CN101263008A

CN101263008A - 打印头维护站

Info

Publication number: CN101263008A
Application number: CNA2006800217163A
Authority: CN
Inventors: D·阿尔伯塔利; R·D·塔夫; O·N·格拉切夫
Original assignee: Litrex Corp
Current assignee: Ulvac Inc
Priority date: 2005-04-25
Filing date: 2006-04-25
Publication date: 2008-09-10
Anticipated expiration: 2026-04-25
Also published as: EP1874546A4; KR20080002968A; US20080192089A1; KR101084983B1; EP1874546B1; CN101263008B; US7963631B2; JP5027113B2; JP2008539077A; EP1874546A2; WO2006116415A2; WO2006116415A3

Abstract

本发明涉及用于工业打印设备(10)的打印头维护站(20)，其用于防止打印头的堵塞，尤其是在打印头闲置的阶段中用于防止打印头的堵塞。维护站包括一个罩盖站(40)，其具有用于保持打印头湿润的插口和用于在执行打印功能之前清洗任意残留打印液的吸墨站(30)。

Description

打印头维护站

相关申请的交叉参考

[0001]本申请要求于2005年4月25日提交的临时申请号为60/674,584，60/674,585，60/674,588，60/674,589，60/674,590，60/674,591，和60/674,592的美国临时申请的益处。上述申请的公开内容结合于此作为参考。

技术领域

[0002]本申请涉及到适于压电式微沉积(PMD)设备的打印头维护站。

发明背景

[0003]PMD过程用于在不污染基底或流体制造材料的情况下，在基底上沉积流体制造材料的液滴。相应的，PMD过程在避免污染的清洁房间环境中尤其有利，诸如象制造聚合物发光二极管(PLED)，印刷电路板(PCB)，或液晶显示器(LCD)。

[0004]PMD方法和系统通常结合PMD工具的使用，PMD工具包括用于在基底上沉积流体制造材料的打印头以及包含多个独立喷嘴的喷嘴组件。PMD头与计算机数字控制系统链接起来用于制作图案，也就是在基底预定的位置上精确地沉积流体制造材料的液滴，及用于独立控制每个喷嘴。通常，PMD头可包括多个打印头阵列，并且设计成在结合用于在基底上形成微观结构的各种技术和方法而使用时，可提供高度的精度和正确度。

[0005]由于极其高的液滴沉积，在PMD的应用中通常要求的定位精度，以及不同于图形打印机中使用的那些喷墨流体的非传统喷墨流体的使用，以前在其他喷墨打印领域使用的维护方法通常不能够满意地避免PMD应用中的喷嘴故障。因此，需要改进的设备来维护PMD头的状况。

发明内容

[0006]本说明的教导包括使用具有精确动态控制能力和单一打印头交互能力吸墨站，使用提供各种喷嘴维护操作模式和喷墨控制的罩盖和装填站，及使用以自动方式顺序地与打印头阵列交互的墨滴分析系统。

[0007]另一个特点是具有为不同流体和打印头类型来构造吸墨站的擦拭动作，以及在运动过程中调节诸如压力、速度和垂直升起的变量。还在另一方面，在吸墨设备中包含单个吸墨站设备以修正单个打印头故障。此外还提供滴雾移除系统，其作为废物去除的一部分整合到罩盖站中以使印刷的基底免受污染。打印头的主动Z运动也是一个独特的特点，其与维护系统相关，从而最优化每一液体和打印头类型使用的各项功能。

[0008]还有另一个特点是动态跟踪系统及其元件，其用来维持吸墨和擦拭站的平整和完整及维持维护站各种元件的动态运动能力，上述元件与PMD系统的诸如墨滴分析和墨滴检测组件相关。

[0009]本发明的另一个特点是可以用溶剂填充每一打印头下方的局部液槽，并使溶剂与每一打印头的喷嘴板保持一个精确的距离，以生成局部富含蒸汽的环境，从而阻止PMD液体内部喷液的蒸发和浓度变化。也可以使用适于局部液槽结构的合适材料，该局部液槽结构中的液体到局部液槽结构的接触角小于20度。

附图说明

[0010]为进一步阐明上述内容以及证明本发明教导的优势和特点，参照在附图中所示的特定实施例进行更具体的说明。应该意识到这些附图并不是对本发明教导范围的限制。通过使用附图，用附加的特征和细节来描述和解释本发明的教导，其中：

[0011]图1是结合本发明教导的维护站的压电微沉积设备的透视图；

[0012]图2示出PMD设备的维护站的一个实施例的透视图；

[0013]图2A示出一个喷嘴板和一个打印头；

[0014]图3示出作为PMD设备子部件的液滴分析系统，其通过罩盖站和托盘的运动允许与PMD设备的维护站结合进行液滴分析；

[0015]图4A是根据本发明教导的一个罩盖站实施例的透视图；

[0016]图4B是根据本发明教导的在一个罩盖站实施例中使用托盘的分解透视图；

[0017]图4C是根据本发明教导的在一个罩盖站实施例中使用托盘的顶视图；

[0018]图4D是图4B中所示托盘的横断面视图；

[0019]图5A示出根据本发明教导的一个吸墨站的透视图；

[0020]图5B是根据本发明教导的吸墨站的分解透视图；以及

[0021]图5C是根据本发明教导的吸墨站各种元件的透视图。

具体实施方式

[0022]以下描述只是在本质上进行的示范性描述，而并不意旨限制本发明的教导、应用或用途。

[0023]在本文中定义的术语“流体制造材料”(“fluidmanufacturing material”)和“流体物质”(“fluid material”)可广义上诠释为包括能够呈现一种低粘度的形式并且适合于被沉积(例如从PMD头沉积到基底上从而形成微观结构)的任何物质。流体制造材料可包括但不限于可用来形成高分子发光二极管显示器件(PLED，和PolyLED)的发光聚合物(LEP)。流体制造材料也可包括塑料，金属，蜡，焊料，焊锡膏，生物医学制品，酸，光致抗蚀剂，溶剂，粘合剂和环氧树脂。术语“流体制造材料”在此可互换地称为“流体物质”。

[0024]如在此所定义的术语“沉积”一般是指流体物质的单个液滴沉积到基底上的过程。例如具体参照从PMD头的流体物质的沉积，术语“液滴”，“流出”，“模式”和“沉积”在此可互换使用。术语“液滴”和“滴墨”也是可以互换使用的。

[0025]如在此所定义的术语“基底”可广义诠释为具有在诸如PMD的制造过程中适于接受流体物质的一表面的任何材料。基底包括但不限于玻璃板，吸液管硅片，瓷砖，刚性和柔性塑料和金属片和辊。在特定实施例中，沉积的流体物质本身可形成一个基底，因为诸如象形成三维微观结构时，流体物质也差不多包括在制造过程中适于接受流体物质的一表面。

[0026]如在此所定义的术语“微观结构”一般是指能够形成高准确度并且尺寸适配于基底上的结构。因为不同基底的尺寸可能会有所变动，所以术语“微观结构”的定义不应被限制于任何特定尺寸并且可以和术语“结构”互换使用。微观结构可能包括单滴的流体物质，液滴的任意组合，或通过在基底上沉积一个或多个液滴而形成的任何结构，诸如两维层，三维结构，以及其它任意理想的结构。

[0027]本文涉及到的PMD系统能够根据用户定义的计算机可执行指令来执行将流体物质沉积到基底上的过程。在本文中又名“程序模块”或“模块”的术语“计算机可执行指令”一般包括程序指令，程序，对象，组成，数据结构，或类似于能够实现特殊的抽象数据类型或执行特殊的任务，诸如但不限于为实现PMD过程而执行电脑数值控制。程序模块可以存储于任何的计算机可读介质中，这些可读介质包括但不限于随机存取存储器(RAM)，只读存取存储器(ROM)，电可擦除只读存储器(EEPROM)，光盘驱动器(CD-ROM)或其他光盘存储器，磁盘存储器或其他磁性存储设备，而且还包括能够储存指令或数据结构并能够被一般用途或特殊用途的计算机存取的任何其它的介质。

[0028]现在参照图1，示出包括根据本发明维护站的PMD装置。PMD设备10包括了在PMD设备10的基底台架9上装载和卸载基底14的一对自动装置12。自动装置12的使用进一步有助于将基底14维持在清洁状态，从而使得外物不阻塞或损害基底14的将用图形油墨沉积的表面。PMD设备10还包括一个光学系统，其包含有助于确保基底14在PMD设备10中正确对准的一对摄像机13和15。

[0029]PMD设备10包括一个系统控制/动力模块11，其控制PMD设备10的操作。就这点而言，可以由操作者控制诸如油墨图形，排放速度等的操作参数。进一步地，模块11还控制可变喷墨阵列16和PMD设备10的液滴检查模块。喷墨阵列16包含将油墨沉淀到基底14上的各种打印头(未显示)。

[0030]可变喷墨阵列16沉积的油墨通过供墨模块17供应给阵列16。因为提供了若干模块17，本领域内的技术人员将认识到可同时存储适合不同应用的各种类型的油墨。在PMD设备10中还包括溶剂清洗模块17。根据本发明，溶剂清洗模块17将用于清洁可变喷墨阵列16的打印头34的溶剂提供给维护站20。

[0031]维护系统20可以相对于打印头阵列16和基底台架9定位，以便在进行基底装载，调整，和卸载时可以执行所有的维护功能(也就是净化，浸泡，填充，罩盖，吸墨，以及通过光学系统的液滴检查)。由于在机器的正常运行的同时，可以不影响其正常运行的顺序来识别和修正喷射故障，因而可提高系统的产量。

[0032]现在参照图2，可用维护站20来维护打印头34适宜的打印头喷射和清洁度。维护站20通常包括位移台架22，以将维护站20的各种模块定位于打印头阵列16下方。维护站20的模块包括吸墨站30和罩盖站40。如图2中所示，与罩盖站40相关联的是液滴分析系统60，该系统在共同申请的美国临时专利申请NO.60/674,589中进行了描述，标题为“液滴分析系统”(“Drop Analysis System”)，并且其结合在此作为参考。液滴分析系统60通常包括视觉系统62，如图3所示，该系统62可移动地安装在具有在x-轴、y-轴和z-轴运动能力的台架64上。液滴分析台架64依次安装在一个框架构件上，该框架构件是较大的基底，摄像系统和打印头位移台架系统的一部分，该系统具有在x-轴、y-轴运动的能力。

[0033]罩盖站40可以在三个位置操作，当打印头喷嘴板36(图2A)未使用，闲置或足够低以允许进行液滴分析或液滴检查时，罩盖站40用于罩盖打印头喷嘴板36。即，这三个位置分别是蒸汽浸入位置，在此打印头34可以恰好定位于溶剂之上，以提供富含蒸汽的环境；液体浸入位置，在此打印头34即将浸入溶剂的位置；和流体净化位置，在此罩盖站40略低于蒸汽浸入位置。可以使用打印头阵列z-轴来控制蒸汽浸入位置和液体浸入位置，而第三个位置是由一个剪式升降机构的运动或打印头阵列的运动结合下面的维护台架32的位移来控制的，如下所述。

[0034]当迫使陈旧喷射液体通过喷嘴阵列时，通过下面的维护系统支撑台架32相对于打印头阵列16的运动，可重新装入适宜类型清洁过滤溶剂的罩盖插入物50(可以放置在第二教导位置(secondary taughtposition)，以免污染罩盖溶剂。与打印头34相联的打印头阵列16的运动在共同申请的美国临时专利申请NO.60/674,590中进行了更为详细的描述，标题为“可打印的基底对准系统”(“Printable SubstrateAlignment System”)，其结合于此作为参考。三个位置中的每一个都保证喷嘴板36在未使用或闲置保持湿润，上述防止喷嘴板36堵塞，并确保其良好的性能。

[0035]现在参照图4A，可以看到罩盖站40包括一个插入物46，其至少沿着一边48与托盘42的底板44隔开，以提供间隙51。如图4A所示，插入物46包括一个位置跟踪器43，其允许还称为溶剂槽50的罩盖插入物可以移动过各个角度，以相对于打印头阵列16的打印头34的位置相对应。溶剂槽50的位置由电动机47驱动移动过位置跟踪器43。电动机47是由系统控制/动力模块11控制的。

[0036]虽然可以将插入物46的溶剂槽50设计为移动过各个角度，但是也可以如此设计插入物46使溶剂槽50不可移动。应理解以这种方法，当打印头需要维修时，打印头阵列可定位于溶剂槽的不可移动的固定位置，或者在一些PMD应用中可以使用固定的打印角度的头部阵列。然而，参照图4B至4D，可以看到在托盘42中的一个设计中插入物46是一个板，其包含了可以与溶剂槽50接合的槽37。也就是说，将溶剂槽50构造成可包含与槽37接合的卡片设备39。在这个设计中，调节溶剂槽50和插入物46，使其适于排入托盘42内。在该方式下，溶剂槽50的溶剂就可频繁的，甚至连续的排出和更新。为更新溶剂，溶剂槽50由连接到溶剂模块17的溶剂管27填充溶剂。进一步地，为排掉使用过的溶剂，托盘42装备有排放装置49(见图4D)和导回到溶剂模块17的排放管道(未显示)。排放装置49和排放管道可以连接到大流量真空泵，不仅可以排放废液，也可以排放罩盖站40之上的气体，并且在液滴分析过程中尽可能减少侧面气流。

[0037]在任一设计中，应理解设计的溶剂槽50的尺寸可以允许+/-1.5mm的头部清洁，以便当罩盖住头部时，将溶剂蒸发减少到最小。进一步的，间隙51允许使用真空结构23，其可排放标准溶剂池产生的蒸汽，以保证清洁空间的完整性。真空结构23的一个第二且同等重要的功能就是在停止和发射过程中从打印头34捕获漂浮的墨滴，如下所述。溶剂槽50还可能包括斜切的边缘33(图4D)，以减少不能用溶剂湿润槽材料的现象。最后，应理解在图中虽然仅显示了一对溶剂槽50，但是可以根据要求使用任意数目的溶剂槽50。例如，依赖于打印头34的数目，每个打印头34在罩盖站40中可以拥有相应的溶剂槽50。

[0038]罩盖站40还装备有用来调节PMD设备10中模块高度和水平的装置。正如图4A所示的，高度调节装置53与剪式升降系统54结合，使模块可以上升和下降。剪式升降系统54包括一对横杆56。横杆56之一在基座55的一端处固定，另一个横杆56沿着另一端可移动地连接到提升导轨58。

[0039]通过在必要时提高和降低罩盖站40可以避免干涉其他模块的运动。例如，高度调节装置53使罩盖站40可以降低到某一位置，从而使得液滴分析系统60能够沿着位移台架22运动，以便在罩盖站40上沉积。也就是说，可以用高度调节装置53来提高和降低罩盖站40，以清洁液滴分析系统的视觉系统62。此外，这种运动有助于根据打印头34的位置正确定位罩盖站溶剂槽50。例如，罩盖站40可以如此定位，以使打印头34处于上述的蒸汽浸入位置，液体浸入位置，或排污位置。

[0040]如上所述，罩盖站40的蒸汽浸入位置决定溶剂槽50的位置，从而使打印头34径直位于溶剂槽50中的溶剂上方。在这个位置，打印头就悬挂在溶剂槽50上方距其0.5mm处。然而，应理解将打印头满意地浸入到溶剂蒸汽中的任一距离都是可接受的。就这点而言，可以根据使用的油墨类型来决定距离。例如，较粘稠的油墨需要打印头较接近溶剂槽50悬挂，以便打印头经受高浓度的溶剂蒸汽。相反的，较低粘度的油墨需要打印头较远离溶剂槽50悬挂，因为需要低粘度的溶剂蒸汽来清洗打印头的喷嘴。

[0041]当基底打印没有进一步防止打印头34中油墨干燥时，通过可由用户选择并存储的软件控制可以从1Hz至1000Hz间的任一频率即时发射打印头的喷嘴，不管距离溶剂槽50有多远。在这种频率下，以某种方式排放少量的油墨，使始于某些类型油墨的打印头34中的颗粒不凝结，并阻止在喷嘴中生成气泡，同时还允许溶剂蒸汽来防止喷嘴板36表面上的油墨干燥到通常由吸墨和擦拭不能移除这些物质的程度。

[0042]与罩盖站40的蒸汽浸入位置相反，罩盖站40的液体浸入位置将打印头的喷嘴完全浸入到溶剂槽50的溶剂中。通过将打印头浸入溶剂中，就没有必要即时发射打印头以减小在打印头的喷嘴中产生气泡的风险，并且由墨雾形成在喷嘴表面上的沉积可以通过延长浸入时间自然地溶解或软化，然后再进行日常的擦拭以恢复喷嘴板表面的更新。

[0043]在液体清洗位置，降低罩盖站40到略低于蒸汽浸入位置的位置，以使用剪式升降机构54。与下面的维护支撑台架32的运动结合，可实现罩盖站40相对于打印头阵列的长达15mm的水平运动。以这种方式，喷嘴可以定位于废液槽31的上方，该废液槽31大致与溶剂槽50平行延伸，从而使喷嘴排放的废液不会沉积到充满清洁溶剂的溶剂槽50内。在这个位置，可以相同于蒸汽浸入位置的方式即时发射(spot-fired)喷嘴，以排放少量油墨，同时仍会在富含蒸汽的环境中清洁。然而，在这个位置将油墨排放到废液槽31和包括槽29的插入物46中。由于罩盖站可连接到持续运行的真空结构23，废墨可能会通过排放装置49排放到托盘42内，如图4D所示。

[0044]罩盖站40的另一个实施例使用了一个四杆提升机构来升高和降低罩盖站40。该设计为固定螺距的打印头阵列使用一系列固定的溶剂槽50。

[0045]现在参考图5A，吸墨站30通过使打印头34接触吸墨材料74而从打印头34的打印喷嘴板36吸收多余的溶剂或打印液。吸墨用于堵塞喷嘴的恢复和喷嘴板36的日常维护。如图2所示，吸墨站30通常包括一个固定到平台32的基座70。

[0046]基座70包括基座板90(见图5B)和壳92。在基座70顶部延伸出来的是支撑板72，在其上通过伺服系统控制的进给电动机71来喂入吸墨材料74。在支撑板72中可结合一个弹出式部分84，从而使单一的打印头34可以吸墨。支撑板72可以由铝，或本领域内公知的任何材料制成。此外，由填料73和聚四氟乙烯(PTFE)的薄板75覆盖支撑板72，以允许保护填料73，并使与已干燥或正在干燥的喷液相作用的吸墨材料74在非使用期后可以从支撑板72的表面释放出来。

[0047]可以由包括支架78和辊81的支撑辊组件76所支撑的卷来供应吸墨材料74。由供应辊组件94和拉紧辊组件96以恒定张力保持吸墨材料74。供应辊组件94通过轴承组件98连接到支撑板72。由连接到某个支承辊组件76的支架78的承托架100支撑拉紧辊组件96。

[0048]吸墨材料74优选以恒定张力保持，即使吸墨材料74正在擦拭过程中前进。所需的张力是特定的材料和其尺寸的函数，并可以通过控制/动力模块11来设定和存储。通过由拉紧辊组件96拉动并与供应辊组件94保持后退，直到包括供应辊电动机/编码器102的运动控制系统探测到等于网幅期望张力的足够误差值，来实现期望的张力。

[0049]由于两个辊的直径是变化的，在供应辊组件94上调节误差值，以反映由伺服电机71施加到吸墨站30一侧的供应辊组件94上的扭矩减少，当吸墨站40一侧的拉紧辊96的辊尺寸变大时需要上述减少以维持恒定的张力。辊的大小由在吸墨站30一侧的供应辊组件94上的伺服电机71中提供的编码器和固定在供应辊组件94的固定直径线性喂入辊编码器轴上的编码器102之间的关系决定。

[0050]轴104优选是由铝制成，喷砂，然后阳极氧化以提供充分粗糙的表面，该表面防止接触其表面的吸墨材料74滑落，从而使得吸墨材料74的线性运动一直与连接到轴104的旋转光学编码器102所生成的编码器计数的数字保持不变的关系。如果供应辊是新的并在其最大直径处，在吸墨站30一侧的供应辊组件94上的伺服电机71内的编码器将会相对于线性喂入编码器的辊光学编码器102生成很少的编码器计数。如果供应辊已用完，代表着直径小了很多，根据直径的比例，伺服电机71内编码器上的编码器计数的数字将成比例的变大。这样，应理解线性喂入编码器的辊编码器102的输出在系统的下述功能上非常重要，上述功能为对于维持用来导致吸墨材料74织物相对于喷嘴板36正确兼容性的恒定网幅张力和去除织物上的因过度张力产生的皱纹。

[0051]如图5C所示，可结合并边缘传感器106以监控织物跟踪误差，并为角度调整驱动器108提供反馈。与边缘传感器106指示的跟踪误差成比例的角度调整驱动器108通过旋转拉紧辊组件96和线性喂入编码器辊104使横过吸墨材料网幅74的张力有略微的扭曲。这种扭曲会在相对于探测到误差的反向上跟踪材料的网幅74中产生反作用力。边缘传感器106可以感应到10mm范围内的运动，并在这个范围的中心确定1mm的死区。只要吸墨材料74处于死区范围内，就不能进行修正。如果离开死区，使用操纵电动机110驱动角度调整驱动器108来进行角度修正，并且吸墨材料74返回到其在织物重新进入死区的100ms的范围内的原位置。角度修正的量也是由吸墨材料74离开死区时跟踪误差的速率决定的。

[0052]由于可能需要在吸墨材料辊和工作台的附近进行烟气排放，吸墨站模块30的设计还允许安装真空罩(未显示)。此外，吸墨站可定位于第二密封托盘里，保护其他模块免受意外的液滴飞溅。

[0053]如上所述，弹出式部分84允许清洁单一的打印头。弹出式部分84可以是在支撑板72内形成的、与气缸(未显示)流体联通的通孔。弹出式部分84由覆盖板72的填料和PTFE薄板覆盖。

[0054]由于弹出式部分84与气缸流体联通，当空气吹过弹出式部分84时，填料和PTFE薄板会“弹出”高于周围表面0.5-1.0mm的高度，使得只有单个感兴趣的头部可以在该区域内接触到吸墨材料。然后打印头阵列16将会移动到第二教导的Z位置，使得目标打印头可以准确地接触吸墨材料74的弹出部分。设定该Z位置以适应上述精确的弹出高度。

[0055]打印头34可以接触穿过吸墨组件不超过0.2mm+/-00.5mm以实现紧密接触，同时在擦拭过程中不会在喷嘴板表面36上造成过度磨损。与打印头阵列运动控制器相一致的维护位移台架22可以将打印头的较大阵列中的任一打印头34定位在该单一位置。因此当仅维修有缺陷的打印头时，由此减少吸墨材料74和油墨的使用，对有特定参数内起作用的打印头不会产生负面影响。在该方式下，单一的打印头可独立于打印头喷墨阵列16的其他打印头来清洁。

[0056]上述说明在本质上仅仅是示范性描述的，因此应该认为改变并不偏离本发明的精神和范围。

Claims

1.一种打印设备，其包括用于将打印液体沉积到基底的一个或多个打印头，所述设备包括：

打印头维护站，其包括装有用于清洗所述打印头溶剂的托盘和相对于所述打印头的位置定位所述托盘的高度调节装置的罩盖站。

2.根据权利要求1所述的打印设备，其中所述高度调节装置包括支撑所述托盘的剪式升降机构。

3.根据权利要求2所述的打印设备，其中所述的剪式升降机构沿第一端连接到所述托盘，以及沿第二端连接到提升导轨。

4.根据权利要求1所述的打印设备，进一步包括一个液滴分析系统，其中所述的高度调节装置根据所述的液滴分析系统来定位所述托盘。

5.根据权利要求1所述的打印设备，其中所述的罩盖站进一步包括一个插入物，所述插入物包括至少一个盛有所述溶剂的溶剂槽。

6.根据权利要求5所述的打印设备，其中所述插入物构造成用于更新所述溶剂槽中的所述溶剂，并设计成从所述打印头中移除排放的打印液体。

7.根据权利要求5所述的打印设备，其中所述插入物包括一个位置跟踪器，以便相对所述打印头的位置定位所述溶剂槽。

8.根据权利要求1所述的打印设备，其中所述罩盖站使得打印头完全浸入到所述溶剂中。

9.根据权利要求1所述的打印设备，其中所述罩盖站适于排出清洁打印头的溶剂蒸汽。

10.根据权利要求1所述的打印设备，其中所述罩盖站适于防止自打印头放出的打印液雾接触基底。

11.根据权利要求1所述的打印设备，其中进一步包括用于另外清洁打印头的吸墨站。

12.根据权利要求11所述的打印设备，其中所述吸墨站包括设置于支撑板之上的吸墨材料。

13.根据权利要求12所述的打印设备，其中所述吸墨材料定位于辊上并在所述支撑板之上拉伸。

14.根据权利要求13所述的打印设备，其中所述辊由至少一个伺服电机控制，以使得所述吸墨材料在所述支撑板之上行进。

15.根据权利要求12所述的打印设备，其中所述支撑板包括一个弹出式部分。

16.根据权利要求15所述的打印设备，其中所述弹出式部分适于清洁单个打印头。

17.根据权利要求13所述的打印设备，其中所述吸墨站包括至少一个编码器，以便确定存留于所述辊上的吸墨材料量。

18.根据权利要求13所述的打印设备，其中所述吸墨站包括一个边缘传感器，以便确定所述吸墨材料在所述辊上的角位置。

19.根据权利要求18所述的打印设备，其中所述边缘传感器包括一个角度调节驱动器，以便当所述吸墨材料行进通过所述吸墨站时，修正所述吸墨材料的位置。

20.根据权利要求13所述的打印设备，其中所述辊具有粗糙的表面。

21.根据权利要求12所述的打印设备，其中所述打印头可以沿着x-轴、y-轴、和z-轴方向移动，使得打印头与所述吸墨材料接触，并且所述设备构造成使得打印头在所述x-轴、y-轴、和z-轴方向上的移动与所述吸墨材料在所述支撑板之上的行进协调一致，以便擦拭所述打印头之上的所述吸墨材料。

22.根据权利要求11所述的打印设备，进一步包括一个基底装载装置，用于装载和卸载基底，其中所述罩盖站和所述吸墨站设置成与所述基底的装载和卸载同时运行。

23.用于打印设备的维护站，包括：

罩盖站，其包括用于清洗打印设备的打印头的至少一个溶剂槽；以及

吸墨站，其包括用于擦拭打印设备的打印头的吸墨材料。

24.根据权利要求23所述的维护站，其中所述溶剂槽适于将所述打印头完全浸入到清洗溶剂中，并适于自所述溶剂放出溶剂蒸汽。

25.根据权利要求24所述的维护站，其中当所述溶剂槽放出所述溶剂蒸汽时，所述打印头以1至1000Hz范围内的频率即时发射。

26.根据权利要求23所述的维护站，其中所述吸墨站包括一个供应辊和一个拉紧辊，所述吸墨材料从所述供应辊拉到所述拉紧辊。

27.根据权利要求26所述的维护站，其中所述供应辊包括一个编码器，其计算从所述供应辊拉到所述拉紧辊的吸墨材料量。

28.根据权利要求23所述的维护站，其中所述吸墨站包括一个适于清洗单个打印头的弹出式部分。

29.根据权利要求28所述的维护站，其中所述弹出式部分是在支撑板中的与气缸液体流通的一个通孔。

30.根据权利要求29所述的维护站，其中所述支撑板由覆盖所述弹出式部分的PTFE薄膜覆盖。