CN101279734A - 合成多晶硅原料三氯氢硅的方法 - Google Patents

合成多晶硅原料三氯氢硅的方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种合成多晶硅原料三氯氢硅的方法,该方法包括以下步骤:A)硅粉用干燥的氯化氢气体输送到三氯氢硅合成炉;B)反应的氯化氢按比例从三氯氢硅合成炉底部输入合成炉内,合成炉中同时加入适量氢气和四氯化硅;C)温度控制在280~310℃,硅粉和氯化氢发生反应,生成包括有三氯氢硅和四氯化硅的混合气体;D)除去粉尘及高氯硅烷的混合气体,经水冷和隔膜压缩机加压后,再用-40℃冷媒将三氯氢硅和四氯化硅冷凝为液体,其中,分离出包含H2、HCl的不凝气体。该方法可将三氯氢硅收率从82%提高88%以上。

Description

合成多晶硅原料三氯氢硅的方法
技术领域
本发明涉及一种化工产品的合成方法,特别是一种高效节能合成多晶硅原料三氯氢硅的方法。
背景技术
三氯氢硅(HSiCl3)是多晶硅主要原材料,目前随着国内外多晶硅市场需求的高速增长,国内多晶硅生产规模迅速扩大,国内对三氯氢硅的需求增长迅速。但目前国内的工艺仅限于小规模生产,一般单套规模为2~3千吨级,合成炉直径在800mm以内,传热效率不高,三氯氢硅收率低于82%,四氯化硅等高沸物收率高,尾气水洗方式排空,造成资源浪费。
发明内容
本发明需要解决的技术问题是提供一种高效节能的、规模化的合成多晶硅原料三氯氢硅的方法。
解决上述技术问题的技术方案如下:
一种合成多晶硅原料三氯氢硅的方法,包括以下步骤:
A)硅粉通过管道用气体输送至硅粉仓,再加入硅粉烘粉炉,用干燥的氯化氢输送到三氯氢硅合成炉;
B)反应的氯化氢按比例(氯化氢与硅粉的摩尔比:2~2.5∶1)从三氯氢硅合成炉底部输入合成炉内,合成炉中同时加入适量氢气和四氯化硅,氢气和通入的反应氯化氢的摩尔比:1∶10~15,四氯化硅与通入的反应氯化氢的摩尔比:1∶8~10;
C)合成炉中温度控制在280~310℃,硅粉和氯化氢发生反应,生成包括有三氯氢硅和四氯化硅的混合气体;该混合气体经沉降、分离、过滤后除去粉尘及高氯硅烷的混合气体,其中,得到的硅粉再利用干燥的氯化氢气体输送到合成炉;
D)除去粉尘及高氯硅烷的混合气体,经水冷和隔膜压缩机加压后,再用-40℃冷媒将三氯氢硅和四氯化硅冷凝为液体。
反应方程式如下:
Si+3HCl=SiHCl3+H2    (1)
Si+4HCl=SiCl4+2H2    (2)
Si+2H2+3SiCl4=4SiHCl3    (3)
所述合成多晶硅原料三氯氢硅的方法,还包括以下步骤:包含H2、HCl的不凝气体利用变压吸附工艺分离出H2,H2经尾气洗涤塔洗涤后放空;HCl气体再通过回收压缩机,回收后的氯化氢再与硅粉重新用于合成反应。
其中,所述氯化氢优选是采用液化后的氯气为原料与氢气合成的,可以大大降低了碳、磷等有机元素含量,保证三氯氢硅产品的纯度,特别适合用于多晶硅的制备。
汽化后四氯化硅与氯化氢混合后通入,干燥的氢气从直接合成炉底部通入。其中,四氯化硅与通入的反应氯化氢的摩尔比:1∶8~10,氢气和通入的反应氯化氢的摩尔比:1∶10~15,所述合成多晶硅原料三氯氢硅的方法,合成炉中同时加入适量氢气和四氯化硅,有利于提高三氯氢硅的收率,降低产品的单耗和能耗,同时带走系统生成的部分热量,起到冷却效果。
生成的三氯氢硅和四氯化硅等混合气体经沉降器、旋风分离器分离后,利用干燥的氯化氢气体将回收的硅粉输送到合成炉。除去粉尘及高氯硅烷的混合气体,经水冷和隔膜压缩机加压后,再用-40℃冷媒将三氯氢硅和四氯化硅冷凝为液体。含有H2、HCl等的不凝气体利用变压吸附工艺分离出H2,H2经尾气洗涤塔洗涤后放空,HCl等气体再通过回收压缩机,压缩冷凝后的凝液为三氯氢硅及四氯化硅,不凝液为氯化氢,回收后的氯化氢再与硅粉重新用于合成反应。
反应用的氯化氢采用液化后的氯气为原料与氢气合成,可以大大降低了碳、磷等有机元素含量,保证三氯氢硅产品的纯度,特别适合用于多晶硅的制备。从尾气回收的氯化氢经过干燥后返回合成系统,形成循环,节约资源,既提高了三氯氢硅的收率,又降低了能源消耗。
本发明在合成炉中同时加入SiCl4和氢气,SiCl4的加入抑制了反应式(2)的进行,降低四氯化硅的收率,保证三氯氢硅的含量。氢气的加入有利于反应(3)的进行,提高三氯氢硅的收率。此外硅粉和氯化氢的反应是放热反应,要及时移走热量,保证反应温度介于280~310℃之间,否则会导致有各种氯硅烷的产生,包括四氯化硅、二氯二氢硅等物质,该技术同时通入四氯化硅和氢气,可带走系统生成的部分热量,起到冷却效果,将三氯氢硅收率从82%提高87%以上。
附图说明
图1是本发明合成多晶硅原料三氯氢硅的方法的流程图。
具体实施方式
实施例1:
参见工艺流程图1。
原料硅粉以罐车运入,在氮气的保护下通过管道将其输送到硅粉原料仓。通过星型加料器把原料仓中的硅粉加入到仓式气力输送泵中,由仓式气力输送泵将硅粉按1200公斤/小时(约4.29万摩尔/小时)的速率连续送入单体合成装置的烘粉炉,且在硅粉烘粉炉内进行干燥。
在烘粉炉经热氮气烘干后的合格硅粉用760标准立方米/小时(约3.39万摩尔/小时,氯化氢与硅粉的摩尔比约为0.78)100℃的干燥的氯化氢气体输送加料到合成反应器。
反应氯化氢采用液化后的氯气为原料与氢气合成。2300标准立方米/小时(约10.27万摩尔/小时)氯化氢从三氯氢硅合成炉底部输入合成炉内,反应氯化氢与硅粉的摩尔比约为2.38.合成炉中同时加入氢气和四氯化硅。四氯化硅在100℃下汽化后,按摩尔比n四氯化硅/n反应氯化氢=1/9的混合比例与反应氯化氢充分混合,然后连续稳定输送到合成炉底部输入合成炉内。干燥后的氢气按摩尔比n氢气/n反应氯化氢=1/12比例从直接合成炉底部通入。
合成炉内,温度控制在290℃左右,硅粉和氯化氢发生反应,生成三氯氢硅和四氯化硅等混合气体,三氯氢硅与四氯化硅的摩尔比7~7.5∶1。生成的混合气体,经沉降器、旋风分离器等分离后除去粉尘及高氯硅烷,其中得到的未反应硅粉再利用干燥的氯化氢气体输送到合成炉。除去粉尘及高氯硅烷的混合气体,经水冷和隔膜压缩机加压后,再用-40℃冷媒将三氯氢硅和四氯化硅冷凝为液体,其中,主要含有H2、HCl等的不凝气体则利用变压吸附工艺分离出H2,H2经尾气洗涤塔洗涤后放空,HCl等气体再通过回收压缩机,回收后的氯化氢再与硅粉重新用于合成反应。制得的三氯氢硅收率88%。
实施例2
硅粉按1200公斤/小时的速率连续送入单体合成装置的烘粉炉;输送用的氯化氢气体温度为100℃,用量为900标准立方米/小时,干燥的氯化氢与输入的硅粉摩尔比约为:0.94∶1;反应用的氯化氢为2100标准立方米/小时,反应氯化氢与硅粉的摩尔比约为2.18;四氯化硅和反应用的氯化氢的混合比例为:n四氯化硅/n氯化氢=1/8.5;干燥后的氢气按摩尔比n氢气/n氯化氢=1/11比例从直接合成炉底部通入。其它参数和制备步骤不变,最后制得的三氯氢硅收率88%。
实施例3
硅粉按1200公斤/小时的速率连续送入单体合成装置的烘粉炉;输送用的氯化氢气体温度为100℃,用量为550标准立方米/小时,输入的硅粉与干燥的氯化氢摩尔比约为:0.56∶1;反应用的氯化氢为2400标准立方米/小时,反应氯化氢与硅粉的摩尔比约为2.48;四氯化硅和反应用的氯化氢的混合比例为:n四氯化硅/n氯化氢=1/9.8;干燥后的氢气按摩尔比n氢气/n氯化氢=1/14.5比例从直接合成炉底部通入。其它参数和制备步骤不变,最后制得的三氯氢硅收率87%。

Claims (5)

1.一种合成多晶硅原料三氯氢硅的方法,其特征是,主要包括以下步骤:
A)硅粉通过管道用气体输送至硅粉仓,再加入硅粉烘粉炉,用干燥的氯化氢输送到三氯氢硅合成炉;
B)反应氯化氢从三氯氢硅合成炉底部输入合成炉内,所述输入的反应氯化氢与步骤A)中所述的硅粉的摩尔比:2~2.5∶1;合成炉中还加入氢气和四氯化硅,氢气与输入的反应氯化氢的摩尔比:1∶10~15,四氯化硅与输入的反应氯化氢的摩尔比:1∶8~10;
C)温度控制在280~310℃,硅粉和氯化氢发生反应,生成主要包括有三氯氢硅和四氯化硅的混合气体;该混合气体经分离过滤后除去粉尘及高氯硅烷,其中,未反应的硅粉再利用干燥的氯化氢气体输送到合成炉;
D)除去粉尘及高氯硅烷的混合气体,经水冷和隔膜压缩机加压后,再用-40℃冷媒将三氯氢硅和四氯化硅冷凝为液体,其中,分离出包含H2、HCl的不凝气体。
2.根据权利要求1所述合成多晶硅原料三氯氢硅的方法,其特征是,还包括以下步骤:包含H2、HCl的不凝气体利用变压吸附工艺分离出H2,H2经尾气洗涤塔洗涤后放空;HCl气体再通过回收压缩机,回收后的氯化氢再与硅粉重新用于合成反应。
3.根据权利要求1所述合成多晶硅原料三氯氢硅的方法,其特征是,步骤A)中干燥的氯化氢与硅粉的摩尔比:0.5~1∶1。
4.根据权利要求1所述合成多晶硅原料三氯氢硅的方法,其特征是,步骤B)中所述四氯化硅以气态形式通入,四氯化硅气体与氯化氢混合后通入,氢气从直接合成炉底部通入。
5.根据权利要求1-4任一项所述合成多晶硅原料三氯氢硅的方法,其特征是,所述氯化氢是采用液化后的氯气为原料与氢气合成的。
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102040223A (zh) * 2010-12-23 2011-05-04 江西嘉柏新材料有限公司 一种连续投加硅粉生产三氯氢硅的方法
CN102530960A (zh) * 2011-12-31 2012-07-04 中国天辰工程有限公司 一种多晶硅生产中的三氯氢硅生产方法
CN102815706A (zh) * 2012-08-10 2012-12-12 中国恩菲工程技术有限公司 一种三氯氢硅合成系统
CN103408022A (zh) * 2013-07-08 2013-11-27 昆明冶研新材料股份有限公司 硅粉传输设备以及具有其的合成三氯氢硅的系统
CN104310406A (zh) * 2014-10-11 2015-01-28 江西赛维Ldk太阳能多晶硅有限公司 三氯氢硅合成尾气的回收装置及其回收方法
CN105164050A (zh) * 2013-03-13 2015-12-16 斯泰克有限责任公司 氯化过程的温度管理以及与其相关的系统
CN107244675A (zh) * 2017-05-16 2017-10-13 江苏大学 一种提高三氯氢硅选择性的方法
CN107311184A (zh) * 2016-04-26 2017-11-03 内蒙古盾安光伏科技有限公司 一种提高冷氢化生产三氯氢硅转化率的生产工艺
CN108101065A (zh) * 2017-11-29 2018-06-01 天津中科拓新科技有限公司 一种制备工业级四氯化硅的方法
CN108383125A (zh) * 2018-05-14 2018-08-10 亚洲硅业(青海)有限公司 一种制备高纯三氯氢硅的装置及方法
CN108910895A (zh) * 2018-09-14 2018-11-30 四川永祥多晶硅有限公司 一种三氯氢硅的节能合成系统
CN109455722A (zh) * 2018-12-27 2019-03-12 亚洲硅业(青海)有限公司 一种多晶硅制备调控方法及装置
CN109607549A (zh) * 2019-01-31 2019-04-12 内蒙古通威高纯晶硅有限公司 一种多晶硅生产中的三氯氢硅生产工艺中的启炉方法
WO2019098343A1 (ja) 2017-11-20 2019-05-23 株式会社トクヤマ トリクロロシランの製造方法および配管

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1011878B (zh) * 1987-01-24 1991-03-06 张崇玖 三氯氢硅(SiHCl3)的制备
JP2004256338A (ja) * 2003-02-25 2004-09-16 Sumitomo Titanium Corp クロロシラン類の製造方法
KR101176088B1 (ko) * 2005-03-09 2012-08-22 알이씨 실리콘 인코포레이티드 하이드로클로로실란의 제조방법
NO20054402L (no) * 2005-09-22 2007-03-23 Elkem As Method for production of trichlorosilane and silicon for use in the production of trichlorosilane
CN101143723B (zh) * 2007-08-08 2010-09-01 徐州东南多晶硅材料研发有限公司 制备三氯氢硅和多晶硅的改进方法和装置

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102040223A (zh) * 2010-12-23 2011-05-04 江西嘉柏新材料有限公司 一种连续投加硅粉生产三氯氢硅的方法
CN102040223B (zh) * 2010-12-23 2011-08-31 江西嘉柏新材料有限公司 一种连续投加硅粉生产三氯氢硅的方法
CN102530960A (zh) * 2011-12-31 2012-07-04 中国天辰工程有限公司 一种多晶硅生产中的三氯氢硅生产方法
CN102530960B (zh) * 2011-12-31 2013-08-14 中国天辰工程有限公司 一种多晶硅生产中的三氯氢硅生产方法
CN102815706A (zh) * 2012-08-10 2012-12-12 中国恩菲工程技术有限公司 一种三氯氢硅合成系统
CN105164050A (zh) * 2013-03-13 2015-12-16 斯泰克有限责任公司 氯化过程的温度管理以及与其相关的系统
CN103408022A (zh) * 2013-07-08 2013-11-27 昆明冶研新材料股份有限公司 硅粉传输设备以及具有其的合成三氯氢硅的系统
CN103408022B (zh) * 2013-07-08 2016-03-30 昆明冶研新材料股份有限公司 硅粉传输设备以及具有其的合成三氯氢硅的系统
CN104310406A (zh) * 2014-10-11 2015-01-28 江西赛维Ldk太阳能多晶硅有限公司 三氯氢硅合成尾气的回收装置及其回收方法
CN104310406B (zh) * 2014-10-11 2016-06-22 江西赛维Ldk太阳能多晶硅有限公司 三氯氢硅合成尾气的回收装置及其回收方法
CN107311184A (zh) * 2016-04-26 2017-11-03 内蒙古盾安光伏科技有限公司 一种提高冷氢化生产三氯氢硅转化率的生产工艺
CN107244675A (zh) * 2017-05-16 2017-10-13 江苏大学 一种提高三氯氢硅选择性的方法
JP6564554B1 (ja) * 2017-11-20 2019-08-21 株式会社トクヤマ トリクロロシランの製造方法
EP3715324A4 (en) * 2017-11-20 2021-06-02 Tokuyama Corporation MANUFACTURING PROCESS FOR TRICHLOROSILANE AND PIPE
KR102599878B1 (ko) * 2017-11-20 2023-11-09 가부시끼가이샤 도꾸야마 트리클로로실란의 제조 방법
US11612869B2 (en) 2017-11-20 2023-03-28 Tokuyama Corporation Production method for trichlorosilane, and pipe
CN111629997B (zh) * 2017-11-20 2023-03-24 株式会社德山 三氯硅烷的制造方法
WO2019098343A1 (ja) 2017-11-20 2019-05-23 株式会社トクヤマ トリクロロシランの製造方法および配管
CN111629997A (zh) * 2017-11-20 2020-09-04 株式会社德山 三氯硅烷的制造方法及配管
KR20200088338A (ko) * 2017-11-20 2020-07-22 가부시끼가이샤 도꾸야마 트리클로로실란의 제조 방법 및 배관
CN108101065A (zh) * 2017-11-29 2018-06-01 天津中科拓新科技有限公司 一种制备工业级四氯化硅的方法
CN108383125A (zh) * 2018-05-14 2018-08-10 亚洲硅业(青海)有限公司 一种制备高纯三氯氢硅的装置及方法
CN108910895A (zh) * 2018-09-14 2018-11-30 四川永祥多晶硅有限公司 一种三氯氢硅的节能合成系统
CN109455722B (zh) * 2018-12-27 2020-08-11 亚洲硅业(青海)股份有限公司 一种多晶硅制备调控方法及装置
CN109455722A (zh) * 2018-12-27 2019-03-12 亚洲硅业(青海)有限公司 一种多晶硅制备调控方法及装置
CN109607549A (zh) * 2019-01-31 2019-04-12 内蒙古通威高纯晶硅有限公司 一种多晶硅生产中的三氯氢硅生产工艺中的启炉方法

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