在扫描曝光时局部的形成在衬底P上的一部分(或包含衬底P上的一部分)。
[0126]另外，第1及第2供应口213、214在扫描方向(X方向)在其两侧形成为略呈圆弧的狭缝状以便夹着投影区域AR1。供应口213、214在Y方向的长度，至少比投影区域AR1在Y方向的长度长。液体供应机构210，能从2个供应口213、214在投影区域AR1的两侧同时供应液体1。
[0127]另外，第1～第4回收口223A～223D围绕供应口213、214及投影区域AR1形成为圆弧状的狭缝。在多个(4个)回收口223A～223D中，回收口223A及223C于X方向(扫描方向)配置在其两侧收便夹着投影区域AR1，回收口223B及223D则在Y方向(非扫描方向)配置在其两侧以便夹着投影区域AR1。回收口223A、223C在Y方向的长度，比供应口213、214在Y方向的长度长。回收口223B、223D也分别形成为与回收口223A、223C大致相同长度。回收口223A～223D分别经由图10的回收管222A～222D连通于图9的液体回收部221。此外，在本例中，回收口223的数目不限于4个，只要是配置成围绕投影区域AR1及供应口213、214的话，可为任意多个或仅设置1个。
[0128]另外，上述实施方式所使用的喷嘴构件230，不限于上述构造，也可使用例如欧洲专利公开第1420298号说明书、国际公开第2004/055803号小册子、国际公开第2004/057589号小册子、国际公开第2004/057590号小册子、国际公开第2005/029559号小册子(对应美国专利公开第2006/0231206号)中所记载的。
[0129]另外，本例中液体的供应口213、214与回收口223A～223D虽设于同一喷嘴构件230，但也可将供应口213、214与回收口223A～223D设于不同构件。此外，也可例如国际公开第2005/122218号小册子所公开的那样，在喷嘴构件230的外侧设置液体回收用第2回收口(喷嘴部)。另外，供应口213、214也可不与衬底P对向设置。进而，喷嘴构件230的下面虽设定为与投影光学系统PL下端面(射出面)大致同高(Z位置)，但也可例如将喷嘴构件230的下面设定为比投影光学系统PL下端面更靠近像面侧(衬底侧)。在这种情况下，为避免遮住曝光用光EL，可使喷嘴构件230的一部分(下端部)潜至投影光学系统PL(光学元件2)的下侧。
[0130]图13是从上方观察衬底载台PST的Z载台52的俯视图。在图13中，在俯视呈矩形的Z载台52的彼此垂直的2个缘部配置有反射镜55B。在Z载台52上的大致中央部保持衬底P，围绕该衬底P周围与Z载台52一体设置具有与衬底P表面大致同高度的平坦面257A的环状板件257。
[0131]板件257的平坦面257的2个角部宽度较宽，在其中的一宽幅部，设有在相对规定位置进行掩膜M及衬底P的对准时使用的基准标记FM。基准标记FM通过设在掩膜M上方的掩膜对准系统90(参照图9)，经由掩膜M及投影光学系统PL加以检测。也就是说，掩膜对准系统90构成所谓TTM(Through The Mask)方式的对准系统。另外，本例的对准系统ALG是例如日本特开平7-183186号公报(对应美国专利第5684569号)所公开的FIA(Field ImageAlignment)系统，即，具备:用于照明形成有被检测标记的区域的照明系统、用以形成被检测标记像的成像光学系统、以及将该像予以光电转换的摄像元件的离轴方式对准传感器。将来自对准系统ALG的摄像信号以图9的控制装置CONT内的图像处理部加以处理，即能求出被检测标记的像相对规定标记的偏移量，也能求出该被检测标记的X坐标、Y坐标，根据该坐标进行衬底P的对准。
[0132]另外，本例的该图像处理部也具备根据对准系统ALG的摄像信号检测衬底P表面(所拍摄的区域)的膜(抗蚀剂等)有无剥落的功能。此外，在本例的曝光装置EX’的对准系统ALG附近，具备用于测量涂于衬底P的抗蚀剂等的膜厚的膜厚测量装置261，此测量结果也供应至控制装置CONT。膜厚测量装置261，举一例而言，根据激光束的干涉条纹(等厚干涉条纹等)状态来测量膜厚。作为膜厚测量装置261，也可使用检测反射光的偏振状态(椭圆偏振等)变化的椭偏仪(Ellipsometer)。
[0133]另外，在板件257的平坦面257A中的另一宽幅部，设有光传感器258。光传感器258是检测通过投影光学系统PL的曝光用光EL，由检测曝光用光EL在投影光学系统PL像面侧的照射量(照度)的照度传感器，或检测投影区域AR1的照度分布(照度不均)的照度不均传感器构成。
[0134]在图9中，在衬底P上设定有多个照射区域，控制装置CONT顺序地使衬底P上设定的多个照射区域曝光。在本例中，控制装置CONT一边监测激光干涉仪56B的输出一边移动衬底载台PST(XY载台53)，以使投影光学系统PL的光轴AX相对衬底P沿规定轨迹前进，按顺序使多个照射区域曝光。即，在衬底P的扫描曝光时，在投影光学系统PL终端部正下方的矩形投影区域AR1投影掩膜M的部分图案像，相对投影光学系统PL，掩膜M于X方向以速度V移动，衬底P则与此同步经由XY载台53在X方向以速度β·V(β为投影倍率)移动。在对衬底P上的1个照射区域曝光结束后，通过衬底P的步进移动来移动至下一照射区域的扫描开始位置，接着，以步进扫描(Step & Scan)方式一边移动衬底P、一边按顺序进行对各照射区域的扫描曝光处理。
[0135]在衬底P的曝光处理中，控制装置CONT驱动液体供应机构210进行对衬底P上的液体供应动作。从液体供应机构210的第1、第2液体供应部211、212分别出的液体1，在流过供应管211A、212A后，经形成在喷嘴构件230内部的供应流路282A、282B被供应至衬底P上。供应至衬底P上的液体1配合衬底P的动作在投影光学系统PL的下面流动。例如，在某一照射区域的曝光中衬底P往+X方向移动时，液体1往与衬底P同方向的+X方向，以与衬底P大致相同速度流过投影光学系统PL的下面。在此状态下，从照明光学系统IL射出、通过掩膜M的曝光用光EL照射于投影光学系统PL的像面侧，据此，掩膜M的图案经由投影光学系统PL及液浸区域AR2的液体1被曝光至衬底P。
[0136]控制装置CONT，至少在曝光用光EL照射于投影光学系统PL的像面侧时，即在衬底P的曝光动作中，利用液体供应机构210进行对衬底P上的液体1的供应。在曝光动作中用液体供应机构210持续进行液体1的供应就能良好的形成液浸区域AR2。另一方面，控制装置CONT，至少在曝光用光EL照射于投影光学系统PL的像面侧时，即在衬底P的曝光动作中，利用液体回收机构220进行衬底P上液体1的回收。在曝光动作中(曝光用光EL照射于投影光学系统PL的像面侧时)，通过用液体回收机构220持续进行液体1的回收，能抑制液浸区域AR2的扩大。
[0137]在本例中，在曝光动作中，液体供应机构210同时进行利用供应口213、214从投影区域AR1两侧对衬底P上供应液体1。据此，从供应口213、214供应至衬底P上的液体1能良好地扩散至投影光学系统PL终端部的光学元件2下端面与衬底P之间、以及喷嘴构件230(第1构件231)下面与衬底P之间，将液浸区域AR2形成为至少比投影区域AR1范围大。
[0138]另外，从投影区域AR1的扫描方向两侧对衬底P供应液体1时，控制装置CONT控制液体供应机构210的第1及第2液体供应部211、212的液体供应动作，在扫描方向，将从投影区域AR1前方供应的每单位时间的液体供应量设定为多于从其相反侧供应的液体供应量。在这种情况下，例如因衬底P往+X方向移动，故相对投影区域往+X方向移动的液体量会增加，而有可能大量流至衬底P外侧。但由于往+X方向移动的液体1会被设于喷嘴构件230的+X侧下面的捕捉面270捉住，因此能防止流出或飞散至衬底P周围等的不良情形。
[0139]另外，在扫描曝光中，可以不用液体回收机构220进行液体1的回收，而在曝光结束后打开回收管222的流路，来回收衬底P上的液体1。举一例而言，可仅在衬底P上的某一照射区域的曝光结束后、至下一照射区域的曝光开始前的部分期间(步进期间的至少一部分)，用液体回收机构220进行衬底P上液体1的回收。
[0140]控制装置CONT，在衬底P的曝光中持续进行使用液体供应机构210的液体1的供应。通过持续进行液体供应机构210的液体1的供应，不仅能在投影光学系统PL与衬底P之间良好的充满液体1，也能防止液体1的振动(所谓的水锤现象)的产生。以此方式，即能对衬底P的所有照射区域以液浸法进行曝光。
[0141]在上述的曝光工序中，当图9的衬底P与液浸区域AR2的液体1接触时，会有衬底P的基材(例如硅衬底)及/或涂布于此的材料的部分成分溶解至液体1中的情形。如前所述，例如，当衬底P的感光材料使用化学增幅型抗蚀剂的情形时，该化学增幅型包含基底树脂、基底树脂中所含的光酸产生剂(PAG)以及被称为“Quencher”的胺系物质。当这种抗蚀剂接触液体1时，抗蚀剂的部分成分，具体而言，其中的PAG及胺系物质等会有溶解至液体1中的情形。另外，在衬底P的基材本身与液体1接触时，也会因构成该基材的不同，而有该基材的部分成分(硅等)溶解至液体1中的可能性。
[0142]这样，接触衬底P后的液体1，有可能包含由产生于衬底P的杂质及抗蚀剂残渣等所构成的微粒等的微小异物。另外，液体1亦有可能包含大气中的尘埃及杂质等的微小异物。因此，用液体回收机构220回收的液体1，有可能包含各种杂质等的异物。因此，液体回收机构220将回收的液体1排出至外部。另外，也可将回收后液体1的至少一部分以内部处理装置加以净化后，将该净化后的液体1送回到液体供应机构210。
[0143]另外，混入液浸区域AR2的液体1中的上述微粒等的微小异物，有可能附着而残留在衬底载台PST上面。这些残留的异物及溶解至液体1中的微粒等异物，有可能在衬底P曝光时，再次混入液浸区域AR2的液体1。当混入液体1的异物附着于衬底P上时，有可能导致将形成于衬底P的图案产生形状不良等的缺陷。
[0144]这样从衬底P溶解至液体1中的异物的量，会因衬底P及其上的材料种类而变化。因此，在本例中，根据图15的判定流程来判定衬底P的膜(抗蚀剂膜及/或面涂层)是否适合于液浸法进行的曝光。
首先，在图15的步骤2101中，以未图示的涂布显影装置在曝光对象衬底的基材上涂布抗蚀剂。在其次的步骤2102中，在该抗蚀剂层上涂布面涂层(top coat)。
[0145]在下一步骤2103中，在将具有该抗蚀剂膜及面涂层的衬底P装载于图9的曝光装置EX’的衬底载台PST后，不照射曝光用光EL，而如图12所示，在衬底P周缘部与投影光学系统PL之间从液体供应机构210供应液体1以形成液浸区域AR2，相对液浸区域AR2经由衬底载台PST使衬底P在X方向、或Y方向移动。即，如图13所示，例如使衬底P的包含边缘部的-Y方向的周缘部260A在液浸区域AR2沿轨迹259A进行相对扫描。接着，通过沿图13的轨迹259B使衬底P相对液浸区域AR2进行扫描，如图14所示，衬底P的-X方向、+Y方向及+X方向的周缘部260B、260C、260D也在液浸区域AR2进行扫描。
[0146]此时，在图9中，以和从液体供应机构210供应至液浸区域AR2的液体1的每单位时间供应量大致相同的每单位时间回收量，利用液体回收机构220的液体回收部221回收液浸区AR2的液体1。此回收时，在微粒计数器226以规定的取样率计算所回收的液体中的微粒数，将计算结果供应给控制装置CONT。
[0147]在下一步骤2104中，控制装置CONT判定微粒计数器226所供应的微粒数是否在规定容许范围内，若在范围内时即移至步骤2105，将衬底P在液浸区域AR2所扫描的图14所示周缘部260A～260D的状态用对准传感器ALG不经由液体1进行拍摄。在其次的步骤2106中，控制装置CONT根据用对准传感器ALG所拍摄的图像，判定衬底P周缘部260A～260D的区域、特别是边缘部Pe或其附近区域的抗蚀剂膜及面涂层膜的状态是否正常。更具体地说，控制装置CONT判定抗蚀剂膜及面涂层膜的至少一部分的剥落量是否在容许范围内。当该剥落量在容许范围内时，移至步骤2107使用液浸法进行经由掩膜M对衬底P的曝光。
[0148]另一方面，在步骤2104所回收的液体的微粒数超过容许范围时，及/或步骤2106的材料剥落量超过容许范围时，控制装置CONT判定衬底P的抗蚀剂膜及/或面涂层膜不适合液浸法的曝光，移至步骤2108停止对衬底P的曝光，根据需要进行该抗蚀剂膜及/或面涂层膜不适合液浸法的曝光的原因分析。
[0149]如上所述，根据本例，由于实施了步骤2101、2103、2105、2106，因此无须实际进行对衬底P的曝光，就能判定衬底P的膜是否适合液浸法的曝光。因此，能提高组件制造的生产率。
另外，在本例中，由于在步骤2106中产生膜(此处，指膜的剥落量超过容许范围的情形时)的异常时，有停止该衬底P的曝光的步骤(步骤2108)，因此其后的曝光不会有浪费的情形。
[0150]另外，在本例中，由于具有对衬底P的抗蚀剂上涂布面涂层膜的步骤(步骤2102)，因此也能判定该面涂层是否适合液浸法的曝光。此外，在抗蚀剂膜上不需要面涂层膜时，可省略步骤2102。另外，也可在步骤2102与抗蚀剂保护用的面涂层一起、或代替之而涂布反射防止用的面涂层。
[0151]另外，在步骤2103中用液浸区域AR2扫描的衬底P上的区域，包含衬底P边缘部的至少一部分。由于在该边缘部特别易产生抗蚀剂膜等膜的剥落，因此能确实判定该抗蚀剂膜等的膜材料有无因液浸法的曝光而剥落。另外，在本例中，由于实施步骤2101、2103、2104，计算所回收的液体中的微粒数，因此无须实际进行对衬底P的曝光，即能判定衬底P的抗蚀剂膜等膜材料是否适合液浸法的曝光，也能判定该抗蚀剂等溶解至液体中的量是否在容许范围内。
[0151]本实施方式中，为检测从液体回收机构220的回收口223回收的液体1的异常，而测量液体1中所含微粒数，但也可取代或与其一起，例如测量所回收的液体1的电阻率、金属离子、有机体碳(TOC:total organic carbon)、气泡数、生菌数、溶氧(DO:dissovedoxygen)浓度、溶氮(DN:dissoved nitrogen)浓度等。
[0153]另外，在图15的判定顺序中的步骤2105中，可取代用对准传感器ALG检查衬底P的膜状态，而在将衬底P装载于图9的衬底载台PST上后，在图13的膜厚测量装置261的下方使衬底P移动于X方向、Y方向，在不供应液体的干燥状态下测量衬底P上最上层的膜厚分布(膜厚不均)。并判定该膜厚分布是否在容许范围、即判定该膜涂布不均是否在容许范围内。据此，无须实际进行曝光就能容易的判定该膜的状态(此处，指膜厚均一性)是否适合液浸法的曝光。
[0154]此判定的结果，当认为该膜厚的不均已超过容许范围，在液浸法的曝光时易产生膜剥落、或易附着(残留)气泡时，即停止衬底P的曝光。在这种情况下，可剥去该膜而再次用涂布显影装置在基材上再涂布抗蚀剂等。并在该抗蚀剂等的膜厚的偏差在容许范围内后进行曝光，就能防止液浸法的曝光工序成为浪费。
[0155]此外，也可进行使用对准传感器ALG的衬底P膜状态的检查、与使用膜厚测量装置261的膜状态检测的双方。检测衬底P的膜状态的对准传感器ALG并不限于图像处理方式。另外，当可仅用对准传感器ALG或膜厚测量装置261检测衬底P的膜状态时，对准传感器ALG与膜厚测量装置261中不用于检查的可不设于曝光装置EX’。
[0156]另外，在本实施方式中，在进行衬底P的曝光前，判定衬底P的膜(抗蚀剂膜及/或面涂层膜)是否适合液浸曝光，当判定适合进行液浸曝光时(步骤2106为“肯定”时)，进行衬底P的液浸曝光。然而，若是仅判定衬底P的膜状态或膜材料是否适合液浸曝光的话，也可在上述程序的步骤2106之后，不进行衬底P的曝光而进行衬底P的回收。此外，衬底P的膜材料若具有多种材料时，也可就各材料分别进行上述步骤2103～2106，实施选择最佳材料的筛选(screening)处理。此外，在本实施方式中，也可取代衬底P而在衬底载台PST上配置第1实施方式所说明的虚拟衬底，例如以微粒计数器测量从虚拟衬底上所形成的液浸区域AR2回收的液体中微粒数，来取得与喷嘴构件230的异常相关的信息(有无异物等)。
[0157]另外，在第1及第2实施方式中虽使用干涉仪系统(51、56、56A～56C)来测量掩膜载台RST、衬底载台PST、及测量载台MST的各位置信息，但并不限于此，例如亦可使用供检测设于各载台的标尺(衍射光栅)的编码器系统。在这种情况下，以混合干涉仪系统与编码器系统的双方的混合系统，使用干涉仪系统的测量结果来进行编码器系统测量结果的校正(calibration)较佳。此外，也可切换使用干涉仪系统与编码器系统、或使用双方来进行载台的位置控制。
[0158]另外，在第1及第2实施方式中，可将衬底保持具PH与衬底载台PST形成为一体，也可分别构成衬底保持具PH与衬底载台PST，例如通过真空吸附等方式将衬底保持具PH固定于衬底载台PST。此外，也可将第1实施方式的本发明，适用于将各种测量器类(测量用构件)搭载于衬底载台PST的曝光装置(不具备测量载台MST的曝光装置)。另外，也可将第2实施方式的本发明，适用于装备了具有各种测量器类的测量载台的曝光装置。各种测量器类可仅将其一部分搭载于测量载台MST或衬底载台，其余则设在外部或其它构件。另外，也可将第2实施方式所示的微粒计数器226导入到第1实施方式的曝光装置EX，以进行第2实施方式所说明的处理。
[0159]另外，在第1及第2实施方式中，虽使用水(纯水)作为液浸法所使用的液体1，但亦可以是水以外的液体。例如，在曝光用光EL的光源为F2激光(波长157nm)时，作为液体1例如可使用氟系油或全氟化聚醚(PFPE)等的氟系流体。另外，作为液体1，除此以外，还可使用对曝光用光EL具有穿透性且折射率尽可能的高，并且对投影光学系统PL及衬底P表面所涂的抗蚀剂安定的(例如杉木油、cedar oil)。此外，液体1，也可使用折射率高于石英或萤石者(折射率1.6～1.8左右)。进而，也可使用折射率高于石英或萤石的材料(例如1.6以上)来形成光学元件2。
[0160]另外，半导体组件等的微组件，如图16所示，经微组件的功能、性能设计步骤(201)，根据此设计步骤制作掩膜(标线片)的步骤(202)，制造衬底(组件的基材)的步骤(203)，包含使用前述实施方式的曝光装置EX、EX’将掩膜的图案曝光至衬底的工序、将曝光后的衬底予以显影的工序、显影后衬底的加热及蚀刻工序等的衬底处理步骤(204)，组件组装步骤(205)(包含切割工序、结合工序、封装工序等的加工工序)，并经检查步骤(206)而制造，出厂。
[0161]另外，作为上述各实施方式的衬底P，除了半导体组件制造用的半导体晶片以外，还能适用于显示器组件用的玻璃衬底、薄膜磁头用的陶瓷晶片、或在曝光装置所使用的掩膜或标线片的原版(合成石英、硅晶片)、以及薄片状构件等。此外，衬底P的形状并限于圆形，亦可以是矩形等的其它形状。
[0162]另外，在上述各实施方式中，虽使用形成有转印图案的掩膜，但也可取代此掩膜，而使用例如美国专利第6778257号说明书所公开，根据应曝光图案的电子数据来形成透射图案或反射图案的电子掩膜。此电子掩膜，包含也被称为可变成形掩膜(主动式掩膜或图像产生器)，例如非发光型图像显示组件(空间光调制器)的一种的DMD(Digital Micro-mirror Device)等)。DMD具有根据规定电子数据驱动的多个反射组件(微小面镜)，多个反射组件在DMD表面排列成2维矩阵状，且以像素单位被驱动而反射、偏向曝光用光。各反射组件可调整其反射面角度。DMD的动作可用控制装置CONT来控制。控制装置CONT根据与应形成至衬底P上的图案对应的电子数据(图案信息)驱动DMD的反射组件，将照明系统IL所照射的曝光用光用反射组件加以图案化。通过DMD的使用，与使用形成有图案的掩膜进行曝光的情形相比较，在图案变更时，由于不须要掩膜更换作业及在掩膜载台的掩膜位置对准操作，因此能更为有效率的进行曝光动作。此外，使用电子掩膜的曝光装置，可不设置掩膜载台，而仅藉由衬底载台使衬底移动于X轴及Y轴方向。另外，使用DMD的曝光装置除上述美国专利外，还公开于例如日本特开平8-313842号公报、特开2004-304135号公报。此处，在指定国及选择国的法令允许的范围下，援用美国专利第6778257号公报的公开作为本文记载的一部分。
[0163]另外，作为曝光装置EX、EX’，除了使掩膜M与衬底P同步移动用扫描曝光掩膜M图案的步进扫描方式的扫描型曝光装置(扫描步进器)之外，还能适用于在掩膜M与衬底P静止的状态下使掩膜M的图案一次曝光，并依序步进移动衬底P的步进重复方式的投影曝光装置(步进器)。
[0164]作为曝光装置EX、EX’的种类，并不限于将半导体组件图案曝光至衬底P的半导体组件制造用的曝光装置，还能广泛地适用于液晶显示组件制造用或显示器制造用的曝光装置，或用于制造薄膜磁头、微机器、MEMS、DNA芯片、摄像元件(CCD)，或标线片、掩膜等的曝光装置等。
[0165]另外，本发明的曝光装置以及适用于维修方法以及曝光方法的曝光装置不一定具备投影光学系统。只要在能够实施本发明的范围内具备把来自光源的曝光用光导向衬底的光学构件就足够了。另外，照明光学系统、光源也可以与曝光装置分别设置。另外，依照上述的曝光方式还可以省略掩膜载台以及/或者衬底载台。
[0166]另外，本发明还能适用于例如特开平10-163099号公报、特开平10-214783号公报(对应美国专利第6341007号、第6400441号、第6549269号及第6590634号说明书)、特表2000-505958号公报(对应美国专利第5969441号说明书)或美国专利第6208407号说明书等所公开的具备多个衬底载台的多载台型曝光装置。在这种情况下，对多个衬底载台分别实施洗净。关于多载台型曝光装置，在指定国及选择国的国内法令允许的范围下，援用上述美国专利的公开作为本说明书记载的一部分。
[0167]另外，上述各实施方式的投影光学系统虽将前端光学元件像面侧的光路空间(液浸空间)充满液体，但也可采用例如国际公开第2004/019128号小册子所公开的将前端光学元件的掩膜侧光路空间以液体充满的投影光学系统。此外，本发明还能适用于将投影光学系统与衬底间的液浸区域以其周围的气帘(air curtain)来加以保持的液浸型曝光装置。
[0168]另外，本发明还能适用于例如国际公开第2001/035168号小册子所公开的通过在衬底上形成干涉条纹，以在衬底上形成线与空间图案(line & space pattern)的曝光装置。在这种情况下，经由光学构件与衬底P间的液体对衬底P照射曝光用光。
[0169]在上述各实施方式中，不须将液体供应部及/或液体回收部设于曝光装置，而可代之以例如设置曝光装置的工厂等的设备。另外，液浸曝光所需的曝光装置及附属设置的构造，不限于上述构造，也可使用例如欧洲专利公开第1420298号公报、国际公开第2004/055803号小册子、国际公开第2004/057590号小册子、国际公开第2005/029559小册子(对应美国专利公开第2006/0231206号)、国际公开第2004/086468小册子(对应美国专利公开第2005/0280791号)、特开2004-289126号公报(对应美国专利第6952253号)等所记载的。关于液浸曝光装置的液浸机构及其附属机器，在指定国及选择国的法令允许的范围下，援用上述美国专利或美国专利公开等的公开作为本说明书记载的一部分。
[0170]在上述实施方式中，作为液浸法所使用的液体1，可使用对曝光用光的折透射率高于水，例如折射率为1.6～1.8左右的。此处，作为折射率高于纯水(例如1.5以上)的液体1，例如有折射率约1.50的异丙醇(Isopropanol)、折射率约1.61的丙三醇(Glycerol)等具有C-H键、O-H键的规定液体，己烷、庚烷、癸烷等的规定液体(有机溶剂)、折射率约1.60的十氢奈(Decalin:Decahydronaphthalene)等。或者，液体1也可以是这些规定液体中任意2种类以上液体的混合物，或于纯水中添加(混合)上述液体。另外，作为液体1，也可以是在纯水中添加(混合)H+、Cs+、K+、Cl+、SO4 2-、PO4 2-等碱或酸。进而，也可以是在纯水中添加(混合)Al氧化物等的微粒子。另外，作为液体1，以光的吸收系数小、温度依存性少、且对投影光学系统PL、及/或衬底P表面所涂的感光材(及面涂膜或反射防止膜等)安定的材料较佳。作为液体1，也可使用超临界流体。此外，可于衬底P设置隔离液体以保护感光材及基材的面涂层膜等。
[0171]另外，也可取代氟化钙(萤石)，而以例如石英(二氧化硅)、或氟化钡、氟化锶、氟化锂、氟化镁等的氟化合物的单结晶材料来形成投影光学系统PL的光学元件(终端光学元件)2，或以折射率(例如1.6以上)高于石英及萤石的材料来形成。作为折射率1.6以上的材料，例如，可如国际公开第2005/059617号小册子所公开的，使用蓝宝石、二氧化锗等，或者，也可如国际公开第2005/059618号小册子所公开的，使用氯化钾(折射率约1.75)等。
[0172]使用液浸法的情况，可例如国际公开第2004/019128号小册子(对应美国专利公开第2005/0248856号)所公开的，除终端光学元件像面侧的光路外，也将终端光学元件的物体面侧光路用液体充满。进而，也可在终端光学元件表面的一部分(至少包含与液体的接触面)或全部，形成具有亲液性及/或溶解防止功能的薄膜。此外，石英虽与液体的亲和性高，且也不须需溶解防止膜，但石英最少形成有溶解防止膜为佳。
[0173]在上述各实施方式中，虽使用ArF准分子激光来作为曝光用光EL的光源，也可如国际公开第1999/46835号小册子(对应美国专利7023610号)所公开的，使用包含DFB半导体激光或光纤激光等固体激光源、光纤放大器等的光放大部、以及波长转换部等，输出波长193nm的脉冲光的高谐波产生装置。此外，在上述实施方式中，投影区域(曝光区域)虽为矩形，但亦可以是例如圆弧形、梯形、平行四边形、或菱形等其它形状。
[0174]进而，例如特表2004-519850号公报(对应美国专利第6611316号)所公开的，本发明也可适用于将2个标线片图案透过投影光学系统在晶片上合成，以1次扫描曝光在晶片上的1个照射区域大致同时双重曝光的曝光装置。如前所述，本发明并不限于上述实施方式，在不脱离本发明要旨范围内可取各种构成。
[0175]如以上所述，本案实施方式的曝光装置EX、EX’，将包含本案申请专利范围所举的各构成要素的各种子系统，以能保持规定机械精度、电气精度、光学精度的方式，加以组装制造。为确保上述各种精度，在此组装的前后，对各种光学系统进行用于实现光学精度的调整，对各种机械系统进行用于实现机械精度的调整，对各种电气系统则进行用于实现各种电气精度的调整。各种子系统组装至曝光装置的步骤，包含各种子系统彼此间的机械连接、电气回路的连接、气压回路的连接等。该各种子系统组装至曝光装置的步骤前，当然有各个子系统的组装步骤。各种子系统组装至曝光装置的步骤结束后，即进行综合调整，以确保曝光装置全体的各种精度。另外，曝光装置的制造以在温度及清洁度等受到管理的无尘室中进行为佳。
[0176]关于本案说明书所公开的各种美国专利及美国专利申请公开等，除特别表示援用于此外，在指定国及选择国的法令允许的范围下，其公开也作为本文的一部分。
[0177]根据本发明，由于能有效地判定以液浸法进行曝光的曝光装置的液体接触部的至少一部分是否有异常，因此在发现异常时，可中止曝光动作而通过洗净等的进行，来减少其后的曝光时液浸区域的液体中的异物量，以高精度制造组件。此外，根据本发明，可不需实际进行曝光，就能容易的判定曝光对象衬底的状态或该衬底的膜状态是否适于曝光，能提高组件制造的生产率。因此，本发明能对包括我国的半导体产业的精密机器产业的发展有非常显著的贡献。

Claims (90)

1.一种经由光学构件及液体利用曝光用光使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括:
第1步骤，在规定动作中、以光学方式观察与上述液体接触的液体接触部的至少一部分的被检测部的状态，将所得到的第1观察信息进行储存；
第2步骤，在上述规定动作后，以光学方式观察上述被检测部的状态以获得第2观察信息；以及
第3步骤，比较上述第1观察信息与上述第2观察信息，来判定上述被检测部有无异常。
2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于:
将上述光学构件与上述衬底之间用液体充满而形成液浸空间，利用上述曝光用光经由上述光学构件与上述液体使上述衬底曝光。
3.根据权利要求1或2所述的曝光方法，其特征在于包括:
第4步骤，在上述第3步骤有异常时停止曝光动作。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
在上述第3步骤判定的有无异常是指上述被检测部上有无异物。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
为了以光学方式观察上述被检测部的状态而使用用于进行上述衬底上的位置对准用标记的位置检测的图像处理方式的对准传感器。
6.根据权利要求5所述的曝光方法，其特征在于:
在使用上述对准传感器进行上述衬底上的位置对准用标记的位置检测时，实施上述第2步骤。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
为了以光学方式观察上述被检测部的状态而使用与上述光学构件对向配置的载台上所设的摄像装置。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
上述液体接触部至少在上述衬底的曝光中与上述液体接触。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
上述液体接触部，包含将上述光学构件与上述衬底之间用上述液体充满而形成液浸空间的液浸空间形成构件的至少一部分。
10.根据权利要求9所述的曝光方法，其特征在于:
上述被检测部，包含上述液浸空间形成构件的上述液体的供应口及回收口的至少一方。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
上述液体接触部，包含与上述光学构件对向配置的可动构件的至少一部分。
12.根据权利要求11所述的曝光方法，其特征在于:
上述被检测部，包含上述可动构件的平坦面及/或测量部。
13.根据权利要求1至10中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
在上述衬底的曝光动作后实施上述第2步骤。
14.根据权利要求1至11中任一项所述的曝光方法，其特征在于包括:
在上述第3步骤有异常时洗净上述液体接触部的步骤。
15.一种经由光学构件及液体用曝光用光使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括:
在规定动作中检测涉及上述液体接触的液体接触部的状态的信息；
根据上述检测信息、以及涉及上述规定动作前的上述液体接触部的状态的基准信息，检测涉及上述液体接触部的异常的信息。
16.根据权利要求15所述的曝光方法，其特征在于:
上述液体接触部包含以上述液体充满上述光学构件与上述衬底之间而形成液浸空间的液浸空间形成构件；与上述光学构件对向配置的可动构件；以及上述光学构件中的至少一个。
17.根据权利要求16所述的曝光方法，其特征在于:
由检测上述衬底上标记的标记检测系统来检测关于上述可动构件的状态的信息。
18.根据权利要求17所述的曝光方法，其特征在于:
上述检测信息包含关于上述可动构件的平坦面及/或测量部的信息。
19.根据权利要求17或18所述的曝光方法，其特征在于:
上述可动构件包含保持上述衬底的第1载台；可独立于上述第1载台移动的第2载台中的至少一方。
20.根据权利要求16至19中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
使用与上述液浸空间形成构件及/或上述光学构件对向配置的检测器，来检测涉及其状态的信息。
21.根据权利要求15至20中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
依照涉及上述异常的信息来判断曝光动作的中止或持续。
22.根据权利要求15至21中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
依照涉及上述异常的信息来判断上述液体接触部是否需保养。
23.根据权利要求22所述的曝光方法，其特征在于:
上述保养包含上述液体接触部的洗净及/或更换。
24.根据权利要求15至23中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
至少在上述规定动作之前检测上述基准信息。
25.根据权利要求15至24中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
上述基准信息至少包含涉及与上述液体触前的上述液体接触部的状态的信息。
26.根据权利要求15至25中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
上述规定动作至少包含上述衬底的曝光动作。
27.一种经由光学构件及液体用曝光用光使衬底曝光的曝光装置，其特征在于包括:
光学装置，以光学方式观察接触上述液体的液体接触部的至少一部分的被检测部的状态；
记忆装置，储存上述光学装置的观察信息；以及
控制装置，比较由上述光学装置观察上述被检测部多次的观察信息，以判定上述被检测部有无异常。
28.根据权利要求27所述的曝光装置，其特征在于:
将上述光学构件与上述衬底之间用液体充满而形成液浸空间，用上述曝光用光经由上述光学构件与上述液体使上述衬底曝光。
29.根据权利要求27或28所述的曝光装置，其特征在于:
上述控制装置在上述被检测部有异常时中止曝光动作。
30.根据权利要求27至29中任一项所述的曝光装置，其特征在于:
上述光学装置包含用于检测上述衬底上的位置对准用标记的位置的图像处理方式的对准传感器。
31.根据权利要求27至30中任一项所述的曝光装置，其特征在于还包括:
与上述光学构件对向配置的载台，
上述光学装置包含设置于上述载台上的摄像装置。
32.根据权利要求27至31中任一项所述的曝光装置，其特征在于:
上述光学装置包含荧光显微镜，所述荧光显微镜检测上述曝光用光照射于上述被检测部时所产生的荧光。
33.根据权利要求27至32中任一项所述的曝光装置，其特征在于:
上述光学装置包含分光计。
34.根据权利要求27至33中任一项所述的曝光装置，其特征在于:
上述液体接触部至少在上述衬底的曝光中与上述液体接触。
35.根据权利要求27至34中任一项所述的曝光装置，其特征在于:
上述液体接触部包含将上述光学构件与上述衬底之间用上述液体充满以形成液浸空间的液浸空间形成构件的至少一部分。
36.根据权利要求35所述的曝光装置，其特征在于:
上述被检测部包含上述液浸空间形成构件的上述液体的供应口及回收口的至少一方。
37.根据权利要求27至36中任一项所述的曝光装置，其特征在于:
上述液体接触部包含与上述光学构件对向配置的测量构件的至少一部分。
38.根据权利要求37所述的曝光装置，其特征在于还包括:
设置上述测量构件的载台。
39.根据权利要求27至38中任一项所述的曝光装置，其特征在于包括:
洗净上述被检查部的洗净构件。
40.一种经由光学构件及液体用曝光用光使衬底曝光的曝光装置，其特征在于包括:
光学装置，在规定动作中检测涉及与上述液体接触的液体接触部的状态的信息；以及
控制装置，基于上述检测信息、及涉及上述规定动作前的上述液体接触部状态的基准信息，检测涉及上述液体接触部的异常的信息。
41.根据权利要求40所述的曝光装置，其特征在于包括:
与上述光学构件对向配置的可动构件，
上述液体接触部包含上述可动构件与上述光学构件的至少一个。
42.根据权利要求41所述的曝光装置，其特征在于:
上述光学装置包含检测上述衬底上的标记的标记检测系统，通过上述标记检测系统检测涉及上述可动构件的状态的信息。
43.根据权利要求41或42所述的曝光装置，其特征在于:
上述光学装置检测涉及上述可动构件的平坦面及/或测量部的信息。
44.根据权利要求41至43中任一项所述的曝光装置，其特征在于:
上述可动构件包含保持上述衬底的第1载台，以及可独立于上述第1载台移动的第2载台的至少一个。
45.根据权利要求40至44中任一项所述的曝光装置，其特征在于包括:
将上述光学构件与上述衬底之间充满上述液体以形成液浸空间的液浸空间形成构件，
上述液体接触部包含上述液浸空间形成构件。
46.根据权利要求45所述的曝光装置，其特征在于:
上述光学装置包含与上述液浸空间形成构件及/或上述光学构件对向配置的检测器。
47.根据权利要求40至46中任一项所述的曝光装置，其特征在于:
上述光学装置包含摄像装置、荧光显微镜、及分光计的至少一个。
48.根据权利要求40至47中任一项所述的曝光装置，其特征在于:
上述控制装置依照涉及上述异常的信息来判断中止或持续曝光动作。
49.根据权利要求40至48中任一项所述的曝光装置，其特征在于包括:
用于维修上述液体接触部的维修构件，
上述控制装置依照涉及上述异常的信息来判断是否需要进行上述维修。
50.根据权利要求49所述的曝光装置，其特征在于:
上述维修构件包含洗净上述液体接触部的洗净构件。
51.根据权利要求40至50中任一项所述的曝光装置，其特征在于:
至少在上述规定动作之前检测上述基准信息。
52.根据权利要求40至51中任一项所述的曝光装置，其特征在于:
上述基准信息至少包含涉及上述液体接触前的上述液体接触部的状态的信息。
53.一种用于维修经由光学构件及液体使衬底曝光的曝光装置的维修方法，其特征在于包括:
在规定动作中检测涉及与上述液体接触的液体接触部的状态的信息；以及
基于上述检测信息、及涉及上述规定动作前的上述液体接触部状态的基准信息，检测涉及上述液体接触部的异常的信息。
54.根据权利要求53所述的维修方法，其特征在于:
上述液体接触部包含将上述光学构件与上述衬底之间充满上述液体以形成液浸空间的液浸空间形成构件、与上述光学构件对向配置的可动构件、以及上述光学构件中的至少一个。
55.根据权利要求54所述的维修方法，其特征在于:
上述检测信息包含涉及上述可动构件的平坦面及/或测量部的信息。
56.根据权利要求54或55所述的维修方法，其特征在于:
上述检测信息包含涉及上述液浸空间形成构件的液体回收部的信息。
57.根据权利要求53至56中任一项所述的维修方法，其特征在于:
依照涉及上述异常的信息来判断是否需进行上述维修。
58.根据权利要求57所述的维修方法，其特征在于:
上述维修包含上述液体接触部的洗净及/或更换。
59.一种用曝光用光经由液体使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括:
第1步骤，仅对上述衬底上的部分区域供应上述液体；
第2步骤，回收在上述第1步骤所供应的上述液体的至少一部分，并检测上述回收的液体状态；
第3步骤，检查上述衬底的膜的状态；以及
第4步骤，基于上述第2步骤与上述第3步骤中的至少一方的检测结果，判定上述衬底有无异常。
60.根据权利要求59所述的曝光方法，其特征在于:
与上述曝光用光通过的光学构件对向配置上述衬底，将液体供应给上述光学构件与上述衬底之间，用上述曝光用光经由上述光学构件与上述液体使上述衬底曝光。
61.根据权利要求59或60所述的曝光方法，其特征在于:
在上述第4步骤有异常时停止上述衬底的曝光。
62.根据权利要求59至61中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
上述衬底的膜包含用感光材料形成的膜。
63.根据权利要求59至62中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
上述衬底的膜包含在感光材料上所涂布的面涂层。
64.根据权利要求59至63中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
在上述第3步骤中检查上述衬底的膜有无剥离。
65.根据权利要求59至64中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
在上述第1步骤中供应上述液体的上述衬底上的区域，包含上述衬底的边缘部的至少一部分。
66.根据权利要求59至65中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
上述第3步骤包含以干燥状态检查上述衬底上的膜的状态的步骤。
67.根据权利要求66所述的曝光方法，其特征在于:
上述第3步骤包含测量上述衬底的膜厚度分布的测量步骤。
68.根据权利要求67所述的曝光方法，其特征在于包括:
第6步骤，在第3步骤中测量的厚度分布超过容许范围时，剥离上述衬底的膜。
69.根据权利要求59至68中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
在上述第4步骤中没有异常时，开始经由上述液体的衬底的曝光。
70.一种经由光学构件及液体用曝光用光使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括:
将上述光学构件与物体之间充满液体以形成液浸空间，且回收上述液浸空间的液体；
检测涉及上述回收的液体的信息；以及
基于上述检测信息来检测涉及上述液体接触的液体接触部的异常的信息。
71.根据权利要求70所述的曝光方法，其特征在于:
上述物体包含上述衬底。
72.根据权利要求70或71所述的曝光方法，其特征在于:
检测涉及上述回收的液体中异物的信息。
73.根据权利要求70至72中任一项所述的曝光方法，其特征在于:
依照涉及上述异常的信息来判断中止或持续曝光动作。
74.一种组件制造方法，其特征在于包括:
使用权利要求1至26、及59至73中任一项所述的曝光方法使衬底曝光；
使曝光后的衬底显影；以及
加工显影后的衬底。
75.一种用曝光用光经由液体使衬底曝光的曝光装置，其特征在于包括:
液体供应系统，仅对上述衬底上的一部分区域供应上述液体；
第1检测器，回收用上述液体供应系统所供应的上述液体，并检测上述回收液体的状态；
第2检测器，检测上述衬底的膜的状态；以及
控制装置，基于上述第1检测器及第2检测器的至少一方的检测结果，判定上述衬底有无异常。
76.根据权利要求75所述的曝光装置，其特征在于:
上述第1检测器包含微粒计数器。
77.根据权利要求75或76所述的曝光装置，其特征在于:
上述第2检测器包含对准传感器。
78.根据权利要求75至77中任一项所述的曝光装置，其特征在于:
在上述第1检测器及第2检测器双方的检测结果没有异常时，上述控制装置开始液浸曝光。
79.根据权利要求75至78中任一项所述的曝光装置，其特征在于:
上述控制装置基于上述第1检测器及第2检测器双方的检测结果，判定上述衬底有无异常。
80.根据权利要求75至79中任一项所述的曝光装置，其特征在于还包括:
保持上述衬底的载台，
一边移动上述载台一边用上述第2检测器检测在上述衬底周缘部的膜的状态。
81.一种经由光学构件及液体用曝光用光使衬底曝光的曝光装置，其特征在于包括:
液浸机构，将上述光学构件与物体之间充满液体以形成液浸空间，且回收上述液浸空间的液体；
检测装置，检测涉及上述回收液体的信息；以及
控制装置，基于上述检测信息来检测涉及与上述液体接触的液体接触部的异常的信息。
82.根据权利要求81所述的曝光装置，其特征在于:
上述物体包含上述衬底。
83.根据权利要求81或82所述的曝光装置，其特征在于:
上述检测装置检测涉及上述回收的液体中异物的信息。
84.根据权利要求83所述的曝光装置，其特征在于:
上述检测装置包含微粒计数器。
85.根据权利要求81至84中任一项所述的曝光装置，其特征在于:
上述控制装置依照涉及上述异常的信息来判断中止或持续曝光动作。
86.一种组件制造方法，其特征在于包括:
使用权利要求27至52、及75至85中任一项所述的曝光装置使衬底曝光；
使曝光后的衬底显影；以及
加工显影后的衬底。
87.一种经由光学构件及液体用曝光用光使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括:
在规定动作中检测涉及与上述液体接触的液体接触部的状态的信息；以及
基于上述检测信息来检测涉及上述液体接触部的异常的信息。
88.根据权利要求87所述的曝光方法，其特征在于:
上述检测信息包含用荧光显微镜检测上述液体接触部所得到的信息。
89.一种经由光学构件及液体用曝光用光使衬底曝光的曝光装置，其特征在于包括:
光学装置，检测在规定动作中涉及与上述液体接触的液体接触部的状态的信息；以及
控制装置，基于上述检测信息来检测涉及上述液体接触部的异常的信息。
90.根据权利要求89所述的曝光装置，其特征在于:
上述光学装置包含荧光显微镜。
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