CN101302581A - 处理液再生方法及含于处理液的金属的回收方法 - Google Patents
处理液再生方法及含于处理液的金属的回收方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101302581A CN101302581A CNA2008100967476A CN200810096747A CN101302581A CN 101302581 A CN101302581 A CN 101302581A CN A2008100967476 A CNA2008100967476 A CN A2008100967476A CN 200810096747 A CN200810096747 A CN 200810096747A CN 101302581 A CN101302581 A CN 101302581A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- movable container
- eluant
- treatment solution
- supply
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67161—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
- H01L21/67167—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers surrounding a central transfer chamber
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Water Treatment By Sorption (AREA)
- Weting (AREA)
- Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
本发明提供能够以低成本有效地除去基板处理用处理液中含有的金属成分,再生该处理液的处理液再生方法等。包括:在进行基板处理的处理区域中,使处理液通过内部填充有吸附金属离子的吸附材料的可移式容器(1)内,将该处理液中的金属成分吸附于吸附材料而分离、除去的处理液再生工序;将使处理液通过的可移式容器(1)输送至从处理区域隔离的区域即再生吸附材料的吸附材料再生区域的第一输送工序;在吸附材料再生区域中,使洗提液通过从处理区域输送的可移式容器(1)内,洗提吸附于吸附材料的金属,再生该吸附材料的吸附材料再生工序;将再生了吸附材料的可移式容器(1)从吸附材料再生区域回送至处理区域的第二输送工序,在处理液再生工序中,使用吸附材料再生后的可移式容器(1)。
Description
技术领域
本发明涉及使用内部填充有吸附金属离子的吸附材料的可移式容器,再生由于基板处理而含有金属成分的处理液的方法、及回收由于基板处理而在处理液中含有的金属成分的方法。
背景技术
例如,在制造半导体、(硅)晶片、液晶玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板等各种基板的工序中,有向这些基板供给蚀刻液或显影液、清洗液等各种处理液而处理该基板的工序。
作为使用蚀刻液的处理(蚀刻处理)的一例,可以举出通过如下所述的蚀刻装置实施该蚀刻处理,即:具备贮存蚀刻液的贮存槽、蚀刻基板的基板处理机构、将贮存槽内的蚀刻液向基板处理机构供给,并将供给的蚀刻液从该基板处理机构回收,使蚀刻液在贮存槽和基板处理机构之间循环的蚀刻液循环机构(参照特开2000-96264号公报)。
所述基板处理机构包括:具备闭塞空间的处理腔室、配设于处理腔室内且将基板水平输送的多个输送辊、和配设于处理腔室内且朝向基板的上表面喷出蚀刻液的多个喷嘴体,所述蚀刻液循环机构包括:连接贮存槽和各喷嘴体的供给管、经由供给管向各喷嘴体供给蚀刻液的供给泵、和连接处理腔室的底部和贮存槽的回收管。
根据该蚀刻装置可知,通过输送辊使基板在规定方向上输送,并且,将通过供给泵经由供给管供给于各喷嘴体的贮存槽内的蚀刻液从这些各喷嘴体向基板的上表面喷出,利用所述蚀刻液蚀刻基板。然后,通过回收管,将喷出在基板的上表面的蚀刻液从处理腔室内回收至贮存槽内。
然而,例如,若对形成于基板的上表面的氧化铟锡膜等金属膜进行蚀刻,则构成该金属膜的所谓铟或锡等金属溶解于蚀刻液中,因此,在使蚀刻液在贮存槽和基板处理机构之间循环地构成的上述蚀刻装置中,贮存槽内的含于蚀刻液的金属成分逐渐增加,导致不能有效地实施蚀刻处理的问题、或发生得不到精度良好的蚀刻形状的问题。
从而,在上述蚀刻装置中,不得不定期更换贮存槽内的蚀刻液,由于蚀刻液的更换所花费的费用(更换的蚀刻液的废弃处理费用或更换的蚀刻液的购入费用)而导致处理成本增加。
因此,如特开2005-325082号公报中的记载,提出了使用离子交换树脂从贮存槽内的蚀刻液分离金属成分,将其除去后,再利用该蚀刻液的方法。
【专利文献1】特开2000-96264号公报
【专利文献2】特开2005-325082号公报
然而,上述方法中,仅通过利用离子交换树脂分离蚀刻液中的金属成分、将其除去时,导致没有回收分离的金属成分的问题。有时所述金属膜例如使用铟等非常高价的金属,此时,优选回收溶解于蚀刻液的金属。
另外,进行从蚀刻液分离、除去金属成分的处理需要相应的设备,因此,基板制造人员不能容易地实施。另一方面,在废液处理人员等实施的情况下,也不得不通过油罐车将使用后的蚀刻液从基板制造人员侧向废液处理人员侧输送,并通过油罐车将处理后的废液(能够再利用的蚀刻液)从废液处理人员侧向基板制造人员侧输送,导致输送成本高的问题或不够有效的问题。
另外,进而,在废液处理人员回收溶解于蚀刻液中的金属的情况下,除了上述问题外,由于含于蚀刻液的金属的浓度低,因此,回收该蚀刻液中的金属成分并不容易,导致非常花费劳力的问题。
发明内容
本发明是鉴于以上的实际情况而做成的,其目的在于提供能够以低成本有效除去含于基板处理用处理液的金属成分,并将该处理液再生,对环境保护起到贡献作用的处理液再生方法、及能够以低成本有效回收含于基板处理用处理液的金属成分的含于处理液的金属的回收方法。
为了实现上述目的,本发明涉及,
使用内部填充有吸附金属离子的吸附材料的可移式容器,
在进行基板处理的处理区域、和从该处理区域隔离的区域即再生吸附了处理液中的金属成分的吸附材料的吸附材料再生区域或回收吸附于吸附材料的金属的回收区域之间,输送所述可移式容器而进行的处理液再生方法或含于处理液中的金属的回收方法。
还有,所述处理液再生方法包括:在所述处理区域中,使由于基板处理而含有金属成分的处理液通过所述可移式容器内,将该处理液中的金属成分吸附于所述吸附材料而分离、除去的处理液再生工序;将所述处理液通过的可移式容器(使用后的可移式容器即在吸附材料上吸附有金属的可移式容器)从所述处理区域输送至所述吸附材料再生区域的第一输送工序;在所述吸附材料再生区域中,使洗提液通过从所述处理区域输送的可移式容器内,洗提吸附于所述吸附材料的金属,再生该吸附材料的吸附材料再生工序;将再生了所述吸附材料的可移式容器(再生后的可移式容器即在吸附材料上未吸附金属的可移式容器)从所述吸附材料再生区域回送至所述处理区域的第二输送工序,在所述处理液再生工序中,使用吸附材料再生后的可移式容器。还有,根据需要,从通过可移式容器内的洗提液回收洗提的金属也可。
从而,根据本发明的处理液再生方法可知,在处理区域中将处理液中的金属成分吸附于可移式容器内的吸附材料而除去,将使用后的可移式容器输送至吸附材料再生区域而再生吸附材料,将再生后的可移式容器回送至处理区域而再使用,因此,在处理区域侧仅设置使处理液通过可移式容器内,且将该处理液中的金属成分吸附于吸附材料的设备即可,能够以简单且廉价的设备再生处理液(形成为能够再利用状态)。
另外,输送对象不是处理液自身,而是可移式容器,因此,重量轻且容易操作,而且输送成本与油罐车相比为非常低,能够以通常的卡车输送。另外,进而,将再生后的可移式容器回送至处理区域而再使用,因此,能够反复使用可移式容器(吸附材料)。由于这些原因,能够以低成本有效地再生由于基板处理而含有金属成分的处理液。
另外,通过这样再生处理液,实现处理液的寿命延长化,能够延长其更换周期,因此,节省新的处理液的购入费用或已使用的处理液的废弃费用等,抑制处理液所花费的费用,或能够在没有为了更换处理液而停止的情况下连续地进行基板处理,能够将基板处理所花费的成本抑制为低的成本。另外,能够设为只需要相当于废弃处置的处理液的减少引起的,或由于基板处理而减少的量的新的处理液,因此,还能够对环境保护起到贡献作用。
另一方面,在含于所述处理液的金属的回收方法中,在所述处理区域中,使由于基板处理而含有金属成分的处理液通过所述可移式容器内,将该处理液中的金属成分吸附于所述吸附材料,接着,将所述可移式容器(吸附后的可移式容器即在吸附材料上吸附有金属的可移式容器)输送至所述回收区域,然后,在所述回收区域中,使洗提液通过所述可移式容器(从处理区域输送的可移式容器),进行洗提吸附于所述吸附材料的处理、和从通过的洗提液回收洗提的金属的处理,然后,将所述可移式容器(回收后的可移式容器即在吸附材料上未吸附金属的可移式容器)回送至所述处理区域而再使用。
从而,根据本发明的处理液中含有的金属的回收方法可知,在处理区域中将处理液中的金属成分吸附于可移式容器内的吸附材料上,将吸附后的可移式容器输送至回收区域,回收在吸附材料上吸附的金属,将回收后的可移式容器回送至处理区域而再使用,因此,能够有效地回收由于基板处理而溶解于处理液的金属。
另外,仅在处理区域侧使处理液通过可移式容器内,将该处理液中的金属成分吸附于吸附材料上即可,因此,能够以简单且廉价的设备应对。另外,通过在可移式容器内的吸附材料上吸附处理液中的金属成分,能够将该金属成分以浓缩的状态集聚在可移式容器内,能够容易地回收溶解于处理液的金属。另外,输送对象不是处理液自身,而是可移式容器,因此,重量轻且容易操作,而且输送成本与油罐车相比为非常低,能够以通常的卡车输送。另外,进而,将回收后的可移式容器回送至处理区域而再使用,因此,能够反复使用可移式容器(吸附材料)。由于这些原因,能够以低成本有效地再生由于基板处理而溶解于处理液的金属。
还有,在所述处理液再生方法或处理液中含有的金属的回收方法中,在所述吸附材料再生工序或回收区域中,使所述洗提液通过后,使清洗液通过所述可移式容器内,清洗该可移式容器的内部也可。
若可移式容器的内部残留有洗提液,则在处理区域中使处理液通过时,处理液和洗提液混合,可能对使用该处理液的基板处理产生坏的影响,但使洗提液通过后,使清洗液通过,由此能够防止残留于可移式容器内的洗提液流出而发生如上所述的不妥善情况的情况。
另外,在所述处理液再生方法或含于处理液的金属的回收方法中,在所述吸附材料再生工序或回收区域使清洗液不通过可移式容器内的情况下,也可以在该可移式容器形成:用于向内部供给所述处理液及洗提液的供给部、和用于向外部排出从该供给部供给于内部的处理液及洗提液的排出部,
在所述处理液再生工序或处理区域中,使用第一通液装置,所述第一通液装置具备:以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的供给部,供给所述处理液的处理液供给管;和以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的排出部,回收所述处理液的处理液回收管,
并且,使所述处理液供给管与所述供给部连接,使所述处理液回收管与所述排出部连接后,使所述处理液以从所述供给部流入所述可移式容器的内部而从所述排出部排出的方式通液,然后,从所述供给部卸下所述处理液供给管,从所述排出部卸下所述处理液回收管,
在所述吸附材料再生工序或回收区域中,使用第二通液装置,所述第二通液装置具备:以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的供给部,供给所述洗提液的洗提液供给管;和以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的排出部,回收所述洗提液的洗提液回收管,
并且,使所述洗提液供给管与所述供给部连接,使所述洗提液回收管与所述排出部连接后,使所述洗提液以从所述供给部流入所述可移式容器的内部而从所述排出部排出的方式通液,然后,从所述供给部卸下所述洗提液供给管,从所述排出部卸下所述洗提液回收管,然后,可以从所述供给部卸下所述洗提液供给管,从所述排出部卸下所述洗提液回收管。
通过这样设置,能够利用第一通液装置实施使含有金属成分的处理液通过可移式容器内的处理,利用第二通液装置实施使洗提液通过在吸附材料上吸附了金属的可移式容器内的处理,从而是有效的。
另一方面,在所述处理液再生方法或含于处理液的金属的回收方法中,在所述吸附材料再生工序或回收区域不使清洗液通过可移式容器内的情况下,也可以在所述可移式容器形成:用于向内部供给所述处理液、洗提液及清洗液的供给部、和用于向外部排出从该供给部供给于内部的处理液、洗提液及清洗液的排出部,
在所述处理液再生工序或处理区域中,使用第二通液装置,所述第二通液装置具备:以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的供给部,供给所述洗提液及清洗液的供给管;和以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的排出部,回收所述洗提液及清洗液的回收管,
并且,使所述供给管与所述供给部连接,使所述回收管与所述排出部连接后,使所述洗提液以从所述供给部流入所述可移式容器的内部而从所述排出部排出的方式通液,接着,使所述清洗液以从所述供给部流入所述可移式容器的内部而从所述排出部排出方式通液,然后,从所述供给部卸下所述供给管,从所述排出部卸下所述回收管,
或者,使用第二通液装置,所述第二通液装置具备:以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的供给部,供给所述洗提液的洗提液供给管;和以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的排出部,回收所述洗提液的洗提液回收管,
及第三通液装置,第三通液装置具备:以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的供给部,供给所述清洗液的清洗液供给管;和以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的排出部,回收所述清洗液的清洗液回收管,
首先,使所述洗提液供给管与所述供给部连接,使所述洗提液回收管与所述排出部连接后,使所述洗提液以从所述供给部流入所述可移式容器的内部而从所述排出部排出的方式通液,然后,从所述供给部卸下所述洗提液供给管,从所述排出部卸下所述洗提液回收管,接着,使所述清洗液供给管与所述供给部连接,使所述清洗液回收管与所述排出部连接,使所述清洗液以从所述供给部流入内部而从所述排出部排出的方式通液后,从所述供给部卸下所述清洗液供给管,从所述排出部卸下所述清洗液回收管。
还有,作为所述处理液,例如,可以举出蚀刻液、显影液及清洗液等,但不限定于这些。另外,作为吸附于可移式容器内的吸附材料的金属,例如,可以举出铟等,不限定于此。另外,作为所述吸附材料,例如,可以举出螯合材料或离子交换树脂等,但不限定于这些。另外,作为吸附材料,使用螯合材料时,所述洗提液可以采用盐酸或硫酸或氢氧化钠等,所述清洗液可以采用纯水等,作为吸附材料使用离子交换树脂时,所述洗提液可以采用盐酸或氢氧化钠等,所述清洗液可以采用纯水等。
如上所述,根据本发明的处理液再生方法可知,使用内部填充有吸附材料的可移式容器,将该可移式容器在回收区域和吸附材料再生区域之间输送,因此,能够以低成本有效地除去基板处理用处理液中含有的金属成分,再生该处理液,能够对环境保护起到贡献作用。另外,根据本发明的处理液中含有的金属的回收方法可知,使用内部填充有吸附材料的可移式容器,将该可移式容器在回收区域和吸附材料再生区域之间输送,因此,能够以低成本有效地回收含于基板处理用处理液中的金属成分。
附图说明
图1是用于说明本发明的第一实施方式的蚀刻液再生方法的说明图。
图2是用于说明第一实施方式的蚀刻液再生方法的流程图。
图3是表示第一实施方式中的基板处理装置等的概略结构的说明图。
图4是表示第一实施方式中的吸附材料再生装置等的概略结构的说明图。
图5是表示本发明的其他实施方式中的吸附材料再生装置(金属回收装置)等的概略结构的说明图。
图6是用于说明本发明的第二实施方式的金属回收方法的说明图。
图7是用于说明第二实施方式的金属回收方法的流程图。
图中:1-可移式容器;10-基板处理装置;11-贮存槽;12-基板处理机构;13-处理腔室;14-输送辊;15-流通管;16-喷嘴体;20-蚀刻液循环机构;21-供给管;22-供给泵;23-回收管;25-控制装置;30-蚀刻液通液机构;31-第一安装部;32-第二安装部;33-蚀刻液供给管;34-蚀刻液回收管;40-吸附材料再生装置;41-安装部;42-洗提液通液机构;43-洗提液供给机构;44-洗提液贮存罐;45-洗提液供给管;46-供给泵;48-洗提液回收机构;49-洗提液回收罐;50-洗提液回收管;52-清洗液通液机构;53-清洗液供给机构;54-清洗液贮存罐;55-清洗液供给管;56-供给泵;58-清洗液回收机构;59-清洗液回收罐;60-清洗液回收管;65-控制装置;K-基板;L-蚀刻液。
具体实施方式
(第一实施方式)
首先,基于附图,对本发明的第一实施方式的蚀刻液再生方法进行说明。在该第一实施方式中,说明使由于蚀刻基板而含有金属成分的蚀刻液再生的方式。另外,图1是用于说明本发明的第一实施方式的蚀刻液再生方法的说明图,图2是用于说明第一实施方式的蚀刻液再生方法的流程图,图3是表示第一实施方式中的基板处理装置等的概略结构的说明图,图4是表示第一实施方式中的吸附材料再生装置等的概略结构的说明图。
首先,基于图1、图3及图4,对用于吸附蚀刻液L中的金属成分的可移式容器1进行说明。该可移式容器1在内部填充有吸附金属离子(如后所述,铟离子或锡离子)的、作为吸附材料的螯合材料(未图示),具有移动性。另外,可移式容器1构成为能够相对于利用蚀刻液L处理基板K的基板处理装置10、及再生螯合材料(未图示)的吸附材料再生装置40进行装卸。进而,在可移式容器1的上端部形成有:用于将蚀刻液L或后述的洗提液或清洗液向内部供给的供给部(未图示)、和将从该供给部(未图示)供给于内部的蚀刻液L或洗提液、清洗液向外部排出的排出部(未图示)。
所述螯合材料(未图示)通常为有机系的氨基羧酸盐的总称,具备吸附金属离子,利用特定的溶液洗提被吸附的金属的性质。具体来说,作为一例,可以举出EDTA(乙二胺四醋酸)、NTA(次氮基三醋酸)、DTPA(二亚乙基三胺五醋酸)、GLDA(L-谷氨酸二醋酸)、HEDTA(羟基乙基亚乙基二胺三醋酸)、GEDTA(二醇醚二胺四醋酸)、TTHA(三亚乙基四胺六醋酸)、HIDA(羟基乙基亚氨基二醋酸)、及DHEG(羟基乙基甘氨酸)等,但不限定于这些。
然后,基于图3,对所述基板处理装置10进行说明。该基板处理装置10如相同图3所示,例如,包括:贮存草酸浓度(重量%)为约3%的蚀刻液L的贮存槽11;利用蚀刻液L蚀刻基板K的基板处理机构12;使蚀刻液L在贮存槽11和基板处理机构12之间循环的蚀刻液循环机构20;使贮存于贮存槽11的蚀刻液L通过可移式容器1内的蚀刻液通液机构30;控制基板处理机构12、蚀刻液循环机构20、及蚀刻液通液机构30的运行的控制装置25等,配置于处理区域(参照图1)。
所述基板处理机构12包括:具备闭塞空间的处理腔室13;配设于处理腔室13的下部,例如将上表面形成有氧化铟锡膜(金属膜)的基板K水平支撑并在规定方向(箭头方向)上输送的多个输送辊14;配设于处理腔室13的上部,且使由蚀刻液循环机构20供给的蚀刻液L流通的流通管15;固定设置于流通管15,且朝向由输送辊14输送的基板K的上表面喷出蚀刻液L的多个喷嘴体16等,处理腔室13内的蚀刻液L从形成于该处理腔室13的底面的排出孔13a向外部排出。
所述蚀刻液循环机构20包括:一端侧与贮存槽11连接,且另一端侧与流通管15连接的供给管21;经由供给管21向流通管15内供给蚀刻液L的供给泵22;一端侧与处理腔室13的排出口13a连接,且另一端侧与贮存槽11连接的回收管23等。
所述蚀刻液通液机构30包括:将可移式容器1以能够装卸的方式安装的第一安装部31及第二安装部32;一端侧与贮存槽11连接,且另一端侧能够分支而与各可移式容器1的供给部(未图示)连接的蚀刻液供给管33;一端侧与贮存槽11连接,且另一端侧能够分支而与各可移式容器1的排出部(未图示)连接的蚀刻液回收管34;经由蚀刻液供给管33向可移式容器1的内部供给蚀刻液L的供给泵35;分别设置于蚀刻液供给管33的另一端侧的第一供给侧切换阀36及第二供给侧切换阀37;分别设置于蚀刻液回收管34的另一端侧的第一排出侧切换阀38及第二排出侧切换阀39等,在将可移式容器1安装于各安装部31、32时,蚀刻液供给管33的另一端侧与各可移式容器1的供给部(未图示)连接,蚀刻液回收管34的另一端侧与各可移式容器1的排出部(未图示)连接。
所述各切换阀36、37、38、39被控制装置25控制如下,即:在第一供给侧切换阀36及第一排出侧切换阀38打开时,关闭第二供给侧切换阀37及第二排出侧切换阀39,在第二供给侧切换阀37及第二排出侧切换阀39打开时,关闭第一供给侧切换阀36及第一排出侧切换阀38。
在该蚀刻液通液机构30中,利用供给泵35经由蚀刻液供给管33向可移式容器1的任一方供给贮存槽11内的蚀刻液L。即,在第一供给侧切换阀36打开,且第二供给侧切换阀37关闭时,向第一安装部31侧的可移式容器1供给蚀刻液L,在第一供给侧切换阀36关闭,且第二供给侧切换阀37打开时,向第二安装部32侧的可移式容器1供给蚀刻液L。
还有,被供给于可移式容器1的任一方,且在该可移式容器1内流通的蚀刻液L通过蚀刻液回收管34被回收在贮存槽11内。这样,蚀刻液L在贮存槽11和可移式容器1的任一方之间循环。
所述控制装置25进行:控制供给泵22,使蚀刻液L在贮存槽11和基板处理机构12之间循环的处理;在运行供给泵22的情况下,控制供给泵35及各切换阀36、37、38、39,以预先设定的时间间隔即推断可移式容器1内的螯合材料(未图示)达到大致饱和的时间间隔,交替切换被供给蚀刻液L的可移式容器1的同时,进行向可移式容器1的任一方通过贮存槽11内的蚀刻液L的处理(参照图1)。
根据这样构成的基板处理装置10可知,利用供给泵22将贮存于贮存槽11的蚀刻液L经由供给管21及流通管15向各喷嘴体16供给,从这些各喷嘴体16向基板K的上表面喷出。喷出在基板K的上表面的蚀刻液L从处理腔室13的排出口13a向回收管23内流通而被回收在贮存槽11内。
所述基板K通过输送辊14在规定方向上被输送,并被由各喷嘴体16喷出的蚀刻液L蚀刻。还有,由于该蚀刻处理,基板K的氧化铟锡膜溶解于蚀刻液L,导致铟离子或锡离子含于该蚀刻液L中。
另外,通过供给泵35、各切换阀36、37、38、39、蚀刻液供给管33及蚀刻液回收管34,以预先设定的时间间隔交替切换作为通液对象的可移式容器1,同时,使贮存于贮存槽11的蚀刻液L有选择地通过可移式容器1的任一方,由此,利用可移式容器1内的螯合材料(未图示)吸附蚀刻液L中的作为金属成分的铟离子或锡离子。
接着,基于图4,说明所述吸附材料再生装置40。该吸附材料再生装置40如相同图4所示,包括:可移式容器1以能够装卸的方式安装的安装部41;使洗提液通过可移式容器1内的洗提液通液机构42;使清洗液通过可移式容器1内的清洗液通液机构52;从在可移式容器1内流通的洗提液取出铟或锡而回收的金属回收部(未图示);控制洗提液通液机构42、清洗液通液机构52及金属回收部(未图示)的运行的控制装置65等,并且吸附材料再生装置40配置在从所述处理区域隔离的吸附材料再生区域(参照图1)。还有,安装部41、洗提液通液机构42、清洗液通液机构52及控制装置65发挥作为专利请求的范围中所述的第二通液装置的作用。
所述洗提液通液机构42具备:供给用于洗提吸附于可移式容器1内的螯合材料(未图示)的铟或锡的洗提液的洗提液供给机构43;从可移式容器1内回收洗提液的洗提液回收机构48。还有,洗提液例如由盐酸或硫酸或氢氧化钠构成。
所述洗提液供给机构43包括:贮存所述洗提液的洗提液贮存罐44;一端侧与洗提液贮存罐44连接,且另一端侧能够与可移式容器1的供给部(未图示)连接的洗提液供给管45;经由洗提液供给管45向可移式容器1的内部供给洗提液的供给泵46;设置于洗提液供给管45的一端侧即供给泵46的下游侧的洗提液供给阀47等,在可移式容器1安装于安装部41时,洗提液供给管45的另一端侧与可移式容器1的供给部(未图示)连接。
所述洗提液回收机构48包括:贮存回收的洗提液的洗提液回收罐49;一端侧与洗提液回收罐49连接,且另一端侧能够与可移式容器1的排出部(未图示)连接的洗提液回收管50;设置于洗提液回收管50的一端侧的洗提液回收阀51等,在可移式容器1安装于安装部41时,洗提液回收管50的另一端侧与可移式容器1的排出部(未图示)连接。
在该洗提液供给机构43及洗提液回收机构48中,通过供给泵46,将贮存于洗提液贮存罐44的洗提液经由洗提液供给管45向可移式容器1内供给。还有,利用洗提液回收管50将被供给于可移式容器1内且在该可移式容器1内流通的洗提液回收于洗提液回收罐49内。还有,此时,洗提液供给阀47及洗提液回收阀51控制为打开的状态,后述的清洗液供给阀57及清洗液回收阀61控制为关闭的状态。
所述清洗液通液机构52具备:供给用于清洗可移式容器1的内部的清洗液的清洗液供给机构53;从可移式容器1内回收清洗液的清洗液回收机构58。还有,清洗液例如由纯水构成。
所述洗提液供给机构53包括:贮存所述清洗液的清洗液贮存罐54;一端侧与清洗液贮存罐54连接,且另一端侧在洗提液供给阀47的下游侧与洗提液供给管45连接,经由该洗提液供给管45,能够与可移式容器1的供给部(未图示)连接的清洗液供给管55;经由清洗液供给管55向可移式容器1的内部供给清洗液的供给泵56;设置于清洗液供给管55的供给泵56的下游侧的清洗液供给阀57等,在可移式容器1安装于安装部41时,清洗液供给管55的另一端侧经由洗提液供给管45与可移式容器1的供给部(未图示)连接。
所述清洗液回收机构58包括:贮存回收的清洗液的清洗液回收罐59;一端侧与清洗液回收罐59连接,且另一端侧在洗提液回收阀51的上游侧与洗提液回收管50连接,经由该洗提液回收管50,能够与可移式容器1的排出部(未图示)连接的清洗液回收管60;设置于清洗液回收管60的清洗液回收阀61等,在可移式容器1安装于安装部41时,清洗液回收管60的另一端侧经由洗提液回收管50与可移式容器1的排出部(未图示)连接。
在该清洗液供给机构53及清洗液回收机构58中,利用供给泵56,经由清洗液供给管55及洗提液供给管45,向可移式容器1内供给贮存于清洗液贮存罐54的清洗液。还有,利用洗提液回收管50及清洗液回收管60将被供给于可移式容器1,且在该可移式容器1内流通的清洗液回收在清洗液回收罐59内。还有,此时,清洗液供给阀57及清洗液回收阀61控制为打开的状态,洗提液供给阀47及洗提液回收阀51控制为关闭的状态。
所述金属回收部(未图示)构成为从贮存于洗提液回收罐49内的洗提液取出铟或锡而将其回收。
所述控制装置65进行:控制供给泵46、洗提液供给阀47及洗提液回收阀51,使洗提液贮存罐44内的洗提液向可移式容器1内通过规定时间的处理;在洗提液的通液处理后,控制供给泵56、清洗液供给阀57及清洗液回收阀61,使清洗液贮存罐54内的清洗液向可移式容器1内通过规定时间的处理;利用金属回收部(未图示),从洗提液回收罐49内的洗提液取出铟或锡而将其回收的处理。
根据这样构成的吸附材料再生装置40可知,首先,利用供给泵46、洗提液供给阀47、洗提液回收阀51、洗提液供给管45及洗提液回收管50,使贮存于洗提液贮存罐44的洗提液通过可移式容器1内。由此,吸附于螯合材料(未图示)的铟或锡被该洗提液洗提,含有洗提的铟离子或锡离子的洗提液被回收在洗提液回收罐49内。
然后,通过供给泵56、清洗液供给阀57、清洗液回收阀61、清洗液供给管55、洗提液供给管45、清洗液回收管60及洗提液回收管50,使贮存于清洗液贮存罐54的洗提液通过可移式容器1内。由此,通过该清洗液冲洗残留于可移式容器1的内部的洗提液,将含有残留的洗提液的清洗液回收于清洗液回收罐59内。
另外,通过金属回收部(未图示),从贮存于洗提液回收罐49内的含有铟离子或锡离子的洗提液取出铟或锡,将其回收。由此,回收吸附于可移式容器1的螯合材料(未图示)的铟或锡即由于基板处理机构12中的蚀刻处理而溶解于蚀刻液L的铟或锡。
还有,最后,基于图1~图4,对再生由于蚀刻处理而溶解并含有所谓铟或锡等金属的蚀刻液L的方法进行说明。
在基板处理机构12中,在利用贮存槽11内的蚀刻液L对基板K进行蚀刻处理的期间,以预先设定的时间间隔交替切换作为通液对象的可移式容器1,同时,使贮存槽11内的蚀刻液L有选择地通过安装于第一安装部31的可移式容器1或安装于第二安装部32的可移式容器1的任一方(步骤S 1)。由此,在可移式容器1内的螯合材料(未图示)吸附蚀刻液L中的金属成分(铟离子或锡离子)而除去,再生该蚀刻液L。还有,在第一安装部31及第二安装部32预先安装有未使用的填充容器1(在螯合材料(未图示)上未吸附铟或锡的可移式容器1)。
若切换作为通液对象的可移式容器1,则将使用后的可移式容器1(在螯合材料(未图示)上吸附有铟或锡的可移式容器1)更换为未使用的可移式容器1(步骤S2)。即,在从第一安装部31的可移式容器1切换为第二安装部32的可移式容器1时,从第一安装部31卸下使用后的可移式容器1,安装未使用的可移式容器1,在从第二安装部32的可移式容器1切换为第一安装部31的可移式容器1时,从第二安装部32卸下使用后的可移式容器1,安装未使用的可移式容器1。还有,上述步骤S1及S2相当于专利请求的范围中所述的处理液再生工序。
然后,例如,利用卡车2等输送机构,将从第一安装部31或第二安装部32卸下的使用后的可移式容器1从处理区域侧向吸附材料再生区域侧输送(步骤S3)。
还有,在将输送至吸附材料再生区域侧的使用后的可移式容器1安装于安装部41后,使洗提液通过可移式容器1内(步骤S4)。由此,将吸附于螯合材料(未图示)的铟或锡洗提,再生该螯合材料(未图示),并且,将含有洗提的铟离子或锡离子的洗提液回收于洗提液回收罐49内。
然后,从洗提液回收罐49内的洗提液取出铟或锡而回收(步骤S5)。由此,回收可移式容器1的螯合材料(未图示)上吸附的(在基板处理机构12中的蚀刻处理中溶解于蚀刻液L的)铟或锡。
另外,在洗提液通过后,使清洗液通过可移式容器1内,从安装部41卸下(步骤S6)。由此,利用该清洗液冲洗残留于可移式容器1的内部的洗提液,将含有残留的洗提液的清洗液回收于清洗液回收罐59内。还有,上述步骤S4及S6的处理相当于专利请求的范围中所述的吸附材料再生工序。
还有,例如,利用卡车2等输送机构,将经过了步骤S4及S6的再生后的可移式容器1(在螯合材料(未图示)上未吸附铟或锡的可移式容器1)从吸附材料再生区域侧向处理区域侧回送(步骤87),在处理区域侧保管(步骤S8)。还有,在步骤S8中保管的再生后(未使用)的可移式容器1在步骤S2中与使用后的可移式容器1更换。
如以上详述,根据本例的蚀刻液再生方法可知,在处理区域中,在可移式容器1内的螯合材料(未图示)上吸附蚀刻液L中的铟或锡而除去,将使用后的可移式容器1向吸附材料再生区域输送而再生螯合材料(未图示),将再生后的可移式容器1向处理区域回送而再使用,因此,在处理区域侧仅设置使蚀刻液L通过可移式容器1内且将该蚀刻液L中的铟或锡吸附于螯合材料(未图示)的设备即可,能够以简单且廉价的设备再生蚀刻液L(形成为能够再利用状态)。
另外,输送对象不是蚀刻液L自身,而是可移式容器1,因此,重量轻且容易操作,而且输送成本与油罐车相比为非常低,能够以通常的卡车输送。另外,进而,将再生后的可移式容器1回送至处理区域而再使用,因此,能够反复使用可移式容器1(螯合材料(未图示))。由于这些原因,能够以低成本有效地再生由于蚀刻处理而含有铟或锡的蚀刻液L。
另外,通过这样再生蚀刻液L,实现蚀刻液L的寿命延长化,能够延长其更换周期,因此,节省新的蚀刻液L的购入费用或已使用的蚀刻液L的废弃费用等,抑制蚀刻液L所花费的费用,或能够在没有为了更换蚀刻液L而停止的情况下连续地进行蚀刻处理,能够将基板处理所花费的成本抑制为低的成本。另外,能够设为只需要相当于废弃处置的蚀刻液L的减少引起的,或由于蚀刻处理而减少的量的新的蚀刻液L,因此,还能够对环境保护起到贡献作用。进而在进行蚀刻处理的期间,使蚀刻液L总是通过可移式容器1内,因此,能够将贮存槽11内的蚀刻液L中含有的铟离子的浓度或锡离子的浓度时常维持在一定水平以下的状态,能够将蚀刻液L时常保持为与新品相同的状态。
另外,在洗提液通过后使清洗液通过,并冲洗残留于可移式容器1的内部的洗提液,因此,能够有效防止:在基板处理装置10中使蚀刻液L通过时,蚀刻液L和洗提液混合而导致蚀刻液L的成分变化,对蚀刻处理产生坏的影响的情况。
另外,通过在可移式容器1内的螯合材料(未图示)上吸附蚀刻液L中的铟或锡,能够将该铟或锡集聚为浓缩于可移式容器1内的状态,能够容易地回收溶解于蚀刻液L的铟或锡。
(第二实施方式)
然后,基于附图,对本发明的第二实施方式的金属回收方法进行说明。在该第二实施方式中,利用蚀刻液蚀刻基板,回收含于该蚀刻液的金属成分,对此进行说明。图6是用于说明本发明的第二实施方式的金属回收方法的说明图,图7是用于说明第二实施方式的金属回收方法的流程图。
还有,如图3及图4及图6及图7所示,所述可移式容器1构成为能够相对于所述基板处理装置10、及回收溶解于蚀刻液L的金属的金属回收装置70进行装卸以外,具备与上述相同的结构。另外,所述金属回收装置70具备与如图4所示的所述吸附材料再生装置40相同的结构,但在配置于从处理区域隔离的回收区域这一点上不同(参照图6)。
在基板处理机构12中,利用贮存槽11内的蚀刻液L,对基板K进行蚀刻处理的期间,以预先设定的时间间隔,交替切换作为通液对象的可移式容器1,同时,使贮存槽11内的蚀刻液L有选择地通过安装于第一安装部31的可移式容器1或安装于第二安装部32的可移式容器1的任一方(步骤S11)。由此,利用可移式容器1内的螯合材料(未图示)吸附蚀刻液L中的金属成分(铟离子或锡离子)。还有,在第一安装部31及第二安装部32预先安装有未吸附的填充容器1(在螯合材料(未图示)上未吸附铟或锡的可移式容器1)。
若切换作为通液对象的可移式容器1,则将吸附后的可移式容器1(在螯合材料(未图示)上吸附有铟或锡的可移式容器1)更换为未吸附的可移式容器1(步骤S12)。即,在从第一安装部31的可移式容器1切换为第二安装部32的可移式容器1时,从第一安装部31卸下吸附后的可移式容器1,安装未吸附的可移式容器1,在从第二安装部32的可移式容器1切换为第一安装部31的可移式容器1时,从第二安装部32卸下吸附后的可移式容器1,安装未吸附的可移式容器1。
然后,例如,利用卡车2等输送机构将从第一安装部31或第二安装部32卸下的吸附后的可移式容器1从处理区域侧向回收区域侧输送(步骤S13)。
还有,将输送至回收区域侧的吸附后的可移式容器1安装于安装部41后,使洗提液通过可移式容器1内(步骤S14)。由此,洗提吸附于螯合材料(未图示)的铟或锡,将含有洗提的铟离子或锡离子的洗提液回收在洗提液回收罐49内。
然后,从洗提液回收罐49内的洗提液取出铟或锡而回收(步骤S15)。由此,回收吸附于可移式容器1的螯合材料(未图示)的(基板处理机构12中的蚀刻处理中溶解于蚀刻液L的)铟或锡。
另外,在洗提液通过后,使清洗液通过可移式容器1内,从安装部41卸下(步骤S16)。由此,利用该清洗液冲洗残留于可移式容器1的内部的洗提液,将含有残留的洗提液的清洗液回收于清洗液回收罐59内。
还有,例如,利用卡车2等输送机构,将经过了步骤S14及S16的处理的回收后的可移式容器1(在螯合材料(未图示)上未吸附铟或锡的可移式容器1)从回收区域侧向处理区域侧回送(步骤S17),在处理区域侧保管(步骤S18)。还有,将在步骤S18中保管的回收后(未吸附)的可移式容器1在步骤S12中与吸附后的可移式容器1更换。
如以上详述,根据本例的金属回收方法可知,在处理区域中将蚀刻液L中的铟或锡吸附于可移式容器1内的螯合材料(未图示)上,将吸附后的可移式容器1输送至回收区域,回收吸附于螯合材料(未图示)上的铟或锡,将回收后的可移式容器1回送至处理区域而再使用,因此,能够有效地回收由于蚀刻处理而溶解于蚀刻液L的铟或锡。
另外,仅在处理区域侧使蚀刻液L通过可移式容器1内,将该蚀刻液L中的铟或锡吸附于螯合材料(未图示)上即可,因此,能够以简单且廉价的设备应对。另外,通过在可移式容器1内的螯合材料(未图示)上吸附蚀刻液L中的铟或锡,能够将该铟或锡集聚为浓缩于可移式容器1内的状态,能够容易地回收溶解于蚀刻液L的铟或锡。另外,输送对象不是蚀刻液L自身,而是可移式容器1,因此,重量轻且容易操作,而且输送成本与油罐车相比为非常低,能够以通常的卡车输送。另外,进而,将回收后的可移式容器1回送至处理区域而再使用,因此,能够反复使用可移式容器1(螯合材料(未图示))。由于这些原因,能够以低成本有效地再生由于蚀刻处理而溶解于蚀刻液L的铟或锡。
另外,通过在可移式容器1内的螯合材料(未图示)上吸附蚀刻液L中的铟或锡,能够将该铟或锡集聚为浓缩于可移式容器1内的状态,能够容易地回收溶解于蚀刻液L的铟或锡。
另外,在洗提液通过后使清洗液通过,并冲洗残留于可移式容器1的内部的洗提液,因此,能够有效防止:在基板处理装置10中使蚀刻液L通过时,蚀刻液L和洗提液混合而导致蚀刻液L的成分变化,对蚀刻处理产生坏的影响的情况。
在进行蚀刻处理的期间,使蚀刻液L总是通过可移式容器1内,因此,能够将贮存槽11内的蚀刻液L中含有的铟离子的浓度或锡离子的浓度时常维持在一定水平以下的状态,能够将蚀刻液L时常保持为与新品相同的状态。
以上,对本发明的一例进行了说明,但本发明可采用的具体的方式并不限定于这些。
在上例中,在洗提液通过后,使清洗液通过可移式容器1内,但省略该处理也可。但是,在这种情况下,残留于可移式容器1的内部的洗提液可能导致贮存槽11内的蚀刻液L的成分变化。
另外,在上述步骤S3或步骤S13中输送可移式容器1时,若适当抽出可移式容器1内的蚀刻液L,则减轻可移式容器1的重量,能够容易输送。
另外,所述吸附材料再生装置40及金属回收装置70还可以构成为如图5所示的吸附材料再生装置66及金属回收装置71,该吸附材料再生装置66及金属回收装置71具备:在洗提液通过时,可移式容器1以能够装卸的方式安装的安装部67;在洗提液通过时,可移式容器1以能够装卸的方式安装的安装部68。
在这种情况下,洗提液供给机构43及洗提液回收机构48在可移式容器1安装于安装部67时,洗提液供给管45的另一端侧及洗提液回收管50的另一端侧分别与可移式容器1的供给部(未图示)及排出部(未图示)连接。另外,洗提液供给机构53及清洗液回收机构58在可移式容器1安装于安装部68时,清洗液供给管55的另一端侧及清洗液回收管60的另一端侧分别与可移式容器1的供给部(未图示)及排出部(未图示)连接。另外,可以省略洗提液供给阀47、洗提液回收阀51、清洗液供给阀57及清洗液回收阀61。另外,安装部67、洗提液通液机构42及控制装置65作为专利请求的范围中所述的第二通液装置发挥作用,安装部68、清洗液通液机构52及控制装置65作为专利请求的范围中所述的第三通液装置发挥作用。
还有,在上述步骤S4或步骤S 14中,在将从处理区域输送的可移式容器1安装于安装部67后,使洗提液通过可移式容器1内,从安装部67卸下。另外,在上述步骤S6或步骤S16中,在安装部68安装使洗提液通过的可移式容器1后,使洗提液通过可移式容器1内,从安装部68卸下。
另外,在上例中,将控制装置25构成为,以预先设定的时间间隔交替更换可移式容器1,同时,使贮存槽11内的蚀刻液L通过可移式容器1的任一方,但不限定于此,例如,基于在基板处理机构12中蚀刻的基板K的片数或在贮存槽11内的蚀刻液L中含有的铟离子或锡离子的浓度,切换使蚀刻液L通过的可移式容器1也可。
在基于基板K的蚀刻片数进行切换控制的情况下,所述基板处理机构12还具备:例如配设于处理腔室13的外部或内部等适当位置,且检测输入处理腔室13内的基板K或从处理腔室13输出的基板K的传感器(未图示),所述控制装置25基于从所述传感器(未图示)得到的输出信号,将输入处理腔室13内的基板K的片数或从处理腔室13输出的基板K的片数即在基板处理机构12中计数蚀刻的基板K的片数,并且在计数的片数达到预先设定的片数时,交替切换作为通液对象的可移式容器1,同时,使贮存槽11内的蚀刻液L通过可移式容器1的任一方。还有,控制装置25在计数的片数达到预先设定的片数时,重置计数值,再次计数至预先设定的片数。
若这样设置,则在计数的片数达到预先设定的片数时,即蚀刻片数达到规定片数,从而蚀刻片数达到规定片数而达到推断为螯合材料(未图示)成为大致饱和状态的片数时,切换各切换阀36、37、38、39,切换蚀刻液L通过的可移式容器1。
从而,即使这样,也将可移式容器1的吸附能力维持为恒定,将蚀刻液L中含有的铟离子或锡离子的浓度抑制为一定水平以下。
另一方面,在基于铟离子浓度或锡离子浓度进行切换控制的情况下,所述基板处理装置10还具备:检测贮存槽11内的蚀刻液L中含有的铟离子的浓度及/或锡离子的浓度的金属离子浓度检测传感器(未图示),所述控制装置25在由金属离子浓度检测传感器(未图示)检测出的铟离子浓度及/或锡离子浓度比预先设定的基准值高时,交替切换作为通液对象的可移式容器1,同时,使贮存槽11内的蚀刻液L通过可移式容器1的任一方。
若这样设置,则在螯合材料(未图示)达到大致包含状态,导致铟离子或锡离子的吸附能力降低,贮存槽11内的蚀刻液L中含有的铟离子或锡离子的浓度上升,利用金属离子浓度检测传感器(未图示)检测的铟离子浓度及/或锡离子浓度大于规定的基准值时,切换各切换阀36、37、38、39,切换使蚀刻液L通过的可移式容器1。
从而,即使这样,也将可移式容器1的吸附能力维持为恒定,将蚀刻液L中含有的铟离子或锡离子的浓度抑制为一定水平以下。另外,在利用经过时间或蚀刻片数进行可移式容器1的切换控制的情况下,根据基板处理机构12中的蚀刻条件或作为蚀刻对象的基板K的种类等而溶解于蚀刻液L的铟或锡的溶解量不同,因此,难以设定可移式容器1的螯合材料(未图示)达到大致饱和状态为止的时间或蚀刻片数,但通过基于贮存槽11内的蚀刻液L中含有的铟离子的浓度及/或锡离子的浓度进行可移式容器1的切换控制,能够高精度地实施该切换控制。
另外,使蚀刻液L通过的可移式容器1不是仅任一方通液,而是可以在安装于第一安装部31的可移式容器1、和安装于第二安装部32的可移式容器1两者同时通液。
另外,在上例中,在基板处理机构12中蚀刻基板K的期间,使蚀刻液L不断通过可移式容器1,但不限定于此,例如,在开始蚀刻处理后的经过时间达到规定时间时、或基板K的蚀刻片数成为规定片数时、贮存槽11内的蚀刻液L中含有的铟离子或锡离子的浓度超过规定浓度时,使蚀刻液L通过应吸附铟离子或锡离子的可移式容器1也可。另外,基板处理装置10构成为能够安装三个以上可移式容器1的装置也可。
另外,在上例中,可移式容器1以能够装卸的方式安装于基板处理装置10,但不限定于此,将可移式容器1以能够装卸的方式安装于包括所述贮存槽11、蚀刻液通液机构30及控制装置25等的蚀刻液处理装置也可。在该蚀刻液装置中,使用于蚀刻处理的蚀刻液L从多个适当罐集聚于贮存槽11内后,吸附该贮存槽11内的蚀刻液L中的金属成分。还有,金属成分吸附后的蚀刻液L返回所述各罐内。
Claims (6)
1.一种处理液再生方法,其是再生由于基板处理而含有金属成分的处理液的方法,其特征在于,包括:
在进行所述基板处理的处理区域中,使所述处理液通过内部填充有吸附金属离子的吸附材料的可移式容器内,将该处理液中的金属成分吸附于所述吸附材料而进行分离、除去的处理液再生工序;
将使所述处理液通过的可移式容器输送至从所述处理区域隔离的区域即再生所述吸附材料的吸附材料再生区域的第一输送工序;
在所述吸附材料再生区域中,使洗提液通过从所述处理区域输送的可移式容器内,洗提吸附于所述吸附材料的金属,再生该吸附材料的吸附材料再生工序;
将再生了所述吸附材料的可移式容器从所述吸附材料再生区域回送至所述处理区域的第二输送工序,
在所述处理液再生工序中,使用吸附材料再生后的可移式容器。
2.根据权利要求1所述的处理液再生方法,其特征在于,
在所述吸附材料再生工序中,使所述洗提液通过后,使清洗液通过所述可移式容器内而清洗其内部。
3.根据权利要求1所述的处理液再生方法,其特征在于,
在所述可移式容器形成:用于向内部供给所述处理液及洗提液的供给部,和用于向外部排出从该供给部供给于内部的处理液及洗提液的排出部,
在所述处理液再生工序中,使用第一通液装置,所述第一通液装置具备:以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的供给部,供给所述处理液的处理液供给管;和以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的排出部,回收所述处理液的处理液回收管,
并且,使所述处理液供给管与所述供给部连接,使所述处理液回收管与所述排出部连接后,使所述处理液以从所述供给部向所述可移式容器的内部流入而从所述排出部排出的方式通液,然后,从所述供给部卸下所述处理液供给管,从所述排出部卸下所述处理液回收管,
在所述吸附材料再生工序中,使用第二通液装置,所述第二通液装置具备:以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的供给部,供给所述洗提液的洗提液供给管;和以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的排出部,回收所述洗提液的洗提液回收管,
并且,使所述洗提液供给管与所述供给部连接,使所述洗提液回收管与所述排出部连接后,使所述洗提液以从所述供给部向所述可移式容器的内部流入而从所述排出部排出方式通液,然后,从所述供给部卸下所述洗提液供给管,从所述排出部卸下所述洗提液回收管。
4.根据权利要求2所述的处理液再生方法,其特征在于,
在所述可移式容器形成:用于向内部供给所述处理液、洗提液及清洗液的供给部,和用于向外部排出从该供给部供给于内部的处理液、洗提液及清洗液的排出部,
在所述处理液再生工序中,使用第一通液装置,所述第一通液装置具备:以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的供给部,供给所述处理液的处理液供给管;和以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的排出部,回收所述处理液的处理液回收管,
并且,使所述处理液供给管与所述供给部连接,使所述处理液回收管与所述排出部连接后,使所述处理液以从所述供给部向所述可移式容器的内部流入而从所述排出部排出的方式通液,然后,从所述供给部卸下所述处理液供给管,从所述排出部卸下所述处理液回收管,
在所述吸附材料再生工序中,使用第二通液装置,所述第二通液装置具备:以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的供给部,供给所述洗提液及清洗液的供给管;和以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的排出部,回收所述洗提液及清洗液的回收管,
并且,使所述供给管与所述供给部连接,使所述回收管与所述排出部连接后,使所述洗提液以从所述供给部向所述可移式容器的内部流入而从所述排出部排出的方式通液,接着,使所述清洗液以从所述供给部向所述可移式容器的内部流入而从所述排出部排出的方式通液,然后,从所述供给部卸下所述供给管,从所述排出部卸下所述回收管。
5.根据权利要求2所述的处理液再生方法,其特征在于,
在所述可移式容器形成:用于向内部供给所述处理液、洗提液及清洗液的供给部,和用于向外部排出从该供给部供给于内部的处理液、洗提液及清洗液的排出部,
在所述处理液再生工序中,使用第一通液装置,所述第一通液装置具备:以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的供给部,供给所述处理液的处理液供给管;和以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的排出部,回收所述处理液的处理液回收管,
并且,使所述处理液供给管与所述供给部连接,使所述处理液回收管与所述排出部连接后,使所述处理液以从所述供给部向所述可移式容器的内部流入而从所述排出部排出的方式通液,然后,从所述供给部卸下所述处理液供给管,从所述排出部卸下所述处理液回收管,
在所述吸附材料再生工序中,使用第二通液装置,所述第二通液装置具备:以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的供给部,供给所述洗提液的洗提液供给管;和以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的排出部,回收所述洗提液的洗提液回收管,以及
第三通液装置,第三通液装置具备:以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的供给部,供给所述清洗液的清洗液供给管;和以能够装卸的方式连接于所述可移式容器的排出部,回收所述清洗液的清洗液回收管,
首先,使所述洗提液供给管与所述供给部连接,使所述洗提液回收管与所述排出部连接,使所述洗提液以从所述供给部向所述可移式容器的内部流入而从所述排出部排出的方式通液,然后,从所述供给部卸下所述洗提液供给管,从所述排出部卸下所述洗提液回收管,接着,使所述清洗液供给管与所述供给部连接,使所述清洗液回收管与所述排出部连接,使所述清洗液以从所述供给部向内部流入而从所述排出部排出的方式通液后,从所述供给部卸下所述清洗液供给管,从所述排出部卸下所述清洗液回收管。
6.一种金属的回收方法,其是回收由于基板处理而在处理液中含有的金属成分的方法,其特征在于,
使用内部填充有吸附金属离子的吸附材料的可移式容器,
在进行所述基板处理的处理区域中,使所述处理液通过所述可移式容器内,将该处理液中的金属成分吸附于所述吸附材料,
接着,将所述可移式容器输送至从所述处理区域隔离的回收所述金属成分的回收区域,
接着,在所述回收区域中,进行使洗提液通过所述可移式容器内并洗提吸附于所述吸附材料的金属的处理、和从通过的洗提液回收洗提的金属的处理,
然后,将所述可移式容器从所述回收区域回送至所述处理区域而再使用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007125980A JP2008280580A (ja) | 2007-05-10 | 2007-05-10 | 処理液再生方法及び処理液に含まれる金属の回収方法 |
JP2007-125980 | 2007-05-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101302581A true CN101302581A (zh) | 2008-11-12 |
Family
ID=40112680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNA2008100967476A Pending CN101302581A (zh) | 2007-05-10 | 2008-05-09 | 处理液再生方法及含于处理液的金属的回收方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008280580A (zh) |
KR (1) | KR20080099818A (zh) |
CN (1) | CN101302581A (zh) |
TW (1) | TW200912041A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103065958A (zh) * | 2011-08-31 | 2013-04-24 | 住友精密工业股份有限公司 | 螯合材料再生方法及基板处理装置 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI418657B (zh) * | 2011-09-16 | 2013-12-11 | Grand Plastic Technology Co Ltd | 玻璃蝕刻液回收分配裝置 |
JP6247968B2 (ja) * | 2014-03-17 | 2017-12-13 | 株式会社三進製作所 | イオン交換樹脂再生装置、および、イオン交換樹脂再生システム |
JP5913512B2 (ja) * | 2014-09-30 | 2016-04-27 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板処理装置 |
-
2007
- 2007-05-10 JP JP2007125980A patent/JP2008280580A/ja not_active Withdrawn
-
2008
- 2008-04-18 TW TW097114102A patent/TW200912041A/zh unknown
- 2008-05-09 KR KR1020080043374A patent/KR20080099818A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-05-09 CN CNA2008100967476A patent/CN101302581A/zh active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103065958A (zh) * | 2011-08-31 | 2013-04-24 | 住友精密工业股份有限公司 | 螯合材料再生方法及基板处理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200912041A (en) | 2009-03-16 |
KR20080099818A (ko) | 2008-11-13 |
JP2008280580A (ja) | 2008-11-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW201128697A (en) | Etching method | |
CN101312121A (zh) | 基板处理装置 | |
CN101302581A (zh) | 处理液再生方法及含于处理液的金属的回收方法 | |
TW201507011A (zh) | 液供給裝置及基板處理裝置 | |
CN101122024A (zh) | 处理液处理装置和具备该装置的基板处理装置 | |
KR102101105B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JP5572198B2 (ja) | 基板処理装置及び薬液再生方法 | |
TW200811933A (en) | Processing device for processing fluid and substrate processing device having the same | |
US8141567B2 (en) | Apparatus and method for photoresist removal processing | |
JP2009273975A (ja) | 有機溶剤含有ガス処理システム | |
CN103065958A (zh) | 螯合材料再生方法及基板处理装置 | |
CN101830572A (zh) | 水处理装置 | |
KR20100027933A (ko) | 스케일 성분을 포함한 이물질 제거장치 | |
KR101099576B1 (ko) | 세정액 공급 및 회수 시스템 | |
KR20070111982A (ko) | 처리액 처리 장치 및 이것을 구비한 기판 처리 장치 | |
JPH1167715A (ja) | 半導体装置製造用気泡分離機及びこれを用いた半導体装置製造用処理液供給装置並びにその駆動方法 | |
KR101374268B1 (ko) | 냉각시스템용 순환수 수질관리장치 | |
KR101794500B1 (ko) | 이온 교환 장치, 그 제작 방법 및 설비 그리고 이온 교환 수지층의 형성 방법 및 장치 | |
CN106630318B (zh) | 高盐废水电吸附组件及系统 | |
CN109407363B (zh) | 一种偏贴机 | |
CN202460477U (zh) | 阳极处理封孔剂在线回收系统及封孔剂废水处理装置 | |
JP2020066591A (ja) | 有機溶媒の精製方法及び精製装置 | |
CN110240231B (zh) | 一种流体净化系统及净化方法 | |
TW202216295A (zh) | 純水製造方法及製造裝置 | |
CN110143649B (zh) | 一种双路流体净化系统 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20081112 |